JPH11251157A - Flat type magnetic induction part and ultra-small power converter using the same - Google Patents

Flat type magnetic induction part and ultra-small power converter using the same

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JPH11251157A
JPH11251157A JP10354467A JP35446798A JPH11251157A JP H11251157 A JPH11251157 A JP H11251157A JP 10354467 A JP10354467 A JP 10354467A JP 35446798 A JP35446798 A JP 35446798A JP H11251157 A JPH11251157 A JP H11251157A
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JP
Japan
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magnetic induction
induction component
coil
power converter
bump
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Application number
JP10354467A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshitomo Hayashi
善智 林
Kazuo Matsuzaki
一夫 松崎
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11251157A publication Critical patent/JPH11251157A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultra-small power converter device by allowing magnetic induction parts such as a coil, a transformer, etc., to be flat and small, for improved mounting method on a semiconductor substrate where a semiconductor device is built. SOLUTION: Related to a flat coil 20 comprising a pair of magnetic thin films 24a and 24b with a coil conductor 27 formed into coil shape through insulation films 23a and 23b in between on a silicon wafer 21, a solder bump which is to be a terminal of the coil conductor 27 is provided. A bump electrode 29 is matched and mounted on an electrode 2 of a semiconductor chip 1 where semiconductor devices are integrated, and the solder bump 29 is melted and jointed on the semiconductor chip 1 to form an ultra-small power converter device. It may be a flat coil whose surface is covered with a polyimide resin, and may be mounted by thermocompression bonding at such low temperature as 200 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、DC−DCコンバ
ータなどの電力変換装置に用いられるインダクタ、トラ
ンス等の磁気誘導部品およびそれを用いた電力変換装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic induction component such as an inductor and a transformer used in a power converter such as a DC-DC converter, and a power converter using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子情報機器、特に携帯型の各種
電子情報機器の普及が著しい。それらの電子情報機器
は、電池を電源とするものが多く、DC−DCコンバー
タなどの電力変換装置を内蔵している。通常その電力変
換装置は、スイッチング素子、整流素子、制御用ICな
どの能動素子とコイル、トランス、コンデンサ、抵抗な
どの受動素子の各個別部品をセラミック基板等の上に実
装したハイブリッド型の電力変換装置として、構成され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic information devices, especially various types of portable electronic information devices, have become remarkably widespread. Many of these electronic information devices use a battery as a power source, and incorporate a power conversion device such as a DC-DC converter. Usually, the power converter is a hybrid power converter in which active components such as switching elements, rectifiers, and control ICs and individual components such as coils, transformers, capacitors, and resistors are mounted on a ceramic substrate. It is configured as a device.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】携帯用を含めた各種電
子情報機器の小型軽量化の要望に伴い、内蔵される電力
変換装置の小型化の要求も強い。ハイブリッド型電源モ
ジュールの小型化は、MCM(マルチチップモジュー
ル)等の技術により進歩してきている。また、その中で
用いられる制御用IC、スイッチング素子、整流素子等
の技術的進歩が著しい中で、これら電力変換装置の中に
用いられるコイル、トランス、コンデンサ等の受動素子
が占める体積の問題が浮き彫りにされてきている。特に
インダクタやトランス等の磁気誘導部品は、集積回路と
比べると体積が非常に大きいために、電子機器の小形化
を図る上で最大の隘路になっている。
With the demand for miniaturization and weight reduction of various electronic information devices including portable devices, there is a strong demand for miniaturization of a built-in power converter. The miniaturization of the hybrid power supply module has been advanced by technologies such as MCM (multi-chip module). In addition, as technological advances in control ICs, switching elements, rectifiers, etc. used therein are remarkable, there is a problem of the volume occupied by passive elements such as coils, transformers, capacitors, etc. used in these power converters. It has been embossed. In particular, magnetic induction components such as inductors and transformers are very large in volume compared to integrated circuits, and are the biggest bottleneck in miniaturizing electronic devices.

【0004】これら磁気誘導部品の小型化に対する今後
の方向としては、チップ部品として限りなく小さくし、
面実装により電源全体を小さくする方向と、シリコン基
板上に薄膜で形成する方向の二つが考えられる。近年、
磁気誘導部品の小形化の要求に応えて、半導体技術の適
用により、半導体基板上に磁気誘導部品を搭載した例も
報告されている。発明者の同僚も特願平8−14962
6において、そのような平面型磁気誘導部品を考案し
た。
The future direction of miniaturization of these magnetic induction components is to make them as small as chip components without limit.
There are two directions: a direction in which the entire power supply is reduced by surface mounting, and a direction in which a thin film is formed on a silicon substrate. recent years,
In response to the demand for miniaturization of magnetic induction components, there has been reported an example in which magnetic induction components are mounted on a semiconductor substrate by applying semiconductor technology. The colleague of the inventor also filed Japanese Patent Application No. 8-14962.
6, such a planar magnetic induction component was devised.

【0005】図9は半導体チップに集積した超小型電力
変換装置の部分断面図である。スイッチング素子や制御
回路等の半導体装置を作りこんだ半導体チップ1の表面
上に、コイル導体17を磁性薄膜14a、14bで挟ん
だ形の平面型コイル10を薄膜技術により形成したもの
である。コイル導体17と半導体装置の電極2とは、接
続導体18で接続されている。13a、13bは磁性薄
膜14a、14bを絶縁するための上下の絶縁膜であ
る。
FIG. 9 is a partial sectional view of a micro power converter integrated on a semiconductor chip. A planar coil 10 in which a coil conductor 17 is sandwiched between magnetic thin films 14a and 14b is formed on a surface of a semiconductor chip 1 in which a semiconductor device such as a switching element and a control circuit is fabricated by a thin film technique. The coil conductor 17 and the electrode 2 of the semiconductor device are connected by a connection conductor 18. 13a and 13b are upper and lower insulating films for insulating the magnetic thin films 14a and 14b.

【0006】しかし、例えば半導体チップ1の電極2と
コイル導体17とをつなぐ接続導体18は、通常メッキ
法により形成されるが、その際のメッキ液による電極2
の腐食の問題があり、それを防止するために絶縁膜13
aの端をテーパー化する等の工夫がおこなわれている。
他にも、半導体装置を作り込んだ後に、半導体チップ1
に薄膜技術による平面型磁気誘導部品を形成するため、
工程が複雑化し、また長くなる等の問題がある。本発明
の目的は、電力変換装置の小型化を容易にするコイル、
トランス等の平面型磁気誘導部品およびそれを用いた超
小型電力変換装置を提供することにある。
However, for example, the connection conductor 18 connecting the electrode 2 of the semiconductor chip 1 and the coil conductor 17 is usually formed by a plating method.
There is a problem of corrosion of the insulating film 13 to prevent the problem.
A device such as tapering the end of “a” is employed.
In addition, after the semiconductor device is built, the semiconductor chip 1
In order to form a planar magnetic induction component using thin film technology,
There are problems that the process becomes complicated and the process becomes long. An object of the present invention is to facilitate the miniaturization of a power conversion device,
An object of the present invention is to provide a planar magnetic induction component such as a transformer and a micro power conversion device using the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題解決のため本発
明は、コイル状に形成されたコイル導体を絶縁膜を介し
て一対の磁性薄膜に挟んだ構造の平面型磁気誘導部品に
おいて、コイル導体の端子とするバンプ電極を有するも
のとする。そのようにすれば、そのバンプ電極と例えば
半導体基板の電極との接合が容易であり、半導体基板上
への搭載ができる。特に平面型磁気誘導部品を別のチッ
プとして製造することにより、工程を短縮し、かつ半導
体装置の電極部等への悪影響を避けることができる。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention relates to a planar magnetic induction component having a structure in which a coil conductor formed in a coil shape is sandwiched between a pair of magnetic thin films via an insulating film. And a bump electrode as a terminal. By doing so, it is easy to join the bump electrode to an electrode of a semiconductor substrate, for example, and it is possible to mount the bump electrode on the semiconductor substrate. In particular, by manufacturing the planar magnetic induction component as a separate chip, the number of steps can be reduced, and adverse effects on the electrode portion and the like of the semiconductor device can be avoided.

【0008】バンプは、半球状のはんだバンプでも、は
んだワイヤや金ワイヤのワイヤボールボンディングによ
るスタッドバンプでもよいが、後者であれば特に直径に
比して高さの高いバンプを形成できるので、接続導体の
形成を省くことができる。シリコンウェハ上にコイル導
体が形成されているものとすれば、他のシリコンの半導
体基板と熱特性が同じでマッチングが良い。また、高分
子ポリマーフィルム上にコイル導体が形成されているも
のとすれば、厚さの薄い平面型磁気誘導部品とすること
ができる。
The bump may be a hemispherical solder bump or a stud bump formed by wire ball bonding of a solder wire or a gold wire. In the latter case, a bump having a height higher than the diameter can be formed. The formation of the conductor can be omitted. If a coil conductor is formed on a silicon wafer, the thermal characteristics are the same as those of other silicon semiconductor substrates, and matching is good. In addition, if the coil conductor is formed on the high-molecular polymer film, a flat magnetic induction component having a small thickness can be obtained.

【0009】特に、表面がポリイミド樹脂で覆われてい
るものとすれば、半導体基板上への実装の際に、接着剤
を用いずに熱圧着で容易に接合できる。上記のような平
面型磁気誘導部品の実装方法としては、半導体装置を集
積した半導体基板の電極にバンプ電極を整合させて、半
導体基板上に搭載するものとする。
In particular, if the surface is covered with a polyimide resin, it can be easily bonded by thermocompression bonding without using an adhesive when mounting on a semiconductor substrate. As a mounting method of the above-described planar magnetic induction component, a bump electrode is aligned with an electrode of a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated, and the semiconductor device is mounted on the semiconductor substrate.

【0010】そのようにして半導体基板上に搭載すれ
ば、従来磁気誘導部品実装のために必要であった広い面
積が不要になり、小型化できる。特に、表面がポリイミ
ド樹脂で覆われているものを半導体装置を集積した半導
体基板の電極にバンプ電極を整合させ、熱圧着により半
導体基板上に搭載するものとする。そのようにすれば、
低温の加熱だけで半導体基板上への接合ができる。
By mounting the semiconductor device on a semiconductor substrate in such a manner, a large area conventionally required for mounting a magnetic induction component is not required, and the size can be reduced. In particular, it is assumed that the bumps whose surfaces are covered with the polyimide resin are aligned with the electrodes of the semiconductor substrate on which the semiconductor device is integrated, and mounted on the semiconductor substrate by thermocompression bonding. If you do that,
Bonding on a semiconductor substrate can be performed only by heating at a low temperature.

【0011】コイル導体に接触して設けられた端子パッ
ドと、半導体装置の電極とをワイヤボンディングで接続
してもよい。そのようにすれば、コイル導体と端子と半
導体装置の電極とをつなぐ接続導体が不要であり、接続
するためのスルーホール形成、接続導体形成のための工
程を省略できる。
[0011] A terminal pad provided in contact with the coil conductor and an electrode of the semiconductor device may be connected by wire bonding. This eliminates the need for a connection conductor that connects the coil conductor, the terminal, and the electrode of the semiconductor device, and can omit a process for forming a through-hole for connection and a process for forming the connection conductor.

【0012】特に、平面型磁気誘導部品を形成したシリ
コンチップを、半導体装置を集積した半導体基板上に搭
載すれば、平面型磁気誘導部品は半導体装置と別の基板
に形成できるので、工程を短縮できる。
In particular, when a silicon chip having a planar magnetic induction component formed thereon is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated, the planar magnetic induction component can be formed on a separate substrate from the semiconductor device, thereby shortening the process. it can.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、実施例を参照しながら本発
明の実施の形態を詳細に説明する。 [実施例1]図1(a)は、本発明第一の実施例(以下
実施例1と記す。以下同様)の平面型コイルの部分断面
図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to examples. Embodiment 1 FIG. 1A is a partial cross-sectional view of a planar coil according to a first embodiment of the present invention (hereinafter, referred to as Embodiment 1).

【0014】平面型コイル20は、シリコンウェハ21
上に酸化膜22を介して、CoHfTaPdの磁性薄膜
24aが積層されており、その磁性薄膜24aを覆うポ
リイミドからなる絶縁膜23aの上に、コイルが形成さ
れている。図では、コイルの断面のコイル導体27と、
その間のポリイミドの中間絶縁膜26の断面が示されて
いる。コイル導体27と中間絶縁膜26との上には、ポ
リイミドの絶縁膜23bを介してCoHfTaPdの磁
性薄膜24bが積層され、更にその上をまたポリイミド
の絶縁膜23bが覆っている。28は、コイル導体27
に電流を供給するための接続導体であり、その表面に半
田バンプ29が形成されている。半田バンプ29の大き
さはおよそ半径50μm、高さ30μmである。
The planar coil 20 is made of a silicon wafer 21
A magnetic thin film 24a of CoHfTaPd is laminated thereon with an oxide film 22 interposed therebetween, and a coil is formed on an insulating film 23a made of polyimide which covers the magnetic thin film 24a. In the figure, a coil conductor 27 having a cross section of the coil,
A cross section of the polyimide intermediate insulating film 26 therebetween is shown. On the coil conductor 27 and the intermediate insulating film 26, a CoHfTaPd magnetic thin film 24b is laminated via a polyimide insulating film 23b, and the polyimide insulating film 23b further covers the magnetic thin film 24b. 28 is a coil conductor 27
, And a solder bump 29 is formed on the surface of the connection conductor. The size of the solder bump 29 is about 50 μm in radius and 30 μm in height.

【0015】図3(a)ないし(e)および図4(a)
ないし(d)は、実施例1の平面型コイル20の製造方
法を説明するための製造工程順の部分断面図である。以
下、その製造方法について工程順に説明する。
FIGS. 3A to 3E and FIG. 4A
FIGS. 3D to 3D are partial cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the planar coil 20 according to the first embodiment in the order of manufacturing steps. Hereinafter, the manufacturing method will be described in the order of steps.

【0016】Siウェハ21上に厚さ1μmの酸化膜2
2を形成する[図3(a)]。CoHfTaPdの磁性
薄膜24aをスパッタ法で3μm成膜し、フォトリソグ
ラフィによりパターンを形成する[同図(b)]。磁性
薄膜24aのエッチャントとしては、、例えば王水が用
いられる。
Oxide film 2 of 1 μm thickness on Si wafer 21
2 [FIG. 3 (a)]. A 3 μm-thick CoHfTaPd magnetic thin film 24a is formed by a sputtering method, and a pattern is formed by photolithography (FIG. 2B). As an etchant for the magnetic thin film 24a, for example, aqua regia is used.

【0017】層間の絶縁膜23aとしてポリイミドを塗
布し、キュアする。ポリイミド膜厚は3μmである。絶
縁膜23a上に、無電解メッキの核となる白金(Pt)
核25をスパッタ法で厚さ0.4nmの島状に形成する
[同図(c)]。
A polyimide is applied as an interlayer insulating film 23a and cured. The polyimide film thickness is 3 μm. Platinum (Pt) serving as a nucleus for electroless plating on the insulating film 23a
The nuclei 25 are formed in an island shape with a thickness of 0.4 nm by sputtering [FIG.

【0018】中間絶縁膜26となる感光性ポリイミドを
塗布、フォトマスクを使用して露光し、現像をおこな
い、メッキの型となるコイルパターンを形成し、キュア
する[同図(d)]。ポリイミドの膜厚はキュア前で4
0μm、キュア後で25μmである。メッキ型の寸法は
例えば、内寸80μm、間隔70μmである。
A photosensitive polyimide for forming the intermediate insulating film 26 is applied, exposed using a photomask, developed, and a coil pattern serving as a plating mold is formed and cured [FIG. The polyimide film thickness is 4 before cure.
0 μm, 25 μm after cure. The dimensions of the plating mold are, for example, an inner dimension of 80 μm and an interval of 70 μm.

【0019】無電解銅メッキをおこない、メッキ型の底
部に銅を0.2μm析出させ、電解メッキ用の通電層と
した後、電解銅メッキをおこない、コイル導体27を形
成する[同図(e)]。コイル導体27の厚さは中間絶
縁膜26と同じく25μmである。
Electroless copper plating is performed to deposit 0.2 μm of copper on the bottom of the plating mold to form a conductive layer for electrolytic plating, and then electrolytic copper plating is performed to form a coil conductor 27 [FIG. )]. The thickness of the coil conductor 27 is 25 μm as in the case of the intermediate insulating film 26.

【0020】層間の絶縁膜23bとしてポリイミドを塗
布し、キュアした後 引き続きCoHfTaPdの磁性
薄膜24bをスパッタ法で3μm成膜し、ポジ型フォト
レジストを塗布しパターンを形成した後、フォトレジス
トをマスクとして王水でエッチングをおこない、磁性薄
膜24bのパターン形成をする。その後アセトンに浸漬
してフォトレジストを除去する[図4(a)]。
After polyimide is applied as an interlayer insulating film 23b and cured, a magnetic thin film 24b of CoHfTaPd is formed to a thickness of 3 μm by sputtering, a positive photoresist is applied to form a pattern, and the photoresist is used as a mask. Etching is performed with aqua regia to form a pattern of the magnetic thin film 24b. Thereafter, the photoresist is removed by immersion in acetone [FIG. 4 (a)].

【0021】スパッタ法により酸化けい素膜(厚さ3μ
m)を堆積し、パターニングしてポリイミドのエッチン
グマスクとする。次にこの酸化けい素膜のマスクを用い
て、下地のコイル導体27まで達するスルーホールを形
成した後、ふっ酸で酸化けい素膜を除去する[同図
(b)]。
A silicon oxide film (thickness: 3 μm) is formed by sputtering.
m) is deposited and patterned to form a polyimide etching mask. Next, using the silicon oxide film mask, a through hole reaching the coil conductor 27 as the base is formed, and then the silicon oxide film is removed with hydrofluoric acid [FIG.

【0022】そのスルーホールに電解メッキで銅を9μ
m埋め込み、接続導体28とする[同図(c)]。接続
導体28上に電解メッキでニッケル層と半田バンプのた
めのバンプ金属29aを形成する[同図(d)]。
9 μm of copper is applied to the through hole by electrolytic plating.
Embedding m, to form a connection conductor 28 [FIG. A nickel layer and a bump metal 29a for a solder bump are formed on the connection conductor 28 by electrolytic plating [FIG.

【0023】必要に応じてフォトエツチング処理により
バンプ金属29aの不要部分を除去し、フラックス処理
を施し、トンネル炉で加熱溶融するウェットバックと称
する処理を施して、冷却時に表面張力できれいな半球状
の半田バンプ29とする[図1(a)]。この後、シリ
コンウェハをダイシングによりチップ状にカットする。
図1(b)は、実施例1の平面型コイルを半導体装置を
集積した半導体基板上に実装した状態の部分断面図であ
る。
If necessary, unnecessary portions of the bump metal 29a are removed by a photo-etching process, a flux process is performed, and a process called a wet back is performed by heating and melting in a tunnel furnace. Solder bumps 29 are used (FIG. 1A). Thereafter, the silicon wafer is cut into chips by dicing.
FIG. 1B is a partial cross-sectional view illustrating a state in which the planar coil according to the first embodiment is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated.

【0024】半導体チップ1には、出力電流を流すパワ
ー半導体素子やそれを制御する制御回路が集積されてい
る。その半導体チップ1の電極2に、本発明の平面型コ
イル20の半田バンプ29が溶融して接続されている状
態を示している。3は半導体表面を覆う窒化膜やポリイ
ミド膜等の保護膜である。半田バンプ29だけでは接着
力が不十分な場合には、エポキシ樹脂等の接着剤を用い
ても良い。
The semiconductor chip 1 has integrated therein a power semiconductor element for flowing an output current and a control circuit for controlling the power semiconductor element. The state where the solder bumps 29 of the planar coil 20 of the present invention are melted and connected to the electrodes 2 of the semiconductor chip 1 is shown. Reference numeral 3 denotes a protection film such as a nitride film or a polyimide film covering the semiconductor surface. If the adhesive strength is insufficient with only the solder bump 29, an adhesive such as an epoxy resin may be used.

【0025】図1(b)のように平面型コイルを半導体
集積回路の上に実装して、1W級のDC−DCコンバー
タモジュールを試作した。平面型コイルの寸法は約4×
4mmとなり、従来必要であったモジュール基板の平面
型コイル実装のためのスペースを大幅に削減でき、モジ
ュールの寸法は、10×10×2(mm)となって、体
積で従来の約1/4に縮小できた。
As shown in FIG. 1B, a planar coil was mounted on a semiconductor integrated circuit, and a 1 W class DC-DC converter module was prototyped. The dimensions of the flat coil are about 4 ×
4 mm, which can greatly reduce the space required for mounting a planar coil on a module substrate, which was required conventionally, and the size of the module is 10 × 10 × 2 (mm), which is about 1 / of the conventional volume. Could be reduced to

【0026】バンプ電極により半導体基板上に直接搭載
すれば、配線が不要であり、配線の余分なインダクタン
スやノイズ誘起の問題も生じない。しかも平面型コイル
をチップとして、単独に作るので、従来の接続導体形成
時の問題が無く製造が容易であり、しかも工程も短縮で
きた。シリコンウェハ21と磁性薄膜24aとの間の絶
縁には、必ずしも酸化膜22でなければならないわけで
はなく、ポリイミド膜等の絶縁膜でも良い。
If the semiconductor device is directly mounted on the semiconductor substrate by using bump electrodes, no wiring is required, and there is no problem of extra inductance of the wiring or noise induction. In addition, since the planar coil is formed as a single chip, there is no problem in forming the conventional connection conductor, the manufacture is easy, and the process can be shortened. The insulation between the silicon wafer 21 and the magnetic thin film 24a does not necessarily have to be the oxide film 22, but may be an insulating film such as a polyimide film.

【0027】[実施例2]図2は、実施例2の平面型コ
イルを半導体装置を集積した半導体基板上に実装した小
型電力変換装置の部分断面図である。
[Second Embodiment] FIG. 2 is a partial sectional view of a small power converter in which the planar coil of the second embodiment is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated.

【0028】厚さ100μmのポリイミドフィルム31
上(図では下側)に実施例1と同様の方法で平面型コイ
ル30を形成する。そしてその平面型コイル30を、ウ
ェハ状態の半導体装置を集積した半導体チップ1の電極
2に、平面型コイル30の半田バンプ39が整合するよ
うに対向させ、表面を覆うポリイミド膜を半導体チップ
1の保護膜3上に熱圧着により密着させた後、ダイシン
グによりチップ化したものである。
100 μm thick polyimide film 31
A planar coil 30 is formed on the upper side (the lower side in the figure) in the same manner as in the first embodiment. Then, the planar coil 30 is opposed to the electrode 2 of the semiconductor chip 1 on which the semiconductor device in a wafer state is integrated so that the solder bumps 39 of the planar coil 30 are aligned, and a polyimide film covering the surface is coated with the polyimide film of the semiconductor chip 1. It is made into a chip by dicing after being closely adhered to the protective film 3 by thermocompression bonding.

【0029】この方法によれば200℃程度の低温の加
熱で接着剤を用いることなく接合でき、しかもウェハ単
位で一度に実装できるという利点、およびポリイミドの
密着により応力変形によるチップ界面での剥離が起こり
にくいという利点がある。
According to this method, bonding can be performed at a low temperature of about 200 ° C. without using an adhesive, and mounting can be performed at a time on a wafer basis, and peeling at a chip interface due to stress deformation due to adhesion of polyimide can be prevented. There is an advantage that it is unlikely to occur.

【0030】[実施例3]図5(a)は、本発明実施例
3の平面型コイル40の部分断面図である。実施例1の
平面型コイルと異なっているのは、接続導体および半球
状のはんだバンプが形成されておらず、代わりに低温は
んだワイヤのスタッドバンプ49が設けられている点で
ある。
Third Embodiment FIG. 5A is a partial sectional view of a flat coil 40 according to a third embodiment of the present invention. The difference from the flat coil of the first embodiment is that the connection conductor and the hemispherical solder bump are not formed, and a stud bump 49 of a low-temperature solder wire is provided instead.

【0031】製造方法としては、実施例1の図4(b)
の後、メッキによりニッケル膜6を形成した後、例えば
鉛−60%錫のはんだワイヤの先端を溶融し、ワイヤボ
ールボンディングすれば良い。スタッドバンプ49の大
きさは例えば半径35μm、高さ70μmである。41
はシリコンウェハ、47はコイル導体、44a、44b
は磁性薄膜である。
As the manufacturing method, FIG.
Then, after forming the nickel film 6 by plating, the tip of the solder wire of, for example, lead-60% tin may be melted and wire ball bonded. The size of the stud bump 49 is, for example, a radius of 35 μm and a height of 70 μm. 41
Is a silicon wafer, 47 is a coil conductor, 44a, 44b
Is a magnetic thin film.

【0032】図5(b)は、実施例3の平面型コイルを
半導体装置を集積した半導体チップ1上に200℃のは
んだリフローにより実装した小型電力変換装置の部分断
面図である。
FIG. 5B is a partial sectional view of a small power converter in which the planar coil of the third embodiment is mounted on a semiconductor chip 1 on which a semiconductor device is integrated by solder reflow at 200 ° C.

【0033】半導体チップ1には、パワーデバイスや制
御回路が集積されている。その半導体チップ1の電極2
に、本発明の平面型コイル40のスタッドバンプ49が
溶融した溶融バンプ49aとなって接続されている状態
を示している。4は電極2上にスパッタリング法により
堆積したニッケル−銅−チタン(各厚さ0.5μm、1
μm、0.5μm)層である。
A power device and a control circuit are integrated in the semiconductor chip 1. Electrode 2 of the semiconductor chip 1
5 shows a state in which the stud bumps 49 of the planar coil 40 of the present invention are connected as molten bumps 49a. Reference numeral 4 denotes nickel-copper-titanium (each having a thickness of 0.5 μm, 1
μm, 0.5 μm) layer.

【0034】ワイヤボールボンディングによるスタッド
バンプ49は、通常の半球状バンプ等に比べ直径の割合
に高さを高く出来るので、コイル導体47上の開口部内
に作ることができ、実施例1のような接続導体の形成が
不要になる。そして、スタッドバンプ49を半導体チッ
プ1の電極2上に合わせて接合すれば、配線が不要であ
り、配線の余分なインダクタンスやノイズ誘起の問題も
生じない。しかも平面型コイルをチップとして、単独に
作るので、工程も短く製造が容易である。この場合も、
実施例1と同程度のスペース削減効果があった。
The stud bumps 49 formed by wire ball bonding can be made higher within the opening on the coil conductor 47 since the height can be increased in proportion to the diameter as compared with a normal hemispherical bump or the like. The formation of the connection conductor becomes unnecessary. Then, if the stud bumps 49 are joined together on the electrodes 2 of the semiconductor chip 1, no wiring is required, and no extra inductance of the wiring and no problem of noise induction occur. In addition, since the flat coil is formed as a single chip, the process is short and the manufacture is easy. Again,
The same space reduction effect as in the first embodiment was obtained.

【0035】[実施例4]図6(a)は、本発明実施例
4の平面型コイル50の部分断面図である。この例で
は、金ワイヤのスタッドバンプ59が設けられている。
Fourth Embodiment FIG. 6A is a partial cross-sectional view of a flat coil 50 according to a fourth embodiment of the present invention. In this example, gold wire stud bumps 59 are provided.

【0036】製造方法としては、実施例1と同様にして
図4(b)の後、例えば金ワイヤの先端を溶融し、ワイ
ヤボールボンディングすれば良い。スタッドバンプ59
の大きさはおよそ半径75μm、高さ100μmであ
る。51はシリコンウェハ、57はコイル導体、54
a、54bは磁性薄膜である。金ワイヤの場合は、コイ
ル導体57上に実施例3のようなニッケル膜を形成しな
くてもよい。
As a manufacturing method, as in the first embodiment, after FIG. 4B, for example, the tip of a gold wire may be melted and wire ball bonded. Stud bump 59
Has a radius of about 75 μm and a height of about 100 μm. 51 is a silicon wafer, 57 is a coil conductor, 54
a and 54b are magnetic thin films. In the case of a gold wire, it is not necessary to form a nickel film on the coil conductor 57 as in the third embodiment.

【0037】図6(b)は、実施例4の平面型コイル5
0を半導体装置を集積した半導体基板上に接着剤により
実装した小型電力変換装置の部分断面図である。絶縁性
接着剤としては例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂
等が使用できる。
FIG. 6B shows a planar coil 5 according to the fourth embodiment.
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a small power conversion device in which a semiconductor device 0 is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated with an adhesive. As the insulating adhesive, for example, a polyimide resin, an epoxy resin, or the like can be used.

【0038】半導体チップ1には、パワーデバイスや制
御回路が集積されている。その半導体チップ1の電極2
に、本発明の平面型コイル50のスタッドバンプ59が
接触している状態を示している。
A power device and a control circuit are integrated in the semiconductor chip 1. Electrode 2 of the semiconductor chip 1
7 shows a state where the stud bumps 59 of the planar coil 50 of the present invention are in contact with each other.

【0039】この場合もバンプ電極により半導体基板上
に直接搭載するので、配線が不要であり、配線の余分な
インダクタンスやノイズ誘起の問題も生じない。しかも
平面型コイルをチップとして、別に作るので、工程も短
く製造が容易である。
Also in this case, since the semiconductor device is directly mounted on the semiconductor substrate by the bump electrodes, no wiring is required, and there is no problem of extra inductance of the wiring or noise induction. In addition, since the flat coil is manufactured separately as a chip, the process is short and the manufacture is easy.

【0040】[実施例5]図7は、本発明実施例5の平
面型コイルを半導体装置を集積した半導体チップ1上に
実装した小型電力変換装置の部分断面図である。
[Embodiment 5] FIG. 7 is a partial sectional view of a small power converter in which a planar coil according to Embodiment 5 of the present invention is mounted on a semiconductor chip 1 on which a semiconductor device is integrated.

【0041】この例では、平面型コイル60をチップと
して、半導体装置を集積した半導体チップ1上に搭載し
ているのは、これまでの例と同じであるが、コイル導体
67の端子が半導体チップ1側に向かっておらず、上方
に設けられている点がこれまでの例と違っている。
In this example, the planar coil 60 is mounted as a chip on the semiconductor chip 1 on which the semiconductor device is integrated, as in the previous examples. It is different from the previous examples in that it is not directed toward one side but is provided above.

【0042】そして、コイル導体67の開口部に導電接
触するようにアルミニウムの電極パッド69が設けら
れ、その電極パッド69と半導体基板上の電極2とがワ
イヤ5で接続されている。61はシリコンウェハ、67
はコイル導体、64a、64bは磁性薄膜である。
An aluminum electrode pad 69 is provided in conductive contact with the opening of the coil conductor 67, and the electrode pad 69 and the electrode 2 on the semiconductor substrate are connected by the wire 5. 61 is a silicon wafer, 67
Is a coil conductor, and 64a and 64b are magnetic thin films.

【0043】製造方法としては、図4(b)の後、例え
ばスパッタリング法によりAl膜(厚さ2μm)を堆積
した後、フォトリソグラフィ、ウェットエッチングによ
り電極パッド69を形成する。その平面型コイル60
を、半導体チップ1の保護膜3上に絶縁性の接着剤等で
接合した後、平面型コイル60の電極パッド69と、半
導体チップ1の電極2とをワイヤボンディングする。な
お、シリコンウェハ61の厚さが厚いと、全体の高さが
高くなるので、平面型コイル60の形成後、シリコンウ
ェハ61の裏面を研削して200μm程度に薄くしてか
ら接合すると良い。
As a manufacturing method, after FIG. 4B, after depositing an Al film (thickness: 2 μm) by, for example, a sputtering method, an electrode pad 69 is formed by photolithography and wet etching. The planar coil 60
Is bonded on the protective film 3 of the semiconductor chip 1 with an insulating adhesive or the like, and then the electrode pads 69 of the planar coil 60 and the electrodes 2 of the semiconductor chip 1 are wire-bonded. It should be noted that if the thickness of the silicon wafer 61 is large, the overall height will be high. Therefore, after forming the planar coil 60, it is preferable to grind the back surface of the silicon wafer 61 and reduce the thickness to about 200 μm before joining.

【0044】この場合も平面型コイルをチップとして、
単独に作るので、従来の接続導体形成時の問題が無く、
また工程も短く製造が容易である。半導体チップ1のワ
イヤボンディング時に同時にワイヤ接続することができ
る。
Also in this case, a planar coil is used as a chip.
Since it is made independently, there is no problem when forming the conventional connection conductor,
Also, the process is short and the production is easy. Wire connection can be performed at the same time as wire bonding of the semiconductor chip 1.

【0045】[実施例6]図8は、本発明実施例6の小
型電力変換装置の部分断面図である。この例ではこれま
での例と異なり、平面型コイルをチップとして搭載せ
ず、半導体装置を作り込んだ半導体チップ1上にポリイ
ミド絶縁膜71を介して、薄膜積層型の平面型コイルを
積層した例である。
[Embodiment 6] FIG. 8 is a partial sectional view of a small-sized power converter according to Embodiment 6 of the present invention. In this example, unlike the previous examples, the planar coil is not mounted as a chip, and a thin-film laminated type planar coil is laminated via a polyimide insulating film 71 on a semiconductor chip 1 in which a semiconductor device is built. It is.

【0046】但し、平面型コイル70のコイル導体77
の端子が半導体チップ1側に向かっておらず、上方に設
けられている点が図9の従来の小型電力変換装置と違っ
ている。74a、74bは、磁性薄膜である。
However, the coil conductor 77 of the planar coil 70
This terminal is different from the conventional small power converter shown in FIG. 9 in that the terminals are not directed toward the semiconductor chip 1 but are provided above. 74a and 74b are magnetic thin films.

【0047】コイル導体77の開口部に導電接触するよ
うにアルミニウムの電極パッド79が設けられ、その電
極パッド79と半導体基板上の電極2とがワイヤ5で接
続されている。半導体チップ1のワイヤボンディング時
に同時にワイヤ接続することができる。
An aluminum electrode pad 79 is provided in conductive contact with the opening of the coil conductor 77, and the electrode pad 79 and the electrode 2 on the semiconductor substrate are connected by the wire 5. Wire connection can be performed at the same time as wire bonding of the semiconductor chip 1.

【0048】製造方法としては、実施例5と同様にすれ
ばよい。この例では、半導体装置を集積回路した半導体
チップ1上に平面型コイル70を積層形成するので、図
9の従来の超小型電力変換装置と比べ、それほど工程短
縮にはならないが、少なくとも接続導体形成の工程は短
縮でき、また接続導体形成時の問題が無いという利点が
ある。
The manufacturing method may be the same as that of the fifth embodiment. In this example, since the planar coil 70 is laminated on the semiconductor chip 1 in which the semiconductor device is integrated, the process is not much shortened as compared with the conventional micro power converter of FIG. Can be shortened, and there is an advantage that there is no problem in forming the connection conductor.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、シ
リコンウェハまたは高分子ポリマーフィルム上の、絶縁
膜を介してコイル状に形成されたコイル導体を挟む一対
の磁性薄膜と、コイル導体の端子とするバンプ電極を有
する薄膜積層型の平面型磁気誘導部品とすることによっ
て、スルーホール形成が不要となるなどのため、製造工
程が短縮され、また半導体チップ等への実装が容易にな
り、しかも小型化が可能になった。
As described above, according to the present invention, a pair of magnetic thin films sandwiching a coil conductor formed in a coil shape via an insulating film on a silicon wafer or a polymer film, By forming a thin-film laminated type planar magnetic induction component having a bump electrode as a terminal, through-hole formation is not required, so that the manufacturing process is shortened, and mounting on a semiconductor chip or the like is facilitated. Moreover, miniaturization has become possible.

【0050】半導体装置を集積した半導体チップの電極
にバンプ電極を整合させ、半導体基板上に搭載すること
により、例えば、実施例で示したように、1W級のDC
−DCコンバータでは、モジュールの体積をほぼ1/4
に削減できた。
The bump electrodes are aligned with the electrodes of the semiconductor chip on which the semiconductor device is integrated, and mounted on a semiconductor substrate. For example, as shown in the embodiment, a 1 W class DC
-In the DC converter, the volume of the module is reduced to almost 1/4.
Was reduced to

【0051】特に、表面がポリイミド樹脂で覆われてい
るものとすることにより、200℃程度の低温熱圧着に
より実装できることを示した。
In particular, it has been shown that mounting can be carried out by low-temperature thermocompression bonding at about 200 ° C. by covering the surface with a polyimide resin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明第一の実施例の平面型コイルの
断面図、(b)はその平面型コイルを半導体チップ上に
実装した超小型電力変換装置の部分断面図
FIG. 1A is a cross-sectional view of a planar coil according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view of a microminiature power converter in which the planar coil is mounted on a semiconductor chip.

【図2】本発明第二の実施例の平面型コイルを、半導体
チップ上に実装した超小型電力変換装置の断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a micro power converter in which a planar coil according to a second embodiment of the present invention is mounted on a semiconductor chip.

【図3】(a)ないし(e)は図1の平面型コイルの製
造方法を説明するための工程順の断面図
3 (a) to 3 (e) are cross-sectional views in a process order for explaining a method of manufacturing the flat coil of FIG. 1;

【図4】(a)ないし(d)は図3(e)に続く図1の
平面型コイルの工程順の断面図
4A to 4D are cross-sectional views of the planar coil of FIG. 1 in the order of steps following FIG. 3E;

【図5】(a)は本発明第三の実施例の平面型コイルの
断面図、(b)はその平面型コイルを半導体チップ上に
実装した超小型電力変換装置の部分断面図
FIG. 5A is a cross-sectional view of a planar coil according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a partial cross-sectional view of a microminiature power converter in which the planar coil is mounted on a semiconductor chip.

【図6】(a)は本発明第四の実施例の平面型コイルの
断面図、(b)はその平面型コイルを半導体チップ上に
実装した超小型電力変換装置の部分断面図
FIG. 6A is a cross-sectional view of a planar coil according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a partial cross-sectional view of a microminiature power converter in which the planar coil is mounted on a semiconductor chip.

【図7】本発明第五の実施例の超小型電力変換装置の部
分断面図
FIG. 7 is a partial sectional view of a micro power converter according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】本発明第六の実施例の超小型電力変換装置の部
分断面図
FIG. 8 is a partial sectional view of a micro power converter according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】従来の超小型電力変換装置の部分断面図FIG. 9 is a partial cross-sectional view of a conventional micro power converter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 電極 3 保護膜 4 Ni/Cu/Ti膜 5 ワイヤ 6 Ni膜 10、20、30、40、50、60、70 平面型コ
イル 13a、13b、23a、23b 絶縁膜 14a、14b、24a、24b、44a、44b、5
4a、54b、64a、64b、74a、74b 磁性
薄膜 17、27、37、47、57、67、77 コイル導
体 18、28 接続導体 21、41、51、61 シリコンウェハ 22 酸化膜 25 白金核 26 中間絶縁膜 29、39 半田バンプ 29a バンプ金属 31 ポリイミドフィルム 49、59 スタッドバンプ 49a 溶融バンプ 69、79 電極パッド 71 ポリイミド絶縁膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Electrode 3 Protective film 4 Ni / Cu / Ti film 5 Wire 6 Ni film 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70 Planar coil 13a, 13b, 23a, 23b Insulating film 14a, 14b, 24a , 24b, 44a, 44b, 5
4a, 54b, 64a, 64b, 74a, 74b Magnetic thin film 17, 27, 37, 47, 57, 67, 77 Coil conductor 18, 28 Connection conductor 21, 41, 51, 61 Silicon wafer 22 Oxide film 25 Platinum nucleus 26 Intermediate Insulating film 29, 39 Solder bump 29a Bump metal 31 Polyimide film 49, 59 Stud bump 49a Fused bump 69, 79 Electrode pad 71 Polyimide insulating film

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】コイル状に形成されたコイル導体を絶縁膜
を介して一対の磁性薄膜に挟んだ構造の超小型電力変換
装置用平面型磁気誘導部品において、コイル導体の端子
とするバンプ電極を有することを特徴とする平面型磁気
誘導部品。
In a flat type magnetic induction component for a micro power converter having a structure in which a coil conductor formed in a coil shape is sandwiched between a pair of magnetic thin films via an insulating film, a bump electrode serving as a terminal of the coil conductor is provided. A planar magnetic induction component, comprising:
【請求項2】半球状のはんだバンプを有することを特徴
とする請求項1記載の平面型磁気誘導部品。
2. The planar magnetic induction component according to claim 1, further comprising a hemispherical solder bump.
【請求項3】ワイヤボールボンディングによるスタッド
バンプを有することを特徴とする請求項1記載の平面型
磁気誘導部品。
3. The flat magnetic induction component according to claim 1, further comprising a stud bump formed by wire ball bonding.
【請求項4】はんだワイヤのワイヤボールボンディング
によるスタッドバンプを有することを特徴とする請求項
3記載の平面型磁気誘導部品。
4. The planar magnetic induction component according to claim 3, further comprising a stud bump formed by wire ball bonding of the solder wire.
【請求項5】金ワイヤのワイヤボールボンディングによ
るスタッドバンプを有することを特徴とする請求項3記
載の平面型磁気誘導部品。
5. The planar magnetic induction component according to claim 3, further comprising a stud bump formed by wire ball bonding of a gold wire.
【請求項6】シリコンウェハ上にコイル導体が形成され
ていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに
記載の平面型磁気誘導部品。
6. The planar magnetic induction component according to claim 1, wherein a coil conductor is formed on a silicon wafer.
【請求項7】高分子ポリマーフィルム上にコイル導体が
形成されていることを特徴とする請求項1ないし5のい
ずれかに記載の平面型磁気誘導部品。
7. The planar magnetic induction component according to claim 1, wherein a coil conductor is formed on the polymer film.
【請求項8】バンプ電極部以外の表面がポリイミド樹脂
で覆われていることを特徴とする請求項1ないし7のい
ずれかに記載の平面型磁気誘導部品。
8. The planar magnetic induction component according to claim 1, wherein a surface other than the bump electrode portion is covered with a polyimide resin.
【請求項9】半導体装置を集積した半導体基板の電極
に、バンプ電極を整合させて請求項1ないし8のいずれ
かに記載の平面型磁気誘導部品を搭載したことを特徴と
する超小型電力変換装置。
9. An ultra-compact power converter comprising the planar magnetic induction component according to claim 1, wherein bump electrodes are aligned with electrodes of a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated. apparatus.
【請求項10】半導体装置を集積した半導体基板の電極
に、バンプ電極を整合させ、ポリイミド樹脂を半導体基
板上に熱圧着させて請求項8記載の平面型磁気誘導部品
を搭載したことを特徴とする超小型電力変換装置。
10. A planar magnetic induction component according to claim 8, wherein the bump electrode is aligned with the electrode of the semiconductor substrate on which the semiconductor device is integrated, and the polyimide resin is thermocompression-bonded to the semiconductor substrate. Micro power converter.
【請求項11】コイル状に形成されたコイル導体を絶縁
膜を介して一対の磁性薄膜に挟んだ構造の平面型磁気誘
導部品を、半導体装置を集積した半導体基板に実装した
超小型電力変換装置において、コイル導体の端子と、半
導体装置の電極とをワイヤボンディングで接続したこと
を特徴とする超小型電力変換装置。
11. A micro power converter in which a planar magnetic induction component having a structure in which a coil conductor formed in a coil shape is sandwiched between a pair of magnetic thin films via an insulating film is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated. 3. The ultra-compact power conversion device according to claim 1, wherein a terminal of the coil conductor and an electrode of the semiconductor device are connected by wire bonding.
【請求項12】平面型磁気誘導部品を形成したチップ
を、半導体装置を集積した半導体基板上に搭載したこと
を特徴とする請求項11記載の超小型電力変換装置。
12. The microminiature power converter according to claim 11, wherein the chip on which the planar magnetic induction component is formed is mounted on a semiconductor substrate on which a semiconductor device is integrated.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20030048691A (en) * 2001-12-12 2003-06-25 삼성전자주식회사 low value, low variation high frequency inductor and method for manufacturing the same
US7649746B2 (en) 2007-02-02 2010-01-19 Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. Semiconductor device with inductor

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