JPH11227091A - 光触媒担持基板の製造法 - Google Patents
光触媒担持基板の製造法Info
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- JPH11227091A JPH11227091A JP10046378A JP4637898A JPH11227091A JP H11227091 A JPH11227091 A JP H11227091A JP 10046378 A JP10046378 A JP 10046378A JP 4637898 A JP4637898 A JP 4637898A JP H11227091 A JPH11227091 A JP H11227091A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光触媒が皮膜中に均一に分散された、高い活
性と長い寿命を有する光触媒担持基板を安価に製造する
方法を提供する。 【解決手段】 光触媒粒子とポリシラザンを含有する汚
れ除去皮膜形成用液を、スプレーコーティングにより基
板に塗布し、乾燥、焼成して、その表面および内部に光
触媒粒子が分散された皮膜を有する基板を得る。
性と長い寿命を有する光触媒担持基板を安価に製造する
方法を提供する。 【解決手段】 光触媒粒子とポリシラザンを含有する汚
れ除去皮膜形成用液を、スプレーコーティングにより基
板に塗布し、乾燥、焼成して、その表面および内部に光
触媒粒子が分散された皮膜を有する基板を得る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、汚れを除去する光
触媒が皮膜中に均一に分散された、高い活性と長い寿命
を有する光触媒担持基板の製造方法に関する。
触媒が皮膜中に均一に分散された、高い活性と長い寿命
を有する光触媒担持基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光触媒作用を有する半導体微粒子(以
下、「光触媒粒子」という)、例えば酸化チタン、酸化
鉄、酸化タングステン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化カド
ミウム、チタン酸ストロンチウム、硫化モリブデン等を
用いて殺菌、悪臭の脱臭、防汚、CO2の還元、NOXや
SOXの直接分解、汚染河川や湖沼の清浄化を行うこと
は既に知られている。
下、「光触媒粒子」という)、例えば酸化チタン、酸化
鉄、酸化タングステン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化カド
ミウム、チタン酸ストロンチウム、硫化モリブデン等を
用いて殺菌、悪臭の脱臭、防汚、CO2の還元、NOXや
SOXの直接分解、汚染河川や湖沼の清浄化を行うこと
は既に知られている。
【0003】このような光触媒を用いた汚染物の除去の
一例としては、道路の防音壁、ガードレール、標識、信
号機、建物の外壁、電話ボックス等(以下、本明細書で
はこれらの構造物を「基板」と呼称する)の表面に光触
媒を付着させ、ディーゼルエンジン排気ガス中のSOF
(有機溶媒に可溶性の有機物)等の汚れを酸化分解し、
セルフクリーニングする方法が挙げられる。
一例としては、道路の防音壁、ガードレール、標識、信
号機、建物の外壁、電話ボックス等(以下、本明細書で
はこれらの構造物を「基板」と呼称する)の表面に光触
媒を付着させ、ディーゼルエンジン排気ガス中のSOF
(有機溶媒に可溶性の有機物)等の汚れを酸化分解し、
セルフクリーニングする方法が挙げられる。
【0004】これらの光触媒を、汚れを除去する基板表
面に付着させる方法としては、従来、(1)基板表面に
光触媒の前駆体を塗布し、600℃前後で焼き付ける方
法、(2)有機バインダを用いて光触媒を基板表面に担
持させる方法、(3)基板がプラスチックの場合、光触
媒を加熱された基板表面に塗布し、金型で押圧して光触
媒を基板表面または表面近傍に埋設する(特開平9−1
64091号)方法等が採られている。
面に付着させる方法としては、従来、(1)基板表面に
光触媒の前駆体を塗布し、600℃前後で焼き付ける方
法、(2)有機バインダを用いて光触媒を基板表面に担
持させる方法、(3)基板がプラスチックの場合、光触
媒を加熱された基板表面に塗布し、金型で押圧して光触
媒を基板表面または表面近傍に埋設する(特開平9−1
64091号)方法等が採られている。
【0005】しかしながら、(1)の方法は高温で処理
するため設備や処理に費用がかかり、基板が大きくなる
と処理が困難であるという欠点があった。また、(2)
の方法は、光触媒作用により、光触媒周辺の有機バイン
ダが分解し、バインダとしての機能を失い、光触媒が基
板から脱落するため光触媒としての寿命が短いという問
題があった。さらに(3)の方法は、金型が必要となる
ため設備費が高く、基板が大きくなると処理が困難であ
るという問題があった。
するため設備や処理に費用がかかり、基板が大きくなる
と処理が困難であるという欠点があった。また、(2)
の方法は、光触媒作用により、光触媒周辺の有機バイン
ダが分解し、バインダとしての機能を失い、光触媒が基
板から脱落するため光触媒としての寿命が短いという問
題があった。さらに(3)の方法は、金型が必要となる
ため設備費が高く、基板が大きくなると処理が困難であ
るという問題があった。
【0006】先に本出願人は、光触媒を基板を担持させ
る手段として、ポリシラザンをバインダとして用いた汚
れ皮膜形成用コーティング液を用い、これを硬化させる
方法を見出し、この方法により光触媒を安定に、長く基
板に担持させることが可能になることを知って特許出願
した(特願平9−205495号)。 この方法によれ
ば、ほぼ従来の課題を解消することができるが、得られ
た皮膜中の光触媒の分散が均一とならず、目的とする効
果を十分に得られない場合もあり、その解消が新たな課
題となっていた。
る手段として、ポリシラザンをバインダとして用いた汚
れ皮膜形成用コーティング液を用い、これを硬化させる
方法を見出し、この方法により光触媒を安定に、長く基
板に担持させることが可能になることを知って特許出願
した(特願平9−205495号)。 この方法によれ
ば、ほぼ従来の課題を解消することができるが、得られ
た皮膜中の光触媒の分散が均一とならず、目的とする効
果を十分に得られない場合もあり、その解消が新たな課
題となっていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、光触媒が皮膜中に均一に分散された、高い活性と長
い寿命を有する光触媒担持基板を安価に製造する方法を
提供することにある。
は、光触媒が皮膜中に均一に分散された、高い活性と長
い寿命を有する光触媒担持基板を安価に製造する方法を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため、光触媒粒子を担持するバインダとしてポ
リシラザンを用いた汚れ除去皮膜形成用液について鋭意
検討したところ、スプレーコーティングの手段によりコ
ーティングして得た皮膜中の光触媒粒子の分散は、他の
手段でコーティングして得た皮膜に比べ均一性が極めて
高いことを見出し、本発明を完成した。
解決するため、光触媒粒子を担持するバインダとしてポ
リシラザンを用いた汚れ除去皮膜形成用液について鋭意
検討したところ、スプレーコーティングの手段によりコ
ーティングして得た皮膜中の光触媒粒子の分散は、他の
手段でコーティングして得た皮膜に比べ均一性が極めて
高いことを見出し、本発明を完成した。
【0009】すなわち本発明は、光触媒作用を有する半
導体微粒子およびポリシラザンを含有する汚れ除去皮膜
形成用液を、スプレーコーティングにより基板に塗布
し、次いでこれを硬化させることを特徴とする光触媒担
持基板の製造法である。
導体微粒子およびポリシラザンを含有する汚れ除去皮膜
形成用液を、スプレーコーティングにより基板に塗布
し、次いでこれを硬化させることを特徴とする光触媒担
持基板の製造法である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明方法において光触媒担持基
板は、後記の光触媒作用を有する半導体微粒子(以下、
「光触媒粒子」という)とポリシラザンとを公知方法に
より混合した除去皮膜形成用液(以下、「コーティング
液」という)を基板にスプレーコーティングにより塗布
後、この皮膜を硬化させることにより得られる。
板は、後記の光触媒作用を有する半導体微粒子(以下、
「光触媒粒子」という)とポリシラザンとを公知方法に
より混合した除去皮膜形成用液(以下、「コーティング
液」という)を基板にスプレーコーティングにより塗布
後、この皮膜を硬化させることにより得られる。
【0011】このコーティング液は、種々の方法で塗布
可能なものではあるが、光触媒粒子を高い均一性で分散
させるためには塗布方法としてスプレーコーティングを
用いる必要がある。
可能なものではあるが、光触媒粒子を高い均一性で分散
させるためには塗布方法としてスプレーコーティングを
用いる必要がある。
【0012】本発明方法のコーティング液の調製に用い
られる光触媒粒子としては、酸化チタン(TiO2)、
酸化鉄(Fe2O3)、酸化タングステン(WO2)、酸
化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、硫化カドミウ
ム(CdS)、チタン酸ストロンチウム(SrTi
O2)、硫化モリブデン(MoS2)等の従来知られた光
触媒粒子を用いることができる。 これらの中では酸化
チタンが好ましく用いられる。
られる光触媒粒子としては、酸化チタン(TiO2)、
酸化鉄(Fe2O3)、酸化タングステン(WO2)、酸
化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、硫化カドミウ
ム(CdS)、チタン酸ストロンチウム(SrTi
O2)、硫化モリブデン(MoS2)等の従来知られた光
触媒粒子を用いることができる。 これらの中では酸化
チタンが好ましく用いられる。
【0013】一方、本発明方法のコーティング液に用い
られるポリシラザンの例としては、次の一般式
られるポリシラザンの例としては、次の一般式
【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
子:アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基等の珪素又は窒素と結合する基が炭素である
基;アルキルシリル基;アルキルアミノ基又はアルコキ
シ基を示す。 ただし、R1、R2及びR3のうち少なくと
も1つは水素原子である)で表される単位からなる主骨
格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザン
が挙げられる。
子:アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基等の珪素又は窒素と結合する基が炭素である
基;アルキルシリル基;アルキルアミノ基又はアルコキ
シ基を示す。 ただし、R1、R2及びR3のうち少なくと
も1つは水素原子である)で表される単位からなる主骨
格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザン
が挙げられる。
【0014】その他、上記ポリシラザンに珪素アルコキ
シドを加熱反応させて得られる珪素アルコキシド付加ポ
リシラザン(特開平5−238827号)、上記ポリシ
ラザンにグリシドールを加熱反応させて得られるグリシ
ドール付加ポリシラザン(特開平6−122852
号)、上記ポリシラザンにアルコールを加熱反応させて
得られるアルコール付加ポリシラザン(特開平6−24
0208号)、上記ポリシラザンにニッケル、チタン、
白金、ロジウム等の金属を含む金属カルボン酸塩を反応
させて得られる金属カルボン酸塩/ポリシラザン反応生
成物(特開平6−299118号)、上記ポリシラザン
にアセチルアセトナト錯体(金属としてニッケル、白
金、パラジウム、アルミニウム、ロジウム等を含む)を
加熱反応させて得られるアセチルアセトナト錯体付加ポ
リシラザン(特開平6−306329号)等も使用でき
る。
シドを加熱反応させて得られる珪素アルコキシド付加ポ
リシラザン(特開平5−238827号)、上記ポリシ
ラザンにグリシドールを加熱反応させて得られるグリシ
ドール付加ポリシラザン(特開平6−122852
号)、上記ポリシラザンにアルコールを加熱反応させて
得られるアルコール付加ポリシラザン(特開平6−24
0208号)、上記ポリシラザンにニッケル、チタン、
白金、ロジウム等の金属を含む金属カルボン酸塩を反応
させて得られる金属カルボン酸塩/ポリシラザン反応生
成物(特開平6−299118号)、上記ポリシラザン
にアセチルアセトナト錯体(金属としてニッケル、白
金、パラジウム、アルミニウム、ロジウム等を含む)を
加熱反応させて得られるアセチルアセトナト錯体付加ポ
リシラザン(特開平6−306329号)等も使用でき
る。
【0015】これらのポリシラザンの中でも数平均分子
量が300〜5000のものを用いるのが好ましく、数
平均分子量が1000〜1400のものがさらに好まし
く用いられる。
量が300〜5000のものを用いるのが好ましく、数
平均分子量が1000〜1400のものがさらに好まし
く用いられる。
【0016】ポリシラザンは分子量および分子構造に応
じて異なる粘度を有する液体または固体であるから、低
粘度液体の場合はそのままポリシラザン含有液として使
用してよいが、高粘度液体の場合は塗布性を向上させる
ため、キシレン(o−キシレンまたはm−キシレン)、
シクロヘキサン、シクロヘキセン等の炭化水素系溶剤、
ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤等の各種有機溶剤
で希釈して溶液として使用するのが好ましい。 固体の
場合はそのままでは使用できないので有機溶剤に溶解し
て溶液として使用する。
じて異なる粘度を有する液体または固体であるから、低
粘度液体の場合はそのままポリシラザン含有液として使
用してよいが、高粘度液体の場合は塗布性を向上させる
ため、キシレン(o−キシレンまたはm−キシレン)、
シクロヘキサン、シクロヘキセン等の炭化水素系溶剤、
ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤等の各種有機溶剤
で希釈して溶液として使用するのが好ましい。 固体の
場合はそのままでは使用できないので有機溶剤に溶解し
て溶液として使用する。
【0017】上記のポリシラザン溶液と光触媒粒子を混
合してコーティング液を得るには、ポリシラザン溶液に
直接、光触媒粒子を配合し、混合しても良いが、コーテ
ィング液中に光触媒粒子をより均一に分散させるため
に、ポリシラザン溶液とは別に、キシレン等の各種有機
溶剤に分散剤を混合し、それに光触媒粒子を混合した粒
子分散液を調製し、しかる後にポリシラザン溶液と粒子
分散液を混合してコーティング液とするのが好ましい。
この粒子分散液は、有機溶剤に分散剤および光触媒粒
子を添加し、0.5〜10時間、好ましくは1〜5時間
混合することにより調製できる。
合してコーティング液を得るには、ポリシラザン溶液に
直接、光触媒粒子を配合し、混合しても良いが、コーテ
ィング液中に光触媒粒子をより均一に分散させるため
に、ポリシラザン溶液とは別に、キシレン等の各種有機
溶剤に分散剤を混合し、それに光触媒粒子を混合した粒
子分散液を調製し、しかる後にポリシラザン溶液と粒子
分散液を混合してコーティング液とするのが好ましい。
この粒子分散液は、有機溶剤に分散剤および光触媒粒
子を添加し、0.5〜10時間、好ましくは1〜5時間
混合することにより調製できる。
【0018】粒子分散液の調製に用いる分散剤に特に制
限はなく、用いる有機溶剤に可溶性で硬化処理により二
酸化炭素と水を生成して消散し、硬化処理生成物に悪影
響を及ぼさない有機高分子化合物であれば如何なるもの
でも使用することができる。市販の分散剤の例として
は、例えばゼネカ社製ソルスパース#3000、#90
00、#17000が挙げられ、好ましくは#900
0、#17000が使用される。 この分散剤の量は、
光触媒粒子重量に対して5〜50重量%が好ましく、1
0〜30重量%がさらに好ましい。
限はなく、用いる有機溶剤に可溶性で硬化処理により二
酸化炭素と水を生成して消散し、硬化処理生成物に悪影
響を及ぼさない有機高分子化合物であれば如何なるもの
でも使用することができる。市販の分散剤の例として
は、例えばゼネカ社製ソルスパース#3000、#90
00、#17000が挙げられ、好ましくは#900
0、#17000が使用される。 この分散剤の量は、
光触媒粒子重量に対して5〜50重量%が好ましく、1
0〜30重量%がさらに好ましい。
【0019】なお、調製された粒子分散液中の光触媒粒
子の粒子径は0.05〜1μmにするのが好ましく、0.
1〜0.4μmにするのがさらに好ましい。 粒子径が
0.05μmより小さいと、光触媒粒子が硬化処理後の
皮膜中に埋没し易く、触媒活性が低下する。 また、粒
子径が1μmより大きいと、光触媒粒子が粒子分散液中
で沈降し易く、良好な分散性が得られ難い。
子の粒子径は0.05〜1μmにするのが好ましく、0.
1〜0.4μmにするのがさらに好ましい。 粒子径が
0.05μmより小さいと、光触媒粒子が硬化処理後の
皮膜中に埋没し易く、触媒活性が低下する。 また、粒
子径が1μmより大きいと、光触媒粒子が粒子分散液中
で沈降し易く、良好な分散性が得られ難い。
【0020】ポリシラザン溶液と粒子分散液の混合比
は、コーティング液中の光触媒粒子とポリシラザン(固
形分)の重量比が1:1〜10:1になるようにするの
が好ましく、1:1〜5:1になるようにするのがさら
に好ましい。 この重量比が1:1より低いと、光触媒
粒子が硬化処理後の皮膜中に埋没し易く、触媒活性が低
下する。 重量比が10:1より高いと、バインダとな
るポリシラザン分解生成物の皮膜が相対的に薄くなり、
基板への密着性が低下する。
は、コーティング液中の光触媒粒子とポリシラザン(固
形分)の重量比が1:1〜10:1になるようにするの
が好ましく、1:1〜5:1になるようにするのがさら
に好ましい。 この重量比が1:1より低いと、光触媒
粒子が硬化処理後の皮膜中に埋没し易く、触媒活性が低
下する。 重量比が10:1より高いと、バインダとな
るポリシラザン分解生成物の皮膜が相対的に薄くなり、
基板への密着性が低下する。
【0021】次に、光触媒担持基板の製造法について、
塗布方法を中心に説明する。本発明方法が適用される基
板は、その材質、材料については特に制約はなく、金
属、ガラス、セラミックス、プラスチックを用途に応じ
て適宜選択すればよい。基板の例としては、汚れ易い環
境下で使用される板、成形体、構造物等が挙げられ、具
体的には道路の防音壁、ガードレール、道路標識、信号
機、建物の外壁、電話ボックス、水浄化設備等に用いら
れる基板が挙げられる。
塗布方法を中心に説明する。本発明方法が適用される基
板は、その材質、材料については特に制約はなく、金
属、ガラス、セラミックス、プラスチックを用途に応じ
て適宜選択すればよい。基板の例としては、汚れ易い環
境下で使用される板、成形体、構造物等が挙げられ、具
体的には道路の防音壁、ガードレール、道路標識、信号
機、建物の外壁、電話ボックス、水浄化設備等に用いら
れる基板が挙げられる。
【0022】コーティング液を基板に塗布するに先立っ
て、基板表面を清浄にすることが好ましい。この清浄化
処理は、市販の中性洗剤で脱脂した後、純水等で洗浄
し、80〜100℃で20〜60分乾燥すればよい。あ
るいは、アルコール、キシレン等の有機溶剤で洗浄し、
室温または60〜120℃で5〜30分乾燥してもよ
い。
て、基板表面を清浄にすることが好ましい。この清浄化
処理は、市販の中性洗剤で脱脂した後、純水等で洗浄
し、80〜100℃で20〜60分乾燥すればよい。あ
るいは、アルコール、キシレン等の有機溶剤で洗浄し、
室温または60〜120℃で5〜30分乾燥してもよ
い。
【0023】次いで、清浄化された基板に上記のコーテ
ィング液をスプレーコーティングする。 本発明方法で
用いられるスプレーコーティング法として、例えば1流
体法と2流体法が挙げられる。
ィング液をスプレーコーティングする。 本発明方法で
用いられるスプレーコーティング法として、例えば1流
体法と2流体法が挙げられる。
【0024】このうち1流体法は、噴射手段としてスプ
レーガンを備え、コーティング液が封入された密閉容器
A(大きさは例えば1〜5リットルで、コーティング液
は下記容器Bから導入された窒素ガスの雰囲気中で存在
する)と、圧縮窒素ガスが封入された密閉容器Bとを有
するスプレーコーティング装置を用い、容器A内に容器
Bから加圧された窒素ガスを導入することにより、スプ
レーガンからコーティング液をスプレーする方法であ
る。
レーガンを備え、コーティング液が封入された密閉容器
A(大きさは例えば1〜5リットルで、コーティング液
は下記容器Bから導入された窒素ガスの雰囲気中で存在
する)と、圧縮窒素ガスが封入された密閉容器Bとを有
するスプレーコーティング装置を用い、容器A内に容器
Bから加圧された窒素ガスを導入することにより、スプ
レーガンからコーティング液をスプレーする方法であ
る。
【0025】また2流体法は、コーティング液が封入さ
れた密閉容器A′(コーティング液は1流体法と同様、
窒素ガスの雰囲気中で存在する)と、噴射手段としての
スプレーガンと、容器A′からスプレーガンに前記コー
ティング液を供給するポンプと、圧縮窒素ガスが封入さ
れた密閉容器B′とを有するスプレーコーティング装置
を用い、容器A′内のコーティング液をポンプによりス
プレーガンに導入すると同時に、容器B′内の加圧され
た窒素ガスをスプレーガンに導入することによりスプレ
ーガンからコーティング液をスプレーする方法である。
れた密閉容器A′(コーティング液は1流体法と同様、
窒素ガスの雰囲気中で存在する)と、噴射手段としての
スプレーガンと、容器A′からスプレーガンに前記コー
ティング液を供給するポンプと、圧縮窒素ガスが封入さ
れた密閉容器B′とを有するスプレーコーティング装置
を用い、容器A′内のコーティング液をポンプによりス
プレーガンに導入すると同時に、容器B′内の加圧され
た窒素ガスをスプレーガンに導入することによりスプレ
ーガンからコーティング液をスプレーする方法である。
【0026】本発明方法において、スプレーコーティン
グ法は上記の1流体法または2流体法に限定されるもの
でなく、コーティング液が良好に分散してスプレーでき
る装置であれば如何なるものでもよい。 塗布に用いる
スプレーガンの操作は手動でもよいし、ロボットを使っ
て自動化された方法を用いてもよいが、自動化された方
法を用いると再現性の優れたスプレーコーティングがで
きる。 さらに、スプレーガンと基板との間に電圧を印
加する、所謂静電スプレーコーティングを行えば塗着効
率を高めることができる。
グ法は上記の1流体法または2流体法に限定されるもの
でなく、コーティング液が良好に分散してスプレーでき
る装置であれば如何なるものでもよい。 塗布に用いる
スプレーガンの操作は手動でもよいし、ロボットを使っ
て自動化された方法を用いてもよいが、自動化された方
法を用いると再現性の優れたスプレーコーティングがで
きる。 さらに、スプレーガンと基板との間に電圧を印
加する、所謂静電スプレーコーティングを行えば塗着効
率を高めることができる。
【0027】なお、上記のスプレーコーティングは、所
望する触媒活性や寿命に応じて定めることができ、1回
でもよいし、また2回以上行ってもよい。
望する触媒活性や寿命に応じて定めることができ、1回
でもよいし、また2回以上行ってもよい。
【0028】かくしてコーティング液が塗布された基板
は、さらに乾燥し、硬化処理される。乾燥は80〜12
0℃で10〜60分行えばよい。硬化処理条件は用いら
れる基板材料に応じて適宜選択することができる。例え
ば空気中室温で1〜3日放置するか、空気中100〜2
50℃で焼成すればよい。あるいは、湿潤空気中90〜
120℃で3〜5時間加熱してもよい。
は、さらに乾燥し、硬化処理される。乾燥は80〜12
0℃で10〜60分行えばよい。硬化処理条件は用いら
れる基板材料に応じて適宜選択することができる。例え
ば空気中室温で1〜3日放置するか、空気中100〜2
50℃で焼成すればよい。あるいは、湿潤空気中90〜
120℃で3〜5時間加熱してもよい。
【0029】このようにして、コーティング液中のポリ
シラザンは空気中での焼成による酸化や湿潤空気中での
加熱による加水分解、室温放置による酸化と加水分解に
より硬化し、その表面および内部に光触媒粒子が分散し
ているSi−O系またはSi−N−O系セラミックスの
緻密な皮膜となる。この皮膜は耐食性、耐熱性、耐摩耗
性に優れており基板との密着性が高い。また、皮膜がセ
ラミックスであるため光触媒によって分解され劣化する
こともない。従って、光触媒として永続的に使用でき
る。
シラザンは空気中での焼成による酸化や湿潤空気中での
加熱による加水分解、室温放置による酸化と加水分解に
より硬化し、その表面および内部に光触媒粒子が分散し
ているSi−O系またはSi−N−O系セラミックスの
緻密な皮膜となる。この皮膜は耐食性、耐熱性、耐摩耗
性に優れており基板との密着性が高い。また、皮膜がセ
ラミックスであるため光触媒によって分解され劣化する
こともない。従って、光触媒として永続的に使用でき
る。
【0030】本発明の製造法で得られた光触媒担持基板
は、基板上に光触媒粒子が良好に分散されているうえ、
皮膜が耐食性、耐熱性、耐摩耗性に優れており基板との
密着性が高いため、光触媒の活性が長期間維持され、か
つ基板の寿命が長い。この光触媒担持基板は、例えば道
路の防音壁、ガードレール、道路標識、信号機、建物の
外壁、電話ボックス、水浄化設備等の形態で効果的に適
用される。
は、基板上に光触媒粒子が良好に分散されているうえ、
皮膜が耐食性、耐熱性、耐摩耗性に優れており基板との
密着性が高いため、光触媒の活性が長期間維持され、か
つ基板の寿命が長い。この光触媒担持基板は、例えば道
路の防音壁、ガードレール、道路標識、信号機、建物の
外壁、電話ボックス、水浄化設備等の形態で効果的に適
用される。
【0031】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0032】実 施 例 1 (1)酸化チタン分散液の調製 酸化チタン(日本アエロジル社製アエロジルP−25)
10g、分散剤(ゼネカ社製ソルスパース#1700
0) 1.8gおよびm−キシレン 88.2gをボールミ
ルで4時間混合し、酸化チタン分散液aを調製した。
分散液aの酸化チタンの粒子径は0.1μmであった。
別に、前記と同じ材料をボールミルで1.5時間混合
し、酸化チタン分散液bを調製した。 分散液bの酸化
チタンの粒子径は0.2μmであった。
10g、分散剤(ゼネカ社製ソルスパース#1700
0) 1.8gおよびm−キシレン 88.2gをボールミ
ルで4時間混合し、酸化チタン分散液aを調製した。
分散液aの酸化チタンの粒子径は0.1μmであった。
別に、前記と同じ材料をボールミルで1.5時間混合
し、酸化チタン分散液bを調製した。 分散液bの酸化
チタンの粒子径は0.2μmであった。
【0033】(2)コーティング液の調製 20重量%ポリシラザン(東燃製N−L114、数平均
分子量900)のm−キシレン溶液 30gに(1)で
得た分散液a、分散液bをそれぞれ60g混合し、2種
類のコーティング液a−1およびb−1を得た。 コー
ティング液a−1、b−1のいずれも酸化チタン:ポリ
シラザン(固形分)の重量比は1:1であった。
分子量900)のm−キシレン溶液 30gに(1)で
得た分散液a、分散液bをそれぞれ60g混合し、2種
類のコーティング液a−1およびb−1を得た。 コー
ティング液a−1、b−1のいずれも酸化チタン:ポリ
シラザン(固形分)の重量比は1:1であった。
【0034】(3)基板への皮膜形成 50×50×1mmのステンレス製板をキシレンで洗浄
し、80℃で10分乾燥した。 この板の片面全面に
(2)で得たコーティング液a−1、b−1をそれぞ
れ、アネスト岩田(株)製ハンドスプレーHP−E1を
用いる2流体法スプレーコーティングにより、窒素ガス
圧力2kg/cm2で塗布した。 次に、塗布された基板
を100℃で10分乾燥した後、空気中250℃で1.
5時間焼成し、その表面および内部に酸化チタンが分散
された皮膜が形成された基板A−1およびB−1を得
た。
し、80℃で10分乾燥した。 この板の片面全面に
(2)で得たコーティング液a−1、b−1をそれぞ
れ、アネスト岩田(株)製ハンドスプレーHP−E1を
用いる2流体法スプレーコーティングにより、窒素ガス
圧力2kg/cm2で塗布した。 次に、塗布された基板
を100℃で10分乾燥した後、空気中250℃で1.
5時間焼成し、その表面および内部に酸化チタンが分散
された皮膜が形成された基板A−1およびB−1を得
た。
【0035】実 施 例 2 実施例1(2)において、20重量%ポリシラザンのm
−キシレン溶液を20g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ80g混合してコーティング液a−2、b−2とした
以外は実施例1と同様にして基板A−2およびB−2を
得た。 コーティング液a−2、b−2のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は2:1であ
った。
−キシレン溶液を20g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ80g混合してコーティング液a−2、b−2とした
以外は実施例1と同様にして基板A−2およびB−2を
得た。 コーティング液a−2、b−2のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は2:1であ
った。
【0036】実 施 例 3 実施例1(2)において、20重量%ポリシラザンのm
−キシレン溶液を10g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ60g混合してコーティング液a−3、b−3とした
以外は実施例1と同様にして基板A−3およびB−3を
得た。 コーティング液a−3、b−3のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は3:1であ
った。
−キシレン溶液を10g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ60g混合してコーティング液a−3、b−3とした
以外は実施例1と同様にして基板A−3およびB−3を
得た。 コーティング液a−3、b−3のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は3:1であ
った。
【0037】実 施 例 4 実施例1(2)において、20重量%ポリシラザンのm
−キシレン溶液を10g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ80g混合してコーティング液a−4、b−4とした
以外は実施例1と同様にして基板A−4およびB−4を
得た。 コーティング液a−4、b−4のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は4:1であ
った。
−キシレン溶液を10g、分散液a、分散液bをそれぞ
れ80g混合してコーティング液a−4、b−4とした
以外は実施例1と同様にして基板A−4およびB−4を
得た。 コーティング液a−4、b−4のいずれも酸化
チタン:ポリシラザン(固形分)の重量比は4:1であ
った。
【0038】比 較 例 1〜4 実施例1〜4と同様のコーティング液を、ミカサ(株)
製スピンコーター1H−D×2を用いてスピンコーティ
ング(第1段階:500rpmで2秒、第2段階:80
0rpmで20秒)で基板に塗布し、比較例C−1およ
びD−1〜C−4およびD−4を得た。
製スピンコーター1H−D×2を用いてスピンコーティ
ング(第1段階:500rpmで2秒、第2段階:80
0rpmで20秒)で基板に塗布し、比較例C−1およ
びD−1〜C−4およびD−4を得た。
【0039】試 験 例 実施例1〜4および比較例1〜4で得た皮膜の光触媒能
を次のようにして評価した。 すなわち、まず試験する
皮膜の全面にサラダ油 0.5gを塗布し、これを温度6
0℃、相対湿度0.5%の雰囲気下に置き、5mW/c
m2の強度のブラックライト(紫外線光)を24時間お
よび72時間照射した。 次いで、皮膜上に残留したサ
ラダ油の重量を測定し、次式により油分解率を算出し、
光触媒能を評価した。 結果を表1に示す。
を次のようにして評価した。 すなわち、まず試験する
皮膜の全面にサラダ油 0.5gを塗布し、これを温度6
0℃、相対湿度0.5%の雰囲気下に置き、5mW/c
m2の強度のブラックライト(紫外線光)を24時間お
よび72時間照射した。 次いで、皮膜上に残留したサ
ラダ油の重量を測定し、次式により油分解率を算出し、
光触媒能を評価した。 結果を表1に示す。
【0040】
【表1】
【0041】この結果から明らかなように、本発明の製
造法により得られた光触媒担持基板は、スピンコーティ
ングで塗布された比較例の基板に比較して油分解率が高
く、優れた光触媒能を有することが示された。
造法により得られた光触媒担持基板は、スピンコーティ
ングで塗布された比較例の基板に比較して油分解率が高
く、優れた光触媒能を有することが示された。
【0042】
【発明の効果】スプレーコーティングで塗布する本発明
の製造法によれば、光触媒粒子が皮膜中に良好に分散さ
れているため、得られた基板の光触媒活性が高く、活性
が長期間維持される利点を有する。さらに、ポリシラザ
ン類は硬化処理すると基板への密着性の優れた緻密なセ
ラミックスの皮膜となるため、光触媒が基板から脱落す
ることもなく寿命の長い光触媒担持基板が得られる。 以 上
の製造法によれば、光触媒粒子が皮膜中に良好に分散さ
れているため、得られた基板の光触媒活性が高く、活性
が長期間維持される利点を有する。さらに、ポリシラザ
ン類は硬化処理すると基板への密着性の優れた緻密なセ
ラミックスの皮膜となるため、光触媒が基板から脱落す
ることもなく寿命の長い光触媒担持基板が得られる。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 183/16 C09D 183/16 (72)発明者 白江 克則 神奈川県相模原市大山町1番3号 日本金 属工業株式会社内 (72)発明者 今井 大輔 神奈川県相模原市大山町1番3号 日本金 属工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 光触媒作用を有する半導体微粒子およ
びポリシラザンを含有する汚れ除去皮膜形成用液を、ス
プレーコーティングにより基板に塗布し、次いでこれを
硬化させることを特徴とする光触媒担持基板の製造法。 - 【請求項2】 光触媒作用を有する半導体微粒子が酸
化チタンである請求項1に記載の光触媒担持基板の製造
法。 - 【請求項3】 汚れ除去皮膜形成用液中の酸化チタン
の粒子径が0.05〜1μmである請求項2に記載の光
触媒担持基板の製造法。 - 【請求項4】 汚れ除去皮膜形成用液中の酸化チタン
とポリシラザンの重量比が1:1〜10:1である請求項
2または3に記載の光触媒担持基板の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10046378A JPH11227091A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 光触媒担持基板の製造法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10046378A JPH11227091A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 光触媒担持基板の製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH11227091A true JPH11227091A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12745490
Family Applications (1)
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JP10046378A Pending JPH11227091A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | 光触媒担持基板の製造法 |
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JP (1) | JPH11227091A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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1998
- 1998-02-13 JP JP10046378A patent/JPH11227091A/ja active Pending
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