JPH11267656A - 浴槽水浄化循環装置 - Google Patents
浴槽水浄化循環装置Info
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- JPH11267656A JPH11267656A JP10079374A JP7937498A JPH11267656A JP H11267656 A JPH11267656 A JP H11267656A JP 10079374 A JP10079374 A JP 10079374A JP 7937498 A JP7937498 A JP 7937498A JP H11267656 A JPH11267656 A JP H11267656A
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 直接手で扱うことなく、一定有効量の殺菌用
の薬剤を浴槽水に添加することができる浴槽水浄化循環
装置を提供する。 【解決手段】 浴槽１の水を循環させる配管２、配管２
に接続され浴槽１の水を濾過する濾過装置３、及び配管
２と弁４を介して接続され浴槽１の水に殺菌用の薬剤を
溶解させる薬剤溶解装置６を具備する浴槽水浄化循環装
置を形成する。薬剤溶解装置６より殺菌用の薬剤を浴槽
１に投入することができ、危険な薬剤を直接手で扱わな
くても浴槽１の水の殺菌が可能となる。
の薬剤を浴槽水に添加することができる浴槽水浄化循環
装置を提供する。 【解決手段】 浴槽１の水を循環させる配管２、配管２
に接続され浴槽１の水を濾過する濾過装置３、及び配管
２と弁４を介して接続され浴槽１の水に殺菌用の薬剤を
溶解させる薬剤溶解装置６を具備する浴槽水浄化循環装
置を形成する。薬剤溶解装置６より殺菌用の薬剤を浴槽
１に投入することができ、危険な薬剤を直接手で扱わな
くても浴槽１の水の殺菌が可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２４時間風呂等に
用いられる浴槽水浄化循環装置に関するものである。
用いられる浴槽水浄化循環装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、入浴の際に湯を浴槽に入れ、入浴
後その湯を排出させるという一般的な風呂に代わって、
浴槽の水を循環させて温度を調節した後、再度浴槽水と
して使用し、常に適温の浴槽水が得られるタイプのいわ
ゆる２４時間風呂が普及してきている。２４時間風呂で
は、同じ水を繰り返し使用するため、菌が繁殖し易く、
そのため浴槽水循環装置において浄化及び殺菌すること
が必要となる。浴槽水循環装置において浴槽水又は装置
全体を殺菌するためには通常塩素が用いられる。塩素を
浴槽水に添加するには、塩素を発生する薬剤を手で開封
して投入する方法、あるいは電気分解により塩素を発生
させる方法があった。
後その湯を排出させるという一般的な風呂に代わって、
浴槽の水を循環させて温度を調節した後、再度浴槽水と
して使用し、常に適温の浴槽水が得られるタイプのいわ
ゆる２４時間風呂が普及してきている。２４時間風呂で
は、同じ水を繰り返し使用するため、菌が繁殖し易く、
そのため浴槽水循環装置において浄化及び殺菌すること
が必要となる。浴槽水循環装置において浴槽水又は装置
全体を殺菌するためには通常塩素が用いられる。塩素を
浴槽水に添加するには、塩素を発生する薬剤を手で開封
して投入する方法、あるいは電気分解により塩素を発生
させる方法があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、薬剤を手によ
って投入する方法は、薬剤を直接取り扱うため安全性に
問題があった。また、電気分解により塩素を発生させる
方法では殺菌に十分な量の塩素を発生させることができ
なかった。本発明は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、直接手で扱うことなく、一定有効量の塩素を浴槽水
に添加することができる浴槽水浄化循環装置を提供する
ことを目的とするものである。
って投入する方法は、薬剤を直接取り扱うため安全性に
問題があった。また、電気分解により塩素を発生させる
方法では殺菌に十分な量の塩素を発生させることができ
なかった。本発明は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、直接手で扱うことなく、一定有効量の塩素を浴槽水
に添加することができる浴槽水浄化循環装置を提供する
ことを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る浴槽水浄化
循環装置は、浴槽１、浴槽の水を循環させる配管２、配
管２に接続され浴槽１の水を濾過する濾過装置３、及び
配管２と弁４を介して接続され浴槽１の水に殺菌用の薬
剤５を溶解させる薬剤溶解装置６を具備して成ることを
特徴とするものである。
循環装置は、浴槽１、浴槽の水を循環させる配管２、配
管２に接続され浴槽１の水を濾過する濾過装置３、及び
配管２と弁４を介して接続され浴槽１の水に殺菌用の薬
剤５を溶解させる薬剤溶解装置６を具備して成ることを
特徴とするものである。
【０００５】また、本発明の請求項２にかかる浴槽水浄
化循環装置は、上部内に水と反応して塩素を発生させる
薬剤５を保持する薬剤溶解槽７、一端が配管２に、他端
が薬剤溶解槽７に接続され、弁４を備える浴槽水導入管
８、薬剤５の下端と同じ高さ位置において一端が薬剤溶
解槽７に接続され他端が配管２に接続された下部排水管
９、及び一端が下部排水管９より上部において薬剤溶解
槽７に接続され他端が下部排水管９に接続された上部排
水管１０を具備して薬剤溶解装置５を形成して成ること
を特徴とするものである。
化循環装置は、上部内に水と反応して塩素を発生させる
薬剤５を保持する薬剤溶解槽７、一端が配管２に、他端
が薬剤溶解槽７に接続され、弁４を備える浴槽水導入管
８、薬剤５の下端と同じ高さ位置において一端が薬剤溶
解槽７に接続され他端が配管２に接続された下部排水管
９、及び一端が下部排水管９より上部において薬剤溶解
槽７に接続され他端が下部排水管９に接続された上部排
水管１０を具備して薬剤溶解装置５を形成して成ること
を特徴とするものである。
【０００６】また、本発明の請求項３にかかる浴槽水浄
化循環装置は、薬剤５がトリクロロイソシアヌル酸を主
成分とするものであることを特徴とするものである。
化循環装置は、薬剤５がトリクロロイソシアヌル酸を主
成分とするものであることを特徴とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。図１は、本発明の浴槽水浄化循環装置の実施の形
態の一例を示すものである。浴槽１、ポンプ１１、及び
ヒーター１２が配管２によって直列に繋がれている。配
管２からバイパス管１６が分岐しており、バイパス管１
６の途中に浴槽１の水を濾過する濾過装置３が設けられ
る。これにより、配管２の流れの一部がバイパス管１６
に流れ込み、濾過装置３により浴槽１の水に含まれる垢
などの浮遊物や細菌の一部が濾過される。この濾過装置
３には、中空糸膜などを備えたものが用いられる。浴槽
水導入管８は、配管２から分岐しており、薬剤溶解槽７
と接続している。また浴槽水導入管８は、弁４を備える
ものである。さらに下部排水管９の一端が薬剤溶解槽７
に、他端が配管２に接続している。上部排水管１０は、
下部排水管９より上部で薬剤溶解槽７と一端が接続し、
屈曲して他端が下部排水管９に接続している。
する。図１は、本発明の浴槽水浄化循環装置の実施の形
態の一例を示すものである。浴槽１、ポンプ１１、及び
ヒーター１２が配管２によって直列に繋がれている。配
管２からバイパス管１６が分岐しており、バイパス管１
６の途中に浴槽１の水を濾過する濾過装置３が設けられ
る。これにより、配管２の流れの一部がバイパス管１６
に流れ込み、濾過装置３により浴槽１の水に含まれる垢
などの浮遊物や細菌の一部が濾過される。この濾過装置
３には、中空糸膜などを備えたものが用いられる。浴槽
水導入管８は、配管２から分岐しており、薬剤溶解槽７
と接続している。また浴槽水導入管８は、弁４を備える
ものである。さらに下部排水管９の一端が薬剤溶解槽７
に、他端が配管２に接続している。上部排水管１０は、
下部排水管９より上部で薬剤溶解槽７と一端が接続し、
屈曲して他端が下部排水管９に接続している。
【０００８】この浴槽水浄化循環装置は、浴槽１の水を
配管２を通じてポンプ１１で循環させ、ヒーター１２に
より常に入浴に適した温度にし、さらに濾過装置３およ
び薬剤溶解槽７により浄化・殺菌して浴槽内に常に入浴
に適した湯が得られるようにしたものである。図２は、
本発明の薬剤溶解装置５の実施の形態の一例を示すもの
である。配管２から接続された浴槽水導入管８には弁４
が備わっており、弁４の開閉により薬剤溶解槽７への通
水を制御できる。弁４としては、電磁弁または電動弁を
例示することができる。薬剤溶解槽７の最上部は、蝶番
等により開閉可能な蓋１７が設けられており薬剤５の入
替えができるようになっているが、蓋１７が閉まってい
るときは密閉状態が保たれている。薬剤溶解槽７内の上
部には薬剤５の入った薬剤筒１３が具備されている。薬
剤５は、レジオネラ菌等の病原性細菌を殺菌するために
浴槽水１４と反応して塩素ガス１５を発生するものが用
いられる。急激な反応を避けるために薬剤５としては水
に対して徐溶性のものが選択され、トリクロロイソシア
ヌル酸を主成分とするものが特に好ましい。薬剤筒１３
は、水は内部に進入できるが、内部の薬剤５は溶解しな
いかぎり外部に漏出することができないような構造にな
っており、カゴのようなものを例示することができる。
薬剤溶解槽７の内壁上部には薬剤筒支え１９が設けられ
ており、薬剤筒１３最上部の外部に突出している薬剤筒
係止部１８を薬剤筒支え１９に係止することによって薬
剤筒１３を薬剤溶解槽７内に保持するようにしてある。
薬剤５の下端と同じ高さ位置において一端が薬剤溶解槽
７に接続された下部排水管９は、他端で配管２に接続し
ている。さらに、薬剤５の上端と同じ高さ位置において
一端が薬剤溶解槽７に接続している上部排水管１０は、
下方に屈曲し他端で下部排水管９に接続している。
配管２を通じてポンプ１１で循環させ、ヒーター１２に
より常に入浴に適した温度にし、さらに濾過装置３およ
び薬剤溶解槽７により浄化・殺菌して浴槽内に常に入浴
に適した湯が得られるようにしたものである。図２は、
本発明の薬剤溶解装置５の実施の形態の一例を示すもの
である。配管２から接続された浴槽水導入管８には弁４
が備わっており、弁４の開閉により薬剤溶解槽７への通
水を制御できる。弁４としては、電磁弁または電動弁を
例示することができる。薬剤溶解槽７の最上部は、蝶番
等により開閉可能な蓋１７が設けられており薬剤５の入
替えができるようになっているが、蓋１７が閉まってい
るときは密閉状態が保たれている。薬剤溶解槽７内の上
部には薬剤５の入った薬剤筒１３が具備されている。薬
剤５は、レジオネラ菌等の病原性細菌を殺菌するために
浴槽水１４と反応して塩素ガス１５を発生するものが用
いられる。急激な反応を避けるために薬剤５としては水
に対して徐溶性のものが選択され、トリクロロイソシア
ヌル酸を主成分とするものが特に好ましい。薬剤筒１３
は、水は内部に進入できるが、内部の薬剤５は溶解しな
いかぎり外部に漏出することができないような構造にな
っており、カゴのようなものを例示することができる。
薬剤溶解槽７の内壁上部には薬剤筒支え１９が設けられ
ており、薬剤筒１３最上部の外部に突出している薬剤筒
係止部１８を薬剤筒支え１９に係止することによって薬
剤筒１３を薬剤溶解槽７内に保持するようにしてある。
薬剤５の下端と同じ高さ位置において一端が薬剤溶解槽
７に接続された下部排水管９は、他端で配管２に接続し
ている。さらに、薬剤５の上端と同じ高さ位置において
一端が薬剤溶解槽７に接続している上部排水管１０は、
下方に屈曲し他端で下部排水管９に接続している。
【０００９】図３は、本発明の薬剤溶解装置を作動させ
た場合の一例である。浴槽１の水を配管２を通じてポン
プ１１で循環させている状態において、弁４を開いて浴
槽水導入管８より薬剤溶解槽７中に浴槽水１４を導入す
る。浴槽水導入管８からの浴槽水１４導入量は、下部排
水管９からの排出量より大きくしてあり、さらに浴槽水
１４の水面より上の空気は、上部排水管１０より下部排
水管９を通して配管２に排出されるので薬剤溶解槽７中
の浴槽水１４の水面の高さが下部排水管９の高さを越え
ても浴槽水１４の水面は上昇し続け、薬剤５に達する。
た場合の一例である。浴槽１の水を配管２を通じてポン
プ１１で循環させている状態において、弁４を開いて浴
槽水導入管８より薬剤溶解槽７中に浴槽水１４を導入す
る。浴槽水導入管８からの浴槽水１４導入量は、下部排
水管９からの排出量より大きくしてあり、さらに浴槽水
１４の水面より上の空気は、上部排水管１０より下部排
水管９を通して配管２に排出されるので薬剤溶解槽７中
の浴槽水１４の水面の高さが下部排水管９の高さを越え
ても浴槽水１４の水面は上昇し続け、薬剤５に達する。
【００１０】図３（ａ）で示すように、浴槽水１４が上
部排水管１０の高さにまで満たされたとき、弁４を閉じ
る。このように、薬剤５が浴槽水１４に浸漬されると、
薬剤５が浴槽水１４と反応して、塩素ガス１５が発生す
る。発生した塩素ガス１５は、最初浴槽水１４に溶解す
るが、浴槽水１４の塩素濃度が飽和に達すると、浴槽水
１４に溶解しない塩素ガス１５は、薬剤溶解槽７の上部
に滞留する。さらに発生する塩素ガスによって薬剤溶解
槽７の上部に滞留した塩素ガス圧力が上がり、図３
（ｂ）に示すように薬剤溶解槽７内の浴槽水１４の水面
を押し下げるので、塩素ガスを飽和状態に溶解する浴槽
水１４は上部排水管１０及び下部排水管９から排出さ
れ、配管２に供給される。この浴槽水１４は、配管２か
ら浴槽１に供給され、浴槽１内の殺菌がなされるもので
ある。薬剤溶解槽７内の浴槽水１４の水面が薬剤５の下
端より下方にまで押し下げられると、薬剤５は浴槽水１
４と接触しなくなるので、塩素ガス１５はそれ以上発生
しなくなり、浴槽水１４の水面の降下は停止する。その
結果、図３（ｃ）に示すように薬剤溶解槽７の下部排水
管９より下の部分に一定量の飽和塩素水である浴槽水１
４が貯蔵される。
部排水管１０の高さにまで満たされたとき、弁４を閉じ
る。このように、薬剤５が浴槽水１４に浸漬されると、
薬剤５が浴槽水１４と反応して、塩素ガス１５が発生す
る。発生した塩素ガス１５は、最初浴槽水１４に溶解す
るが、浴槽水１４の塩素濃度が飽和に達すると、浴槽水
１４に溶解しない塩素ガス１５は、薬剤溶解槽７の上部
に滞留する。さらに発生する塩素ガスによって薬剤溶解
槽７の上部に滞留した塩素ガス圧力が上がり、図３
（ｂ）に示すように薬剤溶解槽７内の浴槽水１４の水面
を押し下げるので、塩素ガスを飽和状態に溶解する浴槽
水１４は上部排水管１０及び下部排水管９から排出さ
れ、配管２に供給される。この浴槽水１４は、配管２か
ら浴槽１に供給され、浴槽１内の殺菌がなされるもので
ある。薬剤溶解槽７内の浴槽水１４の水面が薬剤５の下
端より下方にまで押し下げられると、薬剤５は浴槽水１
４と接触しなくなるので、塩素ガス１５はそれ以上発生
しなくなり、浴槽水１４の水面の降下は停止する。その
結果、図３（ｃ）に示すように薬剤溶解槽７の下部排水
管９より下の部分に一定量の飽和塩素水である浴槽水１
４が貯蔵される。
【００１１】次に、弁４を開けて薬剤溶解槽７内に浴槽
水１４を導入すると、この浴槽水１４に押し出されて、
下部排水管９からは飽和塩素水である浴槽水１４が排出
され、浴槽１内に配管２を通して飽和塩素水を投入する
ことができる。この様な操作を繰り返すことにより、浴
槽１内に飽和塩素水を繰り返し投入することができるも
のである。飽和塩素水である浴槽水１４の薬剤溶解槽７
内の貯蔵量または弁４の開閉の時間間隔を決めておけ
ば、浴槽１に投入される飽和塩素水の量を調節すること
ができる。
水１４を導入すると、この浴槽水１４に押し出されて、
下部排水管９からは飽和塩素水である浴槽水１４が排出
され、浴槽１内に配管２を通して飽和塩素水を投入する
ことができる。この様な操作を繰り返すことにより、浴
槽１内に飽和塩素水を繰り返し投入することができるも
のである。飽和塩素水である浴槽水１４の薬剤溶解槽７
内の貯蔵量または弁４の開閉の時間間隔を決めておけ
ば、浴槽１に投入される飽和塩素水の量を調節すること
ができる。
【００１２】
【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
る。実施例の浴槽水循環装置も図１で示され、容積２０
０リットルの浴槽１、配管２、ポンプ１１、ヒーター１
２、中空糸膜を用いた浴槽の水を濾過する濾過装置３、
及び薬剤溶解槽７を具備している。薬剤溶解槽７の飽和
塩素水貯蔵部分すなわち薬剤溶解槽７の下部排水管９よ
り下の部分の容積を６０ミリリットルとした。薬剤５と
してはトリクロロイソシアヌル酸を主成分とするスパク
リーン９０ＴＨ（四国化成製）を使用した。
る。実施例の浴槽水循環装置も図１で示され、容積２０
０リットルの浴槽１、配管２、ポンプ１１、ヒーター１
２、中空糸膜を用いた浴槽の水を濾過する濾過装置３、
及び薬剤溶解槽７を具備している。薬剤溶解槽７の飽和
塩素水貯蔵部分すなわち薬剤溶解槽７の下部排水管９よ
り下の部分の容積を６０ミリリットルとした。薬剤５と
してはトリクロロイソシアヌル酸を主成分とするスパク
リーン９０ＴＨ（四国化成製）を使用した。
【００１３】このような浴槽水循環装置を用い、浴槽１
の水を配管２を通じてポンプ１１で循環させている状態
で弁４を開け、浴槽水１４が上部排水管１０の高さにま
で満たされたとき、弁４を閉じる。薬剤５と浴槽水１４
の反応により発生した塩素ガス１５が浴槽水１４に飽和
するまで溶解した後、塩素ガスの圧力によって上部排水
管１０及び下部排水管９より飽和塩素水となった浴槽水
１４は排出され、薬剤溶解槽７の下部排水管９より下の
部分に一定量の飽和塩素水である浴槽水１４が貯蔵され
る。
の水を配管２を通じてポンプ１１で循環させている状態
で弁４を開け、浴槽水１４が上部排水管１０の高さにま
で満たされたとき、弁４を閉じる。薬剤５と浴槽水１４
の反応により発生した塩素ガス１５が浴槽水１４に飽和
するまで溶解した後、塩素ガスの圧力によって上部排水
管１０及び下部排水管９より飽和塩素水となった浴槽水
１４は排出され、薬剤溶解槽７の下部排水管９より下の
部分に一定量の飽和塩素水である浴槽水１４が貯蔵され
る。
【００１４】再び、弁４を開け、貯蔵された飽和塩素水
である浴槽水１４を配管２を通じて浴槽１に投入したと
ころ、浴槽１中のレジオネラ属菌の量を１０2 個／１０
０ミリリットル以下に維持することができた。
である浴槽水１４を配管２を通じて浴槽１に投入したと
ころ、浴槽１中のレジオネラ属菌の量を１０2 個／１０
０ミリリットル以下に維持することができた。
【００１５】
【発明の効果】上記のように本発明の浴槽水循環装置
は、浴槽、浴槽の水を循環させる配管、配管に接続され
浴槽の水を濾過する濾過装置、及び配管と接続され浴槽
の水に殺菌用の薬剤を溶解させる薬剤溶解装置を具備し
て成ることを特徴とするものであり、薬剤溶解装置より
殺菌用の薬剤を浴槽に投入することができ、危険な薬剤
を直接手で扱わなくても浴槽水の殺菌が可能となるもの
である。
は、浴槽、浴槽の水を循環させる配管、配管に接続され
浴槽の水を濾過する濾過装置、及び配管と接続され浴槽
の水に殺菌用の薬剤を溶解させる薬剤溶解装置を具備し
て成ることを特徴とするものであり、薬剤溶解装置より
殺菌用の薬剤を浴槽に投入することができ、危険な薬剤
を直接手で扱わなくても浴槽水の殺菌が可能となるもの
である。
【００１６】また、請求項２にかかる浴槽水循環装置
は、上部内に水と反応して塩素を発生させる薬剤を保持
する薬剤溶解槽、一端が配管に、他端が薬剤溶解槽に接
続され、弁を備える浴槽水導入管、薬剤の下端と同じ高
さ位置において一端が薬剤溶解槽に接続され他端が配管
に接続された下部排水管、及び一端が下部排水管より上
部において薬剤溶解槽に接続され他端が下部排水管に接
続された上部排水管を具備して前記薬剤溶解装置を形成
して成ることを特徴とするものであり、弁の開閉操作の
みで薬剤溶解槽中に浴槽水を通し、薬剤溶解槽内に一定
量の飽和塩素水を貯えることができ、さらに配管を通じ
て浴槽に飽和塩素水を投入することができるものであ
り、浴槽への塩素の供給を自動的に行わせることが可能
になるものである。
は、上部内に水と反応して塩素を発生させる薬剤を保持
する薬剤溶解槽、一端が配管に、他端が薬剤溶解槽に接
続され、弁を備える浴槽水導入管、薬剤の下端と同じ高
さ位置において一端が薬剤溶解槽に接続され他端が配管
に接続された下部排水管、及び一端が下部排水管より上
部において薬剤溶解槽に接続され他端が下部排水管に接
続された上部排水管を具備して前記薬剤溶解装置を形成
して成ることを特徴とするものであり、弁の開閉操作の
みで薬剤溶解槽中に浴槽水を通し、薬剤溶解槽内に一定
量の飽和塩素水を貯えることができ、さらに配管を通じ
て浴槽に飽和塩素水を投入することができるものであ
り、浴槽への塩素の供給を自動的に行わせることが可能
になるものである。
【００１７】また、請求項３にかかる浴槽水循環装置
は、殺菌用の薬剤がトリクロロイソシアヌル酸を主成分
とするものであり、この薬剤は水に対して徐溶性である
ため急激な反応を防ぎ、操作上の安全性を高めることが
できるものである。
は、殺菌用の薬剤がトリクロロイソシアヌル酸を主成分
とするものであり、この薬剤は水に対して徐溶性である
ため急激な反応を防ぎ、操作上の安全性を高めることが
できるものである。
【図１】本発明の浴槽水浄化循環装置の実施の形態の一
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
【図２】同上の薬剤溶解装置の一例を示す断面図であ
る。
る。
【図３】同上の薬剤溶解装置の作動の一例を示すもので
あり、それぞれ（ａ）は浴槽水導入時の薬剤溶解装置の
断面図、（ｂ）は塩素ガス発生中の薬剤溶解装置の断面
図、（ｃ）は塩素ガス発生停止後の薬剤溶解装置の断面
図を示す。
あり、それぞれ（ａ）は浴槽水導入時の薬剤溶解装置の
断面図、（ｂ）は塩素ガス発生中の薬剤溶解装置の断面
図、（ｃ）は塩素ガス発生停止後の薬剤溶解装置の断面
図を示す。
１ 浴槽 ２ 配管 ３ 濾過装置 ４ 弁 ５ 薬剤 ６ 薬剤溶解装置 ７ 薬剤溶解槽 ８ 浴槽水導入管 ９ 下部排水管 １０ 上部排水管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０Ｚ Ｂ０１Ｄ 35/027 1/76 Ａ Ｃ０２Ｆ 1/76 Ｂ０１Ｄ 35/02 Ｊ
Claims (3)
- 【請求項１】 浴槽、浴槽の水を循環させる配管、配管
に接続され浴槽の水を濾過する濾過装置、及び配管と接
続され浴槽の水に殺菌用の薬剤を溶解させる薬剤溶解装
置を具備して成ることを特徴とする浴槽水浄化循環装
置。 - 【請求項２】 上部内に水と反応して塩素を発生させる
薬剤を保持する薬剤溶解槽、一端が配管に、他端が薬剤
溶解槽に接続され、弁を備える浴槽水導入管、薬剤の下
端と同じ高さ位置において一端が薬剤溶解槽に接続され
他端が配管に接続された下部排水管、及び一端が下部排
水管より上部において薬剤溶解槽に接続され他端が下部
排水管に接続された上部排水管を具備して前記薬剤溶解
装置を形成して成ることを特徴とする請求項１に記載の
浴槽水浄化循環装置。 - 【請求項３】 前記薬剤が、トリクロロイソシアヌル酸
を主成分とするものであることを特徴とする請求項１又
は２に記載の浴槽水浄化循環装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10079374A JPH11267656A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 浴槽水浄化循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10079374A JPH11267656A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 浴槽水浄化循環装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267656A true JPH11267656A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13688106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10079374A Withdrawn JPH11267656A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | 浴槽水浄化循環装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11267656A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017131834A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水処理装置 |
| JP2017131798A (ja) * | 2016-01-25 | 2017-08-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水処理装置 |
-
1998
- 1998-03-26 JP JP10079374A patent/JPH11267656A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017131798A (ja) * | 2016-01-25 | 2017-08-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水処理装置 |
| JP2017131834A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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