JPH11268396A - クリスタル加工物及び加工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光の拡散性及び再帰性に優れしかも視認性が
極めて良いクリスタル加工物をつくる加工方法を提供す
る。 【解決手段】 光りを反射する、加工されるべき基材の
表面に加飾インキを塗布して該加飾インキの層にクリス
タル模様を生成させるクリスタル加工方法は、基材
（１）の表面に該加飾インキと基材との接合性を向上す
るアンダーコート材を塗布して該アンダーコート材
（４）を乾燥させ、該アンダーコート材の上に該加飾イ
ンキを塗布して該加飾インキの層（６）を形成し、その
後アンダーコート材、加飾インキが塗布された基材を加
熱処理して該加飾インキの層に縮み模様を生成させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は視認性の優れたクリ
スタル加工方法及びクリスタル加工物に関し、更に詳細
には、スクリーン印刷の方法を用いて、物品の表面に視
認性が極めて高くしかも耐候性に優れたクリスタル模様
を形成するためのクリスタル加工方法及びその方法によ
り作られる加工物に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷物の表面に縮み模様を形成し、それ
によってクリスタル模様を視認できるようした加工方法
（以下クリスタル加工方法と呼ぶ）は従来から知られて
いる。かかるクリスタル加工方法は、通常、加飾インキ
を被加工物すなわち基材（加工されるもの）の表面に所
望の厚さに塗布した後、加熱処理してその加飾インキを
乾燥させると同時にその加飾インキに縮み模様を生起さ
せ、その縮み模様と基材からの反射光の相互作用によっ
てクリスタル模様を視認できるようにするものである。
かかる縮み模様は次のようにして形成される。すなわち
基材に塗布された一定以上の厚さの加飾インキの層を加
熱乾燥すると、まず乾燥インキの表面部分が先に硬化
し、これにより表面部分と内部とに硬化歪みが発生して
未硬化で流動状態にある内部に硬化歪みを消すように加
飾インキの層が変化し、図１１の拡大図で示されるよう
に、基材ａ上の硬化後の加飾インキ層ｂにｃのようなう
ね部が不規則に発生し、これが縮み模様になる。この加
飾インキ層の縮み模様と、基材の表面の反射光との相互
作用により外部から見たとき加飾インキ層にクリスタル
模様が視認されるのである。

【０００３】ところで、上記加飾インキの性質上、加熱
温度が低い（例えば１００℃）とクリスタル模様の生成
が不十分（図１１でうね部間の距離Ｌが小さく、またう
ね部の高さＨが低い）で、不良品の発生率（有効な縮み
模様にならない場合）が高く、加熱温度を例えば１５０
℃ないし１８０℃の高い温度にする必要がある。しかし
ながら、加熱温度を高くすると、基材の材質によっては
基材が熱により変形する問題が発生し、加工できる対称
物すなわち基材の種類が制限される（例えば上記高い温
度でも変形を生じない金属、ガラス等に）問題がある。
これは、従来使用されていた加飾インキが、上記高い温
度で加熱処理した後にもろくなり易く、基材をわずかに
湾曲状に曲げるだけでクリスタル模様になったインキ層
に無数のひびが発生して使用に適さなくなるためであ
る。

【０００４】また、基材の裏面に粘着剤の層を形成して
常時はその粘着剤の層に離けい紙を貼り付けておき、使
用時にその離けい紙を剥がして粘着剤の層を他の部材の
表面に張り付けて使用する反射シートのような粘着シー
トが広く流通に置かれ、使用されている。このような粘
着シートの表面にクリスタル加工を施す場合には、図１
２に示されるように、通常、粘着シートｓの基材ａの裏
面に形成された粘着層ｄに離けい紙ｅを貼り付けた状で
の基材の表面に加飾インキを所望の厚さに塗布して加飾
インキ層ｂを形成させ、その加飾インキ層を加熱乾燥し
て加飾インキの層ｂに縮み模様を発生させるのである
が、従来、離けい紙として、表面にポリエチレンをコー
ティングした紙又はポリエチレンのフィルムを使用して
いたため、このような加熱乾燥工程中に、図１２でｇで
示されるように離けい紙に対して基材が部分的に浮き上
がり、その部分で縮み模様が適切に形成されない問題、
更には粘着層ｄの粘着面が離けい紙から離れた状態で乾
燥されるため、その部分の接着性が失われる問題があっ
た。本発明者は、かかる浮き上がりの原因について検討
した結果、離けい紙のポリエチレンの成分が加熱により
発泡してガスが離けい紙と粘着層との間に溜まるためで
あると言う結論に達した。

【０００５】更に、従来のクリスタル加工方法及びそれ
によってできたクリスタル加工物では、クリスタル模様
を生成する加飾インキすなわちクリスタルインキが基材
に直接塗布されているため、加熱処理後にクリスタル模
様生成層が基材から剥がれ易くなる問題もあった。更に
また、従来の加飾インキでは着色が難しく、着色しよう
とし着色剤を添加すると、出来上がったクリスタル加工
の部分の耐候性が悪くなる問題もあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑みなされたもので、その目的は、光の拡散性及び再
帰性に優れしかも視認性が極めて良いクリスタル加工物
及びそのような加工物を製造するクリスタル加工方法を
提供する事である。本発明の他の目的は、強度が高くて
破損しにくく、極めて高い耐候性を有するクリスタル加
工物及びそのような加工物を製造するクリスタル加工方
法を提供する事である。

【０００７】本発明の別の目的は、クリスタル模様を生
成するクリスタルインキの層と基材との間にアンダーコ
ート材の層を形成することによって、クリスタル模様生
成層のひび割れ、基材からの剥がれを防止したクリスタ
ル加工物及びそのような加工物を製造するクリスタル加
工方法を提供する事である。本発明の別の目的は、光の
拡散性及び再帰性に優れしかも視認性が極めて良いクリ
スタル加工シート及びそのような加工シートを製造する
クリスタル加工方法を提供する事である。本発明の更に
別の発明は、強度が高くて破損しにくく、極めて高い耐
候性を有するクリスタル加工シート及びそのような加工
シートを製造するクリスタル加工方法を提供する事であ
る。本発明の更に別の目的は、光の拡散性及び再帰性に
優れしかも視認性が極めて良く、更に強度が高くて破損
しにくく、極めて高い耐候性を有する反射シート及びそ
のような反射シートを製造する方法を提供することであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願の一つの発明によ
る、光りを反射する基材の表面に加飾インキを塗布して
該加飾インキの層にクリスタル模様を生成させるクリス
タル加工方法は、基材の表面に該加飾インキと基材との
接合性を向上するアンダーコート材を塗布して該アンダ
ーコート材を乾燥させ、該アンダーコート材の上に該加
飾インキを塗布して該加飾インキを乾燥させ、 その後
アンダーコート材、加飾インキが塗布された基材を加熱
処理して該加飾インキの層にクリスタル模様を生成させ
ることを含む。上記方法において、該加飾インキがファ
ンコートインキとクリスタルクリアーインキとを含み、
該ファンコートインキと該クリスタルクリアーインキと
の混合割合が重量比で１００対５ないし１００であって
もよい。また、該アンダーコート材が、ポリエステル樹
脂と、セルロース樹脂と、グリコールエステル系溶剤及
びケトン系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更に、
該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、該溶剤の合計を
１００としたとき、２ないし４の重量比の非シリコン系
消泡剤であるアクリル樹脂を含んでも、ポリエステル樹
脂と、セルロース樹脂と、該グリコールエステル系溶剤
及びケトン系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更
に、該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、溶剤の合計
を１００としたとき、４ないし１５の重量比のアクリル
樹脂と、約１０の重量比のウレタンイソシアネートとを
含んでも、共重合されたアクリル樹脂及び酢酸ビニル樹
脂と、非シリコン系消泡剤としてのアクリル樹脂とを含
んでもよく、また、アンダーコート材がアクリルメラミ
ン樹脂であってもよい。また、該基材が少なくとも一方
の表面が光り反射処理されたポリエステルフィルムで
も、金属でも、ポリカーボネート又はアクリルのシート
でも、或いはガラスでもよい。

【０００９】本願の他の発明による、表面の加飾インキ
層にクリスタル模様を生成させたクリスタル加工物は、
該加飾インキ層と基材との間にそれらの接合性を向上す
るアンダーコート材の層を有し、該加飾インキがファン
コートインキとクリスタルクリアーインキとを含み、該
ファンコートインキと該クリスタルクリアーインキとの
混合割合が、重量比で１００対５ないし１００で構成さ
れている。上記クリスタル加工物において、アンダーコ
ート材が、ポリエステル樹脂と、セルロース樹脂と、グ
リコールエステル系溶剤及びケトン系溶剤の少なくとも
一方の溶剤と含み、更に、該ポリエステル樹脂、セルロ
ース樹脂、溶剤の合計を１００としたとき該アクリル樹
脂を２ないし４の重量比で含んでも、該ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、該溶剤の合計を１００としたと
き、２ないし４の重量比の非シリコン系消泡剤であるア
クリル樹脂を含んでも、ポリエステル樹脂と、セルロー
ス樹脂と、該グリコールエステル系溶剤及びケトン系溶
剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更に、該ポリエステ
ル樹脂、セルロース樹脂、溶剤の合計を１００としたと
き、２ないし４の重量比のアクリル樹脂と、約１０の重
量比のウレタンイソシアネートとを含んでも、共重合さ
れたアクリル樹脂及び酢酸ビニル樹脂と、非シリコン系
消泡剤としてのアクリル樹脂とを含んでもよく、また、
アンダーコート材がアクリルメラミン樹脂であってもよ
い。また、該基材が少なくとも一方の表面が光り反射処
理されたポリエステルフィルムでも、金属でも、ポリカ
ーボネート又はアクリルのシートでも、或いはガラスで
もよい。本願の別の発明による、少なくとも一方の表面
が光り反射処理され基材の該一方の表面に加飾インキ層
を形成し、その加飾インキ層にクリスタル模様を生成さ
せた反射シートは、該加飾インキ層と基材との間にそれ
らの接合性を向上するアンダーコート材の層を有し、該
加飾インキがファンコートインキとクリスタルクリアー
インキとを含み、該ファンコートインキと該クリスタル
クリアーインキとの混合割合が、重量比で１００対２０
ないし４０で構成されている。上記反射シートにおい
て、該基材の裏面に粘着剤が付着されており、該粘着剤
にポリエステルの離けい紙が貼り付けられていてもよ
い。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明による
クリスタルカラー加工方法及び加工物について説明す
る。まず、クリスタル加工方法を説明するに先立って、
本発明の加工方法で使用するインキについて説明する。
なお、一般的な概念として「インキ」は有色のもの言う
が、ここでは有色のみならず無色透明の液状加飾材もイ
ンキと呼ぶ。

【００１１】ＭＬ−ＵインキＡ（クリスタル加工用アン
ダーコートインキＡ）：このインキは特許請求の範囲中
のアンダーコート材に対応するもので、市販のアクリル
メラミン樹脂でよい。このＭＬ−ＵインキＡは、基材で
あるガラスの表面にクリスタル加工を施す場合に使用す
るのに適している。

【００１２】ＭＬ−ＵインキＢ（クリスタル加工用アン
ダーコートインキＢ）：このインキは特許請求の範囲中
のアンダーコート材に対応するものである。このインキ
は縦えば十条化工株式会社から３５００シリーズＥＸＧ
インキとして販売されているインキをベースとして製造
されるもので、この３５００シリーズＥＸＧインキに使
用されている消泡剤（シリコン系）を非シリコン系消泡
剤であるアクリル樹脂で置き換えたものである。このＭ
Ｌ−ＵインキＢは、基材であるポリカーボネート又はア
クリル樹脂のフィルム、シート、板又はブロックの表面
にクリスタル加工を施す場合に使用するのに適してい
る。

【００１３】ＭＬ−ＵインキＣ（クリスタル加工用アン
ダーコートインキＣ）：このインキも特許請求の範囲中
のアンダーコート材に対応するもので、ポリエステル樹
脂を４０ないし５０重量％、セルロース樹脂を５ないし
１５重量％、グリコールエステル系溶剤を２０ないし１
０重量％、ケトン系溶剤を３５ないし２５重量％含み、
更に、該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、グリコー
ルエステル系溶剤、ケトン系溶剤の合計を１００とした
ときアクリル樹脂を２ないし４の重量比で、ウレタンイ
ソシアネートを約１０の重量比で含んでいる。このＭＬ
−ＵＣインキは基材としてのステンレススチール、アル
ミニュウム等の金属のシート、板又はブロックの表面に
クリスタル加工を施す場合に使用するのに適している。

【００１４】ＭＬ−ＵインキＤ（クリスタル加工用アン
ダーコートインキＤ）：このインキも特許請求の範囲中
のアンダーコート材に対応するもので、ポリエステル樹
脂を４０ないし５０重量％、セルロース樹脂を５ないし
１５重量％、グリコールエステル系溶剤を２０ないし１
０重量％、ケトン系溶剤を３５ないし２５重量％含み、
更に、該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、グリコー
ルエステル系溶剤、ケトン系溶剤の合計を１００とした
ときアクリル樹脂を２ないし４の重量比で含んでいる。
このＭＬ−ＵインキＤは、基材としてのポリエステルの
フィルム、シート又は板材等の表面にクリスタル加工を
施す場合に使用するのに適している。上記４種類のＭＬ
−ＵインキＡないしＤは無色透明であるが、クリスタル
加工自体を着色したい場合には、公知の透明着色剤すな
わち透明顔料をこれらのＭＬ−Ｕインキに所望量（例え
ば４ないし１４重量％）加えてこれらのインキを着色す
ればよい。

【００１５】ファンコートＣＬ−３インキ：このインキ
は、特許請求の範囲中の加飾インキの一つであるファン
コートインキに対応するもので、例えば上記十条化工株
式会社から販売されているものである。このインキは一
液硬化型アクリルメラミンタイプのインキである。クリ
スタル加工において、前述のようにこのインキの層で縮
み模様が発生する。

【００１６】ＭＬインキ（クリスタルクリヤーイン
キ）：このインキも、特許請求の範囲中の加飾インキの
一つであるクリスタルクリアーインキに対応するもので
ある。このインキをつくるには、上記十条化工株式会社
から販売されている２５００シリーズＭＩＧインキをベ
ースとして製造されるもので、この２５００シリーズＭ
ＩＧインキに使用されている消泡剤（シリコン系）を非
シリコン系消泡剤であるアクリル樹脂で置き換えてつく
られているインキ（以下、ここでは特殊２５００シリー
ズＭＩＧインキと呼ぶ）をつくる。そして前記ファンコ
ートＣＬ−３インキと上記特殊２５００シリーズＭＩＧ
インキとを、重量比で１００対５ないし１００の割合で
混合する。このようにしてＭＬインキがつくられる。フ
ァンコートＣＬ−３インキと特殊２５００シリーズＭＩ
Ｇインキとの混合の割合を変えることによって縮み模様
を変化させることが可能である。一般的に後者の割合が
多くなると縮み模様のパターンは細かく、図１１の距離
Ｌが小さくなる。またこの割合はクリスタル加工が施さ
れる基材の材質によっても変えられる。反射シートのよ
うに基材が薄いポリエステルフィルムの場合には上記割
合は１００対２０ないし４０が、効果的な視認性を得る
上で好ましい。クリスタル加工において、前述のように
このインキの層で縮み模様が発生する。

【００１７】次に、上記インキを使用したクリスタル加
工方法について説明する。 実施例１ この実施例は、基材の裏面に粘着剤の層が形成されてい
て、その粘着剤の層に離けい紙が貼り付けられ、基材の
表面にクリスタル加工を施して必要なときに離けい紙を
剥がして粘着剤の層を所望の面に貼り付けて使用するい
わゆる粘着性の反射シートを製造する場合である。

【００１８】図１ないし図３において、まず、少なくと
も一方の表面（図１で上面）が反射処理されているポリ
エステルの基材すなわちシート１の他の表面（図１で）
には所望の厚さの粘着剤の層２が公知の方法で形成さ
れ、その粘着剤の層２にはポリエステルフィルムの離け
い紙３が引きはがし可能に貼り付けられている。ここで
反射処理されえている表面とは、その表面に外部から光
が当たったときその表面で直接光を反射するようになっ
ている表面だけでなく、例えば鏡のように外部から光が
当たる面と反対側の表面に反射面が形成されている場合
には反射面が形成されている表面と反対側の表面をも言
う。基材としてのシートの表面を反射処理する方法とし
ては、アルミ蒸着等の公知の方法がある。まず、この基
材の反射処理した表面には、所望の箇所に、異なる色の
アンダーコート材すなわちＭＬ−ＵインキＤを２００メ
ッシュないし２７０メッシュの印版を使用してスクリー
ン印刷方法で所望の厚さに印刷すなわち塗布し、ＭＬ−
ＵインキＤの層４及び５を所望のパターン（例えば図３
で「交通安全」のような文章）に形成する。印版として
はポリエステル又はステンレス紗を使用した版を用いれ
ばよい。このＭＬ−ＵインキＤの印刷が完了した後、こ
のインキを乾燥する。この乾燥方法は自然乾燥でも強制
乾燥でもよい。

【００１９】ＭＬ−ＵインキＤの層４又は（及び）５に
着色させる場合には、前述のようにこのインキに公知の
透明着色剤を適宜（例えば５ないし１５％）添加して着
色すればよい。例えば、ＭＬ−ＵインキＤの層５を青、
黒の透明の着色剤で着色し、ＭＬ−ＵインキＤの層４を
透明無色又は層５と異なる色の有色透明にすることがで
きる。もちろん、ＭＬ−ＵインキＤの層４と５の色が異
なれば、それらの印刷は別工程でスクリーン印刷する。
なお、着色剤は透明のものだけでなく不透明の着色剤も
使用できるが、クリスタル模様を外部から視認できるの
は、基材から反射した光が加飾インキの層で形成された
縮み模様を通過する場合であるので、このＭＬ−Ｕイン
キＤの層が不透明になるとクリスタル模様の視認性が劣
ることになる。

【００２０】次に、図２に示されるように、ＭＬ−Ｕイ
ンキＤの層４及び５を被うように基材１の表面にＭＬイ
ンキを、スクリーン印刷法を用いて所望の厚さに塗布
し、ＭＬインキ層６を形成し、未完成の中間品１０をつ
くる。この場合に使用するＭＬインキでは、ファンコー
トＣＬ−３インキと上記特殊２５００シリーズＭＩＧイ
ンキとを、重量比で１００対２０ないし４０の割合で混
合したものを使用する。ＭＬインキを塗布した後、その
ＭＬインキの乾燥加飾工程を行い、ＭＬインキの層に前
述したように縮み模様を発生させる。この縮み模様が基
材すなわちポリエステルシート１の反射する表面との相
互作用によりクリスタル模様として視認される。

【００２１】このＭＬインキの乾燥加飾工程は、図４に
示されるような赤外線コンベア炉１００を使用する。こ
の赤外線コンベア炉自体の構造は公知のものであり、Ｍ
Ｌインキが塗布された後の基材を上に乗せて搬送するコ
ンベア１２と、コンベアの移送経路の途中に設けられた
遠赤外線炉１４とをそなえている。赤外線コンベア炉１
００には遠赤外線炉の入口側から炉内に空気を送る強制
送風装置１６と、加熱乾燥によって発生した蒸気を排出
するダクト１７とが形成されている。また炉内には公知
の温度センサ１８が設けられ、炉内の温度が常に一定の
範囲内になるように制御される。赤外線コンベア炉１０
０では、コンベア１２によって搬送される中間品１０
を、約１５０℃以上の温度で１０分ないし３０分にわた
って、加熱乾燥させる。加熱時間は加熱温度によって変
わるもので、加熱温度を１５０℃とすれば、加熱時間は
２０ないし３０分でよいが、加熱温度を１８０℃にすれ
ば加熱時間は１０分ないし２０分でよい。加熱乾燥中遠
赤外線炉内には強制送風装置１６から空気が強制的に送
られ、乾燥時に発生した蒸気を排出するようにしてい
る。これは蒸気を強制的に排出することによってＭＬイ
ンキの層に発生する縮み模様を均一化するためである。
また、コンベア１２により印刷済み基材を搬送する場合
には、熱むらによるクリスタル模様の不良発生防止のた
め及び被加工素材の変形防止のため、図５に示されるよ
うに、ジグ２０を用いて基材をコンベアの金属製搬送体
１２ａから浮き上がらせるようにする。このジグは熱伝
導率の低い材料でつくられていて、炉内でのジグの加熱
による影響を受けないようしている。更に、被加工素材
すなわち基材が薄いものである場合にはジグの両側にチ
ャック（図示せず）を設けて被加工素材を引っ張るよう
にしてもよい。

【００２２】上記のように加熱温度及び加熱時間に幅が
あるのは、基材の種類、厚さ等の相違によるもので、例
えば、基材としてアルミニュウム板を例にした場合、厚
さ０．５ｍｍのアルミニュウム板を使用したとき加熱温
度が約１５０℃で加熱時間が約２０分でよいが、３．０
ｍｍのアルミニュウム板を使用したときは同じ加熱温度
で加熱時間が約３０分又はそれ以上必要となる。また、
基材がガラスの場合には、ガラスの熱伝導度が低いた
め、同じ厚さのアルミニュウム板を使用した場合より加
熱時間が更に多く必要となる。このため加熱時間を上記
とほぼ同じにして生産性を向上するために、加熱温度を
１５０℃より高い温度（例えば、１６０℃ないし１８０
℃）にする必要がある。

【００２３】上記赤外線コンベア炉で乾燥加飾工程を行
う場合、まずコンベア１２を加熱時間が前記範囲内にな
るように一定の速度で矢印の方向に移動させる。一方赤
外線炉１４内は所望の温度になるように温度管理する。
この状態で、中間品１０をコンベア１２をセットしてジ
グ２０をコンベア１２の搬送体１２ａの上に乗せ、中間
品１０をジグごと搬送し、赤外線炉内を通過させる。こ
れによりＭＬインキの層６には図６に示されるように縮
み模様７が形成される。この縮み模様が基材の光を反射
する表面と協働してクリスタル模様となる。そしてＭＬ
インキの層６と基材１との間にあるＭＬ−Ｕインキの層
が透明無色の場合には透明無色のクリスタル模様とな
り、ＭＬ−Ｕインキの層が透明有色の場合にはその色の
のクリスタル模様となる。ＭＬ−Ｕインキの層が不透明
に着色されている場合、その部分ではクリスタル模様は
ほとんど視認されない。なお、上記実施例で説明してい
るＭＬ−Ｕインキ及びＭＬインキの印刷パターンは他の
パターンに変えることができる。また、図６では「交通
安全」の文字の上及びその回りには縮み模様が形成され
ていないように図示されているが、これは作図するうえ
で文字が不明瞭になるのを避けるためにその部分に縮み
模様を描かなかっただけで、実際には文字の上を含めた
全体に縮み模様が形成されている。

【００２４】実施例２ この実施例は、薄い金属板の上にクリスタル加工を行い
場合について説明しているが、もちろんこの実施例で説
明している印刷パターンを用いて他のＭＬ−Ｕインキ用
いて他の部材にクリスタル加工すること、すなわち、Ｍ
Ｌ−ＵインキＡを用いてガラスにクリスタル加工するこ
と、ＭＬ−ＵインキＢを用いてアクリル板にクリスタル
加工すること、ＭＬ−ＵインキＤを用いてポリエステル
シートにクリスタル加工することが可能である。

【００２５】図７ないし図９において、アルミニュウム
板或いはステンレススチール板のようなそれ自体反射性
表面を有する基材１ａの一方の表面（図７において上
面）にはアンダーコート材すなわちＭＬ−ＵインキＣを
上記実施例１と同ように、スクリーン印刷の技法により
所望の厚さに印刷し、ＭＬ−ＵインキＣの層４ａ、４ｂ
とを形成する。そのＭＬ−ＵインキＣの印刷の前に又は
その後に、着色カラーインキ（不透明でもよい）で、所
望のパターン、例えば図９の「ＪＡＰＡＮ」の文章を、
ＭＬ−ＵインキＣの層４ａから離して印刷し、着色カラ
ーインキの層８ａを形成する。上記印刷が完了した後そ
れらのインキはそれぞれ自然乾燥又は強制乾燥により乾
燥される。なお、ＭＬ−ＵインキＣの層４ａ及び４ｂは
同色でも異なる色でもよい。異なる色の場合には層４ａ
と４ｂとは異なる印刷工程で印刷される。

【００２６】次に、同じくスクリーン印刷の技法によ
り、基材の上に図７に示されるようにＭＬインキを印刷
し、ＭＬインキの層６ａ、６ｂ、６ｃを形成する。この
実施例では、基材の上面全体にＭＬインキを印刷するの
でなくて、ＭＬ−ＵインキＣ４ａ、４ｂの上及び基材の
上面の一部にＭＬインキを所望の厚さ印刷する。このよ
うに印刷された基材は前記実施例と同様に赤外線コンベ
ア炉により加熱乾燥させる。すると、図１０に示される
ようにＭＬインキの層６ａ、６ｂ、６ｃの部分で縮み模
様が発生する。この実施例では、ＭＬ−ＵインキＣの層
４ａ、４ｂを有色着色剤で着色してある場合にはＭＬイ
ンキの層６ａ、６ｂの部分でその色の有色クリスタル模
様が視認されるが、ＭＬインキの層６ｃの部分では着色
したＭＬ−ＵインキＣが存在しないので、無色のクリス
タル模様が視認させる。そして着色カラーインキの層８
ａの部分ではＭＬインキが存在しないのでクリスタル模
様は視認できない。

【００２７】上記二つの実施例では基材として粘着剤月
のポリエステルシートにクリスタル加工を施して反射シ
ートを製造する場合及びアルミニュウム又はステンレス
スチールのような金属板にクリスタル加工を施す場合を
説明したが、もちろんこの実施例で説明している印刷パ
ターンを用いて他のＭＬ−ＵインキＡを用いて基材とし
てのガラスに、他のＭＬ−ＵインキＢを用いて基材とし
てのポリカーボネート又はアクリルの表面に、同じ工程
によりクリスタル加工を施すことができる。この場合、
必要に応じて、反射加工を施されている加工品（例え
ば、ガラスの鏡、蒸着加工したポリカーボネート板又は
アクリル板）を使用する。また、種々の印刷パターンを
施すことも可能である。

【００２８】

【発明の効果】本発明によれば次のような効果を奏する
ことが可能である。 （イ）アンダーコート材の層を加飾インキの下に設ける
ようにしたので、基材への加飾インキの付着性を向上さ
せることができ、種々の基材にクリスタル加工を施すこ
とが可能になった。特に従来困難であった薄い粘着シー
トへのクリスタル加工が可能になった。 （ロ）前記（イ）と関連してアンダーコート材を着色す
ることによってクリスタル模様に色を付けるようにした
ので、着色し易くなった。 （ハ）加飾インキの材質の改良と共にアンダーコート材
で着色するようにしたのでクリスタル加工物の強度が増
加し、また耐候性も向上できた。 （ニ）前記（ハ）と関連して、視認性、視覚性が極めて
高くなり、高級感を与える加工物をつくることが可能と
なった。 （ホ）反射シート及びアルミ蒸着フィルムへの応用した
場合、光の拡散性及び光再帰性がよく、昼間のみならず
夜間での視認性も極めて高く、事故防止等の安全対策に
有効である。 （ヘ）加飾インキ層で発生する縮み模様の大きさ、した
がってクリスタル模様の大きさを任意に変更できる。 （ト）クリスタル模様自体の質が向上したので、例えば
間仕切りの仕切り板の表面装飾等、広い範囲で使用

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のクリスタル加工方法の一実施例の一部
の工程を示す断面図であって、図３の矢印Ａ−Ａに沿っ
て見た拡大断面図である。

【図２】本発明のクリスタル加工方法の一実施例の他の
工程を示す断面図であって、図３の矢印Ａ−Ａに沿って
見た拡大断面図である。

【図３】本発明のクリスタル加工工程における中間品を
示す平面図である。

【図４】本発明のクリスタル加工方法で使用する赤外線
コンベア炉を示す概略図である。

【図５】本発明のクリスタル加工方法で使用するジグを
示す概略図である。

【図６】本発明によりできたクリスタル加工物を示す平
面図である。

【図７】本発明のクリスタル加工方法の一実施例の一部
の工程を示す断面図であって、図９の矢印Ｂ−Ｂに沿っ
て見た拡大断面図である。

【図８】本発明のクリスタル加工方法の一実施例の他の
工程を示す断面図であって、図９の矢印Ｂ−Ｂに沿って
見た拡大断面図である。

【図９】本発明のクリスタル加工工程における中間品を
示す平面図である。

【図１０】本発明のクリスタル加工物を示す平面図であ
る。

【図１１】加飾インキにおける縮み模様の断面を拡大し
て示す図である。

【図１２】従来の粘着シートタイプの反射シートにクリ
スタル加工を施したときのシートの浮き上がりを説明す
る断面図である。

【符号の説明】

１、１ａ 基材 ２ 粘着層 ３、３ａ 離けい紙 ４、５ アンダ
ーコート材 ６、６ａ、６ｂ、６ｃ 加飾インキ層 ７ 縮み模様

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ // Ｃ０９Ｄ 5/28 Ｃ０９Ｄ 5/28 11/00 11/00

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光りを反射する、加工されるべき基材の
   表面に加飾インキを塗布して該加飾インキの層にクリス
   タル模様を生成させるクリスタル加工方法において、 基材の表面に該加飾インキと基材との接合性を向上する
   アンダーコート材を塗布して該アンダーコート材を乾燥
   させ、 該アンダーコート材の上に該加飾インキを塗布して該加
   飾インキの層を形成し、 その後アンダーコート材、加飾インキが塗布された基材
   を加熱乾燥して該加飾インキの層に縮み模様を生成させ
   るクリスタル加工方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のクリスタル加工方法に
   おいて、該加飾インキがファンコートインキとクリスタ
   ルクリアーインキとを含み、該ファンコートインキと該
   クリスタルクリアーインキとの混合割合が重量比で１０
   ０対５ないし１００であるクリスタル加工方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載のクリスタル加工
   方法において、該アンダーコート材が、ポリエステル樹
   脂と、セルロース樹脂と、グリコールエステル系溶剤及
   びケトン系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更に、
   該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、該溶剤の合計を
   １００としたとき、２ないし４の重量比の非シリコン系
   消泡剤であるアクリル樹脂を含み、該基材がポリエステ
   ルであるクリスタル加工方法。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のクリスタル加工方法に
   おいて、該基材は少なくとも一方の表面が光り反射処理
   されたポリエステルフィルムであり、該ファンコートイ
   ンキと該クリスタルクリアーインキとの混合割合が重量
   比で１００対２０ないし４０であるクリスタル加工方
   法。
5. 【請求項５】 請求項１又は２に記載のクリスタル加工
   方法において、該アンダーコート材が、ポリエステル樹
   脂と、セルロース樹脂と、該グリコールエステル系溶剤
   及びケトン系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更
   に、該ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、溶剤の合計
   を１００としたとき、２ないし４の重量比のアクリル樹
   脂と、約１０の重量比のウレタンイソシアネートとを含
   み、該基材が金属であるクリスタル加工方法。
6. 【請求項６】 請求項１又は２に記載のクリスタル加工
   方法において、該アンダーコート材が、共重合されたア
   クリル樹脂及び酢酸ビニル樹脂と、非シリコン系消泡剤
   としてのアクリル樹脂とを含み、該基材がポリカーボネ
   ート又はアクリルのシートであるクリスタル加工方法。
7. 【請求項７】 請求項１又は２に記載のクリスタル加工
   方法において、該アンダーコート材がアクリルメラミン
   樹脂であり、該基材がガラスであるクリスタル加工方
   法。
8. 【請求項８】 表面の加飾インキ層にクリスタル模様を
   生成させたクリスタル加工物において、 該加飾インキ層と基材との間にそれらの接合性を向上す
   るアンダーコート材の層を有し、 該加飾インキがファンコートインキとクリスタルクリア
   ーインキとを含み、該ファンコートインキと該クリスタ
   ルクリアーインキとの混合割合が、重量比で１００対５
   ないし１００であるクリスタル加工刷物。
9. 【請求項９】 請求項８に記載のクリスタル加工物にお
   いて、該アンダーコート材は、ポリエステル樹脂と、セ
   ルロース樹脂と、グリコールエステル系溶剤及びケトン
   系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更に、該ポリエ
   ステル樹脂、セルロース樹脂、溶剤の合計を１００とし
   たとき該アクリル樹脂を２ないし４の重量比で含み、該
   基材がポリエステルフィルムであるクリスタル加工物。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載のクリスタル加工物に
    おいて、該ポリエステルフィルムは少なくとも一方の表
    面が光り反射処理されたポリエステルフィルムであり、
    該ファンコートインキと該クリスタルクリアーインキと
    の混合割合が重量比で１００対２０ないし４０であるク
    リスタル加工物。
11. 【請求項１１】 請求項８に記載のクリスタル加工方法
    において、アンダーコート材は、ポリエステル樹脂と、
    セルロース樹脂と、グリコールエステル系溶剤及びケト
    ン系溶剤の少なくとも一方の溶剤と含み、更に、該ポリ
    エステル樹脂、セルロース樹脂、溶剤の合計を１００と
    したとき該アクリル樹脂を２ないし４の重量比で、ウレ
    タンイソシアネートを約１０の重量比で含み、該基材が
    金属であるクリスタル加工物。
12. 【請求項１２】 請求項８に記載のクリスタル加工物に
    おいて、該アンダーコート材が、共重合されたアクリル
    樹脂及び酢酸ビニル樹脂と、非シリコン系消泡剤として
    のアクリル樹脂とを含み、該基材がポリカーボネート又
    はアクリルであるクリスタル加工物。
13. 【請求項１３】 請求項８に記載のクリスタル加工物に
    おいて、該アンダーコート材がアクリルメラミン樹脂で
    あり、該基材がガラスであるクリスタル加工物。
14. 【請求項１４】 少なくとも一方の表面が光り反射処理
    され基材の該一方の表面に加飾インキ層を形成し、その
    加飾インキ層にクリスタル模様を生成させた反射シート
    において、 該加飾インキ層と基材との間にそれらの接合性を向上す
    るアンダーコート材の層を有し、 該加飾インキがファンコートインキとクリスタルクリア
    ーインキとを含み、該ファンコートインキと該クリスタ
    ルクリアーインキとの混合割合が、重量比で１００対２
    ０ないし４０である反射シート。
15. 【請求項１５】 請求項１４に記載の反射シートにおい
    て、該基材の裏面に粘着剤が付着されており、該粘着剤
    にポリエステルの離けい紙が貼り付けられている反射シ
    ート。