JPH11241036A - 疎水化された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物及びこのような酸化物の表面処理の方法 - Google Patents
疎水化された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物及びこのような酸化物の表面処理の方法Info
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- JPH11241036A JPH11241036A JP10365745A JP36574598A JPH11241036A JP H11241036 A JPH11241036 A JP H11241036A JP 10365745 A JP10365745 A JP 10365745A JP 36574598 A JP36574598 A JP 36574598A JP H11241036 A JPH11241036 A JP H11241036A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来技術における欠点がない金属及び／又は
メタロイドの高分散された酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物の表面処理の方法を開発すること。 【解決手段】 ジメチルシリル基とモノメチルシリル基
の比100:0〜50:50を有する疎水化された、熱分解により
得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混
合物又は混合酸化物。 【効果】 本発明による疎水化された酸化物は、最大10
0ｐｐｍの残留塩化物の著しく僅かな含量を有する。
メタロイドの高分散された酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物の表面処理の方法を開発すること。 【解決手段】 ジメチルシリル基とモノメチルシリル基
の比100:0〜50:50を有する疎水化された、熱分解により
得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混
合物又は混合酸化物。 【効果】 本発明による疎水化された酸化物は、最大10
0ｐｐｍの残留塩化物の著しく僅かな含量を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、疎水化された、熱
分解により得られた酸化物、その製造方法ならびにその
使用に関する。
分解により得られた酸化物、その製造方法ならびにその
使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱分解により得られた金属及び／又はメ
タロイドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物を疎水
化剤、例えばジメチルジクロロシランと一緒に処理する
ことは、公知である（ドイツ国特許出願公告第1163784
号明細書）。
タロイドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物を疎水
化剤、例えばジメチルジクロロシランと一緒に処理する
ことは、公知である（ドイツ国特許出願公告第1163784
号明細書）。
【０００３】さらに微粒状酸化物をオクタメチルシクロ
テトラシロキサンを有する層の中で処理することは、公
知である（英国特許第887257号明細書）。
テトラシロキサンを有する層の中で処理することは、公
知である（英国特許第887257号明細書）。
【０００４】さらにオクタメチルシクロテトラシロキサ
ンで微粒状の酸化物をワンポット方法で疎水化すること
は、公知である（英国特許第932753号明細書、米国特許
第２803617号明細書）。
ンで微粒状の酸化物をワンポット方法で疎水化すること
は、公知である（英国特許第932753号明細書、米国特許
第２803617号明細書）。
【０００５】公知方法は、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサンが完全に酸化物の表面に結合されないという欠
点を有する。
ロキサンが完全に酸化物の表面に結合されないという欠
点を有する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、上記欠点がない金属及び／又はメタロイドの高分散
された酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物の表面処理
（疎水化）のための方法を開発することである。
は、上記欠点がない金属及び／又はメタロイドの高分散
された酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物の表面処理
（疎水化）のための方法を開発することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、疎水化
された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイ
ドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物において、前
記酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物がジメチルシリ
ル基とモノメチルシリル基の比100:0〜50:50、有利に10
0:0〜70:30を有することを特徴とするものである。
された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイ
ドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物において、前
記酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物がジメチルシリ
ル基とモノメチルシリル基の比100:0〜50:50、有利に10
0:0〜70:30を有することを特徴とするものである。
【０００８】ジメチルシリル基とモノメチルシリル基の
比は、Ｓｉ-２９-固体ＮＭＲ分光分析法(Si-29-solid b
ody NMR spectroscopy)によって決定される。
比は、Ｓｉ-２９-固体ＮＭＲ分光分析法(Si-29-solid b
ody NMR spectroscopy)によって決定される。
【０００９】ジメチルシリル基とモノメチルシリル基の
比の調整にとって疎水化工程の間の温度調節は、重要で
ある。
比の調整にとって疎水化工程の間の温度調節は、重要で
ある。
【００１０】親水性の、表面積200m2／ｇを有する熱分
解により得られたケイ酸が温度350℃〜450℃で処理され
る場合には、ジメチルシリル基100％含有の生成物は、
ケイ酸表面で得られる。この場合には、アラルダイト(A
raldite)で測定された、得られた疎水性のケイ酸の増粘
作用は、2500〜3000ｍｐａｓである。温度が550℃から6
00℃に上昇する場合には、モノメチルシリル含量は、約
30％に増加する。従ってジメチルシリル基とモノメチル
シリル基の比は、70:30である。得られた疎水性のケイ
酸の増粘は、400〜1000ｍｐａｓである。化学結合され
た炭素の量は、平均の1.2％から1.6〜1.9％へと増加す
る。メタノール湿潤性は、5〜8％上昇し、平均45％（最
大51％）の値が達成される。
解により得られたケイ酸が温度350℃〜450℃で処理され
る場合には、ジメチルシリル基100％含有の生成物は、
ケイ酸表面で得られる。この場合には、アラルダイト(A
raldite)で測定された、得られた疎水性のケイ酸の増粘
作用は、2500〜3000ｍｐａｓである。温度が550℃から6
00℃に上昇する場合には、モノメチルシリル含量は、約
30％に増加する。従ってジメチルシリル基とモノメチル
シリル基の比は、70:30である。得られた疎水性のケイ
酸の増粘は、400〜1000ｍｐａｓである。化学結合され
た炭素の量は、平均の1.2％から1.6〜1.9％へと増加す
る。メタノール湿潤性は、5〜8％上昇し、平均45％（最
大51％）の値が達成される。
【００１１】定義されたジメチルシリルとモノメチルシ
リル比及び従ってレオロジー（増粘挙動）及び僅かな塩
化物含量を有する疎水性のケイ酸を製造することができ
るという可能性によって、腐食性の副生成物（例えば塩
酸又はアンモニア）のできるだけ僅かな残留含量しか有
していてはならない生成物への使用の場合に利点を有す
る。
リル比及び従ってレオロジー（増粘挙動）及び僅かな塩
化物含量を有する疎水性のケイ酸を製造することができ
るという可能性によって、腐食性の副生成物（例えば塩
酸又はアンモニア）のできるだけ僅かな残留含量しか有
していてはならない生成物への使用の場合に利点を有す
る。
【００１２】この種の適用可能性は、ジメチルシリル基
とモノメチルシリル基の比100:0を有する本発明による
疎水性ケイ酸については、即ち低いメタノール湿潤性な
らびに低い塩化物含量を有するジメチルシリル分100％
の場合には、例えば、高い透明度が必要とされる場合、
例えばガラスファサードの提供の場合又は衛生領域の場
合には特に、建設工業のための特に固定したシーラント
である。
とモノメチルシリル基の比100:0を有する本発明による
疎水性ケイ酸については、即ち低いメタノール湿潤性な
らびに低い塩化物含量を有するジメチルシリル分100％
の場合には、例えば、高い透明度が必要とされる場合、
例えばガラスファサードの提供の場合又は衛生領域の場
合には特に、建設工業のための特に固定したシーラント
である。
【００１３】ジメチルシリル基とモノメチルシリル基の
比70:30を有する本発明による疎水性ケイ酸について
は、即ち低い増粘、高いメタノール湿潤性ならびに低い
塩化物含量を有するジメチルシリル分70％の場合には、
適用可能性は、建築構成材と目地仕上げの接合／ブリッ
ジングのための自己均展性シーラント、最適な寸法精度
及び細部の精度を保証する低い粘度ないしはチキソトロ
ピーを有するシリコーン材料（例えば成形材料、歯科用
注型材料）、これまで通常、圧縮成形方法によって製造
されたが、しかし今回本発明によるケイ酸の使用により
低い粘度を有しており、かつ従って本質的により高速の
射出成形方法によって製造される高い透明度のポリメタ
クリレート材料、例えばＥＰＤＭを基礎とする高い透明
度の靴底、著しく僅かな塩化物含量が電子部材の長い寿
命（防腐）にとって重要である、シリコーンゴムを基礎
とする電子回路の封止の場合に生じる。
比70:30を有する本発明による疎水性ケイ酸について
は、即ち低い増粘、高いメタノール湿潤性ならびに低い
塩化物含量を有するジメチルシリル分70％の場合には、
適用可能性は、建築構成材と目地仕上げの接合／ブリッ
ジングのための自己均展性シーラント、最適な寸法精度
及び細部の精度を保証する低い粘度ないしはチキソトロ
ピーを有するシリコーン材料（例えば成形材料、歯科用
注型材料）、これまで通常、圧縮成形方法によって製造
されたが、しかし今回本発明によるケイ酸の使用により
低い粘度を有しており、かつ従って本質的により高速の
射出成形方法によって製造される高い透明度のポリメタ
クリレート材料、例えばＥＰＤＭを基礎とする高い透明
度の靴底、著しく僅かな塩化物含量が電子部材の長い寿
命（防腐）にとって重要である、シリコーンゴムを基礎
とする電子回路の封止の場合に生じる。
【００１４】本発明の更なる対象は、加水分解及び／又
は酸化作用を有するガス又は蒸気の存在下での蒸気状態
での金属ないしはメタロイドの揮発性化合物の熱分解に
より得られた前記金属及び／又はメタロイドの高分散し
た酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物の表面処理の方
法であって、表面に存在するその遊離ＯＨ基又は遊離さ
れたＯＨ基を、ヒドロキシル基との反応に適当である疎
水化剤と流動床中で、前記酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物がジメチルシリル基とモノメチルシリルキ基の
比100:0〜50:50、有利に100:0〜70:30を有するまで反応
させ、この際、なお酸性の酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物をこれらの製造に直接引き続いて、予め気化さ
れた疎水化剤とできるだけ均質に混合し、かつ酸素の排
除下で少量の水蒸気及び場合により不活性ガスとともに
連続運転で温度約200〜約800℃、有利に約400〜約600℃
で流動床中で処理し、固体の反応生成物を、場合により
脱酸し、かつ乾燥し、この際、有利に約200℃への冷却
の前に酸素との接触を回避する方法において、疎水化剤
としてハロゲン不含の鎖状シロキサン、単環式メチル−
ジメチル−シクロシロキサン混合物D3〜D9、有利にオク
タメチルシクロテトラシロキサン（D4）を使用すること
を特徴とする方法に関する。
は酸化作用を有するガス又は蒸気の存在下での蒸気状態
での金属ないしはメタロイドの揮発性化合物の熱分解に
より得られた前記金属及び／又はメタロイドの高分散し
た酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物の表面処理の方
法であって、表面に存在するその遊離ＯＨ基又は遊離さ
れたＯＨ基を、ヒドロキシル基との反応に適当である疎
水化剤と流動床中で、前記酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物がジメチルシリル基とモノメチルシリルキ基の
比100:0〜50:50、有利に100:0〜70:30を有するまで反応
させ、この際、なお酸性の酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物をこれらの製造に直接引き続いて、予め気化さ
れた疎水化剤とできるだけ均質に混合し、かつ酸素の排
除下で少量の水蒸気及び場合により不活性ガスとともに
連続運転で温度約200〜約800℃、有利に約400〜約600℃
で流動床中で処理し、固体の反応生成物を、場合により
脱酸し、かつ乾燥し、この際、有利に約200℃への冷却
の前に酸素との接触を回避する方法において、疎水化剤
としてハロゲン不含の鎖状シロキサン、単環式メチル−
ジメチル−シクロシロキサン混合物D3〜D9、有利にオク
タメチルシクロテトラシロキサン（D4）を使用すること
を特徴とする方法に関する。
【００１５】ポリジメチルシクロシロキサンD3〜D9は、
一般的な実験式[(CH3)2Sio]n〔式中、ｎは３〜９を表
す〕で示される公知の化合物である。この命名法は、Ul
lmannsEncyklopaedie der technischen Chemie (1982),
vol. 21, p. 515ならびにW.Noll, Chemie und Technol
ogie der Silicone (1968), Verlag Chemie, p. 237に
記載されている。
一般的な実験式[(CH3)2Sio]n〔式中、ｎは３〜９を表
す〕で示される公知の化合物である。この命名法は、Ul
lmannsEncyklopaedie der technischen Chemie (1982),
vol. 21, p. 515ならびにW.Noll, Chemie und Technol
ogie der Silicone (1968), Verlag Chemie, p. 237に
記載されている。
【００１６】特に火炎加水分解又は高温加水分解によ
る、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイドの
酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物及びその製造は、
公知である（ Ullmanns Encyklopaedie der technische
n Chemie, 第4版, vol. 21, p.464以降）。
る、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイドの
酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物及びその製造は、
公知である（ Ullmanns Encyklopaedie der technische
n Chemie, 第4版, vol. 21, p.464以降）。
【００１７】同様に、長い間市販されているエーロシル
(Aerosil)の種類即ちエーロシル200(Aerosil 200)及び
エーロシル300(Aerosil 300)は、上記文献から公知であ
る。さらにエーロシル200及びエーロシル300は、"Aeros
il-Herstellung, Eigenschaften und Anwendung", デグ
ッサ社(Degussa)出版物, 1976年6月版から公知である。
(Aerosil)の種類即ちエーロシル200(Aerosil 200)及び
エーロシル300(Aerosil 300)は、上記文献から公知であ
る。さらにエーロシル200及びエーロシル300は、"Aeros
il-Herstellung, Eigenschaften und Anwendung", デグ
ッサ社(Degussa)出版物, 1976年6月版から公知である。
【００１８】有利に親水性の出発物質としてBET表面20
〜400m2／ｇ、有利に50〜380m2／ｇを有する熱分解によ
り得られた酸化物は、使用することができる。
〜400m2／ｇ、有利に50〜380m2／ｇを有する熱分解によ
り得られた酸化物は、使用することができる。
【００１９】本発明の実施態様の場合にはオクタメチル
シクロテトラシロキサン（D4）と混合された酸化物は、
分散媒とともに流動床に供給することができ、かつその
上部から、有利に自体公知の沈降領域の通過の後に、連
続的に除去することができる。
シクロテトラシロキサン（D4）と混合された酸化物は、
分散媒とともに流動床に供給することができ、かつその
上部から、有利に自体公知の沈降領域の通過の後に、連
続的に除去することができる。
【００２０】さらに処理は、自体公知の内部加熱される
流動床で実施することができる。
流動床で実施することができる。
【００２１】必要な熱は、自体公知の方法で部分的に水
蒸気及び／又は高温の不活性ガスの形で供給することが
できる。
蒸気及び／又は高温の不活性ガスの形で供給することが
できる。
【００２２】水蒸気及び／又は不活性ガスは、自体公知
の方法で、同時に反応成分の空気輸送に使用することが
できる。
の方法で、同時に反応成分の空気輸送に使用することが
できる。
【００２３】本発明による方法の場合には、疎水化され
る熱分解により得られた酸化物上のジメチルシリル基と
モノメチルシリル基の比は、疎水化の間に温度調節によ
って制御することができる。
る熱分解により得られた酸化物上のジメチルシリル基と
モノメチルシリル基の比は、疎水化の間に温度調節によ
って制御することができる。
【００２４】本発明の有利な実施態様の場合には温度
は、500〜600℃の範囲内で変動することができ、その
際、滞留時間は0.5±0.2時間に維持することができる。
は、500〜600℃の範囲内で変動することができ、その
際、滞留時間は0.5±0.2時間に維持することができる。
【００２５】有利に使用される疎水化剤オクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）の供給は、蒸気の形で行う
ことができる。
クロテトラシロキサン（D4）の供給は、蒸気の形で行う
ことができる。
【００２６】場合によりなお付着している塩酸ならびに
過剰量の疎水化剤は、後接続された、せき止められた向
流流動床中で温度250〜350℃で滞留時間0.5±0.2時間で
除去することができる。この場合にはせき止め及び従っ
て脱酸流動床の充填度は、生成物放出弁を絞めることに
よって達成される。静水圧によって調整されている流動
床ドームと流動床底部の間の差圧は、流動床排出口にお
いて生成物放出弁の後調整によって水柱20〜40ｍｍで維
持することができる。
過剰量の疎水化剤は、後接続された、せき止められた向
流流動床中で温度250〜350℃で滞留時間0.5±0.2時間で
除去することができる。この場合にはせき止め及び従っ
て脱酸流動床の充填度は、生成物放出弁を絞めることに
よって達成される。静水圧によって調整されている流動
床ドームと流動床底部の間の差圧は、流動床排出口にお
いて生成物放出弁の後調整によって水柱20〜40ｍｍで維
持することができる。
【００２７】本発明による方法は、向流−もしくは有利
に並流方法で実施することができる。この場合には、ケ
イ酸と疎水化剤からなる流動している懸濁液が絶えず上
の方へ移行しかつ空間の上部から、有利に沈降領域の通
過の後に、連続的に抜き取ることができるように寸法決
定することができる。
に並流方法で実施することができる。この場合には、ケ
イ酸と疎水化剤からなる流動している懸濁液が絶えず上
の方へ移行しかつ空間の上部から、有利に沈降領域の通
過の後に、連続的に抜き取ることができるように寸法決
定することができる。
【００２８】有利に、疎水化流動床中の温度の変化によ
って、得られる生成物のジメチルシリル／モノメチルシ
リル比ひいては増粘挙動は、意図的に調整することがで
きる。
って、得られる生成物のジメチルシリル／モノメチルシ
リル比ひいては増粘挙動は、意図的に調整することがで
きる。
【００２９】流動床の上部で、ケイ酸表面に化学結合し
なかった過剰量の疎水化剤は、取り出すことができる。
なかった過剰量の疎水化剤は、取り出すことができる。
【００３０】本発明による方法の場合には疎水化及び脱
酸は、共用される装置で実施することもできる。この場
合にはこのような装置は、有利に、疎水化が並流（内部
ジャケット）で実施することができかつ脱酸が向流（外
部ジャケット）で実施することができるように構成され
ていることができる。
酸は、共用される装置で実施することもできる。この場
合にはこのような装置は、有利に、疎水化が並流（内部
ジャケット）で実施することができかつ脱酸が向流（外
部ジャケット）で実施することができるように構成され
ていることができる。
【００３１】本発明による方法は、有利に、熱分解によ
り得られた酸化物の製造方法に直接引き続いて実施する
ことができる。本発明による連続的方法の場合には、疎
水化が脱酸されていない、熱分解により得られたケイ酸
で実施される場合には、ヒドロシリル化反応に触媒とし
て常用される酸又は塩基の添加は、不要とすることがで
きる。
り得られた酸化物の製造方法に直接引き続いて実施する
ことができる。本発明による連続的方法の場合には、疎
水化が脱酸されていない、熱分解により得られたケイ酸
で実施される場合には、ヒドロシリル化反応に触媒とし
て常用される酸又は塩基の添加は、不要とすることがで
きる。
【００３２】上記方法は、ドイツ国特許出願公告第1163
784号明細書による方法に対して、ヒドロシリル化反応
に触媒作用で必要な酸（例えばHCl）／塩基から酸性の
副生成物、例えばHCl、が生じない利点を有している。
784号明細書による方法に対して、ヒドロシリル化反応
に触媒作用で必要な酸（例えばHCl）／塩基から酸性の
副生成物、例えばHCl、が生じない利点を有している。
【００３３】ケイ酸製造と直接引き続くシリル化反応
（疎水化）との処理段階の結合によって、酸性の副生成
物の著しく低い含量を有する生成物を得ることができ
る。
（疎水化）との処理段階の結合によって、酸性の副生成
物の著しく低い含量を有する生成物を得ることができ
る。
【００３４】酸性の副生成物、例えばHCl、が生じない
ので、ルシャトリエの法則に従って、遊離シラノール基
とハロゲン不含のシロキサンの反応の場合の阻止が行わ
れる。このことによってより速い、最適化された反応速
度は、ドイツ国特許出願公告第1163764号明細書による
公知方法に比して熱分解により得られた大きな表面積の
ケイ酸の疎水化も可能にする。
ので、ルシャトリエの法則に従って、遊離シラノール基
とハロゲン不含のシロキサンの反応の場合の阻止が行わ
れる。このことによってより速い、最適化された反応速
度は、ドイツ国特許出願公告第1163764号明細書による
公知方法に比して熱分解により得られた大きな表面積の
ケイ酸の疎水化も可能にする。
【００３５】本発明による疎水化された酸化物は、最大
100ｐｐｍの残留塩化物の著しく僅かな含量を有すると
いう利点を有している。
100ｐｐｍの残留塩化物の著しく僅かな含量を有すると
いう利点を有している。
【００３６】
【実施例】例 １ 疎水性のケイ酸１（熱分解により得られたケイ酸エーロ
シル200を基礎とした）の製造及び疎水性であるケイ酸
２（熱分解により得られたケイ酸エーロシル300を基礎
とした）の製造をドイツ国特許出願公告第号1163784明
細書に従って完全に連続的に行う。
シル200を基礎とした）の製造及び疎水性であるケイ酸
２（熱分解により得られたケイ酸エーロシル300を基礎
とした）の製造をドイツ国特許出願公告第号1163784明
細書に従って完全に連続的に行う。
【００３７】熱分解法により得られたケイ酸エーロシル
200ないしはエーロシル300を同じ装置で、予め脱酸され
ることもなく、中間の貯蔵もなく、噴射器中のオクタメ
チルシクロテトラシロキサン（D4）蒸気と強く混合し、
かつ窒素とともに不活性化された並流流動床に供給し
た。
200ないしはエーロシル300を同じ装置で、予め脱酸され
ることもなく、中間の貯蔵もなく、噴射器中のオクタメ
チルシクロテトラシロキサン（D4）蒸気と強く混合し、
かつ窒素とともに不活性化された並流流動床に供給し
た。
【００３８】流動床中の温度500〜600℃及び滞留時間0.
5時間での水蒸気を用いた処理によってオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）をエーロシル表面に化学結
合する。流動床中の温度の変化によって表面基のジメチ
ルシリル基とモノメチルシリル基の比を制御することが
できる。なお付着している塩酸ならびに過剰量のオクタ
メチルシクロテトラシロキサンを、後接続された、せき
止められた向流流動床中で温度250〜350℃で（滞留時間
0．5時間）除去する。せき止め及び従って脱酸流動床の
充填度を生成物放出弁を絞めることによって達成する。
静水圧によって調整されている流動床ドームと流動床底
部の間の、熱分解により得られたケイ酸の差圧は、流動
床排出口において生成物放出弁の自動的な後調整によっ
て水柱20〜40ｍｍで維持する。ジメチルシリル基とモノ
メチルシリル基の比は、2つのケイ酸の場合に70対30で
ある。
5時間での水蒸気を用いた処理によってオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）をエーロシル表面に化学結
合する。流動床中の温度の変化によって表面基のジメチ
ルシリル基とモノメチルシリル基の比を制御することが
できる。なお付着している塩酸ならびに過剰量のオクタ
メチルシクロテトラシロキサンを、後接続された、せき
止められた向流流動床中で温度250〜350℃で（滞留時間
0．5時間）除去する。せき止め及び従って脱酸流動床の
充填度を生成物放出弁を絞めることによって達成する。
静水圧によって調整されている流動床ドームと流動床底
部の間の、熱分解により得られたケイ酸の差圧は、流動
床排出口において生成物放出弁の自動的な後調整によっ
て水柱20〜40ｍｍで維持する。ジメチルシリル基とモノ
メチルシリル基の比は、2つのケイ酸の場合に70対30で
ある。
【００３９】例 ２ 例１による方法を実施するが、しかしながら、疎水化流
動床と脱酸流動床の間にサージビンが存在している。
動床と脱酸流動床の間にサージビンが存在している。
【００４０】例 ３ 例１による方法を実施し、その際、疎水化工程の間に温
度は350℃を超えずかつ付加的に塩酸を噴射導入する。
ジメチルシリル基とモノメチルシリル基の比は、100対0
である。
度は350℃を超えずかつ付加的に塩酸を噴射導入する。
ジメチルシリル基とモノメチルシリル基の比は、100対0
である。
【００４１】例１〜３のためのプロセスパラメーター
は、第１表に示されている。製造されたケイ酸１と２の
物理化学データは、表２に示されている。エダクトとし
て使用される熱分解により得られたケイ酸は、次の物理
化学特性値を有する：
は、第１表に示されている。製造されたケイ酸１と２の
物理化学データは、表２に示されている。エダクトとし
て使用される熱分解により得られたケイ酸は、次の物理
化学特性値を有する：
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】ケイ酸１と２のメタノール湿潤性は次の通
りである： ケイ酸１に対して 40％（高い増粘）ないし＞45％
（低い増粘） ケイ酸２に対して 35％（高い増粘）ないし＞40％
（低い増粘）。
りである： ケイ酸１に対して 40％（高い増粘）ないし＞45％
（低い増粘） ケイ酸２に対して 35％（高い増粘）ないし＞40％
（低い増粘）。
【００４６】本発明による方法は、図１に示された装置
で実施することができる。
で実施することができる。
【００４７】図１によれば疎水化剤は、蒸発器１で蒸発
され、かつ管路２で熱分解により得られた酸化物と混合
される。この混合物は、流動床反応器３（流動床１）に
供給される。流動床反応器３中で、蒸発器４で生じた水
蒸気は、下から供給される。疎水化温度の制御は、温度
測定器５によって行われる。処理された生成物は、流動
床反応器３の上部から取り出され、かつ向流反応器６
（流動床２）の上部に供給される。向流で窒素は導かれ
る。処理された生成物は、向流反応器６の下部から取り
出され、かつサイロ７に供給される。
され、かつ管路２で熱分解により得られた酸化物と混合
される。この混合物は、流動床反応器３（流動床１）に
供給される。流動床反応器３中で、蒸発器４で生じた水
蒸気は、下から供給される。疎水化温度の制御は、温度
測定器５によって行われる。処理された生成物は、流動
床反応器３の上部から取り出され、かつ向流反応器６
（流動床２）の上部に供給される。向流で窒素は導かれ
る。処理された生成物は、向流反応器６の下部から取り
出され、かつサイロ７に供給される。
【図１】本発明による方法を実施することができる装置
の流れ図である。
の流れ図である。
フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン マイヤー ドイツ連邦共和国 シュトックシュタット ハンス−ベックラー−シュトラーセ ４ (72)発明者 ウヴェ シャハテリー ドイツ連邦共和国 ローデンバッハ ベル クシュトラーセ 10 (72)発明者 ヘニング カルベ ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン エミ ール−フォン−ベーリング−シュトラーセ 16
Claims (6)
- 【請求項１】 疎水化された、熱分解により得られた金
属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混合物又は混
合酸化物において、ジメチルシリル基とモノメチルシリ
ル基の比100:0〜50:50を有することを特徴とする、疎水
化された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロ
イドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物。 - 【請求項２】 加水分解及び／又は酸化作用を有するガ
ス又は蒸気の存在下での蒸気状態での金属ないしはメタ
ロイドの揮発性化合物の熱分解により得られた前記金属
及び／又はメタロイドの高分散した酸化物、酸化物混合
物又は混合酸化物の表面処理の方法であって、表面に存
在するその遊離ＯＨ基又は遊離されたＯＨ基を、ヒドロ
キシル基との反応に適当である疎水化剤と流動床中で、
前記酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物がジメチルシ
リル基とモノメチルシリルキ基の比100:0〜50:50を有す
るまで反応させ、この際、なお酸性の酸化物、酸化物混
合物又は混合酸化物をこれらの製造に直接引き続いて、
予め気化された疎水化剤とできるだけ均質に混合し、か
つ酸素の排除下で少量の水蒸気及び場合により不活性ガ
スとともに連続運転で温度約200〜約800℃、有利に約40
0〜約600℃で流動床中で処理し、固体の反応生成物を、
場合により脱酸し、かつ乾燥し、この際、有利に約200
℃への冷却の前に酸素との接触を回避する、熱分解によ
り得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物
混合物又は混合酸化物の表面処理の方法において、疎水
化剤としてハロゲン不含の鎖状シロキサン、単環式メチ
ルシクロシロキサン混合物D3〜D9、有利にオクタメチル
シクロテトラシロキサン（D4）を使用することを特徴と
する、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイド
の酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物の表面処理の方
法。 - 【請求項３】 オクタメチルシクロテトラシロキサン
（D4）と混合した酸化物を分散媒とともに流動床に供給
し、かつその上部から、有利に自体公知の沈降領域の通
過の後に、連続的に除去する、請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 処理を自体公知の内部加熱される流動床
で実施する、請求項２又は３記載の方法。 - 【請求項５】 必要な熱を自体公知の方法で部分的に水
蒸気及び／又は高温の不活性ガスの形で供給する、請求
項２から４までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 水蒸気及び／又は不活性ガスを自体公知
の方法で同時に反応成分の空気輸送に使用する、請求項
２から５までのいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19757210A DE19757210A1 (de) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | Hydrophobierte, pyrogen hergestellte Oxide |
| DE19757210.3 | 1997-12-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11241036A true JPH11241036A (ja) | 1999-09-07 |
| JP3563281B2 JP3563281B2 (ja) | 2004-09-08 |
Family
ID=7852976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36574598A Expired - Lifetime JP3563281B2 (ja) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | 疎水化された、熱分解により得られた金属及び／又はメタロイドの酸化物、酸化物混合物又は混合酸化物及びこのような酸化物の表面処理の方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0924269B1 (ja) |
| JP (1) | JP3563281B2 (ja) |
| DE (2) | DE19757210A1 (ja) |
| UA (1) | UA59362C2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005536613A (ja) * | 2002-08-28 | 2005-12-02 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | シリカ |
| JP2011506259A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-03 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 酸化条件下でのシリカの疎水化法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10109484A1 (de) * | 2001-02-28 | 2002-09-12 | Degussa | Oberflächenmodifizierte, dotierte, pyrogen hergestellte Oxide |
| DE10150274A1 (de) † | 2001-10-12 | 2003-04-30 | Wacker Chemie Gmbh | Kieselsäure mit homogener Silyliermittelschicht |
| DE10229761B4 (de) * | 2002-07-03 | 2004-08-05 | Degussa Ag | Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE102008001437A1 (de) * | 2008-04-28 | 2009-10-29 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte, superparamagnetische oxidische Partikel |
| DE102008001433A1 (de) * | 2008-04-28 | 2009-10-29 | Evonik Degussa Gmbh | Hydrophobiertes Silicium-Eisen-Mischoxid |
| US10058918B2 (en) | 2014-05-09 | 2018-08-28 | United Technologies Corporation | Surface treatment of powers |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1234245A (fr) * | 1959-05-13 | 1960-10-14 | Rhone Poulenc Sa | Procédé de traitement de charges minérales par des dérivés organosiliciques |
| DE1163784C2 (de) * | 1962-03-30 | 1973-05-03 | Degussa | Verfahren zur Oberflaechenbehandlung von hochdispersen Oxyden |
| FR1520663A (fr) * | 1967-02-28 | 1968-04-12 | Rhone Poulenc Sa | Traitement de charges minérales par des dérivés organosiliciques |
| DE2754484C2 (de) * | 1977-12-07 | 1983-07-21 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum Herstellen von hydrophobem Siliciumdioxyd |
| FR2630722B1 (fr) * | 1988-04-28 | 1990-09-07 | Rhone Poulenc Chimie | Silice de precipitation hydrophobe a proprietes ameliorees |
| DE4419234A1 (de) * | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Silylierung von anorganischen Oxiden |
-
1997
- 1997-12-22 DE DE19757210A patent/DE19757210A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-11-23 DE DE59805242T patent/DE59805242D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-23 EP EP98122233A patent/EP0924269B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-21 UA UA98126733A patent/UA59362C2/uk unknown
- 1998-12-22 JP JP36574598A patent/JP3563281B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005536613A (ja) * | 2002-08-28 | 2005-12-02 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | シリカ |
| JP2011506259A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-03 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 酸化条件下でのシリカの疎水化法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0924269B1 (de) | 2002-08-21 |
| JP3563281B2 (ja) | 2004-09-08 |
| EP0924269A1 (de) | 1999-06-23 |
| UA59362C2 (uk) | 2003-09-15 |
| DE19757210A1 (de) | 1999-07-01 |
| DE59805242D1 (de) | 2002-09-26 |
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Legal Events
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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