JPH11258163A - Ｉｃｐ分析装置 - Google Patents
Ｉｃｐ分析装置Info
- Publication number
- JPH11258163A JPH11258163A JP10060904A JP6090498A JPH11258163A JP H11258163 A JPH11258163 A JP H11258163A JP 10060904 A JP10060904 A JP 10060904A JP 6090498 A JP6090498 A JP 6090498A JP H11258163 A JPH11258163 A JP H11258163A
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- JP
- Japan
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- sample
- plasma torch
- atomized
- plasma
- tube
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 霧化試料が液滴化して試料導入管に付着する
ことをできるだけなくし、プラズマの生成状態を安定化
する。 【解決手段】 横向きのプラズマトーチ１を備えたＩＣ
Ｐ分析装置では、霧化試料は、プラズマトーチ１の下方
位置から試料導入管４を通じてプラズマトーチ１に導入
される。その試料導入管４のうち、プラズマトーチ１と
同じに横向きとなる個所の手前で、管内をプラズマトー
チ１に向けて先細のテーパ９に絞って、霧化試料が流速
を上げながら、湾曲個所４ｒから横向き個所４ｈに流入
するようにした。
ことをできるだけなくし、プラズマの生成状態を安定化
する。 【解決手段】 横向きのプラズマトーチ１を備えたＩＣ
Ｐ分析装置では、霧化試料は、プラズマトーチ１の下方
位置から試料導入管４を通じてプラズマトーチ１に導入
される。その試料導入管４のうち、プラズマトーチ１と
同じに横向きとなる個所の手前で、管内をプラズマトー
チ１に向けて先細のテーパ９に絞って、霧化試料が流速
を上げながら、湾曲個所４ｒから横向き個所４ｈに流入
するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波誘導結合プ
ラズマ（ＩＣＰ）を発光源として発光分光分析を行うＩ
ＣＰ発光分光分析装置や、ＩＣＰをイオン源として質量
分析を行うＩＣＰ質量分析装置のように、ＩＣＰを利用
したＩＣＰ分析装置に係り、詳しくは、プラズマトーチ
に霧化した液体試料を送り込む部分の構造に関する。
ラズマ（ＩＣＰ）を発光源として発光分光分析を行うＩ
ＣＰ発光分光分析装置や、ＩＣＰをイオン源として質量
分析を行うＩＣＰ質量分析装置のように、ＩＣＰを利用
したＩＣＰ分析装置に係り、詳しくは、プラズマトーチ
に霧化した液体試料を送り込む部分の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣＰ分析装置、例えばＩＣＰ発光分光
分析装置は、図２に示すように、試料をプラズマ発光さ
せるプラズマトーチ２１と、プラズマトーチ２１でのプ
ラズマ発光を取り込む分析部２２とを備えている。分析
部２２は、回折格子等の光学系を含むもので、この分析
部２２において、プラズマの発光がスペクトルに分光さ
れ、各スペクトルの強度が検出される。
分析装置は、図２に示すように、試料をプラズマ発光さ
せるプラズマトーチ２１と、プラズマトーチ２１でのプ
ラズマ発光を取り込む分析部２２とを備えている。分析
部２２は、回折格子等の光学系を含むもので、この分析
部２２において、プラズマの発光がスペクトルに分光さ
れ、各スペクトルの強度が検出される。
【０００３】図示の装置では、プラズマトーチ２１を横
向きとし、その水平方向前方に分析部２２を配置してい
る。このような構成では、プラズマトーチ２１で生成さ
れるプラズマ炎の各部分のうち、最も輝度の高い中心軸
Ａの部分の発光が分析部２２に取り込まれるので、高感
度の分析が可能になる。
向きとし、その水平方向前方に分析部２２を配置してい
る。このような構成では、プラズマトーチ２１で生成さ
れるプラズマ炎の各部分のうち、最も輝度の高い中心軸
Ａの部分の発光が分析部２２に取り込まれるので、高感
度の分析が可能になる。
【０００４】そして、試料が液体である場合、その液体
試料は、霧化チャンバ２３で霧化された上で、キャリア
ガスとともにプラズマトーチ２１に導入される。その霧
化チャンバ２３は、通常、プラズマトーチ２１の下位に
設けられ、この霧化チャンバ２３で霧化された試料は、
ガラス管からなる試料導入管２４を通じてプラズマトー
チ２１に導入される。
試料は、霧化チャンバ２３で霧化された上で、キャリア
ガスとともにプラズマトーチ２１に導入される。その霧
化チャンバ２３は、通常、プラズマトーチ２１の下位に
設けられ、この霧化チャンバ２３で霧化された試料は、
ガラス管からなる試料導入管２４を通じてプラズマトー
チ２１に導入される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、横向き
のプラズマトーチ２１を備えたＩＣＰ発光分光分析装置
では、霧化された試料は、プラズマトーチ２１の下方位
置から試料導入管２４を通じてプラズマトーチ２１に導
入されるのであるが、従来は、試料導入管２４の中途に
比較的に曲率半径の小さい湾曲個所があって、この湾曲
個所で霧化試料の流動方向が急激に曲げられるので、霧
化試料の一部が液滴となって管壁に付着することがあっ
た。なお、液滴となった試料が、試料導入管２４の湾曲
個所や、それよりも手前の上向き個所の管壁に付着した
場合、その液滴は管壁に沿って流下して、霧化チャンバ
２３側に戻るので、特に問題はない。
のプラズマトーチ２１を備えたＩＣＰ発光分光分析装置
では、霧化された試料は、プラズマトーチ２１の下方位
置から試料導入管２４を通じてプラズマトーチ２１に導
入されるのであるが、従来は、試料導入管２４の中途に
比較的に曲率半径の小さい湾曲個所があって、この湾曲
個所で霧化試料の流動方向が急激に曲げられるので、霧
化試料の一部が液滴となって管壁に付着することがあっ
た。なお、液滴となった試料が、試料導入管２４の湾曲
個所や、それよりも手前の上向き個所の管壁に付着した
場合、その液滴は管壁に沿って流下して、霧化チャンバ
２３側に戻るので、特に問題はない。
【０００６】しかしながら、試料の液滴が、試料導入管
２４の各部分のうち、プラズマトーチ２１と同じに横向
きとなった個所の管壁に付着した場合は、そこに長くと
どまり、霧化試料の流れを阻害したり、液滴のままプラ
ズマ生成個所に送り込まれたりして、プラズマの生成状
態を不安定にするおそれがあった。
２４の各部分のうち、プラズマトーチ２１と同じに横向
きとなった個所の管壁に付着した場合は、そこに長くと
どまり、霧化試料の流れを阻害したり、液滴のままプラ
ズマ生成個所に送り込まれたりして、プラズマの生成状
態を不安定にするおそれがあった。
【０００７】また、試料導入管２４は、プラズマトーチ
２１側から引き出された石英管と、霧化チャンバ２３か
ら延出されたガラス管とからなるもので、これらの管同
士は、ジョイント部２５でもって擦り合わせ接続されて
いる。このジョイント部２５の管内には少なからず段差
があるから、この段差により霧化試料は流れが乱され
て、液滴になりやすい。従来、このジョイント部２５
は、図示したように、試料導入管２４の横向き個所に設
けられているので、この点でも、霧化試料は液滴となっ
て横向き個所の管壁に付着し、プラズマの生成状態を不
安定にするおそれが多分にあった。
２１側から引き出された石英管と、霧化チャンバ２３か
ら延出されたガラス管とからなるもので、これらの管同
士は、ジョイント部２５でもって擦り合わせ接続されて
いる。このジョイント部２５の管内には少なからず段差
があるから、この段差により霧化試料は流れが乱され
て、液滴になりやすい。従来、このジョイント部２５
は、図示したように、試料導入管２４の横向き個所に設
けられているので、この点でも、霧化試料は液滴となっ
て横向き個所の管壁に付着し、プラズマの生成状態を不
安定にするおそれが多分にあった。
【０００８】本発明は、このような問題に対処したもの
で、試料導入管の管内で霧化試料が液滴となって管壁に
付着することをできるだけなくし、プラズマの生成状態
を安定化することを課題とする。
で、試料導入管の管内で霧化試料が液滴となって管壁に
付着することをできるだけなくし、プラズマの生成状態
を安定化することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
ＩＣＰ分析装置は、横向きのプラズマトーチを備えてお
り、このプラズマトーチにはその下方位置から霧化試料
を導入する試料導入管が連結されているものであって、
試料導入管は、プラズマトーチと同様の横向きとなる個
所の手前で少なくとも管内形状がプラズマトーチに向か
って先細のテーパに絞られていることを特徴としてい
る。
ＩＣＰ分析装置は、横向きのプラズマトーチを備えてお
り、このプラズマトーチにはその下方位置から霧化試料
を導入する試料導入管が連結されているものであって、
試料導入管は、プラズマトーチと同様の横向きとなる個
所の手前で少なくとも管内形状がプラズマトーチに向か
って先細のテーパに絞られていることを特徴としてい
る。
【００１０】また、本発明の請求項２に係るＩＣＰ分析
装置は、請求項１に記載したものであって、試料導入管
のジョイント部は、管の上向き個所に設けられているこ
とを特徴としている。
装置は、請求項１に記載したものであって、試料導入管
のジョイント部は、管の上向き個所に設けられているこ
とを特徴としている。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００１２】図１は本実施の形態に係るＩＣＰ発光分光
分析装置のプラズマトーチ部分の構成を示す説明図であ
り、図１における符号１は発光源としてのプラズマトー
チ、２はプラズマトーチ１でのプラズマ発光を取り込む
分析部、３は液体試料を霧化する霧化チャンバ、４は霧
化試料を霧化チャンバ３からプラズマトーチ１に送り込
む試料導入管である。
分析装置のプラズマトーチ部分の構成を示す説明図であ
り、図１における符号１は発光源としてのプラズマトー
チ、２はプラズマトーチ１でのプラズマ発光を取り込む
分析部、３は液体試料を霧化する霧化チャンバ、４は霧
化試料を霧化チャンバ３からプラズマトーチ１に送り込
む試料導入管である。
【００１３】プラズマトーチ１は、先端が水平一方向に
向かって開口するよう横向きに設置されている。このプ
ラズマトーチ１には、前記の試料導入管４を通じて霧化
試料がキャリアガスとともに導入されるほか、外側接続
管５を通じて冷却ガスが、また内側接続管６を通じてプ
ラズマガスがそれぞれ送り込まれ、コイル７への通電に
より、霧化試料をプラズマ化して励起発光させるように
なっている。分析部２は、回折格子等の光学系（図示せ
ず）を含み、入射するプラズマ発光をスペクトルに分光
し、各スペクトルの強度を検出する部分で、プラズマ発
光をその中心軸Ａ方向に沿って取り込むよう、プラズマ
トーチ１の水平方向前方に配置されている。
向かって開口するよう横向きに設置されている。このプ
ラズマトーチ１には、前記の試料導入管４を通じて霧化
試料がキャリアガスとともに導入されるほか、外側接続
管５を通じて冷却ガスが、また内側接続管６を通じてプ
ラズマガスがそれぞれ送り込まれ、コイル７への通電に
より、霧化試料をプラズマ化して励起発光させるように
なっている。分析部２は、回折格子等の光学系（図示せ
ず）を含み、入射するプラズマ発光をスペクトルに分光
し、各スペクトルの強度を検出する部分で、プラズマ発
光をその中心軸Ａ方向に沿って取り込むよう、プラズマ
トーチ１の水平方向前方に配置されている。
【００１４】霧化チャンバ３は、プラズマトーチ１の下
方位置にあり、試料導入管４は、この霧化チャンバ３か
ら上向きに延出し、湾曲個所４ｒを経てプラズマトーチ
１と同じく横向きになり、プラズマトーチ１のセンター
管１ｃに連通している。この試料導入管４は、プラズマ
トーチ１側から引き出された石英管と、霧化チャンバ３
から延出されるガラス管とからなるもので、本実施形態
では、プラズマトーチ１側のガラス管が長く延出され
て、両ガラス管同士のジョイント部８は、湾曲個所４ｒ
より下位の上向き個所４ｕに形成されている。
方位置にあり、試料導入管４は、この霧化チャンバ３か
ら上向きに延出し、湾曲個所４ｒを経てプラズマトーチ
１と同じく横向きになり、プラズマトーチ１のセンター
管１ｃに連通している。この試料導入管４は、プラズマ
トーチ１側から引き出された石英管と、霧化チャンバ３
から延出されるガラス管とからなるもので、本実施形態
では、プラズマトーチ１側のガラス管が長く延出され
て、両ガラス管同士のジョイント部８は、湾曲個所４ｒ
より下位の上向き個所４ｕに形成されている。
【００１５】また、試料導入管４の湾曲個所４ｒは比較
的大きい曲率半径Ｒとして、その上端、すなわちプラズ
マトーチ１と同じく横向きとなる個所４ｈの手前で、少
なくとも管内形状がプラズマトーチ１に向かって先細の
テーパ９として絞られている。したがって、試料導入管
４は、テーパ９より先の横向き個所４ｈがその手前の湾
曲個所４ｒ及び上向き個所４ｕよりも小径となってい
る。なお、ここでは、試料導入管４の湾曲個所４ｒにお
ける管内形状がテーパ９であるとしているが、試料導入
管４の湾曲個所４ｒにおける管自体の形状がテーパ９で
あってもよいことは勿論である。
的大きい曲率半径Ｒとして、その上端、すなわちプラズ
マトーチ１と同じく横向きとなる個所４ｈの手前で、少
なくとも管内形状がプラズマトーチ１に向かって先細の
テーパ９として絞られている。したがって、試料導入管
４は、テーパ９より先の横向き個所４ｈがその手前の湾
曲個所４ｒ及び上向き個所４ｕよりも小径となってい
る。なお、ここでは、試料導入管４の湾曲個所４ｒにお
ける管内形状がテーパ９であるとしているが、試料導入
管４の湾曲個所４ｒにおける管自体の形状がテーパ９で
あってもよいことは勿論である。
【００１６】上記の構成において、霧化チャンバ３で霧
化された液体試料は、キャリアガスとともに試料導入管
４を通じて、プラズマトーチ１のセンター管１ｃに送り
込まれる。すなわち、試料導入管４の管内を霧化試料が
流動する途中、ジョイント部８内では、ガラス管同士の
擦り合わせ個所が段差を作っているので、霧化試料は、
流れが乱れて液滴になりやすく、一部液滴となった試料
は、ジョイント部８の辺りで管壁に付着するが、ここで
は管が上向きなので、液滴は管壁に沿って流下して霧化
チャンバ３の側に戻り、液滴のままプラズマトーチ１に
入る等の不具合は生じない。
化された液体試料は、キャリアガスとともに試料導入管
４を通じて、プラズマトーチ１のセンター管１ｃに送り
込まれる。すなわち、試料導入管４の管内を霧化試料が
流動する途中、ジョイント部８内では、ガラス管同士の
擦り合わせ個所が段差を作っているので、霧化試料は、
流れが乱れて液滴になりやすく、一部液滴となった試料
は、ジョイント部８の辺りで管壁に付着するが、ここで
は管が上向きなので、液滴は管壁に沿って流下して霧化
チャンバ３の側に戻り、液滴のままプラズマトーチ１に
入る等の不具合は生じない。
【００１７】試料導入管４の上向き個所４ｕを通過した
霧化試料は、湾曲個所４ｒを経て横向き個所４ｈに流入
する。湾曲個所４ｒでは、霧化試料は、流動方向を変え
られることで液滴化しやすいが、本発明の構成では、湾
曲個所４ｒの曲率半径が大きく、しかも、湾曲個所４ｒ
の上端ではテーパに９より流路が絞られているので、霧
化試料は流れを乱されずに湾曲個所４ｒを流れ、その湾
曲個所４ｒから流速を上げながら横向き個所４ｈに流入
し、高速で横向き個所４ｈを通過する。したがって、試
料導入管４の横向き個所４ｈでは、霧化試料が液滴化し
て管壁に付着するようなことがなく、液滴でプラズマの
生成状態が乱されるおそれがない。
霧化試料は、湾曲個所４ｒを経て横向き個所４ｈに流入
する。湾曲個所４ｒでは、霧化試料は、流動方向を変え
られることで液滴化しやすいが、本発明の構成では、湾
曲個所４ｒの曲率半径が大きく、しかも、湾曲個所４ｒ
の上端ではテーパに９より流路が絞られているので、霧
化試料は流れを乱されずに湾曲個所４ｒを流れ、その湾
曲個所４ｒから流速を上げながら横向き個所４ｈに流入
し、高速で横向き個所４ｈを通過する。したがって、試
料導入管４の横向き個所４ｈでは、霧化試料が液滴化し
て管壁に付着するようなことがなく、液滴でプラズマの
生成状態が乱されるおそれがない。
【００１８】テーパ９の手前では、比較的に流速が低い
ので、試料が液滴化し管壁に付着することがあるが、テ
ーパ９およびその手前の個所では、管が斜め上向きにな
っているので、液滴はその傾斜に沿って流下することに
なり、問題を生じない。このように、試料導入管４の横
向き個所４ｈでは、霧化試料は流れを乱されずに高速で
流れるので、液滴化せず、そこに至る個所では、液滴化
することがあるが、その液滴は管壁に沿って流下して霧
化チャンバ３の側に戻るので、不具合は生じない。
ので、試料が液滴化し管壁に付着することがあるが、テ
ーパ９およびその手前の個所では、管が斜め上向きにな
っているので、液滴はその傾斜に沿って流下することに
なり、問題を生じない。このように、試料導入管４の横
向き個所４ｈでは、霧化試料は流れを乱されずに高速で
流れるので、液滴化せず、そこに至る個所では、液滴化
することがあるが、その液滴は管壁に沿って流下して霧
化チャンバ３の側に戻るので、不具合は生じない。
【００１９】
【発明の効果】本発明に係るＩＣＰ分析装置は、横向き
のプラズマトーチに霧化試料を導入する試料導入管にお
いて、霧化試料が流速を上げながら湾曲個所から横向き
個所に流入することになり、高速で横向き個所を通過す
るようにしているので、霧化試料が試料導入管の横向き
個所の内部で液滴化して管壁に付着することがなくな
り、液滴によってプラズマの生成状態が乱されるおそれ
もなくなるという効果が得られる。
のプラズマトーチに霧化試料を導入する試料導入管にお
いて、霧化試料が流速を上げながら湾曲個所から横向き
個所に流入することになり、高速で横向き個所を通過す
るようにしているので、霧化試料が試料導入管の横向き
個所の内部で液滴化して管壁に付着することがなくな
り、液滴によってプラズマの生成状態が乱されるおそれ
もなくなるという効果が得られる。
【００２０】また、試料導入管のテーパの手前で、霧化
試料が一部液滴化して管壁に付着しても、その液滴は管
の傾斜に沿って流下して霧化チャンバ側に戻るから、不
都合な問題は生じない。
試料が一部液滴化して管壁に付着しても、その液滴は管
の傾斜に沿って流下して霧化チャンバ側に戻るから、不
都合な問題は生じない。
【図１】実施の形態に係るＩＣＰ発光分光分析装置のプ
ラズマトーチ部分の構成を示す説明図である。
ラズマトーチ部分の構成を示す説明図である。
【図２】従来の形態に係るＩＣＰ発光分光分析装置のプ
ラズマトーチ部分の構成を示す説明図である。
ラズマトーチ部分の構成を示す説明図である。
１ プラズマトーチ ２ 分析部 ３ 霧化チャンバ ４ 試料導入管 ４ｕ 上向き個所 ４ｒ 湾曲個所 ４ｈ 横向き個所 ９ テーパ
Claims (2)
- 【請求項１】 横向きのプラズマトーチを備えており、
このプラズマトーチにはその下方位置から霧化試料を導
入する試料導入管が連結されているＩＣＰ分析装置であ
って、 試料導入管は、プラズマトーチと同様の横向きとなる個
所の手前で少なくとも管内形状がプラズマトーチに向か
って先細のテーパに絞られていることを特徴とするＩＣ
Ｐ分析装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のＩＣＰ分析装置であっ
て、 試料導入管のジョイント部は、管の上向き個所に設けら
れていることを特徴とするＩＣＰ分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10060904A JPH11258163A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | Ｉｃｐ分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10060904A JPH11258163A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | Ｉｃｐ分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258163A true JPH11258163A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13155824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10060904A Pending JPH11258163A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | Ｉｃｐ分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258163A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003005780A1 (en) * | 2001-07-03 | 2003-01-16 | Varian Australia Pty Ltd | Plasma torch |
| AU2002244508B2 (en) * | 2001-07-03 | 2006-07-27 | Agilent Technologies Australia (M) Pty Ltd | Plasma torch |
| JP2009262564A (ja) * | 2009-07-07 | 2009-11-12 | Seiko Epson Corp | 液体導通材、液体噴射装置、及び液体導通材の製造方法 |
| US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
| US8896830B2 (en) | 2005-06-17 | 2014-11-25 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US9259798B2 (en) | 2012-07-13 | 2016-02-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
| US9360430B2 (en) | 2002-12-12 | 2016-06-07 | Perkinelmer Health Services, Inc. | Induction device |
-
1998
- 1998-03-12 JP JP10060904A patent/JPH11258163A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003005780A1 (en) * | 2001-07-03 | 2003-01-16 | Varian Australia Pty Ltd | Plasma torch |
| AU2002244508B2 (en) * | 2001-07-03 | 2006-07-27 | Agilent Technologies Australia (M) Pty Ltd | Plasma torch |
| US9360430B2 (en) | 2002-12-12 | 2016-06-07 | Perkinelmer Health Services, Inc. | Induction device |
| US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
| US8896830B2 (en) | 2005-06-17 | 2014-11-25 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US9847217B2 (en) | 2005-06-17 | 2017-12-19 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| JP2009262564A (ja) * | 2009-07-07 | 2009-11-12 | Seiko Epson Corp | 液体導通材、液体噴射装置、及び液体導通材の製造方法 |
| US9259798B2 (en) | 2012-07-13 | 2016-02-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
| US9686849B2 (en) | 2012-07-13 | 2017-06-20 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
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