JPH11258401A - 光学素子及びその製造方法 - Google Patents
光学素子及びその製造方法Info
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- JPH11258401A JPH11258401A JP32775598A JP32775598A JPH11258401A JP H11258401 A JPH11258401 A JP H11258401A JP 32775598 A JP32775598 A JP 32775598A JP 32775598 A JP32775598 A JP 32775598A JP H11258401 A JPH11258401 A JP H11258401A
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- glass
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- wavelength
- optical element
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光弾性定数が極めて小さなガラスからなる光
学素子を確実に製造できる。 【解決手段】 ガラスの光弾性定数には波長依存性があ
り、透過する光の波長を変えると光弾性定数が変化す
る。そこで、予め、使用波長におけるガラスの光弾性定
数と屈折率とを、光ヘテロダイン法による測定方法で高
精度に測定し、光弾性定数がゼロとなる屈折率ｎを求め
ておく。レンズ、フィルター等の光学素子を製造する際
には、まず、所定の使用波長において光弾性定数が実質
的にゼロとなる屈折率ｎよりも大きな屈折率のガラスと
小さい屈折率のガラスを作製し、それらガラスを調合し
て溶解し、目標の屈折率ｎとほぼ等しいガラスを得る。
次いで、得られたガラスに加工を施して光学素子を製造
する。
学素子を確実に製造できる。 【解決手段】 ガラスの光弾性定数には波長依存性があ
り、透過する光の波長を変えると光弾性定数が変化す
る。そこで、予め、使用波長におけるガラスの光弾性定
数と屈折率とを、光ヘテロダイン法による測定方法で高
精度に測定し、光弾性定数がゼロとなる屈折率ｎを求め
ておく。レンズ、フィルター等の光学素子を製造する際
には、まず、所定の使用波長において光弾性定数が実質
的にゼロとなる屈折率ｎよりも大きな屈折率のガラスと
小さい屈折率のガラスを作製し、それらガラスを調合し
て溶解し、目標の屈折率ｎとほぼ等しいガラスを得る。
次いで、得られたガラスに加工を施して光学素子を製造
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子及びその
製造方法に係り、特に、光弾性定数が極めて小さなガラ
スからなり、紫外域から近赤外域において使用されるレ
ンズ、フィルター、プリズムなどの光学素子及び光学素
子の製造方法に関する。
製造方法に係り、特に、光弾性定数が極めて小さなガラ
スからなり、紫外域から近赤外域において使用されるレ
ンズ、フィルター、プリズムなどの光学素子及び光学素
子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズ、フィルター等の透明ガラスから
なる光学素子を装置に実装する時には、フレーム等のベ
ースに固定部材を用いて光学素子を固定する。しかし、
固定するときの締付などの力によって光学素子に歪が生
じ、複屈折が誘起されて収差が生じるなど、光学素子の
性能が悪化する場合がある。そのため、組立精度が低下
しない程度に光学素子と固定部材の間に緩衝材を設けた
り、光学素子形状を固定による応力変形を受けにくい形
状にするなどの対策が施されている。しかし、高精度・
高性能を要求される光学素子では、これら対策だけでは
十分ではなく、光学素子に外力、熱等の外乱が加わって
も誘起される複屈折量が少ないように、光学素子を構成
するガラス材料に、鉛ガラスなどの光弾性定数の小さい
ガラスが用いられている。
なる光学素子を装置に実装する時には、フレーム等のベ
ースに固定部材を用いて光学素子を固定する。しかし、
固定するときの締付などの力によって光学素子に歪が生
じ、複屈折が誘起されて収差が生じるなど、光学素子の
性能が悪化する場合がある。そのため、組立精度が低下
しない程度に光学素子と固定部材の間に緩衝材を設けた
り、光学素子形状を固定による応力変形を受けにくい形
状にするなどの対策が施されている。しかし、高精度・
高性能を要求される光学素子では、これら対策だけでは
十分ではなく、光学素子に外力、熱等の外乱が加わって
も誘起される複屈折量が少ないように、光学素子を構成
するガラス材料に、鉛ガラスなどの光弾性定数の小さい
ガラスが用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、光弾性定数
はガラスの組成を僅かに変えても、大きく変化してしま
う。しかも、精度良く所望の組成のガラスを再現性よく
製造するのは難しく、光弾性定数が小さいガラスを得、
そのガラスから光学素子を作るためには、どのような指
針で製造すればよいか明らかでなかった。
はガラスの組成を僅かに変えても、大きく変化してしま
う。しかも、精度良く所望の組成のガラスを再現性よく
製造するのは難しく、光弾性定数が小さいガラスを得、
そのガラスから光学素子を作るためには、どのような指
針で製造すればよいか明らかでなかった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の問題点を解決す
べくなされたもので、光弾性定数が極めて小さなガラス
からなる光学素子及び光学素子の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
べくなされたもので、光弾性定数が極めて小さなガラス
からなる光学素子及び光学素子の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光学素子は、ガラス組成として、ＳｉＯ2
を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ
％、ＰｂＯを６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓ
ｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3
＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスであり、
０．２４〜０．８μｍのいずれかの波長に対する光弾性
定数が、−１×１０-1〜＋１×１０-1（ｎｍ／ｃｍ）／
（ｋｇｆ／ｃｍ2）であるガラスからなることを特徴と
する。
に、本発明の光学素子は、ガラス組成として、ＳｉＯ2
を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ
％、ＰｂＯを６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓ
ｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3
＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスであり、
０．２４〜０．８μｍのいずれかの波長に対する光弾性
定数が、−１×１０-1〜＋１×１０-1（ｎｍ／ｃｍ）／
（ｋｇｆ／ｃｍ2）であるガラスからなることを特徴と
する。
【０００６】また、本発明の光学素子の製造方法は、波
長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長λXにおい
て光弾性定数が小さいガラス製の光学素子を得るための
方法であって、ガラス素材としてほぼ同じ組成を有し、
前記波長λXでの光弾性定数が実質的にゼロとなる屈折
率ｎより大きい屈折率を有するガラスと、前記屈折率ｎ
より小さい屈折率を有するガラスとを用い、前記屈折率
ｎより大きい屈折率を有するガラスと前記屈折率ｎより
小さい屈折率を有するガラスとを溶解し、溶解されてで
きたガラスの屈折率が前記屈折率ｎとほぼ等しくなるよ
うにしてガラスを得、前記ガラスに加工を施して光学素
子を得ることを特徴とする。
長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長λXにおい
て光弾性定数が小さいガラス製の光学素子を得るための
方法であって、ガラス素材としてほぼ同じ組成を有し、
前記波長λXでの光弾性定数が実質的にゼロとなる屈折
率ｎより大きい屈折率を有するガラスと、前記屈折率ｎ
より小さい屈折率を有するガラスとを用い、前記屈折率
ｎより大きい屈折率を有するガラスと前記屈折率ｎより
小さい屈折率を有するガラスとを溶解し、溶解されてで
きたガラスの屈折率が前記屈折率ｎとほぼ等しくなるよ
うにしてガラスを得、前記ガラスに加工を施して光学素
子を得ることを特徴とする。
【０００７】ここで、光弾性定数が実質的にゼロのガラ
スとは、光弾性定数が±１×１０-1（ｎｍ／ｃｍ）／
（ｋｇｆ／ｃｍ2）以下のガラスをいう（なお、この値
は石英ガラスの光弾性定数よりも２桁小さい）。
スとは、光弾性定数が±１×１０-1（ｎｍ／ｃｍ）／
（ｋｇｆ／ｃｍ2）以下のガラスをいう（なお、この値
は石英ガラスの光弾性定数よりも２桁小さい）。
【０００８】ところで、光学素子を用いた各種装置にお
いて、使用する光源（レーザー等）の波長を変えると、
光学系で収差が生じるなど、性能・精度が低下すること
があった。その原因を究明したところ、ガラスの光弾性
定数には波長依存性があり、光学素子を透過する光の波
長を変えると光弾性定数の絶対値が増加してしまうため
に、光学素子の性能が低下することが判明した。
いて、使用する光源（レーザー等）の波長を変えると、
光学系で収差が生じるなど、性能・精度が低下すること
があった。その原因を究明したところ、ガラスの光弾性
定数には波長依存性があり、光学素子を透過する光の波
長を変えると光弾性定数の絶対値が増加してしまうため
に、光学素子の性能が低下することが判明した。
【０００９】そこで、上記発明では、使用する透過波長
λxにおける光弾性定数が実質的にゼロとなるガラスの
屈折率ｎを、予め正確な測定から求めておき、目標とす
る屈折率ｎの値よりも大きな値のガラスと小さい値のガ
ラスを作製し、それらガラスを溶解して目標の屈折率ｎ
とほぼ等しいガラスを得るようにしている。したがっ
て、０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長において
光弾性定数が実質的にゼロとなる屈折率のガラスを製造
し、このガラスを用いて使用する波長域で光弾性定数が
極めて小さな光学素子を作製できる。
λxにおける光弾性定数が実質的にゼロとなるガラスの
屈折率ｎを、予め正確な測定から求めておき、目標とす
る屈折率ｎの値よりも大きな値のガラスと小さい値のガ
ラスを作製し、それらガラスを溶解して目標の屈折率ｎ
とほぼ等しいガラスを得るようにしている。したがっ
て、０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長において
光弾性定数が実質的にゼロとなる屈折率のガラスを製造
し、このガラスを用いて使用する波長域で光弾性定数が
極めて小さな光学素子を作製できる。
【００１０】また、原料を溶解して一度に目標の屈折率
のガラスを製造する場合、原料をガラス化する工程で原
料の一部が揮発するためガラス組成を正確にコントロー
ルするのは困難であるが、まず初めに目標の屈折率を挟
んで、これより大きな値のガラスと小さな値のガラスと
をそれぞれ原料を溶解して作製し、次いで両ガラスを再
溶解して目標の屈折率に近似するガラスを作製している
ので、ガラス組成が一定で所望の屈折率のガラスからな
る光学素子を再現性よく製造することができる。
のガラスを製造する場合、原料をガラス化する工程で原
料の一部が揮発するためガラス組成を正確にコントロー
ルするのは困難であるが、まず初めに目標の屈折率を挟
んで、これより大きな値のガラスと小さな値のガラスと
をそれぞれ原料を溶解して作製し、次いで両ガラスを再
溶解して目標の屈折率に近似するガラスを作製している
ので、ガラス組成が一定で所望の屈折率のガラスからな
る光学素子を再現性よく製造することができる。
【００１１】なお、光弾性定数の正確な測定には、光ヘ
テロダイン法による測定方法（高和宏行，梅田 倫弘：
“周波数安定化横ゼーマンレーザによる光弾性定数測
定”，光学，２０（１９９１）１１２―１１４）を使用
し、所望の透過波長におけるガラスの光弾性定数と屈折
率とを高精度に測定した。
テロダイン法による測定方法（高和宏行，梅田 倫弘：
“周波数安定化横ゼーマンレーザによる光弾性定数測
定”，光学，２０（１９９１）１１２―１１４）を使用
し、所望の透過波長におけるガラスの光弾性定数と屈折
率とを高精度に測定した。
【００１２】上記光学素子の製造方法において、前記屈
折率ｎより大きい屈折率を有するガラスと屈折率ｎより
小さい屈折率を有するガラスに、ガラス組成として、Ｓ
ｉＯ2を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａ
ｌ2Ｏ3を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．
５ｗｔ％、ＰｂＯを６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2
Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋
Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスを
用い、前記屈折率ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値を使用するの
が好ましい（ただし、上記屈折率は、波長５８７．５６
ｎｍにおける屈折率ｎdを意味する。）。このようにす
ると、光弾性定数が実質的にゼロのガラスからなる光学
素子を再現性良く製造することができる。
折率ｎより大きい屈折率を有するガラスと屈折率ｎより
小さい屈折率を有するガラスに、ガラス組成として、Ｓ
ｉＯ2を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａ
ｌ2Ｏ3を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．
５ｗｔ％、ＰｂＯを６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2
Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋
Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスを
用い、前記屈折率ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値を使用するの
が好ましい（ただし、上記屈折率は、波長５８７．５６
ｎｍにおける屈折率ｎdを意味する。）。このようにす
ると、光弾性定数が実質的にゼロのガラスからなる光学
素子を再現性良く製造することができる。
【００１３】また、本発明の光学素子の製造方法は、波
長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長λXにおい
て光弾性定数が小さいガラス製の光学素子を得るための
方法であって、ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８
ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗ
ｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯ
を６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０
〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3
を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスを用い、前記波長λ
Xでの屈折率ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値とほぼ等しい
屈折率のガラスを得、前記ガラスに加工を施して光学素
子を得ることを特徴とする。（ただし、上記屈折率は、
波長５８７．５６ｎｍにおける屈折率ｎdを意味す
る。）
長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長λXにおい
て光弾性定数が小さいガラス製の光学素子を得るための
方法であって、ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８
ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗ
ｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯ
を６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０
〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3
を１６〜２８ｗｔ％含有するガラスを用い、前記波長λ
Xでの屈折率ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値とほぼ等しい
屈折率のガラスを得、前記ガラスに加工を施して光学素
子を得ることを特徴とする。（ただし、上記屈折率は、
波長５８７．５６ｎｍにおける屈折率ｎdを意味す
る。）
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面を用いて説明する。レンズ、フィルター、プリズム、
ミラーなどの光学素子を実装すると、温度、圧力などの
外乱によって光学素子に複屈折が誘起される。したがっ
て、高性能・高精度の光学素子を得るためには、これら
の外乱によって誘起される複屈折の生じにくいガラスを
用いることが有用である。複屈折の大部分は、光弾性定
数Ｃに比例する。
面を用いて説明する。レンズ、フィルター、プリズム、
ミラーなどの光学素子を実装すると、温度、圧力などの
外乱によって光学素子に複屈折が誘起される。したがっ
て、高性能・高精度の光学素子を得るためには、これら
の外乱によって誘起される複屈折の生じにくいガラスを
用いることが有用である。複屈折の大部分は、光弾性定
数Ｃに比例する。
【００１５】例えば、残留応力に起因する複屈折β
Sは、βS＝（２π／λ）・Ｃ・Ｔであり、熱応力複屈折β
Tは、βT＝Ｃ・（α・Ｅ／（１−νP））・ｆである。な
お、λ：波長、Ｔ：残留応力、Ｅ：ヤング率、α：線膨
張係数、ｆ：形状に依存する係数、νP：ポアソン比で
ある。
Sは、βS＝（２π／λ）・Ｃ・Ｔであり、熱応力複屈折β
Tは、βT＝Ｃ・（α・Ｅ／（１−νP））・ｆである。な
お、λ：波長、Ｔ：残留応力、Ｅ：ヤング率、α：線膨
張係数、ｆ：形状に依存する係数、νP：ポアソン比で
ある。
【００１６】ところが、今回、ガラスの光弾性定数には
波長依存性があり、透過光の波長を変えると光弾性定数
の絶対値が変化してしまうことが判明した。そのため、
透過光の波長を変えたとき、どのようにすれば、その波
長における光弾性定数の絶対値をゼロに近づけることが
できるかが問題となる。
波長依存性があり、透過光の波長を変えると光弾性定数
の絶対値が変化してしまうことが判明した。そのため、
透過光の波長を変えたとき、どのようにすれば、その波
長における光弾性定数の絶対値をゼロに近づけることが
できるかが問題となる。
【００１７】そこで、後述するように、光ヘテロダイン
法による測定方法（高和 宏行，梅田 倫弘：“周波数
安定化横ゼーマンレーザによる光弾性定数測定”，光
学，２０（１９９１）１１２―１１４）を用いた図２に
示す光弾性測定装置によって、各透過波長におけるガラ
スの光弾性定数と屈折率とを高精度に測定した。
法による測定方法（高和 宏行，梅田 倫弘：“周波数
安定化横ゼーマンレーザによる光弾性定数測定”，光
学，２０（１９９１）１１２―１１４）を用いた図２に
示す光弾性測定装置によって、各透過波長におけるガラ
スの光弾性定数と屈折率とを高精度に測定した。
【００１８】図１には、波長１．５２３μｍおよび６３
２．８ｎｍにおけるガラスの光弾性定数を、図２の光弾
性測定装置を用いて測定した測定結果を示す。測定した
ガラス試料は、ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８
ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗ
ｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯ
を６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０
〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3
を１６〜２８ｗｔ％含有するガラス（以下、ＬＢ系ガラ
スと呼ぶ）であり、屈折率を種々に変えたＬＢ系ガラス
試料を作製して行った。なお、屈折率はいずれも黄色ヘ
リウムのｄスペクトル線（波長５８７．５６ｎｍ）に対
する屈折率ｎdである。
２．８ｎｍにおけるガラスの光弾性定数を、図２の光弾
性測定装置を用いて測定した測定結果を示す。測定した
ガラス試料は、ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８
ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗ
ｔ％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯ
を６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０
〜０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3
を１６〜２８ｗｔ％含有するガラス（以下、ＬＢ系ガラ
スと呼ぶ）であり、屈折率を種々に変えたＬＢ系ガラス
試料を作製して行った。なお、屈折率はいずれも黄色ヘ
リウムのｄスペクトル線（波長５８７．５６ｎｍ）に対
する屈折率ｎdである。
【００１９】図１に示すように、屈折率に対する光弾性
定数の各測定値は、回帰直線によく一致した。回帰直線
１１は波長６３２．８ｎｍの測定値に対するものであ
り、回帰直線１２は波長１．５２３μｍの測定値に対す
るものである。また、同一試料において、波長を長くす
ると光弾性定数が大きくなり、光弾性定数が波長に対し
て正の依存性を持つことがわかった。また、図１に示す
ように、光弾性定数は屈折率に対して負の依存性がある
ことがわかった。
定数の各測定値は、回帰直線によく一致した。回帰直線
１１は波長６３２．８ｎｍの測定値に対するものであ
り、回帰直線１２は波長１．５２３μｍの測定値に対す
るものである。また、同一試料において、波長を長くす
ると光弾性定数が大きくなり、光弾性定数が波長に対し
て正の依存性を持つことがわかった。また、図１に示す
ように、光弾性定数は屈折率に対して負の依存性がある
ことがわかった。
【００２０】０．２４〜０．８μｍの範囲における任意
の波長λxに対する光弾性定数Ｃがゼロになる屈折率ｎ
は、波長６３２．８ｎｍ及び１．５２３μｍの測定デー
タより、線形性が満足されるとすると、次式で表せる。 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λx
の波長λxに対する光弾性定数Ｃがゼロになる屈折率ｎ
は、波長６３２．８ｎｍ及び１．５２３μｍの測定デー
タより、線形性が満足されるとすると、次式で表せる。 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λx
【００２１】これより、ＬＢ系ガラスに対し、上記波長
範囲における任意の波長で光弾性定数ゼロを満たす光学
素子材料用のガラスの設計が可能となった。また、ＬＢ
系ガラス以外のガラスに対しても、上記と同様に、各波
長におけるガラスの光弾性定数と屈折率とを測定すれ
ば、当該ガラスに対する任意の波長での光弾性定数がゼ
ロとなる屈折率がわかり、透過波長での光弾性定数が極
めて小さな光学素子を作製することが可能となる。
範囲における任意の波長で光弾性定数ゼロを満たす光学
素子材料用のガラスの設計が可能となった。また、ＬＢ
系ガラス以外のガラスに対しても、上記と同様に、各波
長におけるガラスの光弾性定数と屈折率とを測定すれ
ば、当該ガラスに対する任意の波長での光弾性定数がゼ
ロとなる屈折率がわかり、透過波長での光弾性定数が極
めて小さな光学素子を作製することが可能となる。
【００２２】次に、低光弾性ガラスの具体的な製造方法
を述べる。まず、光弾性定数がゼロとなる目標の屈折率
よりも小さな屈折率のカレットＡと大きな屈折率のカレ
ットＢを作製する。そのために、表１に示す組成（重量
％で表示）で、カレットＡ用、カレットＢ用のバッチ原
料を調合し、これらバッチ原料をそれぞれ石英ガラス坩
堝で溶解し、カレットＡ、Ｂを作製する。ＦＲ系ガラス
は高鉛含有ガラスであるため、ガラス中の鉛成分の原料
であるＰｂＯを白金坩堝でガラス化させてしまうと、多
量の白金がイオン化してガラス中に溶け込んでしまい、
特に短波長側の光吸収を強く招くことから、ガラスバッ
チ原料を石英ガラス坩堝でガラス化する。
を述べる。まず、光弾性定数がゼロとなる目標の屈折率
よりも小さな屈折率のカレットＡと大きな屈折率のカレ
ットＢを作製する。そのために、表１に示す組成（重量
％で表示）で、カレットＡ用、カレットＢ用のバッチ原
料を調合し、これらバッチ原料をそれぞれ石英ガラス坩
堝で溶解し、カレットＡ、Ｂを作製する。ＦＲ系ガラス
は高鉛含有ガラスであるため、ガラス中の鉛成分の原料
であるＰｂＯを白金坩堝でガラス化させてしまうと、多
量の白金がイオン化してガラス中に溶け込んでしまい、
特に短波長側の光吸収を強く招くことから、ガラスバッ
チ原料を石英ガラス坩堝でガラス化する。
【００２３】
【表１】 作製したカレットＡ、Ｂの屈折率を測定し（カレットＡ
の屈折率ｎdは、１.８４５５２であり、カレットＢの屈
折率ｎdは、１.８８３５９であった。）、所望の屈折率
となるように、カレットＡとカレットＢを調合する。図
３にカレットＡ、Ｂを調合した調合例を示す。
の屈折率ｎdは、１.８４５５２であり、カレットＢの屈
折率ｎdは、１.８８３５９であった。）、所望の屈折率
となるように、カレットＡとカレットＢを調合する。図
３にカレットＡ、Ｂを調合した調合例を示す。
【００２４】次いで、調合したカレットを白金坩堝で再
溶解し、脱泡・均質化し、型にキャストしてガラスブロ
ックを作製した。再溶解時には、乾燥酸素によってバブ
リングしてガラス中の水分を取り除き、ガラス中のＯＨ
基による吸収の低減を図った。なお、乾燥窒素によって
バブリングを行うと、高鉛含有ガラスの還元を起こして
しまうおそれがあるため、乾燥酸素を使用した。
溶解し、脱泡・均質化し、型にキャストしてガラスブロ
ックを作製した。再溶解時には、乾燥酸素によってバブ
リングしてガラス中の水分を取り除き、ガラス中のＯＨ
基による吸収の低減を図った。なお、乾燥窒素によって
バブリングを行うと、高鉛含有ガラスの還元を起こして
しまうおそれがあるため、乾燥酸素を使用した。
【００２５】カレットＡ、Ｂの調合により屈折率の異な
る種々のガラスを作製し、これらガラスの光弾性定数
［（ｎｍ／ｃｍ）／（ｋｇｆ／ｃｍ2）］を測定したと
ころ、図１に示される結果となった。なお、図１中のＮ
Ｏ.２〜ＮＯ.４は、上記調合カレットＮＯ.２〜ＮＯ.４
で作製されたガラスの光弾性定数の測定値をプロットし
たものである。
る種々のガラスを作製し、これらガラスの光弾性定数
［（ｎｍ／ｃｍ）／（ｋｇｆ／ｃｍ2）］を測定したと
ころ、図１に示される結果となった。なお、図１中のＮ
Ｏ.２〜ＮＯ.４は、上記調合カレットＮＯ.２〜ＮＯ.４
で作製されたガラスの光弾性定数の測定値をプロットし
たものである。
【００２６】これらのガラスを所望の形状に加工し、光
学素子として、レンズ、フィルター、プリズムを作製し
た。そして、作製されたこれら光学素子に、０．２４〜
０．８μｍの範囲内の所定の使用波長λx近傍の光を透
過させたところ、複屈折が極めて小さく良好な光学素子
が得られた。
学素子として、レンズ、フィルター、プリズムを作製し
た。そして、作製されたこれら光学素子に、０．２４〜
０．８μｍの範囲内の所定の使用波長λx近傍の光を透
過させたところ、複屈折が極めて小さく良好な光学素子
が得られた。
【００２７】また、バッチ原料を溶解して一度に目標の
屈折率のガラスを製造する場合、バッチ原料をガラス化
する工程で酸化物や塩類として持ち込んだ蒸気圧の異な
るガラス構成元素が揮発するため、ガラス組成を正確に
調整するのは困難である。しかし、上述したように、ま
ず初めに目標の屈折率よりも小さな屈折率のカレットＡ
と大きな屈折率のカレットＢを作製し、目標の屈折率と
なるようにカレットＡとカレットＢを調合し、調合した
カレットＡ、Ｂを再溶解してガラスを作製しているの
で、ガラス組成が一定で所望の屈折率のガラスを再現性
よく製造することができる。
屈折率のガラスを製造する場合、バッチ原料をガラス化
する工程で酸化物や塩類として持ち込んだ蒸気圧の異な
るガラス構成元素が揮発するため、ガラス組成を正確に
調整するのは困難である。しかし、上述したように、ま
ず初めに目標の屈折率よりも小さな屈折率のカレットＡ
と大きな屈折率のカレットＢを作製し、目標の屈折率と
なるようにカレットＡとカレットＢを調合し、調合した
カレットＡ、Ｂを再溶解してガラスを作製しているの
で、ガラス組成が一定で所望の屈折率のガラスを再現性
よく製造することができる。
【００２８】次に、各透過波長におけるガラス試料の光
弾性定数を、光ヘテロダイン法により測定する測定方法
を、図２に示す光弾性測定装置により説明する。図２に
おける測定では、円柱状ないし円盤状の試料２０に直径
方向から圧縮応力を与え、それによって生ずるリターデ
ーション（複屈折位相差）Δを計測した。
弾性定数を、光ヘテロダイン法により測定する測定方法
を、図２に示す光弾性測定装置により説明する。図２に
おける測定では、円柱状ないし円盤状の試料２０に直径
方向から圧縮応力を与え、それによって生ずるリターデ
ーション（複屈折位相差）Δを計測した。
【００２９】周波数安定化横ゼーマンレーザ２１からの
レーザー光を、１／２波長板２２、試料２０及び検光子
２３を透過させて、光電検出器２４で検出し、光電検出
器２４で検出された電気信号を電気位相計２７に入力す
る。電気位相計２７は、光電検出器２４からの電気信号
と、レーザ２１の安定化制御用ビート信号（基準信号）
との位相差信号を出力し、この位相差信号がＡ／Ｄ変換
器２８ａでデジタル変換されて、コンピュータ２９に取
り込まれる。また、加圧装置２５により試料２０に加え
られる負荷量は、ロードセル２６によって検出され、Ａ
／Ｄ変換器２８ｂでデジタル変換されて、コンピュータ
２９に取り込まれる。なお、レーザ２１として、波長６
３２．８ｎｍと、新たに波長１．５２３μｍのＨｅ‐Ｎ
ｅレーザを使用し、それぞれ横ゼーマンレーザに構成し
て測定装置を構築した。
レーザー光を、１／２波長板２２、試料２０及び検光子
２３を透過させて、光電検出器２４で検出し、光電検出
器２４で検出された電気信号を電気位相計２７に入力す
る。電気位相計２７は、光電検出器２４からの電気信号
と、レーザ２１の安定化制御用ビート信号（基準信号）
との位相差信号を出力し、この位相差信号がＡ／Ｄ変換
器２８ａでデジタル変換されて、コンピュータ２９に取
り込まれる。また、加圧装置２５により試料２０に加え
られる負荷量は、ロードセル２６によって検出され、Ａ
／Ｄ変換器２８ｂでデジタル変換されて、コンピュータ
２９に取り込まれる。なお、レーザ２１として、波長６
３２．８ｎｍと、新たに波長１．５２３μｍのＨｅ‐Ｎ
ｅレーザを使用し、それぞれ横ゼーマンレーザに構成し
て測定装置を構築した。
【００３０】周波数安定化横ゼーマンレーザ２１からの
出射光は、周波数がわずかに異なり、互いに直交する二
つの直線偏光成分からなる。二つの偏光成分の振動方向
をそれぞれｘ方向（横磁場の方向）、ｙ方向とすると、
これらの振動成分Ｅx、Ｅyは次のように表すことができ
る。 Ｅx＝ａxｃｏｓωｔ Ｅy＝ａyｃｏｓ(ωｔ＋２πｆbｔ) ここで、ａx、ａyはｘおよびｙ成分の振幅、ωはｘ成分
の光周波数、ｆbはｘ成分とｙ成分との周波数差であ
る。
出射光は、周波数がわずかに異なり、互いに直交する二
つの直線偏光成分からなる。二つの偏光成分の振動方向
をそれぞれｘ方向（横磁場の方向）、ｙ方向とすると、
これらの振動成分Ｅx、Ｅyは次のように表すことができ
る。 Ｅx＝ａxｃｏｓωｔ Ｅy＝ａyｃｏｓ(ωｔ＋２πｆbｔ) ここで、ａx、ａyはｘおよびｙ成分の振幅、ωはｘ成分
の光周波数、ｆbはｘ成分とｙ成分との周波数差であ
る。
【００３１】試料２０の進相軸とｘ方向成分とを一致さ
せると、ｙ方向成分の位相差はΔだけ遅れ、これが方位
４５°の検光子２３を通過すると、透過光強度Ｉは次式
のようになる。 Ｉ＝ａx 2＋ａy 2＋２ａxａyｃｏｓ(２πｆbｔ＋Δ) 上式は、光電検出器２４に入射する信号が周波数ｆbの
余弦信号で、その位相が試料２０のリターデーションΔ
によって変化することを表している。
せると、ｙ方向成分の位相差はΔだけ遅れ、これが方位
４５°の検光子２３を通過すると、透過光強度Ｉは次式
のようになる。 Ｉ＝ａx 2＋ａy 2＋２ａxａyｃｏｓ(２πｆbｔ＋Δ) 上式は、光電検出器２４に入射する信号が周波数ｆbの
余弦信号で、その位相が試料２０のリターデーションΔ
によって変化することを表している。
【００３２】円柱状の試料２０の直径方向にレーザ２１
に与えられた磁場に対して９０度となる方向に圧縮負荷
を加えて、それにより生じる試料２０のリターデーショ
ンを測定し、次式により光弾性定数Ｃを計算する。 Ｃ＝πＤ・Δ／８Ｐ ただし、Ｄは円柱状の試料２０の直径、Δは円柱状試料
２０の中央部でのリターデーション、Ｐは圧縮負荷であ
る。
に与えられた磁場に対して９０度となる方向に圧縮負荷
を加えて、それにより生じる試料２０のリターデーショ
ンを測定し、次式により光弾性定数Ｃを計算する。 Ｃ＝πＤ・Δ／８Ｐ ただし、Ｄは円柱状の試料２０の直径、Δは円柱状試料
２０の中央部でのリターデーション、Ｐは圧縮負荷であ
る。
【００３３】１／２波長板２２と検光子２３を１：２の
割合で回転角を同期させて回転させると、周波数ｆbの
余弦信号に影響を与えることなく、偏光の方位を変化さ
せることができる。１／２波長板２２と検光子２３とを
回転させながら位相差を測定すると、直交する二つの偏
光方向のうち一つが試料２０の進相軸（Ｆ軸）と一致し
たときの位相差が最大になるので、１／２波長板２２の
１回転に対して４周期変化する位相差変化成分が得られ
る。この成分の振幅と初期位相量とが、それぞれ試料２
０のΔ、Ｆ軸方位の２倍となる。
割合で回転角を同期させて回転させると、周波数ｆbの
余弦信号に影響を与えることなく、偏光の方位を変化さ
せることができる。１／２波長板２２と検光子２３とを
回転させながら位相差を測定すると、直交する二つの偏
光方向のうち一つが試料２０の進相軸（Ｆ軸）と一致し
たときの位相差が最大になるので、１／２波長板２２の
１回転に対して４周期変化する位相差変化成分が得られ
る。この成分の振幅と初期位相量とが、それぞれ試料２
０のΔ、Ｆ軸方位の２倍となる。
【００３４】複屈折の状態をベクトルで表現するため
に、Δをベクトルの大きさ、Ｆ軸方位θの２倍をベクト
ルの方位として、歪ベクトルＨを定義する（なお、ベク
トルＡをＡとアンダーラインを付して表記する）。試料
に負荷を与えない状態での残留歪ＨR および合成歪（負
荷によって生じる負荷歪と残留歪との合成値）ＨS の大
きさと方位とを、それぞれＲR、ΘRおよびＲS、ΘSとす
ると、負荷歪ＨL は、次のように求められる。ＨL ＝ＨS −ＨR ＝（ＨLx、ＨLy） ここで、ＨLxとＨLyとは、それぞれ負荷歪ＨL のｘ成
分、ｙ成分で次のように表される。 ＨLx＝ＲSｃｏｓΘS−ＲRｃｏｓΘR ＨLy＝ＲSｓｉｎΘS−ＲRｓｉｎΘR
に、Δをベクトルの大きさ、Ｆ軸方位θの２倍をベクト
ルの方位として、歪ベクトルＨを定義する（なお、ベク
トルＡをＡとアンダーラインを付して表記する）。試料
に負荷を与えない状態での残留歪ＨR および合成歪（負
荷によって生じる負荷歪と残留歪との合成値）ＨS の大
きさと方位とを、それぞれＲR、ΘRおよびＲS、ΘSとす
ると、負荷歪ＨL は、次のように求められる。ＨL ＝ＨS −ＨR ＝（ＨLx、ＨLy） ここで、ＨLxとＨLyとは、それぞれ負荷歪ＨL のｘ成
分、ｙ成分で次のように表される。 ＨLx＝ＲSｃｏｓΘS−ＲRｃｏｓΘR ＨLy＝ＲSｓｉｎΘS−ＲRｓｉｎΘR
【００３５】このようにして、残留歪を除去して求めら
れた負荷歪のＦ軸方位から、光弾性定数の正・負を判別
できる。光弾性定数が正の場合、負荷を与えた方位（９
０°）は密な状態となり、屈折率が大きくなるので、Ｆ
軸方位は０°となる。一方、光弾性定数が負の場合は、
陽イオンの分極の影響で負荷と同じ方位の屈折率が小さ
くなるため、Ｆ軸方位は９０°となる。
れた負荷歪のＦ軸方位から、光弾性定数の正・負を判別
できる。光弾性定数が正の場合、負荷を与えた方位（９
０°）は密な状態となり、屈折率が大きくなるので、Ｆ
軸方位は０°となる。一方、光弾性定数が負の場合は、
陽イオンの分極の影響で負荷と同じ方位の屈折率が小さ
くなるため、Ｆ軸方位は９０°となる。
【００３６】測定の信頼性を高めるために、実際の測定
では、負荷を変化させて複屈折量を数点計測し、負荷に
対し最小二乗法で直線近似し、得られた直線の傾きから
光弾性定数を求めている。
では、負荷を変化させて複屈折量を数点計測し、負荷に
対し最小二乗法で直線近似し、得られた直線の傾きから
光弾性定数を求めている。
【００３７】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
ガラスの光弾性定数には波長依存性があるとの知見に基
づき、０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長におけ
る光弾性定数が実質的にゼロとなるガラスを屈折率を指
標として確実に作製し、そのガラスから光学素子を製造
することが可能となった。
ガラスの光弾性定数には波長依存性があるとの知見に基
づき、０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の波長におけ
る光弾性定数が実質的にゼロとなるガラスを屈折率を指
標として確実に作製し、そのガラスから光学素子を製造
することが可能となった。
【００３８】また、まず初めに所望波長での光弾性定数
が実質的にゼロとなる屈折率ｎより大きい屈折率を有す
るガラスと小さい屈折率を有するガラスとを作製し、両
ガラスを調合して溶解することにより、屈折率がｎとほ
ぼ等しく、所望波長における光弾性定数が極めて小さな
ガラスからなる光学素子を再現性よく製造することがで
きる。
が実質的にゼロとなる屈折率ｎより大きい屈折率を有す
るガラスと小さい屈折率を有するガラスとを作製し、両
ガラスを調合して溶解することにより、屈折率がｎとほ
ぼ等しく、所望波長における光弾性定数が極めて小さな
ガラスからなる光学素子を再現性よく製造することがで
きる。
【図１】屈折率が違う種々のＬＢ系ガラス試料に対し、
異なる波長で光弾性定数を測定した測定結果を示すグラ
フである。
異なる波長で光弾性定数を測定した測定結果を示すグラ
フである。
【図２】ガラスの光弾性定数を測定する光弾性測定装置
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図３】目標の屈折率よりも小さな屈折率のカレットＡ
と大きな屈折率のカレットＢとを調合した調合例におけ
るデータを示す表である。
と大きな屈折率のカレットＢとを調合した調合例におけ
るデータを示す表である。
１１、１２ 回帰直線 ２０ 試料 ２１ 周波数安定横ゼーマンレーザ ２２ １／２波長板 ２３ 検光子 ２４ 光電検出器 ２５ 加圧装置 ２６ ロードセル ２７ 電気位相計 ２８ａ、２８ｂ Ａ／Ｄ変換器 ２９ コンピュータ
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８ｗ
ｔ％、Ｂ2Ｏ3を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗｔ
％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯを
６９．５〜８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０〜
０．５ｗｔ％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3を
１６〜２８ｗｔ％含有するガラスであり、 ０．２４〜０．８μｍのいずれかの波長に対する光弾性
定数が、−１×１０-1〜＋１×１０-1（ｎｍ／ｃｍ）／
（ｋｇｆ／ｃｍ2）であるガラスからなることを特徴と
する光学素子。 - 【請求項２】波長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の
波長λXにおいて光弾性定数が小さいガラス製の光学素
子を得るための方法であって、 ガラス素材としてほぼ同じ組成を有し、前記波長λXで
の光弾性定数が実質的にゼロとなる屈折率ｎより大きい
屈折率を有するガラスと、前記屈折率ｎより小さい屈折
率を有するガラスとを用い、 前記屈折率ｎより大きい屈折率を有するガラスと前記屈
折率ｎより小さい屈折率を有するガラスとを溶解し、溶
解されてできたガラスの屈折率が前記屈折率ｎとほぼ等
しくなるようにしてガラスを得、 前記ガラスに加工を施して光学素子を得ることを特徴と
する光学素子の製造方法。 - 【請求項３】前記屈折率ｎより大きい屈折率を有するガ
ラスと屈折率ｎより小さい屈折率を有するガラスに、ガ
ラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3を
０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ＋
Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯを６９．５〜８
３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ
％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８
ｗｔ％含有するガラスを用い、 前記屈折率ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値を使用するこ
とを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
（ただし、上記屈折率は、波長５８７．５６ｎｍにおけ
る屈折率ｎdを意味する。） - 【請求項４】波長０．２４〜０．８μｍの範囲の所望の
波長λXにおいて光弾性定数が小さいガラス製の光学素
子を得るための方法であって、 ガラス組成として、ＳｉＯ2を５〜２８ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3
を０〜１０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3を０〜５ｗｔ％、Ｎａ2Ｏ
＋Ｋ2Ｏを０．３〜２．５ｗｔ％、ＰｂＯを６９．５〜
８３．７ｗｔ％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3を０〜０．５ｗｔ
％、ただし、ＳｉＯ2＋Ｂ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3を１６〜２８
ｗｔ％含有するガラスを用い、前記波長λXでの屈折率
ｎとして次式、 ｎ＝１．８４２５＋０．０１３５２５×λX （ただし、λXはμｍ単位）で示される値とほぼ等しい
屈折率のガラスを得、 前記ガラスに加工を施して光学素子を得ることを特徴と
する光学素子の製造方法。（ただし、上記屈折率は、波
長５８７．５６ｎｍにおける屈折率ｎdを意味する。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32775598A JP4278209B2 (ja) | 1997-11-25 | 1998-11-18 | 光学素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32277297 | 1997-11-25 | ||
| JP9-322772 | 1997-11-25 | ||
| JP32775598A JP4278209B2 (ja) | 1997-11-25 | 1998-11-18 | 光学素子及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258401A true JPH11258401A (ja) | 1999-09-24 |
| JP4278209B2 JP4278209B2 (ja) | 2009-06-10 |
Family
ID=26570924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32775598A Expired - Fee Related JP4278209B2 (ja) | 1997-11-25 | 1998-11-18 | 光学素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4278209B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003064340A3 (de) * | 2002-01-28 | 2003-10-16 | Schott Glas | Optisches glas |
| JP2005502576A (ja) * | 2001-09-10 | 2005-01-27 | カール−ツァイス−シュティフトゥング | 酸化ゲルマニウムを含有する酸化ビスマスガラス |
| JP2005194182A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Schott Ag | 放射線損傷高安定性ガラス、その製造方法及び使用方法 |
| JP2007091576A (ja) * | 2005-06-06 | 2007-04-12 | Ohara Inc | 光学ガラスの製造方法 |
| JP2011058969A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Takaoka Electric Mfg Co Ltd | 光学計測器用断熱装置 |
| DE112006001466B4 (de) * | 2005-06-06 | 2012-03-29 | Ohara Inc. | Verfahren für die Herstellung optischer Gläser |
| JP2013163619A (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | Ohara Inc | 光学ガラスの製造方法 |
-
1998
- 1998-11-18 JP JP32775598A patent/JP4278209B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005502576A (ja) * | 2001-09-10 | 2005-01-27 | カール−ツァイス−シュティフトゥング | 酸化ゲルマニウムを含有する酸化ビスマスガラス |
| JP4671263B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2011-04-13 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 酸化ゲルマニウムを含有する酸化ビスマスガラス |
| WO2003064340A3 (de) * | 2002-01-28 | 2003-10-16 | Schott Glas | Optisches glas |
| JP2005194182A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Schott Ag | 放射線損傷高安定性ガラス、その製造方法及び使用方法 |
| JP4703191B2 (ja) * | 2004-01-08 | 2011-06-15 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 放射線損傷高安定性ガラス、その製造方法及び使用方法 |
| JP2007091576A (ja) * | 2005-06-06 | 2007-04-12 | Ohara Inc | 光学ガラスの製造方法 |
| DE112006001466B4 (de) * | 2005-06-06 | 2012-03-29 | Ohara Inc. | Verfahren für die Herstellung optischer Gläser |
| JP2011058969A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Takaoka Electric Mfg Co Ltd | 光学計測器用断熱装置 |
| JP2013163619A (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | Ohara Inc | 光学ガラスの製造方法 |
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