JPH11243078A - プラズマ終点判定方法 - Google Patents

プラズマ終点判定方法

Info

Publication number
JPH11243078A
JPH11243078A JP2630997A JP2630997A JPH11243078A JP H11243078 A JPH11243078 A JP H11243078A JP 2630997 A JP2630997 A JP 2630997A JP 2630997 A JP2630997 A JP 2630997A JP H11243078 A JPH11243078 A JP H11243078A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
signal
end point
periodically
smoothed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2630997A
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Kakehi
豊 掛樋
Yutaka Omoto
大本  豊
Keiji Ueyama
啓治 植山
Yoshinao Kawasaki
義直 川崎
Atsushi Ito
温司 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2630997A priority Critical patent/JPH11243078A/ja
Publication of JPH11243078A publication Critical patent/JPH11243078A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、プラズマの状態が周期的に変
化する場合でも、容易にプラズマ処理の終点判定が行え
るプラズマ終点判定方法を提供する。 【解決手段】プラズマの発光強度が周期的に変化するプ
ラズマ処理の終点判定方法において、外的手段によって
周期的に変化するプラズマ中の発光強度を入力し、該入
力した入力信号をロ−パスフィルタ−を介して連続的に
平滑化し、該平滑化した発光強度を用いてプラズマ処理
の終点判定を行なう。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマ処理装置に
係り、特にプラズマ発光状態が周期的に変化する場合に
好適なプラズマ処理装置のプラズマ終点判定方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来のプラズマ処理、例えば、エッチン
グの終点判定方法は、特開昭59−94423号に記載
のように、エッチング過程で生成される反応生成物の発
光強度を時間的に2次微分し、予め設定した2次微分値
に対してのしきい値(設定値)を超えたことを検出して
終点判定を行なうものがあった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、エッ
チング過程においてプラズマの状態が一定の状態に安定
していることが前提となっている。
【0004】一方、最近のエッチング加工方法の技術進
歩には、めざましいものがあり、例えば、磁場を利用し
て強いプラズマを発生させてエッチングを高速に行うマ
グネトロンエッチング法などが脚光を浴びている。この
種のエッチング方法では、エッチング速度の均一性を向
上させるため、磁場発生用のマグネットを回転する手段
がとられており、この場合、強いプラズマを生成してい
る領域が、マグネットの回転に応じて、周期的に変化す
る。この時、第2図(a)に示すように発光強度も周期
的に変化し、従来技術に基づく終点判定方法では、プラ
ズマの発光状態がこのように変化する場合について配慮
されていないため、終点判定がしづらく加工精度が悪く
なるという問題があった。
【0005】本発明の目的は、プラズマの状態が周期的
に変化する場合でも、容易にプラズマ処理の終点判定が
行えるプラズマ処理装置のプラズマ終点判定方法を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的は、外的手段に
よって周期的に変化するプラズマ中の発光強度の入力
し、該入力した信号をロ−パスフィルタ−を介して連続
的に平滑化する平滑化回路を有することにより、達成さ
れる。
【0007】プラズマ処理検出回路にロ−パスフィルタ
−を設けることにより、周期的に変化するプラズマ中の
発光強度の入力信号の周期的な変化が滑らかになるの
で、容易にプラズマ処理の終点判定を行なうことができ
る。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を第1図
および第2図により説明する。
【0009】第1図において、処理室1は排気孔2から
図示しない排気装置によって真空排気され、処理室1内
には対向する下部電極3および上部電極4が配置され、
下部電極3には高周波電源5によって高周波電力が印加
できるようになっている。上部電極4の裏面側には回転
可能なマグネット6が具備され、処理室1の外部に設置
された回転駆動装置7によって偏心回転可能になってい
る。
【0010】また、処理室1の側面にプラズマ光の採光
窓9を設け、分光器10を介して、反応生成物の発光波
長を選択して通過させ、光電倍増管11および増幅器1
2によって発光強度を電気信号に変換増幅し、ローパス
フィルタ13を介してオフセット用の加算器14および
ゲインアンプに通し、さらにA/D変換器16を介して
判定手段であるマイクロコンピュータ17に介する。
【0011】マイクロコンピュータ17は、D/A変換
器18を介して加算器14によるオフセット値を調整可
能で、ゲインアンプ15のゲインを調整可能になってお
り、さらに高周波電源5の電源の「入」,「切」が可能
となっている。マイクロコンピュータ17には予め設定
した設定値に基づいてエッチングの終点判定を行なうア
ルゴリズムが記憶されており、ローパスフィルタ13か
らのデータを基にして、例えば、発光強度の2次微分値
を計算し、計算した値と設定値とを比較して終点判定を
行なうようになっており、終点を判定すると、高周波電
源5による高周波電圧の印加を停止させるようになって
いる。
【0012】上記のように構成したプラズマ処理装置に
より、下部電極3上にプラズマ処理、例えば、エッチン
グすべきウェハ8を載置し、図示しない装置により処理
ガスを処理室1に導入して高周波電力を印加する。この
時、高周波電源5による電場とマグネット6による磁場
の相互作用により、発光強度の強いプラズマを発生させ
ることができる。このとき、プラズマは、磁場の影響を
受けて部分的に高密度な状態になるため、マグネット6
を回転させてエッチング処理の均一化を図っている。
【0013】このため、処理室1内にはマグネット6の
回転に合わせて周期的にプラズマの強い時と弱い時が現
われ、このとき光電倍増管11を介して増幅器12で増
幅された信号は、第2図の(a)のように周期Tで小さ
く変化しながら大きな変化をして行く。
【0014】このように周期的に変動しながら変化する
信号をローパスフィルタ13に通すことにより、周期的
に変動する波を第2図(b)の実線のように平滑化する
ことができ、この平滑化された信号を終点判定しやすい
ように加算器14によってオフセットするとともに、ゲ
インアンプによってオフセットした信号を増幅して、A
/D変換器16を介してマイクロコンピュータ17に入
力することにより、プラズマの発光強度に周期的変動が
ないものと同様な終点判定アルゴリズムを用いて終点判
定を行なうことができる。
【0015】なお、このとき、マイクロコンピュータ1
7に入ってくる入力信号は、ローパスフィルタ13を介
すことによって時間的に若干の遅れが生じ、第2図
(b)の実線のようになる。ここで、波線で示す波形は
時間遅れがない場合の理想波形である。しかし、この遅
れは磁石の回転数を適度に高めることによって減少させ
られる。
【0016】以上、本一実施例によれば、発光分光法を
用いてエッチングの終点を判定する場合において、プラ
ズマの発光強度が、周期的に変動する場合でも、入力信
号をローパスフィルタ13に通すことによって周期的な
変動部分を平滑化できるので、容易に終点判定を行なう
ことができるという効果がある。
【0017】また、ローパスフィルタ13を用いて平滑
化する場合は、装置への付加も簡単でソフトの変更も必
要ないので簡単に実施できるという効果がある。
【0018】次に、本発明の第2の実施例を第3図およ
び第4図により説明する。
【0019】第3図において第1図と同符号は同一部材
を示す。本図が第1図と異なる点は、第1図の平滑手段
であるローパスフィルタ13に代わって位相波形合成器
19を設けている点である。
【0020】位相波形合成器19は、増幅器12を通っ
て来た第2図(a)に示すような周期変動を有する信号
を入力して、該信号を基にして時間的に遅れた信号、す
なわち位相をずらした信号を作り出し、位相のずれてい
ない信号と位相のずれた信号とを加算して平均化し、出
力するようになっている。この場合、位相波形合成器1
9は第4図の(a),(b),(c)に示すように、1
周期を3等分、すなわち、2π/3位相をずらした三つ
の信号を作り出し、この三つの信号を加算して平均化す
る。
【0021】また、この場合、位相波形合成器19での
周期の設定は、回転駆動装置7の回転を制御する回転制
御器20から信号を受けて周期の設定を行なう。
【0022】なお、回転駆動装置7の回転が一定な場合
には、位相波形合成器19に直接に周期を設定すれば良
く、この場合には、回転制御器20は不要である。
【0023】位相波形合成器19を除く他の部分の作用
は前記一実施例と同様であり、説明を省略する。
【0024】以上、本第2の実施例によれば、前記一実
施例と同様に、プラズマの発光強度が周期的に変動する
場合でも、位相の異なる信号を作り出して加算し平均化
させることにより、周期的に変動する信号を平滑化でき
るので、容易に終点判定を行なうことができるという効
果がある。
【0025】なお、本実施例では位相をずらした信号を
加算するようにしているので、出力される信号に時間遅
れが生じるが、回転駆動装置7の回転数を適度に高める
ことにより、遅れは減少させられる。
【0026】また、本実施例では位相のずれた信号を1
周期を3等分して作り出しているが、等分する数はこれ
に限られるものではない。
【0027】次に、本発明の第3の実施例を第5図によ
り説明する。
【0028】第5図において第1図と同符号は同一部材
を示す。本図が第1図と異なる点は、第1図の平滑手段
であるローパスフィルタ13に代わって、分光器10,
光電倍増管11および増幅器12をそれぞれ複数個、こ
の場合は、2個ずつ設け、それぞれの信号を入力するよ
うにした波形合不器21を設けている点である。
【0029】分光器10は、この場合、円周を等分割す
るように180°の位置に設けてあるが、円周を等分割
するように2個以上設けても良い。
【0030】波形合成器21は、それぞれの増幅器12
を通って来た第2図(a)に示すような周期変動を有す
る信号を入力して、該信号を加算し平均化して出力する
ようになっている。この場合、波形合成器21に入力さ
れる信号は、一方で強く、他方で弱く変動した信号で、
時間的に同時刻の検出信号が入力される。
【0031】波形合成器21を除く他の部分の作用は前
記一実施例と同様であり、説明を省略する。
【0032】以上、本第3の実施例によれば、前記一実
施例と同様に、プラズマの発光強度が周期的に変動する
場合でも、処理室1内で発生するプラズマの発光を複数
箇所で採光し信号に換えて、該信号を加算して平均化さ
せることにより、周期的に変動する信号を平滑化できる
ので、容易に終点判定を行なうことができるという効果
がある。
【0033】また、波形合成器21に入力する信号は同
時刻の信号が入力されるので、平滑化した信号には前記
第1および第2の実施例のような時間遅れは発生せず、
より正確な終点判定が行なえるという効果がある。
【0034】次に、本発明の第4の実施例を第6図によ
り説明する。
【0035】第6図において第1図と同符号は同一部材
を示す。本図が第1図と異なる点は、第1図の平滑手段
であるローパスフィルタ13に代わって信号取込み制御
器22を設けている点である。
【0036】信号取込み制御器22は、増幅器12を通
って来た第2図(a)に示すような周期変動を有する信
号を、該信号の周期に合わせ断続的に、例えば、第2図
(a)に示す波形の頂部の信号値をサンプリングするよ
うにしてある。この場合、回転駆動装置7は一定回転で
駆動するもので、回転駆動装置7の回転周期と同周期の
設定値を取込み周期設定器23に設定し、信号取込み制
御器22に信号のサンプリングのタイミングを指示する
ようにしてある。
【0037】このように、回転駆動装置7の回転周期と
同期して取り込んだ信号は、周期変動のない信号から断
続的に入力したものと同一とみなすことができるので、
増幅器12を通って来た周期変動を有する信号を平滑化
することができる。
【0038】信号取込み制御器22を除く他の部分の作
用は前記一実施例と同様であり、説明を省略する。
【0039】以上、本第4の実施例によれば、前記一実
施例と同様に、プラズマの発光強度が周期的に変動する
場合でも、周期変動する信号の周期に合わせて信号をサ
ンプリングするようにしているのでプラズマ発光状態の
同条件の時の信号を入力していることになり、周期的に
変動する信号を平滑化でき、容易に終点判定を行なうこ
とができるという効果がある。
【0040】また、信号取込み制御器22から出力され
る信号は、信号取込み制御器22でサンプリングした信
号がそのまま出力され、時間遅れが少ないので、前記一
実施例に比べさらに正確な終点判定が行なえるという効
果がある。
【0041】これら本実施例では、偏心回転するマグネ
ット6を有する装置の場合のプラズマ発光状態について
記載したが、外的手段としては、例えば、マグネット6
を自公転させたものや、複数の電磁石を設けて該電磁石
に供給する電力を制御して回転磁場を与えるようにした
ものであっても、本実施例の効果は同様にある。
【0042】また、前記したそれぞれの実施例を組み合
わせても同様な効果を得ることができる。
【0043】
【発明の効果】本発明によれば、プラズマ状態が周期的
に変化する場合でも、容易のプラズマ処理の終点判定を
行なうことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるプラズマ処理装置を示
す構成図である。
【図2】図1の装置により発生するプラズマの発光強度
を示す線図である。
【図3】本発明の第2の実施例であるプラズマ処理装置
を示す構成図である。
【図4】第3図の装置により信号の位相をずらしたとき
の波形の概念を示す図である。
【図5】本発明の第3の実施例であるプラズマ処理装置
を示す構成図である。
【図6】本発明の第4の実施例であるプラズマ処理装置
を示す構成図である。
【符号の説明】
1…処理室、10…分光器、11…光電倍増管、13…
ローパスフィルタ、17…マイクロコンピュータ、19
…位相波形合成器、21…波形合成器、22…信号取込
み制御器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川崎 義直 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 伊藤 温司 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラズマの発光強度が周期的に変化するプ
    ラズマ処理の終点判定方法において、外的手段によって
    周期的に変化するプラズマ中の発光強度を入力し、該入
    力した入力信号をロ−パスフィルタ−を介して連続的に
    平滑化し、該平滑化した発光強度を用いてプラズマ処理
    の終点判定を行なうことを特徴とするプラズマ終点判定
    方法。
JP2630997A 1997-02-10 1997-02-10 プラズマ終点判定方法 Pending JPH11243078A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2630997A JPH11243078A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 プラズマ終点判定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2630997A JPH11243078A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 プラズマ終点判定方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5148688A Division JPH01226154A (ja) 1988-03-07 1988-03-07 プラズマ処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11243078A true JPH11243078A (ja) 1999-09-07

Family

ID=12189782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2630997A Pending JPH11243078A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 プラズマ終点判定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11243078A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008102104A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Toyota Central R&D Labs Inc 表面前処理方法及び表面前処理装置
EP3012855A1 (en) * 2014-10-20 2016-04-27 LAM Research Corporation System and method for detecting a process point in multi-mode pulse processes
JP2016152313A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 株式会社東芝 半導体製造装置および半導体装置の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008102104A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Toyota Central R&D Labs Inc 表面前処理方法及び表面前処理装置
EP3012855A1 (en) * 2014-10-20 2016-04-27 LAM Research Corporation System and method for detecting a process point in multi-mode pulse processes
US9640371B2 (en) 2014-10-20 2017-05-02 Lam Research Corporation System and method for detecting a process point in multi-mode pulse processes
JP2016152313A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 株式会社東芝 半導体製造装置および半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3565774B2 (ja) プラズマ処理装置及び処理方法
KR100389203B1 (ko) 플라즈마처리의종점검출방법과장치,반도체장치의제조방법과장치및반도체장치
JPH11176815A (ja) ドライエッチングの終点判定方法およびドライエッチング装置
KR20150051879A (ko) 플라즈마 처리 장치
JPWO2012017548A1 (ja) 四重極型質量分析装置
US10755897B2 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
TW202034375A (zh) 電漿處理裝置、電漿處理方法及電子迴旋共振(ecr)高度監視器
JPH11243078A (ja) プラズマ終点判定方法
JP2017028000A (ja) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
JP4127435B2 (ja) 原子状ラジカル測定方法及び装置
JP2619403B2 (ja) プラズマ処理装置およびプラズマ処理終点判定方法
JPH0294242A (ja) 四重極質量分析装置
JPH01226154A (ja) プラズマ処理装置
US5236556A (en) Plasma apparatus
JP7454971B2 (ja) 検出方法及びプラズマ処理装置
JPH0691037B2 (ja) ドライエツチング方法及び装置
JP4042208B2 (ja) プラズマ処理方法及びその装置
JP3660636B2 (ja) プラズマ生成装置用高周波電源装置
JP3029495B2 (ja) ドライエッチング装置
JP2002124398A (ja) プラズマ処理方法及び装置
US20240133742A1 (en) Time-Resolved OES Data Collection
JP3288350B2 (ja) 半導体製造装置及び半導体製造方法
JP2619403C (ja)
JP2611001B2 (ja) 終点判定方法および装置
KR20000027767A (ko) 플라즈마 장치