JP6961932B2 - 光触媒、及び、光触媒形成用組成物 - Google Patents
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- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 234
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 172
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 86
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 86
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 80
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 76
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 45
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 22
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 55
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N dodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 5-[dimethoxy(methyl)silyl]pentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(N)CCN OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 5-trimethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCN KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 1
- PRITYMRQBPHKEZ-UHFFFAOYSA-N C(CC)O[AlH]OCCC Chemical compound C(CC)O[AlH]OCCC PRITYMRQBPHKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241001074085 Scophthalmus aquosus Species 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ti] Chemical compound [Si].[Ti] UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YGUFXEJWPRRAEK-UHFFFAOYSA-N dodecyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC YGUFXEJWPRRAEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N iron;titanium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti].[Fe] YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 230000000474 nursing effect Effects 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006836 terphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWZATVIRTOMCCI-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(2-methylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C MWZATVIRTOMCCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQEGZYAXBCFSBS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(4-methylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C)C=C1 XQEGZYAXBCFSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
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-
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- A62D3/17—Processes for making harmful chemical substances harmless or less harmful, by effecting a chemical change in the substances by subjecting to electric or wave energy or particle or ionizing radiation to electromagnetic radiation, e.g. emitted by a laser
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
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- B01J35/39—
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- B01J37/08—Heat treatment
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- B01J35/19—
Description
また、特許文献4には、「有機溶媒水溶液中にチタニウムブトキシトを混合し、150〜220℃に加熱して上記チタニウムブトキシトを加水分解し、これを乾燥させて中間生成物を得る第1ステップ、上記中間生成物を150〜300℃で焼成する第2ステップ、を含む光触媒の製造方法」が開示されている。
また、特許文献10には、「酸化チタン微粒子をアルカリ性水溶液に分散させ、該分散液に、酸化チタン微粒子100重量部当り、1〜1000重量部の割合でトリアルコキシシランを添加して加水分解を行うことにより、酸化チタン微粒子表面上にトリアルコキシシラン加水分解縮合生成物の皮膜を形成させる疎水性酸化チタン微粒子の製造方法」が開示されている。
炭化水素基を有する金属含有化合物により表面処理され、
可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持ち、
表面における前記金属含有化合物の金属Mとチタンとの元素比M/Tiが0.1以上0.4以下であり、かつ炭素Cとチタンとの元素比C/Tiが0.3以上1.2以下である
メタチタン酸粒子である。
可視吸収スペクトルにおいて波長400nm以上800nm以下の全範囲に吸収を持つ<1>に記載のメタチタン酸粒子である。
表面における酸素Oと、前記金属M及びチタンとの元素比の関係O/(M+Ti)の値が、2.05以上2.5以下である<1>又は<2>に記載のメタチタン酸粒子である。
前記金属含有化合物の金属が、ケイ素である<1>乃至<3>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子である。
前記金属含有化合物が、一般式:R1 nSiR2 m(R1は炭素数1以上20以下の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示し、R2はハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、nは1以上3以下の整数を示し、mは1以上3以下の整数を示す。ただし、n+m=4である。また、nが2又は3の整数を示す場合、複数のR1は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。mが2又は3の整数を示す場合、複数のR2は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。)で表される化合物である<1>乃至<4>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子である。
前記炭化水素基が、飽和脂肪族炭化水素基である<1>乃至<5>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子である。
前記飽和脂肪族炭化水素基の炭素数が、4以上10以下である<6>に記載のメタチタン酸粒子である。
前記メタチタン酸粒子の体積平均粒径が、10nm以上1μm以下である<1>乃至<7>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子である。
炭化水素基を有する金属化合物により未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する工程、及び、前記未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する工程中又は後に、メタチタン酸粒子を加熱処理する工程、を含む<1>乃至<8>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子の製造方法である。
<1>乃至<8>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子と、分散媒及びバインダーよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物とを含む光触媒形成用組成物である。
<1>乃至<8>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子を含む、又は、からなる光触媒である。
<1>乃至<8>のいずれか1つに記載のメタチタン酸粒子を有する構造体である。
<3>によれば、表面における酸素Oと、前記金属M及びチタンとの元素比の関係O/(M+Ti)の値が2.05未満若しくは2.5を超えの場合に比べ、可視光領域においても高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<4>によれば、炭化水素基を有する金属含有化合物の金属がケイ素以外の場合に比べ、可視光領域においても高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<5>によれば、炭化水素基を有する金属含有化合物がヘキサメチルジシラザンである場合に比べ、可視光領域においてもより高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<6>によれば、前記炭化水素基が芳香族炭化水素基である場合に比べ、可視光領域においてもより高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<7>によれば、前記炭化水素基を有する金属含有化合物が炭素数3以下又は11以上である飽和脂肪族炭化水素基を有する場合に比べ、可視光領域においてもより高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<8>によれば、メタチタン酸粒子の体積平均粒径が10nm未満又は1μm超えの場合に比べ、可視光領域においてもより高い光触媒機能を発現するメタチタン酸粒子が提供される。
<10>、<11>又は<12>によれば、炭化水素基を有する金属含有化合物により表面処理されたメタチタン酸粒子の表面における前記金属含有化合物の金属Mとチタンとの元素比M/Tiが0.1未満若しくは0.4を超え、炭素Cとチタンとの元素比C/Tiが0.3未満若しくは1.2を超えの場合に比べ、可視光領域においても高い光触媒機能を発現する光触媒形成用組成物、光触媒、又は、構造体が提供される。
本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、炭化水素基を有する金属含有化合物により表面処理され、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持ち、表面における前記金属含有化合物の金属Mとチタンとの元素比M/Tiが0.1以上0.4以下であり、かつ炭素Cとチタンとの元素比C/Tiが0.3以上1.2以下である。
本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、光触媒として好適に用いられる。
メタチタン酸粒子表面におけるM/Ti元素比が0.1以上0.4以下であることにより、金属含有化合物による表面処理量が適度であり、波長450nm及び750nmに十分な吸収を有し、可視光領域において高い光触媒機能を発現する。
前記M/Ti元素比が0.1未満であると、メタチタン酸粒子表面の金属含有化合物による被覆量が少ないため、波長450nm及び750nmに十分な吸収が得られず、可視光領域における光触媒機能が劣る。また、前記M/Ti元素比が0.4を超えると、メタチタン酸粒子表面の金属含有化合物による被覆量が多く、メタチタン酸粒子におけるメタチタン酸の活性部分の露出量が減少するため、可視光領域における光触媒機能が劣る。
前記C/Ti元素比が0.3未満であると、メタチタン酸粒子表面における炭素量が少ないため、波長450nm及び750nmに十分な吸収が得られず、可視光領域における光触媒機能が劣る。また、前記C/Ti元素比が1.2を超えると、メタチタン酸粒子表面における炭化水素基の量が多いため、メタチタン酸粒子表面におけるメタチタン酸の活性部分の露出量が減少し、また、光触媒機能により前記炭化水素基が分解される場合も生じるため、可視光領域における光触媒機能が劣る。
一方、取り込まれた炭素は、電荷分離物質として機能し、光触媒機能が発現すると考えられる。また、炭素は、紫外光と共に可視光の光吸収によっても光電荷分離機能が働き、光触媒機能が発現すると考えられる。これはメタチタン酸粒子が、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持つことを示している。更に、電荷分離物質としての炭素は、光吸収によって生じた電荷の分離を促進する機能も有し、助触媒としても作用しうる。
しかし、本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、表面に炭化水素基を有するため、塗膜中における一次粒子の分散性も確保されている。このため、均一に近い塗膜が形成でき、効率良くメタチタン酸粒子に光が当たり、光触媒機能が発揮され易くなる。また、フィルム等の透明性、塗布液の塗膜の均一性も高まりデザイン性も保たれる。その結果、例えば、外壁材、板、パイプ、不織布(セラミック等の不織布)の表面に、メタチタン酸粒子を含む塗料を塗着するとき、メタチタン酸粒子の凝集、塗布欠陥が抑制され、長期にわたり、光触媒機能が発揮され易くなる。
未処理のメタチタン酸粒子(表面処理の対象となるメタチタン酸粒子)は、チタン酸水和物TiO2・nH2Oのうち、n=1のチタン酸の粒子をいう。
なお、本実施形態における未処理のメタチタン酸粒子は、炭化水素基を有する金属含有化合物により表面処理されていないメタチタン酸粒子であり、他の表面処理を除外するものでないことは言うまでもないが、本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、炭化水素基を有する金属含有化合物のみにより表面処理されたメタチタン酸粒子であることが好ましい。
硫酸法(液相法)の一例は、次の通りである。まず、原料であるイルメナイト鉱石(FeTiO3)又はチタンスラグを濃硫酸に溶解させ、不純物である鉄成分を硫酸鉄(FeSO4)として分離し、一度、オキシ硫酸チタン(TiOSO4)とする(硫酸チタニル溶液)。次に、オキシ硫酸チタン(TiOSO4)を加水分解することにより、未処理のメタチタン酸[オキシ水酸化チタン(TiO(OH)2)]粒子が得られる。
本実施形態における前記金属含有化合物は、炭化水素基を有する。
金属含有化合物が有する炭化水素基としては、炭素数1以上40以下(好ましくは炭素数1以上18以下、より好ましくは炭素数4以上12以下、更に好ましくは炭素数4以上10以下)の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基等が挙げられる。
また、前記炭化水素基は、前記金属含有化合物における金属に直接結合していても、直接結合していなくともよいが、高い光触媒機能の発揮及び分散性の向上の観点から、直接結合していることが好ましい。
前記シラン化合物としては、例えば、クロロシラン化合物、アルコキシシラン化合物、シラザン化合物(ヘキサメチルジシラザン等)等が挙げられる。
一般式:R1 nSiR2 mにおいて、R1は炭素数1以上20以下の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示し、R2はハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、nは1以上3以下の整数を示し、mは1以上3以下の整数を示す。ただし、n+m=4である。また、nが2又は3の整数を示す場合、複数のR1は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。mが2又は3の整数を示す場合、複数のR2は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。
不飽和脂肪族炭化水素基としては、アルケニル基(ビニル基(エテニル基)、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、1−ブテニル基、1−ヘキセニル基、2−ドデセニル基、ペンテニル基等)、アルキニル基(エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、3−ヘキシニル基、2−ドデシニル基等)などが挙げられる。
脂肪族炭化水素基は、置換された脂肪族炭化水素基も含む。脂肪族炭化水素基に置換し得る置換基としては、エポキシ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、置換された芳香族炭化水素基も含む。芳香族炭化水素基に置換し得る置換基としては、エポキシ基、グリシジル基、メルカプト基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、n−ヘキシロキシ基、2−エチルヘキシロキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
アルコキシ基は、置換されたアルコキシ基も含む。アルコキシ基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アルコキシ基、アミド基、カルボニル基等が挙げられる。
なお、シラン化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
また、前記シラン化合物における前記炭化水素基は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、炭素数1以上18以下であることが好ましく、炭素数4以上12以下であることがより好ましく、炭素数4以上10以下であることが特に好ましい。
本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持つ。
本実施形態に係るメタチタン酸粒子は、可視光領域においても高い光触媒機能を発現させる観点から、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm、600nm及び750nmに吸収を持つことが好ましく、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm以上750nm以下の全範囲に吸収を持つことがより好ましく、可視吸収スペクトルにおいて波長400nm以上800nm以下の全範囲に吸収を持つことが特に好ましい。
また、可視光領域においても高い光触媒機能を発現させる観点から、メタチタン酸粒子は、紫外可視吸収スペクトルにおいて、波長350nmの吸光度を1としたとき、波長450nmの吸光度が0.02以上(好ましくは0.1以上)であることが好ましく、波長450nmの吸光度が0.2以上(好ましくは0.3以上)、波長750nmの吸光度が0.02以上(好ましくは0.1以上)であることがより好ましい。
具体的には、例えば、可視光領域においても高い光触媒機能を発現させる観点から、メタチタン酸粒子は、表面におけるM/Ti元素比が0.15以上0.36以下であることが好ましく、0.17以上0.33以下であることがより好ましい。
また、可視光領域においても高い光触媒機能を発現させる観点から、メタチタン酸粒子は、表面におけるC/Ti元素比が0.4以上1.1以下であることが好ましく、0.5以上1.0以下であることがより好ましく、0.6以上0.9以下であることが特に好ましい。
また、可視光領域においても高い光触媒機能を発現させる観点から、メタチタン酸粒子は、表面における酸素Oと、前記金属M及びチタンとの元素比の関係O/(M+Ti)の値が2.05以上2.5以下であることが好ましく、2.1以上2.45以下であることがより好ましく、2.15以上2.4以下であることが更に好ましい。
前記O/(M+Ti)元素比が2.05未満であると、メタチタン酸粒子表面の炭化水素基の炭化が十分でなく、波長450nm及び750nmに高い吸収が得られず、可視光領域における光触媒機能が十分でない場合がある。また、前記O/(M+Ti)元素比が2.5を超えると、メタチタン酸粒子表面のO原子が多いため、メタチタン酸粒子表面におけるメタチタン酸の活性部分の露出量が減少するため、可視光領域における光触媒機能が十分でない場合がある。
メタチタン酸粒子の体積平均粒径を10nm以上にすると、メタチタン酸粒子の凝集し難く、光触媒機能が高まりやすい。メタチタン酸粒子の体積平均粒径を1μm以下にすると、量に対する比表面積の割合が大きくなり、光触媒機能が高まりやすい。このため、メタチタン酸粒子の体積平均粒径を上記範囲にすると、可視光領域において高い光触媒機能を発現させ易くなる。
そして、動的光散乱式粒度測定装置により測定される粒度分布を基にして、分割された粒度範囲(チャンネル)に対して個々の粒子の体積をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積50%となる粒径を体積平均粒径として求める。
本実施形態に係るメタチタン酸粒子の製造方法は、特に制限はないが、炭化水素基を有する金属含有化合物により未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する工程、及び、前記未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する工程中又は後に、メタチタン酸粒子を加熱処理する工程、を含むことが好ましい。
金属含有化合物より、未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する方法としては、特に制限はないが、例えば、金属含有化合物自体を直接、未処理のメタチタン酸粒子に接触させる方法、溶媒に金属含有化合物を溶解させた処理液を、未処理のメタチタン酸粒子に接触させる方法等が挙げられる。具体的には、例えば、未処理のメタチタン酸粒子を溶媒に分散した分散液に、撹拌下で、金属含有化合物自体又は処理液を添加する方法、ヘンシェルミキサー等の撹拌などにより流動している状態の未処理のメタチタン酸粒子に添加(滴下、噴霧等)する方法などが挙げられる。
これら方法により、金属含有化合物中の反応性基(例えば加水分解性基)が、未処理のメタチタン酸粒子の表面に存在する加水分解性基(水酸基、ハロゲノ基、アルコキシ基等)等と反応し、金属含有化合物よる未処理のメタチタン酸粒子の表面処理がなされる。
炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シクロヘキサンなどが挙げられる。エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミルなどが挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジベンジルエーテルなどが挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン、1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素などが挙げられる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、i−プロピルアルコールなどが挙げられる。水としては、例えば、水道水、蒸留水、純水などが挙げられる。
なお、溶媒としては、これら以外に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、硫酸などの溶媒を用いてもよい。
なお、未処理のメタチタン酸粒子を表面処理する工程中に加熱処理を行う場合、先ず始めに前記表面処理の温度で金属含有化合物を十分反応させた後に前記加熱処理の温度で加熱処理を実施する。また、表面処理後の乾燥処理において加熱処理を行う場合、前記乾燥処理の温度は、加熱処理温度として実施する。
加熱処理の時間は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、10分以上300分以下が好ましく、30分以上120分以下がより好ましい。
本実施形態に係る光触媒形成用組成物は、本実施形態に係るメタチタン酸粒子と、分散媒及びバインダーよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物とを含む。
本実施形態に係る光触媒形成用組成物の態様としては、例えば、本実施形態に係るメタチタン酸粒子、及び、分散媒を含む分散液、本実施形態に係るメタチタン酸粒子、及び、有機・無機バインダーを含む組成物などの態様が挙げられる。
なお、前記分散液は、粘度が高いペースト状のものであってもよい。
水としては、例えば、水道水、蒸留水、純水などが挙げられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、例えば、炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒等が挙げられる。
また、前記分散液は、分散安定性及び保存安定性の観点から、分散剤、及び、界面活性剤よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含有することが好ましい。分散剤及び界面活性剤としては、公知のものが用いられる。
また、前記分散液は、前記バインダーをエマルションとして含んでいてもよい。
その他の成分としては、公知の添加剤が用いられ、例えば、助触媒、着色剤、充填剤、防腐剤、消泡剤、密着改良剤、増粘剤などが挙げられる。
本実施形態に係る光触媒形成用組成物における本実施形態に係るメタチタン酸粒子の含有量は、特に制限はなく、分散液、樹脂組成物等の各種態様、及び、所望の光触媒量等に応じて、適宜選択すればよい。
本実施形態に係る光触媒形成用組成物の付与方法としては、例えば、スピンコーティング法、ディップコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、刷毛塗り法、スポンジ塗り法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などが挙げられる。
本実施形態に係る光触媒は、本実施形態に係るメタチタン酸粒子を含む、又は、からなる。
また、本実施形態に係る構造体は、本実施形態に係るメタチタン酸粒子を有する。
また、本実施形態に係る構造体は、光触媒として、本実施形態に係るメタチタン酸粒子を有することが好ましい。
本実施形態に係る構造体は、基材表面の少なくとも一部に本実施形態に係るメタチタン酸粒子を少なくとも有する構造体であることが好ましく、基材表面の少なくとも一部に本実施形態に係る光触媒形成用組成物を付与して形成された構造体であることが好ましい。
前記構造体において、本実施形態に係る光触媒形成用組成物を付与する量は、特に制限はなく、所望に応じて選択すればよい。
更に、本実施形態に係る構造体においては、基材表面に本実施形態に係るメタチタン酸粒子が付着した状態であっても、固定化されていてもよいが、光触媒の耐久性の観点から、固定化されていることが好ましい。固定化方法は、特に制限はなく、公知の固定化方法が用いられる。
基材の好ましい例としては、金属、セラミック、ガラス、プラスチック、ゴム、石、セメント、コンクリート、繊維、布帛、木、紙、それらの組合せ、それらの積層体、それらの表面に少なくとも一層の被膜を有するものが挙げられる。
用途の観点からみた基材の好ましい例としては、建材、外装材、窓枠、窓ガラス、鏡、テーブル、食器、カーテン、レンズ、プリズム、乗物の外装及び塗装、機械装置や物品の外装、防塵カバー及び塗装、交通標識、各種表示装置、広告塔、道路用遮音壁、鉄道用遮音壁、橋梁、ガードレールの外装及び塗装、トンネル内装及び塗装、碍子、太陽電池カバー、太陽熱温水器集熱カバー、ポリマーフィルム、ポリマーシート、フィルター、屋内看板、屋外看板、車両用照明灯のカバー、屋外用照明器具、空気清浄器、浄水器、医療用器具、介護用品などが挙げられる。
−メタチタン酸スラリーの調製−
TiO2濃度が260g/L、Ti3+濃度がTiO2換算で6.0g/Lの硫酸チタニル溶液に、別途作製したアナターゼシードを硫酸チタニル溶液中のTiO2に対してTiO2換算で8質量%添加した。次に、この溶液を沸点以上で加熱し、硫酸チタニル(TiOSO4)を加水分解し、粒状のメタチタン酸を生成した。次に、このメタチタン酸粒子を濾過及び洗浄し、その後、スラリー化して、pH7で中和洗浄した。このようにして、体積平均粒径40nmのメタチタン酸スラリーを得た。
体積平均粒径40nmのメタチタン酸スラリーに、撹拌しながら5N水酸化ナトリウム水溶液を加えpH8.5として2時間撹拌保持後、6N塩酸にてpH5.8まで中和し、ろ過、水洗を行った。洗浄後、更に水を加え再びスラリーとし、撹拌をしながら6N塩酸を加えpH1.3とし、3時間撹拌保持した。このスラリーからメタチタン酸として、100部分を分取し、60℃に加温保持し、撹拌しながら、イソブチルトリメトキシシラン40部を添加し、30分間撹拌保持後、7N水酸化ナトリウム水溶液を加えpH7まで中和し、ろ過、水洗を行った。ろ過、水洗済み残留分を、気流式乾燥機により出口温度150℃の条件で噴霧乾燥して、乾燥粉体を得た。
そして、得られた乾燥粉体に対し、電気炉で400℃、1時間の加熱処理を行い、メタチタン酸粒子1を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをヘキシルトリメトキシシランとした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子2を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをデシルトリメトキシシランとした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子3を得た。
実施例2において、ヘキシルトリメトキシシランの添加量を40部から50部に変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子4を得た。
実施例2において、乾燥後の粉体粒子を加熱処理するときの電気炉での温度を400℃から250℃とした以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子5を得た。
実施例1において、乾燥後の粉体粒子を加熱処理するときの電気炉での温度を400℃から500℃とした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子6を得た。
実施例2において、ヘキシルトリメトキシシランの添加量を40部から25部に変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子7を得た。
実施例2において、ヘキシルトリメトキシシランの添加量を40部から75部に変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子8を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシラン40部をオクチルトリメトキシシラン35部に変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子9を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシランに変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子10を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをヘキサメチルジシラザンに変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒11を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシラン40部をドデシルトリメトキシシラン30部に変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子12を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをフェニルトリメトキシシランに変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子13を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランの添加量を40部から10部に変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子14を得た。
実施例2において、乾燥後の粉体粒子を加熱処理するときの電気炉での温度を400℃から180℃とした以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子15を得た。
実施例2において、メタチタン酸スラリーの体積平均粒径を40nmから12nmに変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子16を得た。
実施例2において、メタチタン酸スラリーの体積平均粒径を40nmから980nmに変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子17を得た。
実施例2において、メタチタン酸スラリーの体積平均粒径を40nmから6nmに変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子18を得た。
実施例2において、メタチタン酸スラリーの体積平均粒径を40nmから1100nmに変更した以外は、実施例2と同様にして、メタチタン酸粒子19を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランをアセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート(AL−M、味の素(株)製、なお、アセトアルコキシのアルコキシ基は、オキサデシルオキシ基である。)とした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子20を得た。
市販のアナターゼ型酸化チタン粒子(「SSP−20(堺化学工業(株)製)」体積平均粒径12nm))を、そのまま、酸化チタン粒子C1とした。
市販のルチル型酸化チタン粒子(「STR−100N(堺化学工業(株)製)」体積平均粒径16nm))を、そのまま、酸化チタン粒子C2とした。
市販のアナターゼ型酸化チタン粒子(「SSP−20(堺化学工業(株)製)」体積平均粒径12nm))に対して、電気炉で400℃、1時間の加熱処理を行い、酸化チタン粒子C3を得た。
市販のルチル型酸化チタン粒子(「STR−100N(堺化学工業(株)製)」体積平均粒径16nm))に対して、電気炉で400℃、1時間の加熱処理を行い、酸化チタン粒子C4を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランの添加量を40部から5部に変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子C5を得た。
実施例1において、イソブチルトリメトキシシランの添加量を40部から120部に変更した以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子C6を得た。
実施例1において、乾燥後の粉体粒子を加熱処理するときの電気炉での温度を400℃から600℃とした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子C7を得た。
実施例1において、乾燥後の粉体粒子を加熱処理するときの電気炉での温度を400℃から160℃とした以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子C8を得た。
実施例1において、乾燥後の粉体粒子の加熱処理を実施しない以外は、実施例1と同様にして、メタチタン酸粒子C9を得た。
各例で得られた粒子について、紫外可視吸収スペクトル特性を確認し、実施例1〜20及び比較例5〜7の粒子は波長400nm以上800nm以下の範囲に吸収を有していた。なお表1中に「UV−Vis特性」と表記したものは、波長350nmの吸光度を1にとしたとき、波長450nm、波長600nm及び波長750nmのそれぞれの吸光度である。XPSによる粒子表面におけるM/Ti元素比、C/Ti元素比及びO/(M+Ti)の値、並びに、体積平均粒径(表中「D50v」と表記)を既述の方法に従って測定した。
(分解性(光触媒活性))
可視光領域での光触媒特性として、分解性を評価した。
分解性の評価は、万年筆用インク((株)パイロットコーポレーション製:INK−30−R)の分解性(色度変動)により評価した。具体的には、各例で得られた粒子を固形分濃度2質量部になるように4質量部のメタノールを含む純水に分散させた後、その分散液をタイル(5cm四方)に噴霧塗布した後、乾燥し、タイル表面に均一にサンプル粒子を付着させた。
続いて、その表面に、万年筆用インクをメタノール・純水混合液(メタノール:純水=3:5)で15倍に希釈調整した希釈インクを噴霧塗布した後、乾燥し、試験片を作製した。
波長400nm以上800nm以下の可視光を照射する発光ダイオード(LED)を使用(ただし、インクの吸収波長領域(波長450nm以上550nm以下)はフィルターでカットした。)し、試験片作製直後の試験片に可視光(10,000LX(ルクス))を2時間連続照射した。その際、試験片の照射面中央部に5円玉を設置し、照射の遮蔽部分を形成した。
なお、色度EはE={(L*)2+(a*)2+(b*)2}0.5で算出される値であり、各L*、a*、及び、b*はL*a*b*表色系を基準とした値である。
・式:ΔE1=可視光の2時間連続照射後の照射面の色度−試験片作製直後の試験片面の色度
・式:ΔE2=可視光の2時間連続照射後の照射遮蔽面の色度−試験片作製直後の試験片面の色度
そして、消色変動値ΔE=ΔE1−ΔE2に基づいて、分解性を評価した。評価基準は以下の通りである。
A(○):25%≦ΔE
B(△):10%≦ΔE<25%
C(×):ΔE<10%
分散性について、次のように評価した。ビーカーに各例で得られた粒子0.05gを入れ、メチルエチルケトン40gを添加し、続いて超音波分散機で10分間分散した後の粒度分布をナノトラックUPA−ST(マイクロトラック・ベル社製動的光散乱式粒度測定装置)により測定し、体積粒度分布の分布形態により評価した。評価基準は以下の通りである。
A(○):体積粒度分布のピーク値が一山であり、分散性が良好なもの
B(△):体積粒度分布が二山であるが、メインピーク値が他ピーク値の10倍以上あり、実用上分散性に問題が無いもの
C(×):体積粒度分布のピーク値が三山以上あり、分散不良なもの
Claims (8)
- 表面に、炭化水素基を有する金属含有化合物が結合してなる構造を有し、表層から内部にかけて炭化水素及び炭化したカーボンを有し、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持ち、表面における前記金属含有化合物の金属Mとチタンとの元素比M/Tiが0.1以上0.4以下であり、かつ炭素Cとチタンとの元素比C/Tiが0.3以上1.2以下であり、表面における酸素Oと、前記金属M及びチタンとの元素比の関係O/(M+Ti)の値が、2.05以上2.5以下であるメタチタン酸粒子を含む、又は、からなる
光触媒。 - 可視吸収スペクトルにおいて波長400nm以上800nm以下の全範囲に吸収を持つ請求項1に記載の光触媒。
- 前記金属含有化合物の金属が、ケイ素である請求項1又は請求項2に記載の光触媒。
- 前記金属含有化合物が、一般式:R1 nSiR2 m(R1は炭素数1以上20以下の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示し、R2はハロゲン原子又はアルコキシ基を示し、nは1以上3以下の整数を示し、mは1以上3以下の整数を示す。ただし、n+m=4である。また、nが2又は3の整数を示す場合、複数のR1は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。mが2又は3の整数を示す場合、複数のR2は同じ基を示してもよいし、異なる基を示してもよい。)で表される化合物である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の光触媒。
- 前記炭化水素基が、飽和脂肪族炭化水素基である請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の光触媒。
- 前記飽和脂肪族炭化水素基の炭素数が、4以上10以下である請求項5に記載の光触媒。
- 前記メタチタン酸粒子の体積平均粒径が、10nm以上1μm以下である請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の光触媒。
- 表面に、炭化水素基を有する金属含有化合物が結合してなる構造を有し、表層から内部にかけて炭化水素及び炭化したカーボンを有し、可視吸収スペクトルにおいて波長450nm及び750nmに吸収を持ち、表面における前記金属含有化合物の金属Mとチタンとの元素比M/Tiが0.1以上0.4以下であり、かつ炭素Cとチタンとの元素比C/Tiが0.3以上1.2以下であり、表面における酸素Oと、前記金属M及びチタンとの元素比の関係O/(M+Ti)の値が、2.05以上2.5以下であるメタチタン酸粒子と、
分散媒及びバインダーよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物とを含む
光触媒形成用組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016240464A JP6961932B2 (ja) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光触媒、及び、光触媒形成用組成物 |
US15/484,407 US20180162887A1 (en) | 2016-12-12 | 2017-04-11 | Metatitanic acid particle, composition for forming photocatalyst, and photocatalyst |
CN201710407083.XA CN108212219A (zh) | 2016-12-12 | 2017-06-02 | 偏钛酸颗粒、其制造方法、光催化剂形成用组合物、光催化剂和结构体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016240464A JP6961932B2 (ja) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光触媒、及び、光触媒形成用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018095499A JP2018095499A (ja) | 2018-06-21 |
JP6961932B2 true JP6961932B2 (ja) | 2021-11-05 |
Family
ID=62488514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016240464A Active JP6961932B2 (ja) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光触媒、及び、光触媒形成用組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180162887A1 (ja) |
JP (1) | JP6961932B2 (ja) |
CN (1) | CN108212219A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6961931B2 (ja) | 2016-12-12 | 2021-11-05 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | メタチタン酸粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに、構造体 |
JP6876908B2 (ja) | 2016-12-12 | 2021-05-26 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタン粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに、構造体 |
JP6939055B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-09-22 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | メタチタン酸粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに構造体 |
JP6939056B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-09-22 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタン粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに構造体 |
JP7069814B2 (ja) * | 2018-02-22 | 2022-05-18 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 構造体 |
JP2020037084A (ja) * | 2018-09-05 | 2020-03-12 | 富士ゼロックス株式会社 | フィルター |
JP7155787B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2022-10-19 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 植物保護剤 |
JP7155788B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2022-10-19 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 植物保護剤 |
JP2020146013A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | 富士ゼロックス株式会社 | 水耕栽培用培地、および水耕栽培装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5965312A (en) * | 1996-05-16 | 1999-10-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | One-component developer |
CN101049962A (zh) * | 2007-05-18 | 2007-10-10 | 广东省生态环境与土壤研究所 | 一种中性纳米二氧化钛溶胶的制备方法 |
JPWO2012032868A1 (ja) * | 2010-09-09 | 2014-01-20 | Hoya株式会社 | 表面修飾チタニア粒子の製造方法、チタニア粒子分散液およびチタニア粒子分散樹脂 |
-
2016
- 2016-12-12 JP JP2016240464A patent/JP6961932B2/ja active Active
-
2017
- 2017-04-11 US US15/484,407 patent/US20180162887A1/en not_active Abandoned
- 2017-06-02 CN CN201710407083.XA patent/CN108212219A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180162887A1 (en) | 2018-06-14 |
CN108212219A (zh) | 2018-06-29 |
JP2018095499A (ja) | 2018-06-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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