JPH11274272A - 認識用マーク付きウェハ - Google Patents

認識用マーク付きウェハ

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Publication number
JPH11274272A
JPH11274272A JP10092233A JP9223398A JPH11274272A JP H11274272 A JPH11274272 A JP H11274272A JP 10092233 A JP10092233 A JP 10092233A JP 9223398 A JP9223398 A JP 9223398A JP H11274272 A JPH11274272 A JP H11274272A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
recognition
mark
marks
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10092233A
Other languages
English (en)
Inventor
Eisuke Hotta
英輔 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP10092233A priority Critical patent/JPH11274272A/ja
Publication of JPH11274272A publication Critical patent/JPH11274272A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/5442Marks applied to semiconductor devices or parts comprising non digital, non alphanumeric information, e.g. symbols

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 向きを正確に合せることを課題とする。 【解決手段】対角線上に4個の認識用マーク12を付けた
ことを特徴とする認識用マーク付きウェハ11。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハ表面に複数
個の認識用マークを有した認識用マーク付きウェハに関
する。
【0002】
【従来の技術】周知の如く、ウェハには、該ウェハの向
きを認識できるように、図4に示すようにウェハ1にオ
リフラ(又はノッチ)2と呼ばれる加工が施されてい
る。そして、ステッパーでは、ウェハアライメントを行
う前にオリフラ(又はノッチ)2によりウェハの向きを
合せている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、オリフ
ラ(又はノッチ)2は位置精度が低く、正確にウェハの
向きを合せることができない。また、チップ取れ個数を
考慮すると1箇所にしかオリフラ(又はノッチ)2を形
成できないため、X方向やY方向の位置の検出は難し
い。このため、ウェハアライメントを正確に行うために
は、オリフラ合せの後に2段階(粗合せ,微細合せ)の
ウェハアライメントが必要であった。
【0004】本発明はこうした事情を考慮してなされた
もので、少なくとも2個の認識用マークを付けることに
より、向き及びXY座標の合せ精度を高めることによ
り、オリフラ合せとアライメント粗合せを統合しえる認
識用マーク付きウェハを提供することを目的とする。
【0005】また、本発明は、認識用マークの隣りに補
助マークを付けることにより、認識用マークが肉眼で観
察できない場合でも、向きを正確に合せることができる
認識用マーク付きウェハを提供することを目的とする。
【0006】更に、本発明は、認識用マークを互いに異
なる形状でかつその位置を対称位置からずらした構成に
することにより、上下を認識可能な認識用マーク付きウ
ェハを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも2
個の認識用マークを付けたことを特徴とする認識用マー
ク付きウェハである。
【0008】本発明において、認識用マークの隣りに肉
眼で観察可能な補助マークを付けることが好ましい。こ
れは、認識用マークを精度的に肉眼で観察できる程度に
大きくできない場合に有効である。また、認識用マーク
を互いに異なる形状でかつその位置を対称位置からずら
した構成にすることが、ウェハの上下を認識する点で有
効である。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例に係る認
識用マーク付きウェハについて、図1、図2を参照して
説明する。ここでは、図1は本実施例に係るウェハの平
面図、図2は同ウェハに設けられた認識用マークの平面
図を示す。
【0010】図中の付番11はウェハを示す。このウェハ
11の円周部には、図2に示すような4つの認識用マーク
(粗合せ用マーク)12が付けられている。この認識用マ
ーク12は肉眼で確認可能な粗合せ用のマークであり、例
えばレーザにより加工されている。また、ウェハ11の面
内には、図3に示すように、複数の微細合せ用マーク13
が形成されている。なお、微細合せマーク13は、被アラ
イメント対象のフォト工程にてパターン形成される(従
来通り)。
【0011】こうした構成のウェハのステッパーによる
アライメント合せは、下記の粗合せ及び微細合せからな
る。
【0012】(1) ウェハ向き合せ兼アライメント粗合せ ウェハ11面内の4箇所の認識用マーク12をTVカメラに
据え、画像認識することによりウェハ11の位置を検出す
る。この結果を元に、認識用マーク12が画面の中心にく
るようにウェハステージを移動することにより、ウェハ
11の向きとアライメント粗合せが行われる。
【0013】(2) 微細合せ ウェハ面内6〜16箇所程度の微細合せ用マーク13を、専
用スコープを通してTVカメラに据える。専用スコープ
にも比較用のマーク14が形成されており、ウェハ11上の
マークとともに、TVカメラに据える。そして、TVカ
メラ上で両マーク13,14が等間隔に配列するように、ウ
ェハステージを移動することにより、ウェハのアライメ
ント微細合せが行われる。
【0014】このように、上記実施例では、ウェハ11の
円周部に複数の認識用マーク12を付けることにより、ウ
ェハ11の向きを正確に合せることができる。また、認識
用マーク12を複数個付けることにより、X方向やY方向
の位置検出も可能である。よって、認識用マーク12によ
り、向き合せとXY位置の検出を同時に行えば、従来の
アライメント粗合せを省略することが可能である。
【0015】なお、上記実施例では、認識用マークが4
箇所に形成されている場合について述べたが、これに限
らず、少なくとも2個の認識用マークがあればよい。
【0016】また、上記実施例では、肉眼で観察可能な
認識用マークを付けた場合について述べたが、精度的に
認識用マークを大きくできない場合は、その隣りに肉眼
で観察可能な補助マークを付けることにより人間が取り
扱う場合にも不便を生じない用にすることができる。
【0017】更に、上記実施例では、複数個の認識用マ
ークの形状が同じである場合について述べたが、これに
限定されず、互いに形状が異なる認識用マークを付けて
もよい。即ち、複数個のマークの形状が同じだと、ウェ
ハの上下が認識できなくなるので、複数個のマークの形
状を場所により変えたり、あるいはマークの位置を対称
な位置からずらしてウェハの上下を認識できるようにす
ることがよい。
【0018】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、少な
くとも2個の認識用マークを付けることにより、オリフ
ラ合せとアライメント粗合せを統合しえる認識用マーク
付きウェハを提供できる。
【0019】また、本発明によれば、認識用マークの隣
りに肉眼で観察可能な補助マークを付けることにより、
認識用マークが肉眼で観察できない場合でも、向きを正
確に合せることができる認識用マーク付きウェハを提供
できる。
【0020】更に、本発明によれば、認識用マークを互
いに異なる形状でかつその位置を対称位置からずらした
構成にすることにより、上下を認識可能な認識用マーク
付きウェハを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る認識用マーク付きウェ
ハの平面図を示す。
【図2】図1のウェハに形成された認識用マークの平面
図を示す。
【図3】本発明に係る認識用マーク付きウェハをステッ
パーによりアライメント合せする際の微細合せ用マーク
と専用スコープのマークを示す。
【図4】従来のウェハの平面図を示す。
【符号の説明】
11…認識マーク付きウェハ、 12…認識用マーク(粗合せ用マーク)、 13…微細合せ用マーク、 14…マーク。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも2個の認識用マークを付けた
    ことを特徴とする認識用マーク付きウェハ。
  2. 【請求項2】 認識用マークの隣りに肉眼で観察可能な
    補助マークを付けたことを特徴とする請求項1記載の認
    識用マーク付きウェハ。
  3. 【請求項3】 前記認識用マークが互いに異なる形状
    で、かつ位置が対称位置からずれていることを特徴とす
    る請求項1記載の認識用マーク付きウェハ。
JP10092233A 1998-03-23 1998-03-23 認識用マーク付きウェハ Pending JPH11274272A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10092233A JPH11274272A (ja) 1998-03-23 1998-03-23 認識用マーク付きウェハ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10092233A JPH11274272A (ja) 1998-03-23 1998-03-23 認識用マーク付きウェハ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11274272A true JPH11274272A (ja) 1999-10-08

Family

ID=14048729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10092233A Pending JPH11274272A (ja) 1998-03-23 1998-03-23 認識用マーク付きウェハ

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JP (1) JPH11274272A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009038329A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 King Yuan Electronics Co Ltd ウエハーのマーキング方法、次品ダイスのマーキング方法、ウエハーの位置決め方法及びウエハー検査機

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JP2009038329A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 King Yuan Electronics Co Ltd ウエハーのマーキング方法、次品ダイスのマーキング方法、ウエハーの位置決め方法及びウエハー検査機

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