JPH11257278A - 真空ポンプにより吸引されるエンクロ―ジャ内の圧力調整を確保するためのシステム - Google Patents

真空ポンプにより吸引されるエンクロ―ジャ内の圧力調整を確保するためのシステム

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JPH11257278A
JPH11257278A JP11000751A JP75199A JPH11257278A JP H11257278 A JPH11257278 A JP H11257278A JP 11000751 A JP11000751 A JP 11000751A JP 75199 A JP75199 A JP 75199A JP H11257278 A JPH11257278 A JP H11257278A
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JP
Japan
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enclosure
pressure
pump
valve
vacuum pump
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Pending
Application number
JP11000751A
Other languages
English (en)
Inventor
Jean Philippe Briton
ジヤン・フイリツプ・ブリトン
Thierry Nmeel
テイエリー・ニール
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Alcatel CIT SA
Original Assignee
Alcatel CIT SA
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Publication date
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    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00—Control of fluid pressure
    • G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
    • G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
    • G05D16/2013—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
    • G05D16/202—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means actuated by an electric motor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
    • F04B49/22—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00 by means of valves
    • F04B49/24—Bypassing
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F04D27/009—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids by bleeding, by passing or recycling fluid
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F04B2205/064—Pressure in a (hydraulic) circuit in a reservoir linked to the pump inlet
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 より低コストで、より空間所要体積が小さい
エンクロージャ内の圧力の調整を確保するシステムを提
供する。 【解決手段】 モータ駆動可変開口弁（６）を具備する
管路（５）が、ポンプの吐出側に近い単数または複数の
段（８）を、ポンプの吸い込み側に近い単数または複数
の段（９）に接続し、弁（６）の開口度が、設定値Ｐ１
に容器（１）の圧力Ｐをサーボ制御する電子回路（１
１）からの信号（１０）により制御され、前記電子回路
（１１）が、エンクロージャ内で測定された圧力Ｐ（１
３）を示す信号（１２）を入力部で受信することを特徴
とする真空ポンプ（３）により吸引される。

Description

【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空ポンプにより
吸引されるエンクロージャ内の圧力調整を確保するため
のシステムに関する。
【従来の技術】超低圧処理ガスが供給されるエンクロー
ジャ内で製品の製造または処理を行う工業的方法におい
ては、エンクロージャの圧力を調整することが必要であ
る。例えば、半導体の製造および処理方法がこれに該当
する。真空ポンプにより吸引されるエンクロージャの圧
力調整を行うために知られている方法は、吸引流量、従
ってエンクロージャ内の圧力を変えることができる可変
コンダクタンス弁を、ポンプの吸い込み側において、直
列で使用することである。弁の開口度は、設定圧力と、
エンクロージャ内で測定された圧力とを基にして、調整
回路からの制御信号により調節される。この実行方法は
高価であり空間所要体積が大きい。
【発明が解決しようとする課題】本発明は、より低コス
トで、より空間所要体積が小さいシステムを提供するこ
とを目的とする。
【課題を解決するための手段】従って本発明は、モータ
駆動可変開口弁を具備する管路が、ポンプの吐出側に近
い単数または複数の段を、ポンプの吸い込み側に近い単
数または複数の段に接続し、弁の開口度が、設定値Ｐ１
にエンクロージャの圧力Ｐをサーボ制御する電子回路か
らの信号により制御され、前記電子回路が、エンクロー
ジャ内で測定された圧力Ｐを示す信号を入力部で受信す
ることを特徴とする真空ポンプにより吸引されるエンク
ロージャの圧力調整を確保するためのシステムを対象と
する。
【発明の実施の形態】次に、単一の図からなる添付の図
面を参照しながら、本発明の実施形態を記述する。図を
参照するとエンクロージャ１が見える。これは例えば、
半導体処理方法の室である。処理は、２において投入部
が示されている処理用ガスの超希薄雰囲気内で行われ
る。要求される低圧を保持するために、エンクロージャ
１は真空ポンプ３により吸引される。ここには一連の翼
型段４を含むターボ分子二次ポンプを示した。その吐出
側５は、図示しない一次ポンプに接続される。また、オ
ルヴェック（Ｈｏｌｗｅｃｋ）ポンプ、ハイブリッドポ
ンプ、さらには、例えば多段ルートなどの多段一次ポン
プも使用することができよう。本発明によれば、モータ
駆動可変開口弁６を具備する管路７が、吐出側に近い単
数または複数の段８を、吸い込み側に近い単数または複
数の段９に接続する。この可変開口弁により、ポンプ内
で再循環されるガス流を変化させることができ、従っ
て、処理室１内に直接ポンプ輸送されるガスの量を変化
させることができる再循環が行われる。弁６の開口度
は、設定された設定値Ｐ１にエンクロージャ内の圧力Ｐ
をサーボ制御する回路を備える電子回路１１の出力部に
おける信号１０により制御される。サーボ制御回路は従
来のものであるので図示しない。回路は、入力部では、
エンクロージャ１の圧力Ｐを測定する圧力ゲージ１３か
らの信号１２を受信する。電子回路１１は、ポンプ３の
モータ１４の制御に必要な回路も備える。従って、Ｑｔ
がポンプ内の許容される全流量を示し、Ｑｒが管路５に
より再循環されるガスの流量を示し、Ｑｐがエンクロー
ジャ１から直接出る流量を示す場合、ａ：Ｑｔ＝Ｑｒ＋
Ｑｐが得られる。弁６の開口度を変えてＱｒを変化させ
ると、流量Ｑｐも変化する。なぜなら、ポンプの速度は
一定であり、従って、その全流量Ｑｔも一定である。従
って、本発明によるシステムは、引き合いに出した従来
技術と比較してきわめて有利である。なぜなら、全流量
を調節するポンプの吸い込み側に、大径弁、すなわち高
価で空間所要体積が大きい弁をもつかわりに、全流量と
比較して少ない再循環流量Ｑｒのみを通す小型弁しかな
いからである。従って弁ははるかに小さくはるかに安価
である。価格はおよそ１０分の１になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
１ エンクロージャ ２ 処理用ガス投入部 ３ 真空ポンプ ４ 翼型段 ６ モータ駆動可変開口弁 ７ 管路 ８ ポンプの吐出側に近い段 ９ ポンプの吸い込み側に近い段 １０、１２ 信号 １１ 電子回路 １３ 圧力ゲージ １４ モータ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 モータ駆動可変開口弁（６）を具備する
    管路（５）が、ポンプの吐出側に近い単数または複数の
    段（８）を、ポンプの吸い込み側に近い単数または複数
    の段（９）に接続し、弁（６）の開口度が、設定値Ｐ１
    にエンクロージャ（１）の圧力Ｐをサーボ制御する電子
    回路（１１）からの信号（１０）により制御され、前記
    電子回路（１１）が、エンクロージャ内で測定された圧
    力Ｐ（１３）を示す信号（１２）を入力部で受信するこ
    とを特徴とする真空ポンプ（３）により吸引されるエン
    クロージャ（１）内の圧力の調整を確保するためのシス
    テム。
JP11000751A 1998-01-06 1999-01-05 真空ポンプにより吸引されるエンクロ―ジャ内の圧力調整を確保するためのシステム Pending JPH11257278A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9800036A FR2773403B1 (fr) 1998-01-06 1998-01-06 Systeme pour assurer une regulation de pression dans une enceinte pompee par une pompe a vide
FR9800036 1998-01-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11257278A true JPH11257278A (ja) 1999-09-21

Family

ID=9521533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11000751A Pending JPH11257278A (ja) 1998-01-06 1999-01-05 真空ポンプにより吸引されるエンクロ―ジャ内の圧力調整を確保するためのシステム

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0929019A1 (ja)
JP (1) JPH11257278A (ja)
KR (1) KR19990067758A (ja)
FR (1) FR2773403B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010138741A (ja) * 2008-12-10 2010-06-24 Edwards Kk 真空ポンプ

Family Cites Families (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT254377B (de) * 1965-03-18 1967-05-26 Oemv Ag Verfahren und Einrichtung zum Nutzbarmachen brennbarer Abgase von Raffinerien oder andern Anlagen
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Also Published As

Publication number Publication date
FR2773403B1 (fr) 2000-02-04
EP0929019A1 (fr) 1999-07-14
FR2773403A1 (fr) 1999-07-09
KR19990067758A (ko) 1999-08-25

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