JPH11230871A - 排気ガス希釈サンプリング装置 - Google Patents
排気ガス希釈サンプリング装置Info
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- JPH11230871A JPH11230871A JP4284098A JP4284098A JPH11230871A JP H11230871 A JPH11230871 A JP H11230871A JP 4284098 A JP4284098 A JP 4284098A JP 4284098 A JP4284098 A JP 4284098A JP H11230871 A JPH11230871 A JP H11230871A
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- dilute
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Abstract
(57)【要約】
【課題】排気ガスのサンプリング量を少なくして、清浄
度が極めて高いことが要求されてコストなどで多くの難
点がある希釈空気の量をできるだけ少なくし、しかもＣ
ＶＳ装置と同様に希釈排気ガスの中の汚染成分の濃度を
全排気ガス流量の中の量に比例するようにすること 【解決手段】サンプリングする排気ガスの質量流量をサ
ンプリング系２２を連続的に測定しながら抽出し、これ
と混合部１２を混合して希釈する清浄空気もしくはＮ2
ガスの流量を排気ガス流量の関数として希釈排気ガス３
の流量をサンプリングする排気ガス流量に比例し全排気
ガス流量に逆比例するように制御する手段を選んだ
度が極めて高いことが要求されてコストなどで多くの難
点がある希釈空気の量をできるだけ少なくし、しかもＣ
ＶＳ装置と同様に希釈排気ガスの中の汚染成分の濃度を
全排気ガス流量の中の量に比例するようにすること 【解決手段】サンプリングする排気ガスの質量流量をサ
ンプリング系２２を連続的に測定しながら抽出し、これ
と混合部１２を混合して希釈する清浄空気もしくはＮ2
ガスの流量を排気ガス流量の関数として希釈排気ガス３
の流量をサンプリングする排気ガス流量に比例し全排気
ガス流量に逆比例するように制御する手段を選んだ
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は自動車の排気ガス測
定などの環境技術分野に係わる。
定などの環境技術分野に係わる。
【０００２】
【従来の技術】自動車排気ガスによる大気汚染の防止技
術において、汚染成分の排出量を測定する方法として、
ＣＶＳ（Constant Volume Sampler)装置が１９７０年代
から広く世界中で利用されてきた。これは排気ガスの全
流量を清浄な空気で希釈して一定流量の希釈排気ガスと
し、水分などの凝縮を防ぎながら一定流量である運転時
間内の試料ガスをバッグにサンプリングしてガス分析す
る方法で、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度がそ
の排出量に比例する装置である。
術において、汚染成分の排出量を測定する方法として、
ＣＶＳ（Constant Volume Sampler)装置が１９７０年代
から広く世界中で利用されてきた。これは排気ガスの全
流量を清浄な空気で希釈して一定流量の希釈排気ガスと
し、水分などの凝縮を防ぎながら一定流量である運転時
間内の試料ガスをバッグにサンプリングしてガス分析す
る方法で、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度がそ
の排出量に比例する装置である。
【０００３】
【従来技術の問題点】ＣＶＳ装置は排気ガスの全量を希
釈するために多量の清浄な希釈空気を必要とする。装置
全体が大型となり、設置や配管のスペースやブロワーな
どの動力も大きくなりコストも問題となる。近年自動車
の排気ガス対策が進み、またＣＮＧやメタノ一ル燃料な
ど水分の割合の多い排気ガスへの対応やとくに低濃度の
汚染成分排出のエンジンに適応する測定装置には清浄度
の極めて高い乾燥希釈空気を多量に供給することが必要
であるが、その実現が困難となってきている。
釈するために多量の清浄な希釈空気を必要とする。装置
全体が大型となり、設置や配管のスペースやブロワーな
どの動力も大きくなりコストも問題となる。近年自動車
の排気ガス対策が進み、またＣＮＧやメタノ一ル燃料な
ど水分の割合の多い排気ガスへの対応やとくに低濃度の
汚染成分排出のエンジンに適応する測定装置には清浄度
の極めて高い乾燥希釈空気を多量に供給することが必要
であるが、その実現が困難となってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】排気ガスの汚染成分の
排出量を測定するための代表的試料をバッグにサンプリ
ングするにはＣＶＳ装置と同様に排気ガスを希釈して水
分などの凝縮を防ぐ必要がある。希釈排気ガスの量はガ
ス分析などに必要な量で良い訳で、排気ガスのサンプリ
ング量を少なくして、清浄度が極めて高いことが要求さ
れてコストなどで多くの難点がある希釈空気の量をでき
るだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同様に希釈排気ガ
スの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流量の中の量に比
例するようにすることが課題である。
排出量を測定するための代表的試料をバッグにサンプリ
ングするにはＣＶＳ装置と同様に排気ガスを希釈して水
分などの凝縮を防ぐ必要がある。希釈排気ガスの量はガ
ス分析などに必要な量で良い訳で、排気ガスのサンプリ
ング量を少なくして、清浄度が極めて高いことが要求さ
れてコストなどで多くの難点がある希釈空気の量をでき
るだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同様に希釈排気ガ
スの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流量の中の量に比
例するようにすることが課題である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する手
段のーつとしてサンプリングする排気ガスの質量流量を
連続的に測定しながら抽出し、これと混合して希釈する
清浄空気もしくはＮ2ガスの流量を排気ガス流量の関数
として希釈排気ガスの流量をサンプリングする排気ガス
流量に比例し全排気ガス流量に逆比例するように制御す
る手段を選んだ。
段のーつとしてサンプリングする排気ガスの質量流量を
連続的に測定しながら抽出し、これと混合して希釈する
清浄空気もしくはＮ2ガスの流量を排気ガス流量の関数
として希釈排気ガスの流量をサンプリングする排気ガス
流量に比例し全排気ガス流量に逆比例するように制御す
る手段を選んだ。
【０００６】一般に石油系燃料の燃焼排気ガスの露点は
５５℃ないし６５℃であるが、この流量を制御するため
には圧力変化などが生じるので、８０℃程度以上に保つ
必要がある。こうした高温では熱式のマスフローメ−タ
を適用することは応答性などの点で適切ではない。流量
を露点より遥かに高い温度で定温度・圧力において圧力
損失少なく測定するにはラミナ−フロ−メ−タを用いる
ことが適当である。実際の装置の特性を考慮して本発明
では、抽出する排気ガスの流量ををラミナ−フロ−メ−
タで圧力損失１５０ｍｍＨ2 Ｏ以下で応答性と精度を高
くして連続的に測定し、この測定した質量流量に対応す
る清浄な希釈空気またはＮ2 の流量を常温で利用する熱
式などの通常のマスフロ−コントロ−ラで応答性良く制
御する手段を採用した。
５５℃ないし６５℃であるが、この流量を制御するため
には圧力変化などが生じるので、８０℃程度以上に保つ
必要がある。こうした高温では熱式のマスフローメ−タ
を適用することは応答性などの点で適切ではない。流量
を露点より遥かに高い温度で定温度・圧力において圧力
損失少なく測定するにはラミナ−フロ−メ−タを用いる
ことが適当である。実際の装置の特性を考慮して本発明
では、抽出する排気ガスの流量ををラミナ−フロ−メ−
タで圧力損失１５０ｍｍＨ2 Ｏ以下で応答性と精度を高
くして連続的に測定し、この測定した質量流量に対応す
る清浄な希釈空気またはＮ2 の流量を常温で利用する熱
式などの通常のマスフロ−コントロ−ラで応答性良く制
御する手段を採用した。
【０００７】ラミナ−フロメ−タでの圧力損失は大気圧
力に比較して極めて小さいのでその下流側の管系の圧力
も常圧に近く、吸引圧力の制御も必要無く、ポンプ負荷
への影響も少ない。
力に比較して極めて小さいのでその下流側の管系の圧力
も常圧に近く、吸引圧力の制御も必要無く、ポンプ負荷
への影響も少ない。
【０００８】さらに希釈量が小さいとき希釈排気ガスの
露点が問題になることがあるが、本装置では流量が少な
く装置が小形化できるので容易に管系を４５℃以上に保
つようにして、１／２程度以内の希釈比にも対応できる
ようにした。
露点が問題になることがあるが、本装置では流量が少な
く装置が小形化できるので容易に管系を４５℃以上に保
つようにして、１／２程度以内の希釈比にも対応できる
ようにした。
【０００９】
【発明実施の形態】本発明では実際に希釈排気ガスに用
いる排気ガス流量は通常５Ｌ／ｍｉｎ以下と少ないの
で、排気ガスのサンプリング系での遅れ時間を少なくす
るためにバイパス流を利用する。サンプリング系の温度
は１１０℃程度に保ち、普通１５Ｌ／ｍｉｎ程度のバイ
パス流から１〜５ Ｌ／ｍｉｎ程度の排気ガスが分流さ
れて一定の入り口温度・圧力条件においてラミナ−フロ
−メ−タに入る。この流量は直接的には制御されない
が、希釈空気またはＮ2 と混合された希釈排気ガス流量
としてはこれらを吸引する複数のポンプの全流量として
ほぼ定まることになる。
いる排気ガス流量は通常５Ｌ／ｍｉｎ以下と少ないの
で、排気ガスのサンプリング系での遅れ時間を少なくす
るためにバイパス流を利用する。サンプリング系の温度
は１１０℃程度に保ち、普通１５Ｌ／ｍｉｎ程度のバイ
パス流から１〜５ Ｌ／ｍｉｎ程度の排気ガスが分流さ
れて一定の入り口温度・圧力条件においてラミナ−フロ
−メ−タに入る。この流量は直接的には制御されない
が、希釈空気またはＮ2 と混合された希釈排気ガス流量
としてはこれらを吸引する複数のポンプの全流量として
ほぼ定まることになる。
【００１０】希釈空気またはＮ2 の流量ｄa は流量と別
に測定される排気ガスの全質量流量から計算されてマス
フロ−コントロ−ラで制御される。排気ガスの全質量流
量をＸとし、ラミナ−フロ−メ−タで測定された希釈に
用いる排気ガス質量流量をｑとし、制御される希釈空気
の質量流量をｄa として、定数Ａと希釈比ｒとの関係を
数式にすると次のようになる。
に測定される排気ガスの全質量流量から計算されてマス
フロ−コントロ−ラで制御される。排気ガスの全質量流
量をＸとし、ラミナ−フロ−メ−タで測定された希釈に
用いる排気ガス質量流量をｑとし、制御される希釈空気
の質量流量をｄa として、定数Ａと希釈比ｒとの関係を
数式にすると次のようになる。
【００１１】ｄa ＝ｑ（Ａ／Ｘ−１），ｒ＝ｑ／（ｄa
＋ｑ） ここにＡはある測定時間で選定する定数（Ａ≧
Ｘmax ）であるが、装置として一定にしておいてもよ
い。この式のｄa になるように、信号Ｘと信号ｑとに応
じてマスフローコントローラで希釈空気流量を制御す
る。
＋ｑ） ここにＡはある測定時間で選定する定数（Ａ≧
Ｘmax ）であるが、装置として一定にしておいてもよ
い。この式のｄa になるように、信号Ｘと信号ｑとに応
じてマスフローコントローラで希釈空気流量を制御す
る。
【００１２】希釈排気ガス流量はこれを吸引するポンプ
の合計した流量であるが、Ｘによって希釈比は変化す
る。しかし、Ａが一定であれば希釈排気ガス中のある特
定成分の濃度はその成分の排出値に比例する。したがっ
てこの方式の希釈排気ガスから一定の流量でサンプリン
グしてバッグに捕集すれば、その運転時間内の排出量を
代表する試料が得られる。
の合計した流量であるが、Ｘによって希釈比は変化す
る。しかし、Ａが一定であれば希釈排気ガス中のある特
定成分の濃度はその成分の排出値に比例する。したがっ
てこの方式の希釈排気ガスから一定の流量でサンプリン
グしてバッグに捕集すれば、その運転時間内の排出量を
代表する試料が得られる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を図１の装置解説図によって
説明する。エンジンの排気管系の末端であるテールパイ
プ５１に挿入した排気サンプリングプローブ２１をサン
プリングプロ−ブホルダ−３１に取付けて排気ガス１を
ほぼ一定流量で抽出し、約１１０℃に保たれたサンプリ
ング系２２を経由して１５Ｌ／ｍｉｎ程度の流量の排気
ガス試料がガスコネクタ−２３を通して本装置１００に
取り入れられる。高温フィルタ２４を経て、排気ガス分
流器２５において必要な流量の希釈に用いる排気ガス２
が分流され、残余のガスはバッファータンク２６とバイ
パスポンプ２７、およぴ流量調節弁２８、流量モニタ−
２９を経由し排気排出コネクター３０から装置外に導か
れ、エンジン排気系の下流側で排気サンプリングプロー
ブ２１に影響しない位置の排気排出ダクト３２に戻され
る。このようにして排気サンプリング系での遅れはほぼ
０．２秒以内にすることができる。
説明する。エンジンの排気管系の末端であるテールパイ
プ５１に挿入した排気サンプリングプローブ２１をサン
プリングプロ−ブホルダ−３１に取付けて排気ガス１を
ほぼ一定流量で抽出し、約１１０℃に保たれたサンプリ
ング系２２を経由して１５Ｌ／ｍｉｎ程度の流量の排気
ガス試料がガスコネクタ−２３を通して本装置１００に
取り入れられる。高温フィルタ２４を経て、排気ガス分
流器２５において必要な流量の希釈に用いる排気ガス２
が分流され、残余のガスはバッファータンク２６とバイ
パスポンプ２７、およぴ流量調節弁２８、流量モニタ−
２９を経由し排気排出コネクター３０から装置外に導か
れ、エンジン排気系の下流側で排気サンプリングプロー
ブ２１に影響しない位置の排気排出ダクト３２に戻され
る。このようにして排気サンプリング系での遅れはほぼ
０．２秒以内にすることができる。
【００１４】希釈に用いる排気ガス２は１００℃程度に
正確に温度制御されたラミナ−フロ−メ−タ１０に入
る。この流量はフロ−メ−タ用圧力センサ１１で検出さ
れ、流量信号ｑとして制御回路５０に入力される。ここ
では下流側のシステムの流量によって流量が決定される
が、圧力損失は１５０ｍｍＨ2 Ｏ以下とすることも可能
である。
正確に温度制御されたラミナ−フロ−メ−タ１０に入
る。この流量はフロ−メ−タ用圧力センサ１１で検出さ
れ、流量信号ｑとして制御回路５０に入力される。ここ
では下流側のシステムの流量によって流量が決定される
が、圧力損失は１５０ｍｍＨ2 Ｏ以下とすることも可能
である。
【００１５】希釈に用いる清浄な空気またはＮ2 は本装
置１００の外部から供給されるが、例えば図に例示する
ようにボンベ４１から減圧弁４２で一定圧力にしてガス
コネク夕−４３から本装置１００に導入され、電磁弁４
４、３方電磁弁４６を経て圧力計４５で圧力指示しマス
フローコントローラ２０で流量制御されて希釈空気とし
て供給される。この流量はほぼ室温に近い温度で作動す
る熱式のマスフローコントローラ２０で制御回路５０か
らの信号に応じて流量値ｄa に応答性良く制御される。
置１００の外部から供給されるが、例えば図に例示する
ようにボンベ４１から減圧弁４２で一定圧力にしてガス
コネク夕−４３から本装置１００に導入され、電磁弁４
４、３方電磁弁４６を経て圧力計４５で圧力指示しマス
フローコントローラ２０で流量制御されて希釈空気とし
て供給される。この流量はほぼ室温に近い温度で作動す
る熱式のマスフローコントローラ２０で制御回路５０か
らの信号に応じて流量値ｄa に応答性良く制御される。
【００１６】排気ガスと清浄な希釈空気とは混合部１２
でほぼ一定な圧力条件で混合され、希釈排気ガス３とな
る。この庄力は希釈排気ガス分流部１３′から分流され
て流量の適当な吸引ポンプ３６の入り口側バッファ−タ
ンク３５によって脈動を少なくされ、ほぼ大気圧程度に
保たれる。希釈排気ガスの一部は流量調節弁１６で制御
され流量計１７でモニタ−されながら一定流量の希釈排
気ガス試料４としてバッグサンプリングポンプ１４で吸
引され３方電磁弁１８を経由してバッグ６などに圧力ス
イッチ７の上限圧以下で圧送され、補集されてガス分析
用の試料５となる。バッグ６は多くの場合複数個装着さ
れ、各分岐管に電磁弁９を備えて切り替えて使用すると
共に、着脱容易なコネクタ−８を備えておく。
でほぼ一定な圧力条件で混合され、希釈排気ガス３とな
る。この庄力は希釈排気ガス分流部１３′から分流され
て流量の適当な吸引ポンプ３６の入り口側バッファ−タ
ンク３５によって脈動を少なくされ、ほぼ大気圧程度に
保たれる。希釈排気ガスの一部は流量調節弁１６で制御
され流量計１７でモニタ−されながら一定流量の希釈排
気ガス試料４としてバッグサンプリングポンプ１４で吸
引され３方電磁弁１８を経由してバッグ６などに圧力ス
イッチ７の上限圧以下で圧送され、補集されてガス分析
用の試料５となる。バッグ６は多くの場合複数個装着さ
れ、各分岐管に電磁弁９を備えて切り替えて使用すると
共に、着脱容易なコネクタ−８を備えておく。
【００１７】バッグからの試料ガスの排出には排出ポン
プ４７と電磁弁４８，４９が備えられている。これらに
よって試料ガスは分析ガスコネクタ−３３から図に示し
ていないガス分析装置に送出される。各電磁弁の切り替
えによって試料ガスの導入やバッグを洗浄するパージ空
気の導入・排出などを行う。
プ４７と電磁弁４８，４９が備えられている。これらに
よって試料ガスは分析ガスコネクタ−３３から図に示し
ていないガス分析装置に送出される。各電磁弁の切り替
えによって試料ガスの導入やバッグを洗浄するパージ空
気の導入・排出などを行う。
【００１８】希釈排気ガスはバッグサンプリングの他に
吸引ポンプ３６で吸引されて排出される部分があるが、
例えばアルデヒド類などカルボニ−ル化合物の補集には
１００℃程度の高い温度のままで希釈排気ガス分流部１
３において分流して電磁弁１９を経由し外部ガスサンプ
ラ−コネクタ−５２と吸引ガスコネクタ−５４を介して
装置１００の外部に装着したカ−トリッジ式サンプラ−
５３を通過してポンプ３７で吸引し流量調節弁３８と流
量モニタ−３９により一定流量にして排気排出コネクタ
３４から排出するようにし必要なサンプリングに利用す
ることもできる。このようにしてバッグサンプリング以
外にもある範囲では希釈排気ガス試料の流量が一定でな
い場合にも本装置は適用できる。
吸引ポンプ３６で吸引されて排出される部分があるが、
例えばアルデヒド類などカルボニ−ル化合物の補集には
１００℃程度の高い温度のままで希釈排気ガス分流部１
３において分流して電磁弁１９を経由し外部ガスサンプ
ラ−コネクタ−５２と吸引ガスコネクタ−５４を介して
装置１００の外部に装着したカ−トリッジ式サンプラ−
５３を通過してポンプ３７で吸引し流量調節弁３８と流
量モニタ−３９により一定流量にして排気排出コネクタ
３４から排出するようにし必要なサンプリングに利用す
ることもできる。このようにしてバッグサンプリング以
外にもある範囲では希釈排気ガス試料の流量が一定でな
い場合にも本装置は適用できる。
【００１９】制御回路５０には全排気ガス流量の信号Ｘ
と希釈に用いる排気ガス流量の信号ｑが入力され、希釈
比に関係し最大希釈空気流量に制約される定数Ａが設定
してあり、希釈空気流量ｄa の指示信号が次の式により
計算されて発信される。 ｄa ＝ｑ（Ａ／Ｘ−１） 制御回路５０には希釈比ｒを次の式によって計算し表示
するようにしてある。 ｒ＝ｑ／（ｄa ＋ｑ） 希釈排気ガスの露点とバッグ入り口までの温度には注意
が必要で希釈比ｒが０．５より大きくなると露点は４５
℃以上にもなる。通常はｒ≦１／２で配管系を４０℃以
上にして露点より高く保てばよい。
と希釈に用いる排気ガス流量の信号ｑが入力され、希釈
比に関係し最大希釈空気流量に制約される定数Ａが設定
してあり、希釈空気流量ｄa の指示信号が次の式により
計算されて発信される。 ｄa ＝ｑ（Ａ／Ｘ−１） 制御回路５０には希釈比ｒを次の式によって計算し表示
するようにしてある。 ｒ＝ｑ／（ｄa ＋ｑ） 希釈排気ガスの露点とバッグ入り口までの温度には注意
が必要で希釈比ｒが０．５より大きくなると露点は４５
℃以上にもなる。通常はｒ≦１／２で配管系を４０℃以
上にして露点より高く保てばよい。
【００２０】希釈排気ガスは吸引ポンプ３６によって常
に一部分が吸引されている。これらの希釈排気ガスは連
続ガス分析などにも利用できる。バッグ６への希釈排気
ガス試料の送入はバッグサンプリングポンプ１４と流量
調節弁１６と流量計１７で必要流量に設定し、３方電磁
弁１８の切り替えによってバッグサンプリングが必要な
時間だけ行われる。このバッグサンプリングポンプ１４
の出・入り口に取り付けるバッファータンク１５には実
質的なガスの流れの遅れ時間が短いものを選ぶことが望
ましい。
に一部分が吸引されている。これらの希釈排気ガスは連
続ガス分析などにも利用できる。バッグ６への希釈排気
ガス試料の送入はバッグサンプリングポンプ１４と流量
調節弁１６と流量計１７で必要流量に設定し、３方電磁
弁１８の切り替えによってバッグサンプリングが必要な
時間だけ行われる。このバッグサンプリングポンプ１４
の出・入り口に取り付けるバッファータンク１５には実
質的なガスの流れの遅れ時間が短いものを選ぶことが望
ましい。
【００２１】
【発明の効果】本発明によると極めて小型な装置によっ
て小流量の清浄な希釈用ガスを利用してエンジンの排気
ガスのある特定成分の排出量に比例した濃度の希釈排気
ガス試料が得られる。従来のＣＶＳ装置では全排気ガス
流量に対応する希釈用ガスを必要としたのに対比する
と、ほぼ１／１０００程度の希釈用ガスでガス分析に必
要なバッグ試料が得られる。また希釈排気ガスの試料は
必要な料に設定して測定途中で変更してもある特定成分
の濃度がその成分の排出値に比例する関係が保たれ広い
範囲に適切な利用が可能である。
て小流量の清浄な希釈用ガスを利用してエンジンの排気
ガスのある特定成分の排出量に比例した濃度の希釈排気
ガス試料が得られる。従来のＣＶＳ装置では全排気ガス
流量に対応する希釈用ガスを必要としたのに対比する
と、ほぼ１／１０００程度の希釈用ガスでガス分析に必
要なバッグ試料が得られる。また希釈排気ガスの試料は
必要な料に設定して測定途中で変更してもある特定成分
の濃度がその成分の排出値に比例する関係が保たれ広い
範囲に適切な利用が可能である。
【００２２】とくに排気ガス対策が進んだエンジンにＣ
ＶＳ装置など排気ガス希釈サンプリング装置を適用する
とき希釈に用いるガス清浄度が重要になるが、本発明の
装置では希釈用ガスが小流量であるために、高純度のボ
ンベガスまたは清浄度の高いガス精製装置からの水分や
不純物を含まないガスを利用することが可能となり、バ
ックグランド濃度に影響されない信頼性の高い測定がで
きる。
ＶＳ装置など排気ガス希釈サンプリング装置を適用する
とき希釈に用いるガス清浄度が重要になるが、本発明の
装置では希釈用ガスが小流量であるために、高純度のボ
ンベガスまたは清浄度の高いガス精製装置からの水分や
不純物を含まないガスを利用することが可能となり、バ
ックグランド濃度に影響されない信頼性の高い測定がで
きる。
【００２３】希釈排気ガスの露点に関連して、管路系の
温度を容易に高くできるので、希釈比ｒを０．５以上大
きくすることもできる。さらに、装置が全体として小形
化できるために、測定室におけるスペースが小さくて済
み、設置にも自由度が増し、排気ガスサンプリングにつ
いてのコストも大幅に低減できる。
温度を容易に高くできるので、希釈比ｒを０．５以上大
きくすることもできる。さらに、装置が全体として小形
化できるために、測定室におけるスペースが小さくて済
み、設置にも自由度が増し、排気ガスサンプリングにつ
いてのコストも大幅に低減できる。
【図１】本発明の希釈排気ガスサンプリング装置の構成
を示す装置解説図
を示す装置解説図
１ 装置に導入する試料排気ガス ２ 希釈に用いる試料排気ガス ３ 希釈排気ガス ４ バッグに捕集する希釈排気ガス試料 ５ バッグに捕集された希釈排気ガス試料 ６，６′，６ バッグ ７ 圧カスイッチ ８，８′，８ コネクター ９，９′，９ 電磁弁 １０ ラミナ−フロ−メ−タ（ＬＦＥ） ４１ 純
空気ボンベ １１ フロ−メ−タ用圧力センサ ４２ 減
圧弁 １２ 排気ガス・希釈ガス混合部 ４３ ガ
スコネ夕ター １３，１３′ 希釈排気ガス分流部 ４４ 電
磁弁 １４ サンプリングポンプ ４５ 圧
力計 １５ バッファータンク ４６ 電
磁弁 １６ 流量調節弁 ４７ 排
出ポンプ １７ 流量計 ４８ 電
磁弁 １８ ３方電磁弁 ４９ 電
磁弁 １９ カルボニ−ルサンプリング用電磁弁 ５０ 制
御回路 ２０ マスフローコントローラ ５１ テ
ールパイプ ２１ サンプリングプローブ ５２ 外部ガスサンプラ−コネ ２２ サンプリング系 クタ− ２３ ガスコネクター ５３ カ
−トリッジ ２４ 高温フィルタ ５４ 吸
引ガスコネクタ− ２５ 分流器 ６０ ガ
ス分析装置 ２６ バッファータンク １００ 排気ガス希釈サンプリ ２７ バイパスポンプ ング装置 ２８ 流量調節弁 ２９ 流量モニター ３０ 排気排出コネクター ３１ サンプリングプローブホルダー ３２ 排気排出ダクト ３３ 分析ガスコネクター ３４ 排気排出コネクター ３５ バッファータンク ３６ ポンプ ３８ 流量調節弁 ３９ 流量モニタ−
空気ボンベ １１ フロ−メ−タ用圧力センサ ４２ 減
圧弁 １２ 排気ガス・希釈ガス混合部 ４３ ガ
スコネ夕ター １３，１３′ 希釈排気ガス分流部 ４４ 電
磁弁 １４ サンプリングポンプ ４５ 圧
力計 １５ バッファータンク ４６ 電
磁弁 １６ 流量調節弁 ４７ 排
出ポンプ １７ 流量計 ４８ 電
磁弁 １８ ３方電磁弁 ４９ 電
磁弁 １９ カルボニ−ルサンプリング用電磁弁 ５０ 制
御回路 ２０ マスフローコントローラ ５１ テ
ールパイプ ２１ サンプリングプローブ ５２ 外部ガスサンプラ−コネ ２２ サンプリング系 クタ− ２３ ガスコネクター ５３ カ
−トリッジ ２４ 高温フィルタ ５４ 吸
引ガスコネクタ− ２５ 分流器 ６０ ガ
ス分析装置 ２６ バッファータンク １００ 排気ガス希釈サンプリ ２７ バイパスポンプ ング装置 ２８ 流量調節弁 ２９ 流量モニター ３０ 排気排出コネクター ３１ サンプリングプローブホルダー ３２ 排気排出ダクト ３３ 分析ガスコネクター ３４ 排気排出コネクター ３５ バッファータンク ３６ ポンプ ３８ 流量調節弁 ３９ 流量モニタ−
Claims (1)
- 【請求項１】 エンジンの排気ガスを露点以上の温度に
おいて流量測定をしながら連続的に抽出し、これに清浄
な乾燥空気またはＮ2 を混合して希釈する時に、希釈排
気ガスの中のある特定成分の濃度が全排気ガス流量Ｘの
中のある特定成分の排出量に比例するように、連続的に
抽出する排気ガス流量の測定値ｑの関数として次式に従
うように希釈に用いる清浄な空気またはＮ2 の流量ｄa
を制御する排気ガス希釈サンプリング装置であって、そ
の希釈排気ガスを一定流量でサンプリングすると、その
サンプリング時間内の排出量に比例したある特定成分の
濃度が得られる排気ガス希釈サンプリング装置。 ｄa ＝ｑ（Ａ／Ｘ−１） Ａはある測定時間で選定す
る定数（Ａ≧Ｘma）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04284098A JP3992121B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04284098A JP3992121B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11230871A true JPH11230871A (ja) | 1999-08-27 |
| JP3992121B2 JP3992121B2 (ja) | 2007-10-17 |
Family
ID=12647196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04284098A Expired - Fee Related JP3992121B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3992121B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011095229A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Horiba Ltd | 希釈用空気精製装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB201006530D0 (en) | 2010-04-19 | 2010-06-02 | Sec Dep For Business Innovatio | Method of and system for calibrating gas flow dilutors |
| US11143644B2 (en) * | 2018-06-22 | 2021-10-12 | Avl Test Systems, Inc. | System and method for determining a contamination level in an emissions measurement device or system |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP04284098A patent/JP3992121B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011095229A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Horiba Ltd | 希釈用空気精製装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3992121B2 (ja) | 2007-10-17 |
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