JPH11216667A - スラリー供給装置 - Google Patents
スラリー供給装置Info
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- JPH11216667A JPH11216667A JP31273298A JP31273298A JPH11216667A JP H11216667 A JPH11216667 A JP H11216667A JP 31273298 A JP31273298 A JP 31273298A JP 31273298 A JP31273298 A JP 31273298A JP H11216667 A JPH11216667 A JP H11216667A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スラリー供給量を木目細かく制御可能な、
化学的機械的研磨プロセス用のスラリー供給装置を提供
する。 【解決手段】 ホイールの回転によりスラリーを供給
するスラリー供給装置が、集積回路の製造における化学
的機械的研磨プロセスにおいて用いられる。ある実施形
態では、スラリー供給装置が一対の逆転ホイールを用い
ている。両ホイールは、可変速モータにより所望の量の
スラリーを供給すべく実験的に決定された所定の速度で
駆動される。回転ホイールの形状によりスプレーの垂直
方向の分散が制御される。また、装置のハウジングにお
ける開口部及びホイールの回転速度によって、スプレー
の水平方向の分散が制御される。この装置はスラリーに
対して化学的に不活性な材料から構成され得る。
化学的機械的研磨プロセス用のスラリー供給装置を提供
する。 【解決手段】 ホイールの回転によりスラリーを供給
するスラリー供給装置が、集積回路の製造における化学
的機械的研磨プロセスにおいて用いられる。ある実施形
態では、スラリー供給装置が一対の逆転ホイールを用い
ている。両ホイールは、可変速モータにより所望の量の
スラリーを供給すべく実験的に決定された所定の速度で
駆動される。回転ホイールの形状によりスプレーの垂直
方向の分散が制御される。また、装置のハウジングにお
ける開口部及びホイールの回転速度によって、スプレー
の水平方向の分散が制御される。この装置はスラリーに
対して化学的に不活性な材料から構成され得る。
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、液体の供給に関す
る。特に、本発明は、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置
におけるスラリーの供給に関する。
る。特に、本発明は、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置
におけるスラリーの供給に関する。
【従来の技術】サブミクロン集積回路では、多層式相互
接続構造において必要な平坦性を作り出すためにＣＭＰ
技術を用いる。詳述すると、例えばアルミニウム、タン
グステン、又は銅のような相互接続層を被着するための
平坦面を作り出すため、中間層の誘電体（例えば二酸化
シリコン）を、細かい研磨材を含むアルカリ性又は酸性
のスラリーを用いる研磨プロセスによって平坦化する。
このようなスラリーの一例には、ｐＨが約１１に調節さ
れた脱イオン水に懸濁された二酸化シリコン粒子（例え
ば平均粒径７０ｎｍ）が含まれる。アルカリ性は、水酸
化カルシウム（ＫＯＨ）及び水酸化アンモニウム（ＮＨ
3ＯＨ）によって与えることができる。他の用途では、
酸性のスラリーを用いることもある。通常、ＣＭＰポリ
ッシャでは、研磨ヘッドにより、研磨する半導体ウエハ
を研磨パッドに僅かな圧力で押しつけた状態で維持す
る。ＣＭＰで用いる場合は、研磨パッドが通常ポリウレ
タン材料から作られたものである。研磨プロセスの間、
研磨ヘッドは所定の動きパターンに従って半導体ウエハ
を動かす。別形態では、研磨パッドが半導体ウエハに対
して動くプラットフォーム上に取り付けられ得る。研磨
パッドに対する半導体ウエハの動き、及びスラリーの機
械的及び化学的作用とが協働して、ウエハの表面の平坦
化のための研磨作用を与える。このプロセスでは、スラ
リーが大量の水分を含んでいるため、スラリーは研磨材
としてのみならず、ウエハの表面を許容できる温度に維
持する冷却剤としての役目も果たす。従来技術では、こ
のスラリーは、スラリー供給ラインに結合され、適切な
位置に配置されたノズルにより研磨パッドの表面に噴霧
され、且つ蠕動ポンプを用いて１分当たり５０〜５００
ｃｃの量が研磨パッドの表面に供給される。しかし、こ
のような構成では、時間の経過につれ様々な問題が生じ
てくる。具体的には、スラリーからの被着物がノズルを
詰まらせ、スラリーの供給が不均一且つ不十分となるこ
とがある。このような状況では、スラリーの供給が不均
一且つ不十分となるため、研磨の均一性が低下し、更に
過熱のためウエハに重大な損傷が生ずることがある。ま
た、ノズルが良好な状態で作動していたとしても、供給
されるスラリーの量を調節することが困難である。更
に、スラリー供給装置を洗浄するための手段を設けるこ
とも重要である。また乾燥時にスラリーの薄片がはげ落
ちて、それが半導体ウエハ上に付着した場合には、集積
回路の性能を低下させることもある。
接続構造において必要な平坦性を作り出すためにＣＭＰ
技術を用いる。詳述すると、例えばアルミニウム、タン
グステン、又は銅のような相互接続層を被着するための
平坦面を作り出すため、中間層の誘電体（例えば二酸化
シリコン）を、細かい研磨材を含むアルカリ性又は酸性
のスラリーを用いる研磨プロセスによって平坦化する。
このようなスラリーの一例には、ｐＨが約１１に調節さ
れた脱イオン水に懸濁された二酸化シリコン粒子（例え
ば平均粒径７０ｎｍ）が含まれる。アルカリ性は、水酸
化カルシウム（ＫＯＨ）及び水酸化アンモニウム（ＮＨ
3ＯＨ）によって与えることができる。他の用途では、
酸性のスラリーを用いることもある。通常、ＣＭＰポリ
ッシャでは、研磨ヘッドにより、研磨する半導体ウエハ
を研磨パッドに僅かな圧力で押しつけた状態で維持す
る。ＣＭＰで用いる場合は、研磨パッドが通常ポリウレ
タン材料から作られたものである。研磨プロセスの間、
研磨ヘッドは所定の動きパターンに従って半導体ウエハ
を動かす。別形態では、研磨パッドが半導体ウエハに対
して動くプラットフォーム上に取り付けられ得る。研磨
パッドに対する半導体ウエハの動き、及びスラリーの機
械的及び化学的作用とが協働して、ウエハの表面の平坦
化のための研磨作用を与える。このプロセスでは、スラ
リーが大量の水分を含んでいるため、スラリーは研磨材
としてのみならず、ウエハの表面を許容できる温度に維
持する冷却剤としての役目も果たす。従来技術では、こ
のスラリーは、スラリー供給ラインに結合され、適切な
位置に配置されたノズルにより研磨パッドの表面に噴霧
され、且つ蠕動ポンプを用いて１分当たり５０〜５００
ｃｃの量が研磨パッドの表面に供給される。しかし、こ
のような構成では、時間の経過につれ様々な問題が生じ
てくる。具体的には、スラリーからの被着物がノズルを
詰まらせ、スラリーの供給が不均一且つ不十分となるこ
とがある。このような状況では、スラリーの供給が不均
一且つ不十分となるため、研磨の均一性が低下し、更に
過熱のためウエハに重大な損傷が生ずることがある。ま
た、ノズルが良好な状態で作動していたとしても、供給
されるスラリーの量を調節することが困難である。更
に、スラリー供給装置を洗浄するための手段を設けるこ
とも重要である。また乾燥時にスラリーの薄片がはげ落
ちて、それが半導体ウエハ上に付着した場合には、集積
回路の性能を低下させることもある。
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、供給するスラリーの量を木目細かく制御することが
可能で、スラリーの浪費を防止できるスラリー供給装置
を提供し、また、良好な作動状態を保つように洗浄のた
めの手段を備えたスラリー供給装置を提供して上記の従
来技術の問題点を克服することにある。
は、供給するスラリーの量を木目細かく制御することが
可能で、スラリーの浪費を防止できるスラリー供給装置
を提供し、また、良好な作動状態を保つように洗浄のた
めの手段を備えたスラリー供給装置を提供して上記の従
来技術の問題点を克服することにある。
【課題を解決するための手段】本発明によれば、回転ホ
イールからスラリーを供給するスラリー供給装置が提供
される。ある実施例では、スラリー供給装置が、（ａ）
開口部を有するハウジングと、（ｂ）前記ハウジング内
部に設けられた、スラリーを保持するためのリザーバ
と、（ｃ）モータのような回動機構と、（ｄ）前記ハウ
ジングの内部に設けられ、前記回動機構と係合してそれ
と共に回転するホイールアセンブリとを含む。この実施
例では、ホイールアセンブリがスラリーリザーバに挿入
される円錐形部及びディスク部を有する。動作中、即ち
ホイールアセンブリが回動機構により回転している間、
スラリーの流れはホイールアセンブリの円錐形部の側壁
に沿って上るように強制され、このスラリーは、ディス
クによりスプレーとしてハウジングの開口部を通して供
給されることになる。このスプレーは回転による遠心力
によって生成される。可変速ＤＣモーターを用いた場
合、スラリー供給装置によって供給されるスラリーの量
はモーターに印加される電圧によって制御することがで
きる。ハウジング、ホイール、及びスラリーと接触する
ことになる任意の表面は、スラリーに対して化学的に不
活性な合成材料（例えばポリカーボネート、ポリプロピ
レン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＥＦ）、又は露出面
にテフロン被覆が成されている任意の材料）から作られ
る。ある実施例では、スラリー供給装置のハウジング
が、スラリースプレーが所定の角度に制限されるよう
に、開口部の近傍において壁部を有する。スラリー供給
装置には、スラリー供給装置のスラリーリザーバへの連
続的なスラリーの供給を維持するためのスラリー供給ラ
インを取り付ける入口が備えられている。本発明によれ
ば、二重の逆転ホイールからスラリーを供給する自浄式
スラリー供給装置も提供される。ある実施例では、この
スラリー供給装置が、（ａ）開口部を有するハウジング
と、（ｂ）ハウジング内部に設けられたスラリーを保持
するためのリザーバと、（ｃ）例えばモータのような回
動機構と、（ｄ）前記ハウジング内に設けられ、前記回
動機構に係合してそれと共に回転するホイールアセンブ
リとを含む。この回動機構は、各ホイールを逆の方向に
回転させ、スラリーのスプレーが重なるようにする。ハ
ウジングにおけるこの開口部の形状により、スラリース
プレーが所定の角度に制限される。ある実施例では、ス
ラリー供給装置が、空気シリンダにより動作される摺動
式ドア、及び摺動式ドアが閉じられている時オペレータ
の介入及びハウジングの内部及び外部の相互汚染なし
に、ハウジングの洗浄ができるようにする洗浄水用の入
口を有する。本発明のスラリー供給装置により、研磨パ
ッド全体にわたるスラリーの供給及び供給されるスラリ
ーの量の木目細かい制御が可能となり、スラリーの無駄
が最小限に押さえられる。更に、自浄式スラリー供給装
置も提供される。
イールからスラリーを供給するスラリー供給装置が提供
される。ある実施例では、スラリー供給装置が、（ａ）
開口部を有するハウジングと、（ｂ）前記ハウジング内
部に設けられた、スラリーを保持するためのリザーバ
と、（ｃ）モータのような回動機構と、（ｄ）前記ハウ
ジングの内部に設けられ、前記回動機構と係合してそれ
と共に回転するホイールアセンブリとを含む。この実施
例では、ホイールアセンブリがスラリーリザーバに挿入
される円錐形部及びディスク部を有する。動作中、即ち
ホイールアセンブリが回動機構により回転している間、
スラリーの流れはホイールアセンブリの円錐形部の側壁
に沿って上るように強制され、このスラリーは、ディス
クによりスプレーとしてハウジングの開口部を通して供
給されることになる。このスプレーは回転による遠心力
によって生成される。可変速ＤＣモーターを用いた場
合、スラリー供給装置によって供給されるスラリーの量
はモーターに印加される電圧によって制御することがで
きる。ハウジング、ホイール、及びスラリーと接触する
ことになる任意の表面は、スラリーに対して化学的に不
活性な合成材料（例えばポリカーボネート、ポリプロピ
レン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＥＦ）、又は露出面
にテフロン被覆が成されている任意の材料）から作られ
る。ある実施例では、スラリー供給装置のハウジング
が、スラリースプレーが所定の角度に制限されるよう
に、開口部の近傍において壁部を有する。スラリー供給
装置には、スラリー供給装置のスラリーリザーバへの連
続的なスラリーの供給を維持するためのスラリー供給ラ
インを取り付ける入口が備えられている。本発明によれ
ば、二重の逆転ホイールからスラリーを供給する自浄式
スラリー供給装置も提供される。ある実施例では、この
スラリー供給装置が、（ａ）開口部を有するハウジング
と、（ｂ）ハウジング内部に設けられたスラリーを保持
するためのリザーバと、（ｃ）例えばモータのような回
動機構と、（ｄ）前記ハウジング内に設けられ、前記回
動機構に係合してそれと共に回転するホイールアセンブ
リとを含む。この回動機構は、各ホイールを逆の方向に
回転させ、スラリーのスプレーが重なるようにする。ハ
ウジングにおけるこの開口部の形状により、スラリース
プレーが所定の角度に制限される。ある実施例では、ス
ラリー供給装置が、空気シリンダにより動作される摺動
式ドア、及び摺動式ドアが閉じられている時オペレータ
の介入及びハウジングの内部及び外部の相互汚染なし
に、ハウジングの洗浄ができるようにする洗浄水用の入
口を有する。本発明のスラリー供給装置により、研磨パ
ッド全体にわたるスラリーの供給及び供給されるスラリ
ーの量の木目細かい制御が可能となり、スラリーの無駄
が最小限に押さえられる。更に、自浄式スラリー供給装
置も提供される。
【発明の実施の形態】本発明は、前の節において説明し
た従来技術の問題点のないスラリー供給装置を提供す
る。以下の説明の理解を助けるべく、図面の中の類似し
た要素には類似の符号を付して示してある。図１ａ及び
図１ｂは、それぞれＣＭＰ装置１００の側面図及び正面
図である。図１ａ及び図１ｂに示すように、ＣＭＰ装置
１００は、ウエハ１０７のような１又は２以上の垂直に
保持された半導体ウエハを研磨するべく構成されている
連続研磨ベルト１０１を有する。ウエハ１０７は研磨ヘ
ッド１０５によって垂直方向に保持され、この研磨ヘッ
ド１０５はウエハ１０７を垂直方向に装着された研磨ベ
ルト１０１に付着された研磨パッドに押しつける。研磨
ベルト１０１は選択された研磨速度（例えば１秒当たり
１０ｍ）で、プーリ１０２及び１０３を回転させること
により連続的な動きを維持する。支持アセンブリ１０６
は、ウエハ１０７を選択された圧力（例えば５ｐｓｉ）
に保持するべく、研磨ベルト１０１に背面から圧力を与
える。研磨ヘッド１０５は矢印１０９で示された所定の
方向に回転し、所望に応じて研磨パッドの表面を矢印１
０７ａ及び１０７ｂで示す直線の方向に前後に動かされ
る。図１には、ウエハの研磨のために用いられるただ１
つの研磨ベルトアセンブリの側面が示されているが、研
磨ヘッド及びそれに付随する機構は、ＣＭＰ装置１００
の研磨ベルトアセンブリの両側に設けることができ、こ
れによって全体的なウエハのスループットを高めること
がでる。本発明は、スラリーを供給するスラリー供給装
置１０４を提供する。このスラリー供給装置１０４は、
研磨ヘッド１０５から上流（研磨ベルト１０１の移動方
向について）僅かな距離だけおいた位置に配置される。
スラリー供給装置１０４は、高速の回転ホイールからス
ラリーの細かい流れを噴霧する。図２ａには、スラリー
供給装置１０４の側面図が示されている。図２ａに示す
ように、スラリー供給装置１０４は、（ａ）スラリーリ
ザーバ２０５を備えた下側ハウジング２０１、（ｂ）例
えば留めねじにより下側ハウジング２０１に固定される
上側ハウジング２０２、及び（ｃ）可変速モータ２０３
を有する。コンポーネントホイールアセンブリは、下側
ハウジング２０１及び上側ハウジング２０２の間に挿入
されている。上側ハウジング２０２はスラリー入口２０
４を有し、このスラリー入口２０４は動作中にスラリー
供給ライン（図示せず）に結合され、スラリー供給装置
１０４にスラリーを連続的に供給する。この供給ライン
にスラリーを供給するために蠕動ポンプを用いることが
できる。この実施例では、上側ハウジング２０２及び下
側ハウジング２０１、コンポーネントホイールアセンブ
リ（図２ｂに示す）は、ポリカーボネート、ポリプロピ
レン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、露出面にテ
フロン被覆をなされた任意の材料、若しくはスラリーに
対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチッ
ク）から作られ得る。モータ２０３は、好ましくは印加
する電圧の大きさを変化させることによりその速度を変
化させることができるＤＣモータである。上側ハウジン
グ２０２は正面に開口部（即ち図３ａ、図３ｂ及び図４
に示す、以下に説明する開口部３１０）を有し、従って
スラリーのスプレーがこの開口部を通して供給され得る
ことになる。図２ａは、スラリー供給装置１０４の組立
側面図である。図２ａに示すように、ディスペンサ１０
４は、モータ２０３、上側ハウジング２０２及び下側ハ
ウジング２０１（スラリー入口２０４及びスラリーリザ
ーバ２０５を含む）に加えてホイールアセンブリ２１０
を有し、このホイールアセンブリは少なくとも３つの部
材、即ち（ａ）動作中にホイールアセンブリがモータ２
０３の速度で回転するようにモータ２０３の回転シャフ
ト２１１に係合するリンク部材２１２、（ｂ）その上側
及び下側表面の間に溝２１７を備えたホイール又はディ
スク部２１３、及び（ｃ）ディスク部２１３の下側面に
取り付けられた円錐形部２１４を有する。図２ｂには、
スルーホール２１６の組も示されており、このスルーホ
ールを通して留めねじをねじ込み、上側ハウジング２０
２の対応するねじを切られた穴に係合させることにより
上側ハウジング２０２を下側ハウジング２０１に固定す
ることができる。円錐形部２１４は、下側ハウジング２
０１の開口部２１５に挿入される。開口部２１５は、ス
ラリーリザーバ２０５の中に開口している。スラリー供
給装置２０４の正面図は図３ａに示されており、ここで
は上側ハウジング２０２における正面開口部３１０の上
部から見た正面図が示されている。図３ａに示すよう
に、２つの部分壁３０１ａ及び３０１ｂが上側ハウジン
グ２０２の天井部から垂設されている。部分壁３０１ａ
及び３０１ｂは、スラリー供給装置１０４からのスラリ
ースプレーの角度を制限するべく設けられている。スラ
リー供給装置１０４の動作について、図３ｂ及び図４と
ともに説明する。図３ｂは、上側ハウジング２０２の天
井部から見たスラリー供給装置１０４の図であり、図４
はスラリー供給装置１０４の垂直断面図である。動作
中、モータ２０３は所定の速度（例えば１分当たり２０
００〜３０００回転）でホイールアセンブリ２１０を回
す。所望のモータの動作速度は、主として供給されるス
ラリーの量により決定される。一般に、回転速度が高く
なるほど、供給されるスラリーの量も増加する。実際に
必要となる速度は、実験的に決定することができる。図
４に示すように、動作速度において、スラリーの流れ
は、円錐形部２１４の表面において生成する境界層のた
め、スラリーリザーバ２０５から円錐形部２１４の側壁
に沿って延び上がってゆく。スラリーの流れはディスク
部２１４の下側表面を越えて延びてゆき、溝２１７に入
る。回転ホイールアセンブリ２１０の遠心力により、ス
ラリーは溝２１７から上側ハウジング２０２の開口部３
１０を通してスラリー供給装置から噴霧される。溝２１
７の壁により形成されるディスク部２１３の鋭角の縁部
は、このスプレーを垂直方向に薄い層の中に制限する役
目を果たす。この実施例では、円錐形部２１４の傾斜し
た側壁が、ディスク部２１３から１００度傾斜してい
る。上述のように、壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリ
ーのスプレーを図面に示したように水平方向に所定の角
度φに制限する。この角度の大きさ即ち壁３０１ａ及び
３０１ｂの長さは、実験的に決定される。スラリー供給
装置１０４から流れ出たスラリー（例えばハウジングの
壁により捕捉されたスラリー）は、回収して再利用する
ことができ、これによりスラリーの浪費を防止してい
る。本発明の第２の実施例によれば、２つのホイールを
用いるスラリー供給装置が提供される。スラリー供給装
置１２４は、一対の高速の逆転ホイールからスラリーの
細かい流れをスプレーする。図５は、スラリー供給装置
１２４の等角正面図である。図５に示すように、スラリ
ー供給装置１２４は、前面２２０を有し、この前面２２
０には前面の裏側に配置されたホイールハウジング２４
０へ連通する開口部２２５が設けられている。ホイール
ハウジング２４０の開口部は前面２２０における開口部
２２５と位置合わせされている。ホイールハウジング２
４０の内部には、ハウジング内部の底面においてスラリ
ーリザーバ２４８の上に配置された２つのホイール２５
０が含まれている。図６ａ及び図６ｂにおけるスラリー
供給装置の背面図においては、ホイールハウジング２４
０の外部が示されている。ホイールハウジング２４０は
スラリー入口ライン３４０に結合されており、このスラ
リー入口ライン３４０は動作中スラリー供給ライン（図
示せず）に結合され、これによりスラリー供給装置１２
４に連続的にスラリーを供給できる。供給ラインにスラ
リーを供給するために蠕動ポンプを用いることができ
る。一対の可変速モータ３２０は、ホイールハウジング
２４０の上に配置される。モータ３２０は、好ましくは
ＤＣモータである。モータ３２０は図７に示すように、
ホイール２５０の上部におけるスロット２５１に嵌合す
べく下向きに延びている回転シャフトを有する。ホイー
ル２５０の下側部分は円錐形部２５２である。ディスク
部２５３は円錐形部の上に設けられている。ホイールハ
ウジング２４０の底部に設けられた２組のスラリーリザ
ーバ２４８は図８に示されている。図８は、ホイールを
取り除いて示したホイールハウジングの平面図である。
動作中、ホイール２５０は円錐形部２５２の下側部がス
ラリーリザーバ２４８の中心交差部２４９にくるよう
に、ホイール２５０が配置される。スラリーリザーバ２
４８の設計は、スラリーの使用を最小限に押さえられる
ような有利な設計となっている。スラリー供給装置１２
４の動作について図９と共に説明する。図９は、ホイー
ルハウジング２４０の内部の天井部から見たスラリー供
給装置１２４の図である。動作中、モータ２０３はホイ
ール２５０のそれぞれを所定の速度（例えば１分当たり
３０００〜６０００回転）で互いに逆方向６１０に回転
させる。これにより、矢印６２０に示すスラリー供給の
方向にスラリーが重ねて噴霧されることになる。モータ
の所望の動作速度は、主として、供給されるのに必要な
スラリーの量及び所望の供給パターンによって決定され
る。一般に、モータ動作速度が高くなるほど供給される
スラリーの量も増加し、供給の中心においてより大きな
重なり部分が得られる。しかし、速度が速くなると、粒
径も小さくなることになる。ミスチング（misting）を
無くすためにはより大きな液滴サイズが必要になる。好
ましい速度は流れ速度と粒径の間のトレードオフのため
に実験的に決定され得る。典型的なスラリーのスラリー
供給ライン３４０を通しての供給速度は約４５０ｍｌ／
分である。ある動作速度において、スラリーの流れは円
錐形部の表面における境界層の生成のために、スラリー
リザーバ２４８からホイール２５０の円錐形部２５０の
側壁に沿って延びてゆく。このスラリーの流れは、ホイ
ール２５０のディスク部２５３の下側表面に達する。回
転ホイール２５０の遠心力により、スラリーはホイール
ハウジング２４０の開口部を通してスラリー供給装置１
０４の外に噴霧される。ホイール２５０のディスク部の
鋭角の縁部は、スプレーを垂直方向における薄い層に制
限する役目を果たす。この実施例では、円錐形部２５２
の傾斜側壁が、ディスク部２５３に対して約１２０度傾
斜している。前面２２０の開口部２２５及び対応するホ
イールハウジング２４０の開口部の形状により、スラリ
ー分散の水平方向の幅が決定される。ホイールハウジン
グ２４０及びホイール２５０は、ポリプロピレン、ポリ
ふっ化ビニルデン（ＰＶＤＦ）、カイナー（Kynar）、
露出面をテフロン被覆した任意の材料、又はスラリーに
対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチッ
ク）から作られ得る。継手は通常テフロン製である。以
下に説明する排出・供給用ラインは、通常テフロン又は
ＰＶＤＦから作られる。ホイールハウジング２４０の内
部の全ての角部は、後に説明するように、スラリー供給
装置１２４の洗浄を容易にするため面取りされる。スラ
リー供給装置１２４は摺動式ドア２３０も有している。
この摺動式ドアはホイールハウジング２４０の内部を洗
浄できるように、閉じることができる。摺動式ドア２３
０は、図６ａ及び図６ｂに示すように、空気シリンダハ
ウジング２３５の内部に包入された空気シリンダ３３５
により移動される。洗浄用の水は、水入口ライン３４３
から供給される。ホイールハウジング２４０は、スラリ
ー排出弁２４３に結合されたスラリー排出ライン２４２
を通して排出される。通常の動作時においては、ホイー
ルハウジング２４０はオペレータの介入なしに各ウエハ
の研磨の間に洗浄される。摺動式ドア２３０には、一対
の樋状部（gutter）３３２も取着されている。樋状部３
３２は、ビニール製のヒンジを備えたプラスチックで構
成される。摺動式ドア２３０が閉じられている時、樋状
部３３２は内側に折り畳まれ、水入口ライン３４３から
供給される水で洗浄される。摺動式ドア２３０が開けら
れている時、樋状部３３２は、図５に示す前面２２０に
おける開口部２２５を通して水平に延び、ホイールハウ
ジング２４０の内部を、前面２２０から液体が流れ込ん
でこないように保護する。スラリー供給装置１２４の通
常の動作時には、水の流れは前面２２０を下向きに流れ
る。摺動式ドア２３０及び樋状部３３２により、ホイー
ルハウジング２４０の内部と外部との相互汚染を生じさ
せることなく洗浄を行うことが可能となるという利点が
得られる。つまり、ホイールハウジング２４０の内部を
洗浄した時流れ出たスラリーが、研磨ベルト１０１に被
着された研磨パッド上に落ちないようになり、また外部
の洗浄時にホイールハウジング２４０内のスラリーが希
釈されないようになる。本発明の第３の実施例は、研磨
ベルトが垂直に取り付けられるが水平方向に移動するよ
うな研磨装置での使用に適するものである。（例えば研
磨ベルト１０１の平面に対してＣＭＰ装置１００を９０
度回転させた実施例を考えられたい。）水平面において
回転する図１ａ及び図１ｂのスラリー供給装置１０４に
おける回転ホイールとは異なり、このような研磨装置用
のスラリー供給装置における回転ホイールは、垂直面に
おいて回転する。このような装置においては、スラリー
が引き出されるリザーバを、図４のリザーバ２０５と同
様に設けることができないのは明らかである。図１０ａ
及び図１０ｂはそれぞれ、本発明の第３の実施例を実現
するために適するスラリー供給装置５００の垂直断面図
及び水平断面図である。図１０ａに示すように、スラリ
ー供給装置５００は、ハウジング５０５の側面上の開口
部５０７からスラリーの流れを噴霧する。コンポーネン
トホイールアセンブリ５０３は、ハウジング５０５内に
包入されているが、これは、ハウジング５０５の外部に
配設された可変速モータ５０２に結合されたシャフト５
０４により回転される。図１０ｂに示すように、コンポ
ーネントホイールアセンブリ５０３はハウジング５０５
の底部に配設されたスラリーリザーバ５０６に部分的に
沈められており、これによって、成形ホイールアセンブ
リ５０３が矢印５０３の示す方向にシャフト５０４によ
って回転された時、スラリーは成形ホイールアセンブリ
５０３の回転によって運ばれて、遠心力によりハウジン
グ５０５の開口部５０７から噴霧される。リザーバ５０
６の部分壁５０１ａ及び側壁５０１ｂは、図３ａ及び図
３ｂのスラリー供給装置１０４の部分壁３０１ａ及び３
０１ｂと同様に、スプレーの角度φを制限する役目を果
たす。上述の発明の詳細な説明は、特定の実施例につい
て説明したものであり、本発明をこれに限定しようとす
るものではない。本発明の範囲内で様々に改良変更をし
た実施が可能である。例えば。ＣＭＰ装置における利用
で例示されている本発明は、他の任意の研磨装置におい
ての使用にも適するものである。本発明は以下の請求項
によって定義される。
た従来技術の問題点のないスラリー供給装置を提供す
る。以下の説明の理解を助けるべく、図面の中の類似し
た要素には類似の符号を付して示してある。図１ａ及び
図１ｂは、それぞれＣＭＰ装置１００の側面図及び正面
図である。図１ａ及び図１ｂに示すように、ＣＭＰ装置
１００は、ウエハ１０７のような１又は２以上の垂直に
保持された半導体ウエハを研磨するべく構成されている
連続研磨ベルト１０１を有する。ウエハ１０７は研磨ヘ
ッド１０５によって垂直方向に保持され、この研磨ヘッ
ド１０５はウエハ１０７を垂直方向に装着された研磨ベ
ルト１０１に付着された研磨パッドに押しつける。研磨
ベルト１０１は選択された研磨速度（例えば１秒当たり
１０ｍ）で、プーリ１０２及び１０３を回転させること
により連続的な動きを維持する。支持アセンブリ１０６
は、ウエハ１０７を選択された圧力（例えば５ｐｓｉ）
に保持するべく、研磨ベルト１０１に背面から圧力を与
える。研磨ヘッド１０５は矢印１０９で示された所定の
方向に回転し、所望に応じて研磨パッドの表面を矢印１
０７ａ及び１０７ｂで示す直線の方向に前後に動かされ
る。図１には、ウエハの研磨のために用いられるただ１
つの研磨ベルトアセンブリの側面が示されているが、研
磨ヘッド及びそれに付随する機構は、ＣＭＰ装置１００
の研磨ベルトアセンブリの両側に設けることができ、こ
れによって全体的なウエハのスループットを高めること
がでる。本発明は、スラリーを供給するスラリー供給装
置１０４を提供する。このスラリー供給装置１０４は、
研磨ヘッド１０５から上流（研磨ベルト１０１の移動方
向について）僅かな距離だけおいた位置に配置される。
スラリー供給装置１０４は、高速の回転ホイールからス
ラリーの細かい流れを噴霧する。図２ａには、スラリー
供給装置１０４の側面図が示されている。図２ａに示す
ように、スラリー供給装置１０４は、（ａ）スラリーリ
ザーバ２０５を備えた下側ハウジング２０１、（ｂ）例
えば留めねじにより下側ハウジング２０１に固定される
上側ハウジング２０２、及び（ｃ）可変速モータ２０３
を有する。コンポーネントホイールアセンブリは、下側
ハウジング２０１及び上側ハウジング２０２の間に挿入
されている。上側ハウジング２０２はスラリー入口２０
４を有し、このスラリー入口２０４は動作中にスラリー
供給ライン（図示せず）に結合され、スラリー供給装置
１０４にスラリーを連続的に供給する。この供給ライン
にスラリーを供給するために蠕動ポンプを用いることが
できる。この実施例では、上側ハウジング２０２及び下
側ハウジング２０１、コンポーネントホイールアセンブ
リ（図２ｂに示す）は、ポリカーボネート、ポリプロピ
レン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、露出面にテ
フロン被覆をなされた任意の材料、若しくはスラリーに
対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチッ
ク）から作られ得る。モータ２０３は、好ましくは印加
する電圧の大きさを変化させることによりその速度を変
化させることができるＤＣモータである。上側ハウジン
グ２０２は正面に開口部（即ち図３ａ、図３ｂ及び図４
に示す、以下に説明する開口部３１０）を有し、従って
スラリーのスプレーがこの開口部を通して供給され得る
ことになる。図２ａは、スラリー供給装置１０４の組立
側面図である。図２ａに示すように、ディスペンサ１０
４は、モータ２０３、上側ハウジング２０２及び下側ハ
ウジング２０１（スラリー入口２０４及びスラリーリザ
ーバ２０５を含む）に加えてホイールアセンブリ２１０
を有し、このホイールアセンブリは少なくとも３つの部
材、即ち（ａ）動作中にホイールアセンブリがモータ２
０３の速度で回転するようにモータ２０３の回転シャフ
ト２１１に係合するリンク部材２１２、（ｂ）その上側
及び下側表面の間に溝２１７を備えたホイール又はディ
スク部２１３、及び（ｃ）ディスク部２１３の下側面に
取り付けられた円錐形部２１４を有する。図２ｂには、
スルーホール２１６の組も示されており、このスルーホ
ールを通して留めねじをねじ込み、上側ハウジング２０
２の対応するねじを切られた穴に係合させることにより
上側ハウジング２０２を下側ハウジング２０１に固定す
ることができる。円錐形部２１４は、下側ハウジング２
０１の開口部２１５に挿入される。開口部２１５は、ス
ラリーリザーバ２０５の中に開口している。スラリー供
給装置２０４の正面図は図３ａに示されており、ここで
は上側ハウジング２０２における正面開口部３１０の上
部から見た正面図が示されている。図３ａに示すよう
に、２つの部分壁３０１ａ及び３０１ｂが上側ハウジン
グ２０２の天井部から垂設されている。部分壁３０１ａ
及び３０１ｂは、スラリー供給装置１０４からのスラリ
ースプレーの角度を制限するべく設けられている。スラ
リー供給装置１０４の動作について、図３ｂ及び図４と
ともに説明する。図３ｂは、上側ハウジング２０２の天
井部から見たスラリー供給装置１０４の図であり、図４
はスラリー供給装置１０４の垂直断面図である。動作
中、モータ２０３は所定の速度（例えば１分当たり２０
００〜３０００回転）でホイールアセンブリ２１０を回
す。所望のモータの動作速度は、主として供給されるス
ラリーの量により決定される。一般に、回転速度が高く
なるほど、供給されるスラリーの量も増加する。実際に
必要となる速度は、実験的に決定することができる。図
４に示すように、動作速度において、スラリーの流れ
は、円錐形部２１４の表面において生成する境界層のた
め、スラリーリザーバ２０５から円錐形部２１４の側壁
に沿って延び上がってゆく。スラリーの流れはディスク
部２１４の下側表面を越えて延びてゆき、溝２１７に入
る。回転ホイールアセンブリ２１０の遠心力により、ス
ラリーは溝２１７から上側ハウジング２０２の開口部３
１０を通してスラリー供給装置から噴霧される。溝２１
７の壁により形成されるディスク部２１３の鋭角の縁部
は、このスプレーを垂直方向に薄い層の中に制限する役
目を果たす。この実施例では、円錐形部２１４の傾斜し
た側壁が、ディスク部２１３から１００度傾斜してい
る。上述のように、壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリ
ーのスプレーを図面に示したように水平方向に所定の角
度φに制限する。この角度の大きさ即ち壁３０１ａ及び
３０１ｂの長さは、実験的に決定される。スラリー供給
装置１０４から流れ出たスラリー（例えばハウジングの
壁により捕捉されたスラリー）は、回収して再利用する
ことができ、これによりスラリーの浪費を防止してい
る。本発明の第２の実施例によれば、２つのホイールを
用いるスラリー供給装置が提供される。スラリー供給装
置１２４は、一対の高速の逆転ホイールからスラリーの
細かい流れをスプレーする。図５は、スラリー供給装置
１２４の等角正面図である。図５に示すように、スラリ
ー供給装置１２４は、前面２２０を有し、この前面２２
０には前面の裏側に配置されたホイールハウジング２４
０へ連通する開口部２２５が設けられている。ホイール
ハウジング２４０の開口部は前面２２０における開口部
２２５と位置合わせされている。ホイールハウジング２
４０の内部には、ハウジング内部の底面においてスラリ
ーリザーバ２４８の上に配置された２つのホイール２５
０が含まれている。図６ａ及び図６ｂにおけるスラリー
供給装置の背面図においては、ホイールハウジング２４
０の外部が示されている。ホイールハウジング２４０は
スラリー入口ライン３４０に結合されており、このスラ
リー入口ライン３４０は動作中スラリー供給ライン（図
示せず）に結合され、これによりスラリー供給装置１２
４に連続的にスラリーを供給できる。供給ラインにスラ
リーを供給するために蠕動ポンプを用いることができ
る。一対の可変速モータ３２０は、ホイールハウジング
２４０の上に配置される。モータ３２０は、好ましくは
ＤＣモータである。モータ３２０は図７に示すように、
ホイール２５０の上部におけるスロット２５１に嵌合す
べく下向きに延びている回転シャフトを有する。ホイー
ル２５０の下側部分は円錐形部２５２である。ディスク
部２５３は円錐形部の上に設けられている。ホイールハ
ウジング２４０の底部に設けられた２組のスラリーリザ
ーバ２４８は図８に示されている。図８は、ホイールを
取り除いて示したホイールハウジングの平面図である。
動作中、ホイール２５０は円錐形部２５２の下側部がス
ラリーリザーバ２４８の中心交差部２４９にくるよう
に、ホイール２５０が配置される。スラリーリザーバ２
４８の設計は、スラリーの使用を最小限に押さえられる
ような有利な設計となっている。スラリー供給装置１２
４の動作について図９と共に説明する。図９は、ホイー
ルハウジング２４０の内部の天井部から見たスラリー供
給装置１２４の図である。動作中、モータ２０３はホイ
ール２５０のそれぞれを所定の速度（例えば１分当たり
３０００〜６０００回転）で互いに逆方向６１０に回転
させる。これにより、矢印６２０に示すスラリー供給の
方向にスラリーが重ねて噴霧されることになる。モータ
の所望の動作速度は、主として、供給されるのに必要な
スラリーの量及び所望の供給パターンによって決定され
る。一般に、モータ動作速度が高くなるほど供給される
スラリーの量も増加し、供給の中心においてより大きな
重なり部分が得られる。しかし、速度が速くなると、粒
径も小さくなることになる。ミスチング（misting）を
無くすためにはより大きな液滴サイズが必要になる。好
ましい速度は流れ速度と粒径の間のトレードオフのため
に実験的に決定され得る。典型的なスラリーのスラリー
供給ライン３４０を通しての供給速度は約４５０ｍｌ／
分である。ある動作速度において、スラリーの流れは円
錐形部の表面における境界層の生成のために、スラリー
リザーバ２４８からホイール２５０の円錐形部２５０の
側壁に沿って延びてゆく。このスラリーの流れは、ホイ
ール２５０のディスク部２５３の下側表面に達する。回
転ホイール２５０の遠心力により、スラリーはホイール
ハウジング２４０の開口部を通してスラリー供給装置１
０４の外に噴霧される。ホイール２５０のディスク部の
鋭角の縁部は、スプレーを垂直方向における薄い層に制
限する役目を果たす。この実施例では、円錐形部２５２
の傾斜側壁が、ディスク部２５３に対して約１２０度傾
斜している。前面２２０の開口部２２５及び対応するホ
イールハウジング２４０の開口部の形状により、スラリ
ー分散の水平方向の幅が決定される。ホイールハウジン
グ２４０及びホイール２５０は、ポリプロピレン、ポリ
ふっ化ビニルデン（ＰＶＤＦ）、カイナー（Kynar）、
露出面をテフロン被覆した任意の材料、又はスラリーに
対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチッ
ク）から作られ得る。継手は通常テフロン製である。以
下に説明する排出・供給用ラインは、通常テフロン又は
ＰＶＤＦから作られる。ホイールハウジング２４０の内
部の全ての角部は、後に説明するように、スラリー供給
装置１２４の洗浄を容易にするため面取りされる。スラ
リー供給装置１２４は摺動式ドア２３０も有している。
この摺動式ドアはホイールハウジング２４０の内部を洗
浄できるように、閉じることができる。摺動式ドア２３
０は、図６ａ及び図６ｂに示すように、空気シリンダハ
ウジング２３５の内部に包入された空気シリンダ３３５
により移動される。洗浄用の水は、水入口ライン３４３
から供給される。ホイールハウジング２４０は、スラリ
ー排出弁２４３に結合されたスラリー排出ライン２４２
を通して排出される。通常の動作時においては、ホイー
ルハウジング２４０はオペレータの介入なしに各ウエハ
の研磨の間に洗浄される。摺動式ドア２３０には、一対
の樋状部（gutter）３３２も取着されている。樋状部３
３２は、ビニール製のヒンジを備えたプラスチックで構
成される。摺動式ドア２３０が閉じられている時、樋状
部３３２は内側に折り畳まれ、水入口ライン３４３から
供給される水で洗浄される。摺動式ドア２３０が開けら
れている時、樋状部３３２は、図５に示す前面２２０に
おける開口部２２５を通して水平に延び、ホイールハウ
ジング２４０の内部を、前面２２０から液体が流れ込ん
でこないように保護する。スラリー供給装置１２４の通
常の動作時には、水の流れは前面２２０を下向きに流れ
る。摺動式ドア２３０及び樋状部３３２により、ホイー
ルハウジング２４０の内部と外部との相互汚染を生じさ
せることなく洗浄を行うことが可能となるという利点が
得られる。つまり、ホイールハウジング２４０の内部を
洗浄した時流れ出たスラリーが、研磨ベルト１０１に被
着された研磨パッド上に落ちないようになり、また外部
の洗浄時にホイールハウジング２４０内のスラリーが希
釈されないようになる。本発明の第３の実施例は、研磨
ベルトが垂直に取り付けられるが水平方向に移動するよ
うな研磨装置での使用に適するものである。（例えば研
磨ベルト１０１の平面に対してＣＭＰ装置１００を９０
度回転させた実施例を考えられたい。）水平面において
回転する図１ａ及び図１ｂのスラリー供給装置１０４に
おける回転ホイールとは異なり、このような研磨装置用
のスラリー供給装置における回転ホイールは、垂直面に
おいて回転する。このような装置においては、スラリー
が引き出されるリザーバを、図４のリザーバ２０５と同
様に設けることができないのは明らかである。図１０ａ
及び図１０ｂはそれぞれ、本発明の第３の実施例を実現
するために適するスラリー供給装置５００の垂直断面図
及び水平断面図である。図１０ａに示すように、スラリ
ー供給装置５００は、ハウジング５０５の側面上の開口
部５０７からスラリーの流れを噴霧する。コンポーネン
トホイールアセンブリ５０３は、ハウジング５０５内に
包入されているが、これは、ハウジング５０５の外部に
配設された可変速モータ５０２に結合されたシャフト５
０４により回転される。図１０ｂに示すように、コンポ
ーネントホイールアセンブリ５０３はハウジング５０５
の底部に配設されたスラリーリザーバ５０６に部分的に
沈められており、これによって、成形ホイールアセンブ
リ５０３が矢印５０３の示す方向にシャフト５０４によ
って回転された時、スラリーは成形ホイールアセンブリ
５０３の回転によって運ばれて、遠心力によりハウジン
グ５０５の開口部５０７から噴霧される。リザーバ５０
６の部分壁５０１ａ及び側壁５０１ｂは、図３ａ及び図
３ｂのスラリー供給装置１０４の部分壁３０１ａ及び３
０１ｂと同様に、スプレーの角度φを制限する役目を果
たす。上述の発明の詳細な説明は、特定の実施例につい
て説明したものであり、本発明をこれに限定しようとす
るものではない。本発明の範囲内で様々に改良変更をし
た実施が可能である。例えば。ＣＭＰ装置における利用
で例示されている本発明は、他の任意の研磨装置におい
ての使用にも適するものである。本発明は以下の請求項
によって定義される。
【発明の効果】従って、本発明により、供給するスラリ
ーの量を木目細かく制御することが可能で、スラリーの
浪費を防止でき、また、良好な作動状態を保つように洗
浄のための手段を備えたスラリー供給装置が提供され
る。
ーの量を木目細かく制御することが可能で、スラリーの
浪費を防止でき、また、良好な作動状態を保つように洗
浄のための手段を備えたスラリー供給装置が提供され
る。
【図１】Ａ及びＢからなり、Ａは、本発明による、スラ
リー供給装置１０４を備えたＣＭＰ装置１００の概略的
な正面図であり、Ｂは、同ＣＭＰ装置１００の概略的な
側面図である。
リー供給装置１０４を備えたＣＭＰ装置１００の概略的
な正面図であり、Ｂは、同ＣＭＰ装置１００の概略的な
側面図である。
【図２】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
０４の側面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
組立側面図である。
０４の側面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
組立側面図である。
【図３】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
０４の正面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
動作を示した図である。
０４の正面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
動作を示した図である。
【図４】スラリー供給装置１０４の動作を示す、その垂
直断面図である。
直断面図である。
【図５】スラリー供給装置１２４の等角正面図である。
【図６】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
２４の等角背面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１２
４の組立背面図である。
２４の等角背面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１２
４の組立背面図である。
【図７】ホイール２５０を示した図である。
【図８】リザーバ２４８を示すようにホイールを取り除
いて図解した、ホイールハウジングの平面図である。
いて図解した、ホイールハウジングの平面図である。
【図９】スラリー供給装置１２４の動作を示す、ホイー
ルハウジング２４０の内部の上からみた図である。
ルハウジング２４０の内部の上からみた図である。
【図１０】Ａ及びＢからなり、Ａは、本発明によるスラ
リー供給装置５００の垂直断面図、Ｂは、同水平断面図
である。
リー供給装置５００の垂直断面図、Ｂは、同水平断面図
である。
１００ 化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置 １０１ 研磨ベルト １０２，１０３ プーリ １０４ スラリー供給装置 １０５ 研磨ヘッド １０６ 支持アセンブリ １０７ ウエハ ２０１ 下側ハウジング ２０２ 上側ハウジング ２０３ 可変速モータ ２０４ スラリー入口 ２０５ スラリーリザーバ ２１０ ホイールアセンブリ ２１１ 回転シャフト ２１２ リンク部材 ２１３ ディスク部 ２１４ 円錐形部 ２１５ 開口部 ２１６ スルーホール ２１７ 溝 ２２０ 前面 ２２５ 開口部 ２３０ 摺動式ドア ２４０ ホイールハウジング ２４８ スラリーリザーバ ２４９ 中心交差部 ２５０ ホイール ２５２ 円錐形部 ２５３ ディスク部 ３０１ａ，３０１ｂ 部分壁 ３１０ 開口部 ３２０ 可変速モータ ３３２ 樋状部 ３４０ スラリー入口ライン ５００ スラリー供給装置 ５０１ａ 部分壁 ５０１ｂ 側壁 ５０３ コンポーネントホイールアセンブリ ５０５ ハウジング ５０６ リザーバ ５０７ 開口部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年１１月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 スラリー供給装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体の供給に関す
る。特に、本発明は、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置
におけるスラリーの供給に関する。
る。特に、本発明は、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置
におけるスラリーの供給に関する。
【０００２】
【従来の技術】サブミクロン集積回路では、多層式相互
接続構造において必要な平坦性を作り出すためにＣＭＰ
技術を用いる。詳述すると、例えばアルミニウム、タン
グステン、又は銅のような相互接続層を被着するための
平坦面を作り出すため、中間層の誘電体（例えば二酸化
シリコン）を、細かい研磨材を含むアルカリ性又は酸性
のスラリーを用いる研磨プロセスによって平坦化する。
このようなスラリーの一例には、ｐＨが約１１に調節さ
れた脱イオン水に懸濁された二酸化シリコン粒子（例え
ば平均粒径７０ｎｍ）が含まれる。アルカリ性は、水酸
化カルシウム（ＫＯＨ）及び水酸化アンモニウム（ＮＨ
3ＯＨ）によって与えることができる。他の用途では、
酸性のスラリーを用いることもある。
接続構造において必要な平坦性を作り出すためにＣＭＰ
技術を用いる。詳述すると、例えばアルミニウム、タン
グステン、又は銅のような相互接続層を被着するための
平坦面を作り出すため、中間層の誘電体（例えば二酸化
シリコン）を、細かい研磨材を含むアルカリ性又は酸性
のスラリーを用いる研磨プロセスによって平坦化する。
このようなスラリーの一例には、ｐＨが約１１に調節さ
れた脱イオン水に懸濁された二酸化シリコン粒子（例え
ば平均粒径７０ｎｍ）が含まれる。アルカリ性は、水酸
化カルシウム（ＫＯＨ）及び水酸化アンモニウム（ＮＨ
3ＯＨ）によって与えることができる。他の用途では、
酸性のスラリーを用いることもある。
【０００３】通常、ＣＭＰポリッシャでは、研磨ヘッド
により、研磨する半導体ウエハを研磨パッドに僅かな圧
力で押しつけた状態で維持する。ＣＭＰで用いる場合
は、研磨パッドが通常ポリウレタン材料から作られたも
のである。研磨プロセスの間、研磨ヘッドは所定の動き
パターンに従って半導体ウエハを動かす。別形態では、
研磨パッドが半導体ウエハに対して動くプラットフォー
ム上に取り付けられ得る。研磨パッドに対する半導体ウ
エハの動き、及びスラリーの機械的及び化学的作用とが
協働して、ウエハの表面の平坦化のための研磨作用を与
える。このプロセスでは、スラリーが大量の水分を含ん
でいるため、スラリーは研磨材としてのみならず、ウエ
ハの表面を許容できる温度に維持する冷却剤としての役
目も果たす。
により、研磨する半導体ウエハを研磨パッドに僅かな圧
力で押しつけた状態で維持する。ＣＭＰで用いる場合
は、研磨パッドが通常ポリウレタン材料から作られたも
のである。研磨プロセスの間、研磨ヘッドは所定の動き
パターンに従って半導体ウエハを動かす。別形態では、
研磨パッドが半導体ウエハに対して動くプラットフォー
ム上に取り付けられ得る。研磨パッドに対する半導体ウ
エハの動き、及びスラリーの機械的及び化学的作用とが
協働して、ウエハの表面の平坦化のための研磨作用を与
える。このプロセスでは、スラリーが大量の水分を含ん
でいるため、スラリーは研磨材としてのみならず、ウエ
ハの表面を許容できる温度に維持する冷却剤としての役
目も果たす。
【０００４】従来技術では、このスラリーは、スラリー
供給ラインに結合され、適切な位置に配置されたノズル
により研磨パッドの表面に噴霧され、且つ蠕動ポンプを
用いて１分当たり５０〜５００ｃｃの量が研磨パッドの
表面に供給される。しかし、このような構成では、時間
の経過につれ様々な問題が生じてくる。具体的には、ス
ラリーからの被着物がノズルを詰まらせ、スラリーの供
給が不均一且つ不十分となることがある。このような状
況では、スラリーの供給が不均一且つ不十分となるた
め、研磨の均一性が低下し、更に過熱のためウエハに重
大な損傷が生ずることがある。また、ノズルが良好な状
態で作動していたとしても、供給されるスラリーの量を
調節することが困難である。更に、スラリー供給装置を
洗浄するための手段を設けることも重要である。また乾
燥時にスラリーの薄片がはげ落ちて、それが半導体ウエ
ハ上に付着した場合には、集積回路の性能を低下させる
こともある。
供給ラインに結合され、適切な位置に配置されたノズル
により研磨パッドの表面に噴霧され、且つ蠕動ポンプを
用いて１分当たり５０〜５００ｃｃの量が研磨パッドの
表面に供給される。しかし、このような構成では、時間
の経過につれ様々な問題が生じてくる。具体的には、ス
ラリーからの被着物がノズルを詰まらせ、スラリーの供
給が不均一且つ不十分となることがある。このような状
況では、スラリーの供給が不均一且つ不十分となるた
め、研磨の均一性が低下し、更に過熱のためウエハに重
大な損傷が生ずることがある。また、ノズルが良好な状
態で作動していたとしても、供給されるスラリーの量を
調節することが困難である。更に、スラリー供給装置を
洗浄するための手段を設けることも重要である。また乾
燥時にスラリーの薄片がはげ落ちて、それが半導体ウエ
ハ上に付着した場合には、集積回路の性能を低下させる
こともある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、供給するスラリーの量を木目細かく制御することが
可能で、スラリーの浪費を防止できるスラリー供給装置
を提供し、また、良好な作動状態を保つように洗浄のた
めの手段を備えたスラリー供給装置を提供して上記の従
来技術の問題点を克服することにある。
は、供給するスラリーの量を木目細かく制御することが
可能で、スラリーの浪費を防止できるスラリー供給装置
を提供し、また、良好な作動状態を保つように洗浄のた
めの手段を備えたスラリー供給装置を提供して上記の従
来技術の問題点を克服することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、回転ホ
イールからスラリーを供給するスラリー供給装置が提供
される。
イールからスラリーを供給するスラリー供給装置が提供
される。
【０００７】ある実施例では、スラリー供給装置が、
（ａ）開口部を有するハウジングと、（ｂ）前記ハウジ
ング内部に設けられた、スラリーを保持するためのリザ
ーバと、（ｃ）モータのような回動機構と、（ｄ）前記
ハウジングの内部に設けられ、前記回動機構と係合して
それと共に回転するホイールアセンブリとを含む。この
実施例では、ホイールアセンブリがスラリーリザーバに
挿入される円錐形部及びディスク部を有する。動作中、
即ちホイールアセンブリが回動機構により回転している
間、スラリーの流れはホイールアセンブリの円錐形部の
側壁に沿って上るように強制され、このスラリーは、デ
ィスクによりスプレーとしてハウジングの開口部を通し
て供給されることになる。このスプレーは回転による遠
心力によって生成される。可変速ＤＣモーターを用いた
場合、スラリー供給装置によって供給されるスラリーの
量はモーターに印加される電圧によって制御することが
できる。
（ａ）開口部を有するハウジングと、（ｂ）前記ハウジ
ング内部に設けられた、スラリーを保持するためのリザ
ーバと、（ｃ）モータのような回動機構と、（ｄ）前記
ハウジングの内部に設けられ、前記回動機構と係合して
それと共に回転するホイールアセンブリとを含む。この
実施例では、ホイールアセンブリがスラリーリザーバに
挿入される円錐形部及びディスク部を有する。動作中、
即ちホイールアセンブリが回動機構により回転している
間、スラリーの流れはホイールアセンブリの円錐形部の
側壁に沿って上るように強制され、このスラリーは、デ
ィスクによりスプレーとしてハウジングの開口部を通し
て供給されることになる。このスプレーは回転による遠
心力によって生成される。可変速ＤＣモーターを用いた
場合、スラリー供給装置によって供給されるスラリーの
量はモーターに印加される電圧によって制御することが
できる。
【０００８】ハウジング、ホイール、及びスラリーと接
触することになる任意の表面は、スラリーに対して化学
的に不活性な合成材料（例えばポリカーボネート、ポリ
プロピレン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＥＦ）、又は
露出面にテフロン被覆が成されている任意の材料）から
作られる。ある実施例では、スラリー供給装置のハウジ
ングが、スラリースプレーが所定の角度に制限されるよ
うに、開口部の近傍において壁部を有する。
触することになる任意の表面は、スラリーに対して化学
的に不活性な合成材料（例えばポリカーボネート、ポリ
プロピレン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＥＦ）、又は
露出面にテフロン被覆が成されている任意の材料）から
作られる。ある実施例では、スラリー供給装置のハウジ
ングが、スラリースプレーが所定の角度に制限されるよ
うに、開口部の近傍において壁部を有する。
【０００９】スラリー供給装置には、スラリー供給装置
のスラリーリザーバへの連続的なスラリーの供給を維持
するためのスラリー供給ラインを取り付ける入口が備え
られている。
のスラリーリザーバへの連続的なスラリーの供給を維持
するためのスラリー供給ラインを取り付ける入口が備え
られている。
【００１０】本発明によれば、二重の逆転ホイールから
スラリーを供給する自浄式スラリー供給装置も提供され
る。
スラリーを供給する自浄式スラリー供給装置も提供され
る。
【００１１】ある実施例では、このスラリー供給装置
が、（ａ）開口部を有するハウジングと、（ｂ）ハウジ
ング内部に設けられたスラリーを保持するためのリザー
バと、（ｃ）例えばモータのような回動機構と、（ｄ）
前記ハウジング内に設けられ、前記回動機構に係合して
それと共に回転するホイールアセンブリとを含む。この
回動機構は、各ホイールを逆の方向に回転させ、スラリ
ーのスプレーが重なるようにする。ハウジングにおける
この開口部の形状により、スラリースプレーが所定の角
度に制限される。
が、（ａ）開口部を有するハウジングと、（ｂ）ハウジ
ング内部に設けられたスラリーを保持するためのリザー
バと、（ｃ）例えばモータのような回動機構と、（ｄ）
前記ハウジング内に設けられ、前記回動機構に係合して
それと共に回転するホイールアセンブリとを含む。この
回動機構は、各ホイールを逆の方向に回転させ、スラリ
ーのスプレーが重なるようにする。ハウジングにおける
この開口部の形状により、スラリースプレーが所定の角
度に制限される。
【００１２】ある実施例では、スラリー供給装置が、空
気シリンダにより動作される摺動式ドア、及び摺動式ド
アが閉じられている時オペレータの介入及びハウジング
の内部及び外部の相互汚染なしに、ハウジングの洗浄が
できるようにする洗浄水用の入口を有する。
気シリンダにより動作される摺動式ドア、及び摺動式ド
アが閉じられている時オペレータの介入及びハウジング
の内部及び外部の相互汚染なしに、ハウジングの洗浄が
できるようにする洗浄水用の入口を有する。
【００１３】本発明のスラリー供給装置により、研磨パ
ッド全体にわたるスラリーの供給及び供給されるスラリ
ーの量の木目細かい制御が可能となり、スラリーの無駄
が最小限に押さえられる。更に、自浄式スラリー供給装
置も提供される。
ッド全体にわたるスラリーの供給及び供給されるスラリ
ーの量の木目細かい制御が可能となり、スラリーの無駄
が最小限に押さえられる。更に、自浄式スラリー供給装
置も提供される。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明は、前の節において説明し
た従来技術の問題点のないスラリー供給装置を提供す
る。以下の説明の理解を助けるべく、図面の中の類似し
た要素には類似の符号を付して示してある。
た従来技術の問題点のないスラリー供給装置を提供す
る。以下の説明の理解を助けるべく、図面の中の類似し
た要素には類似の符号を付して示してある。
【００１５】図１ａ及び図１ｂは、それぞれＣＭＰ装置
１００の側面図及び正面図である。図１ａ及び図１ｂに
示すように、ＣＭＰ装置１００は、ウエハ１０７のよう
な１又は２以上の垂直に保持された半導体ウエハを研磨
するべく構成されている連続研磨ベルト１０１を有す
る。ウエハ１０７は研磨ヘッド１０５によって垂直方向
に保持され、この研磨ヘッド１０５はウエハ１０７を垂
直方向に装着された研磨ベルト１０１に付着された研磨
パッドに押しつける。研磨ベルト１０１は選択された研
磨速度（例えば１秒当たり１０ｍ）で、プーリ１０２及
び１０３を回転させることにより連続的な動きを維持す
る。支持アセンブリ１０６は、ウエハ１０７を選択され
た圧力（例えば５ｐｓｉ）に保持するべく、研磨ベルト
１０１に背面から圧力を与える。研磨ヘッド１０５は矢
印１０９で示された所定の方向に回転し、所望に応じて
研磨パッドの表面を矢印１０７ａ及び１０７ｂで示す直
線の方向に前後に動かされる。図１には、ウエハの研磨
のために用いられるただ１つの研磨ベルトアセンブリの
側面が示されているが、研磨ヘッド及びそれに付随する
機構は、ＣＭＰ装置１００の研磨ベルトアセンブリの両
側に設けることができ、これによって全体的なウエハの
スループットを高めることがでる。
１００の側面図及び正面図である。図１ａ及び図１ｂに
示すように、ＣＭＰ装置１００は、ウエハ１０７のよう
な１又は２以上の垂直に保持された半導体ウエハを研磨
するべく構成されている連続研磨ベルト１０１を有す
る。ウエハ１０７は研磨ヘッド１０５によって垂直方向
に保持され、この研磨ヘッド１０５はウエハ１０７を垂
直方向に装着された研磨ベルト１０１に付着された研磨
パッドに押しつける。研磨ベルト１０１は選択された研
磨速度（例えば１秒当たり１０ｍ）で、プーリ１０２及
び１０３を回転させることにより連続的な動きを維持す
る。支持アセンブリ１０６は、ウエハ１０７を選択され
た圧力（例えば５ｐｓｉ）に保持するべく、研磨ベルト
１０１に背面から圧力を与える。研磨ヘッド１０５は矢
印１０９で示された所定の方向に回転し、所望に応じて
研磨パッドの表面を矢印１０７ａ及び１０７ｂで示す直
線の方向に前後に動かされる。図１には、ウエハの研磨
のために用いられるただ１つの研磨ベルトアセンブリの
側面が示されているが、研磨ヘッド及びそれに付随する
機構は、ＣＭＰ装置１００の研磨ベルトアセンブリの両
側に設けることができ、これによって全体的なウエハの
スループットを高めることがでる。
【００１６】本発明は、スラリーを供給するスラリー供
給装置１０４を提供する。このスラリー供給装置１０４
は、研磨ヘッド１０５から上流（研磨ベルト１０１の移
動方向について）僅かな距離だけおいた位置に配置され
る。スラリー供給装置１０４は、高速の回転ホイールか
らスラリーの細かい流れを噴霧する。図２ａには、スラ
リー供給装置１０４の側面図が示されている。図２ａに
示すように、スラリー供給装置１０４は、（ａ）スラリ
ーリザーバ２０５を備えた下側ハウジング２０１、
（ｂ）例えば留めねじにより下側ハウジング２０１に固
定される上側ハウジング２０２、及び（ｃ）可変速モー
タ２０３を有する。コンポーネントホイールアセンブリ
は、下側ハウジング２０１及び上側ハウジング２０２の
間に挿入されている。上側ハウジング２０２はスラリー
入口２０４を有し、このスラリー入口２０４は動作中に
スラリー供給ライン（図示せず）に結合され、スラリー
供給装置１０４にスラリーを連続的に供給する。この供
給ラインにスラリーを供給するために蠕動ポンプを用い
ることができる。
給装置１０４を提供する。このスラリー供給装置１０４
は、研磨ヘッド１０５から上流（研磨ベルト１０１の移
動方向について）僅かな距離だけおいた位置に配置され
る。スラリー供給装置１０４は、高速の回転ホイールか
らスラリーの細かい流れを噴霧する。図２ａには、スラ
リー供給装置１０４の側面図が示されている。図２ａに
示すように、スラリー供給装置１０４は、（ａ）スラリ
ーリザーバ２０５を備えた下側ハウジング２０１、
（ｂ）例えば留めねじにより下側ハウジング２０１に固
定される上側ハウジング２０２、及び（ｃ）可変速モー
タ２０３を有する。コンポーネントホイールアセンブリ
は、下側ハウジング２０１及び上側ハウジング２０２の
間に挿入されている。上側ハウジング２０２はスラリー
入口２０４を有し、このスラリー入口２０４は動作中に
スラリー供給ライン（図示せず）に結合され、スラリー
供給装置１０４にスラリーを連続的に供給する。この供
給ラインにスラリーを供給するために蠕動ポンプを用い
ることができる。
【００１７】この実施例では、上側ハウジング２０２及
び下側ハウジング２０１、コンポーネントホイールアセ
ンブリ（図２ｂに示す）は、ポリカーボネート、ポリプ
ロピレン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、露出面
にテフロン被覆をなされた任意の材料、若しくはスラリ
ーに対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラス
チック）から作られ得る。モータ２０３は、好ましくは
印加する電圧の大きさを変化させることによりその速度
を変化させることができるＤＣモータである。上側ハウ
ジング２０２は正面に開口部（即ち図３ａ、図３ｂ及び
図４に示す、以下に説明する開口部３１０）を有し、従
ってスラリーのスプレーがこの開口部を通して供給され
得ることになる。
び下側ハウジング２０１、コンポーネントホイールアセ
ンブリ（図２ｂに示す）は、ポリカーボネート、ポリプ
ロピレン、ポリふっ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、露出面
にテフロン被覆をなされた任意の材料、若しくはスラリ
ーに対して不活性な他の任意の材料（例えば硬質プラス
チック）から作られ得る。モータ２０３は、好ましくは
印加する電圧の大きさを変化させることによりその速度
を変化させることができるＤＣモータである。上側ハウ
ジング２０２は正面に開口部（即ち図３ａ、図３ｂ及び
図４に示す、以下に説明する開口部３１０）を有し、従
ってスラリーのスプレーがこの開口部を通して供給され
得ることになる。
【００１８】図２ａは、スラリー供給装置１０４の組立
側面図である。図２ａに示すように、ディスペンサ１０
４は、モータ２０３、上側ハウジング２０２及び下側ハ
ウジング２０１（スラリー入口２０４及びスラリーリザ
ーバ２０５を含む）に加えてホイールアセンブリ２１０
を有し、このホイールアセンブリは少なくとも３つの部
材、即ち（ａ）動作中にホイールアセンブリがモータ２
０３の速度で回転するようにモータ２０３の回転シャフ
ト２１１に係合するリンク部材２１２、（ｂ）その上側
及び下側表面の間に溝２１７を備えたホイール又はディ
スク部２１３、及び（ｃ）ディスク部２１３の下側面に
取り付けられた円錐形部２１４を有する。図２ｂには、
スルーホール２１６の組も示されており、このスルーホ
ールを通して留めねじをねじ込み、上側ハウジング２０
２の対応するねじを切られた穴に係合させることにより
上側ハウジング２０２を下側ハウジング２０１に固定す
ることができる。円錐形部２１４は、下側ハウジング２
０１の開口部２１５に挿入される。開口部２１５は、ス
ラリーリザーバ２０５の中に開口している。
側面図である。図２ａに示すように、ディスペンサ１０
４は、モータ２０３、上側ハウジング２０２及び下側ハ
ウジング２０１（スラリー入口２０４及びスラリーリザ
ーバ２０５を含む）に加えてホイールアセンブリ２１０
を有し、このホイールアセンブリは少なくとも３つの部
材、即ち（ａ）動作中にホイールアセンブリがモータ２
０３の速度で回転するようにモータ２０３の回転シャフ
ト２１１に係合するリンク部材２１２、（ｂ）その上側
及び下側表面の間に溝２１７を備えたホイール又はディ
スク部２１３、及び（ｃ）ディスク部２１３の下側面に
取り付けられた円錐形部２１４を有する。図２ｂには、
スルーホール２１６の組も示されており、このスルーホ
ールを通して留めねじをねじ込み、上側ハウジング２０
２の対応するねじを切られた穴に係合させることにより
上側ハウジング２０２を下側ハウジング２０１に固定す
ることができる。円錐形部２１４は、下側ハウジング２
０１の開口部２１５に挿入される。開口部２１５は、ス
ラリーリザーバ２０５の中に開口している。
【００１９】スラリー供給装置２０４の正面図は図３ａ
に示されており、ここでは上側ハウジング２０２におけ
る正面開口部３１０の上部から見た正面図が示されてい
る。図３ａに示すように、２つの部分壁３０１ａ及び３
０１ｂが上側ハウジング２０２の天井部から垂設されて
いる。部分壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリー供給装
置１０４からのスラリースプレーの角度を制限するべく
設けられている。
に示されており、ここでは上側ハウジング２０２におけ
る正面開口部３１０の上部から見た正面図が示されてい
る。図３ａに示すように、２つの部分壁３０１ａ及び３
０１ｂが上側ハウジング２０２の天井部から垂設されて
いる。部分壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリー供給装
置１０４からのスラリースプレーの角度を制限するべく
設けられている。
【００２０】スラリー供給装置１０４の動作について、
図３ｂ及び図４とともに説明する。図３ｂは、上側ハウ
ジング２０２の天井部から見たスラリー供給装置１０４
の図であり、図４はスラリー供給装置１０４の垂直断面
図である。動作中、モータ２０３は所定の速度（例えば
１分当たり２０００〜３０００回転）でホイールアセン
ブリ２１０を回す。所望のモータの動作速度は、主とし
て供給されるスラリーの量により決定される。一般に、
回転速度が高くなるほど、供給されるスラリーの量も増
加する。実際に必要となる速度は、実験的に決定するこ
とができる。図４に示すように、動作速度において、ス
ラリーの流れは、円錐形部２１４の表面において生成す
る境界層のため、スラリーリザーバ２０５から円錐形部
２１４の側壁に沿って延び上がってゆく。スラリーの流
れはディスク部２１４の下側表面を越えて延びてゆき、
溝２１７に入る。回転ホイールアセンブリ２１０の遠心
力により、スラリーは溝２１７から上側ハウジング２０
２の開口部３１０を通してスラリー供給装置から噴霧さ
れる。溝２１７の壁により形成されるディスク部２１３
の鋭角の縁部は、このスプレーを垂直方向に薄い層の中
に制限する役目を果たす。
図３ｂ及び図４とともに説明する。図３ｂは、上側ハウ
ジング２０２の天井部から見たスラリー供給装置１０４
の図であり、図４はスラリー供給装置１０４の垂直断面
図である。動作中、モータ２０３は所定の速度（例えば
１分当たり２０００〜３０００回転）でホイールアセン
ブリ２１０を回す。所望のモータの動作速度は、主とし
て供給されるスラリーの量により決定される。一般に、
回転速度が高くなるほど、供給されるスラリーの量も増
加する。実際に必要となる速度は、実験的に決定するこ
とができる。図４に示すように、動作速度において、ス
ラリーの流れは、円錐形部２１４の表面において生成す
る境界層のため、スラリーリザーバ２０５から円錐形部
２１４の側壁に沿って延び上がってゆく。スラリーの流
れはディスク部２１４の下側表面を越えて延びてゆき、
溝２１７に入る。回転ホイールアセンブリ２１０の遠心
力により、スラリーは溝２１７から上側ハウジング２０
２の開口部３１０を通してスラリー供給装置から噴霧さ
れる。溝２１７の壁により形成されるディスク部２１３
の鋭角の縁部は、このスプレーを垂直方向に薄い層の中
に制限する役目を果たす。
【００２１】この実施例では、円錐形部２１４の傾斜し
た側壁が、ディスク部２１３から１００度傾斜してい
る。上述のように、壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリ
ーのスプレーを図面に示したように水平方向に所定の角
度φに制限する。この角度の大きさ即ち壁３０１ａ及び
３０１ｂの長さは、実験的に決定される。スラリー供給
装置１０４から流れ出たスラリー（例えばハウジングの
壁により捕捉されたスラリー）は、回収して再利用する
ことができ、これによりスラリーの浪費を防止してい
る。
た側壁が、ディスク部２１３から１００度傾斜してい
る。上述のように、壁３０１ａ及び３０１ｂは、スラリ
ーのスプレーを図面に示したように水平方向に所定の角
度φに制限する。この角度の大きさ即ち壁３０１ａ及び
３０１ｂの長さは、実験的に決定される。スラリー供給
装置１０４から流れ出たスラリー（例えばハウジングの
壁により捕捉されたスラリー）は、回収して再利用する
ことができ、これによりスラリーの浪費を防止してい
る。
【００２２】本発明の第２の実施例によれば、２つのホ
イールを用いるスラリー供給装置が提供される。スラリ
ー供給装置１２４は、一対の高速の逆転ホイールからス
ラリーの細かい流れをスプレーする。図５は、スラリー
供給装置１２４の等角正面図である。図５に示すよう
に、スラリー供給装置１２４は、前面２２０を有し、こ
の前面２２０には前面の裏側に配置されたホイールハウ
ジング２４０へ連通する開口部２２５が設けられてい
る。ホイールハウジング２４０の開口部は前面２２０に
おける開口部２２５と位置合わせされている。ホイール
ハウジング２４０の内部には、ハウジング内部の底面に
おいてスラリーリザーバ２４８の上に配置された２つの
ホイール２５０が含まれている。
イールを用いるスラリー供給装置が提供される。スラリ
ー供給装置１２４は、一対の高速の逆転ホイールからス
ラリーの細かい流れをスプレーする。図５は、スラリー
供給装置１２４の等角正面図である。図５に示すよう
に、スラリー供給装置１２４は、前面２２０を有し、こ
の前面２２０には前面の裏側に配置されたホイールハウ
ジング２４０へ連通する開口部２２５が設けられてい
る。ホイールハウジング２４０の開口部は前面２２０に
おける開口部２２５と位置合わせされている。ホイール
ハウジング２４０の内部には、ハウジング内部の底面に
おいてスラリーリザーバ２４８の上に配置された２つの
ホイール２５０が含まれている。
【００２３】図６ａ及び図６ｂにおけるスラリー供給装
置の背面図においては、ホイールハウジング２４０の外
部が示されている。ホイールハウジング２４０はスラリ
ー入口ライン３４０に結合されており、このスラリー入
口ライン３４０は動作中スラリー供給ライン（図示せ
ず）に結合され、これによりスラリー供給装置１２４に
連続的にスラリーを供給できる。供給ラインにスラリー
を供給するために蠕動ポンプを用いることができる。一
対の可変速モータ３２０は、ホイールハウジング２４０
の上に配置される。モータ３２０は、好ましくはＤＣモ
ータである。モータ３２０は図７に示すように、ホイー
ル２５０の上部におけるスロット２５１に嵌合すべく下
向きに延びている回転シャフトを有する。ホイール２５
０の下側部分は円錐形部２５２である。ディスク部２５
３は円錐形部の上に設けられている。ホイールハウジン
グ２４０の底部に設けられた２組のスラリーリザーバ２
４８は図８に示されている。図８は、ホイールを取り除
いて示したホイールハウジングの平面図である。動作
中、ホイール２５０は円錐形部２５２の下側部がスラリ
ーリザーバ２４８の中心交差部２４９にくるように、ホ
イール２５０が配置される。スラリーリザーバ２４８の
設計は、スラリーの使用を最小限に押さえられるような
有利な設計となっている。
置の背面図においては、ホイールハウジング２４０の外
部が示されている。ホイールハウジング２４０はスラリ
ー入口ライン３４０に結合されており、このスラリー入
口ライン３４０は動作中スラリー供給ライン（図示せ
ず）に結合され、これによりスラリー供給装置１２４に
連続的にスラリーを供給できる。供給ラインにスラリー
を供給するために蠕動ポンプを用いることができる。一
対の可変速モータ３２０は、ホイールハウジング２４０
の上に配置される。モータ３２０は、好ましくはＤＣモ
ータである。モータ３２０は図７に示すように、ホイー
ル２５０の上部におけるスロット２５１に嵌合すべく下
向きに延びている回転シャフトを有する。ホイール２５
０の下側部分は円錐形部２５２である。ディスク部２５
３は円錐形部の上に設けられている。ホイールハウジン
グ２４０の底部に設けられた２組のスラリーリザーバ２
４８は図８に示されている。図８は、ホイールを取り除
いて示したホイールハウジングの平面図である。動作
中、ホイール２５０は円錐形部２５２の下側部がスラリ
ーリザーバ２４８の中心交差部２４９にくるように、ホ
イール２５０が配置される。スラリーリザーバ２４８の
設計は、スラリーの使用を最小限に押さえられるような
有利な設計となっている。
【００２４】スラリー供給装置１２４の動作について図
９と共に説明する。図９は、ホイールハウジング２４０
の内部の天井部から見たスラリー供給装置１２４の図で
ある。動作中、モータ２０３はホイール２５０のそれぞ
れを所定の速度（例えば１分当たり３０００〜６０００
回転）で互いに逆方向６１０に回転させる。これによ
り、矢印６２０に示すスラリー供給の方向にスラリーが
重ねて噴霧されることになる。モータの所望の動作速度
は、主として、供給されるのに必要なスラリーの量及び
所望の供給パターンによって決定される。一般に、モー
タ動作速度が高くなるほど供給されるスラリーの量も増
加し、供給の中心においてより大きな重なり部分が得ら
れる。しかし、速度が速くなると、粒径も小さくなるこ
とになる。ミスチング（misting）を無くすためにはよ
り大きな液滴サイズが必要になる。好ましい速度は流れ
速度と粒径の間のトレードオフのために実験的に決定さ
れ得る。典型的なスラリーのスラリー供給ライン３４０
を通しての供給速度は約４５０ｍｌ／分である。
９と共に説明する。図９は、ホイールハウジング２４０
の内部の天井部から見たスラリー供給装置１２４の図で
ある。動作中、モータ２０３はホイール２５０のそれぞ
れを所定の速度（例えば１分当たり３０００〜６０００
回転）で互いに逆方向６１０に回転させる。これによ
り、矢印６２０に示すスラリー供給の方向にスラリーが
重ねて噴霧されることになる。モータの所望の動作速度
は、主として、供給されるのに必要なスラリーの量及び
所望の供給パターンによって決定される。一般に、モー
タ動作速度が高くなるほど供給されるスラリーの量も増
加し、供給の中心においてより大きな重なり部分が得ら
れる。しかし、速度が速くなると、粒径も小さくなるこ
とになる。ミスチング（misting）を無くすためにはよ
り大きな液滴サイズが必要になる。好ましい速度は流れ
速度と粒径の間のトレードオフのために実験的に決定さ
れ得る。典型的なスラリーのスラリー供給ライン３４０
を通しての供給速度は約４５０ｍｌ／分である。
【００２５】ある動作速度において、スラリーの流れは
円錐形部の表面における境界層の生成のために、スラリ
ーリザーバ２４８からホイール２５０の円錐形部２５０
の側壁に沿って延びてゆく。このスラリーの流れは、ホ
イール２５０のディスク部２５３の下側表面に達する。
回転ホイール２５０の遠心力により、スラリーはホイー
ルハウジング２４０の開口部を通してスラリー供給装置
１０４の外に噴霧される。ホイール２５０のディスク部
の鋭角の縁部は、スプレーを垂直方向における薄い層に
制限する役目を果たす。
円錐形部の表面における境界層の生成のために、スラリ
ーリザーバ２４８からホイール２５０の円錐形部２５０
の側壁に沿って延びてゆく。このスラリーの流れは、ホ
イール２５０のディスク部２５３の下側表面に達する。
回転ホイール２５０の遠心力により、スラリーはホイー
ルハウジング２４０の開口部を通してスラリー供給装置
１０４の外に噴霧される。ホイール２５０のディスク部
の鋭角の縁部は、スプレーを垂直方向における薄い層に
制限する役目を果たす。
【００２６】この実施例では、円錐形部２５２の傾斜側
壁が、ディスク部２５３に対して約１２０度傾斜してい
る。前面２２０の開口部２２５及び対応するホイールハ
ウジング２４０の開口部の形状により、スラリー分散の
水平方向の幅が決定される。ホイールハウジング２４０
及びホイール２５０は、ポリプロピレン、ポリふっ化ビ
ニルデン（ＰＶＤＦ）、カイナー（Kynar）、露出面を
テフロン被覆した任意の材料、又はスラリーに対して不
活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチック）から
作られ得る。継手は通常テフロン製である。以下に説明
する排出・供給用ラインは、通常テフロン又はＰＶＤＦ
から作られる。ホイールハウジング２４０の内部の全て
の角部は、後に説明するように、スラリー供給装置１２
４の洗浄を容易にするため面取りされる。
壁が、ディスク部２５３に対して約１２０度傾斜してい
る。前面２２０の開口部２２５及び対応するホイールハ
ウジング２４０の開口部の形状により、スラリー分散の
水平方向の幅が決定される。ホイールハウジング２４０
及びホイール２５０は、ポリプロピレン、ポリふっ化ビ
ニルデン（ＰＶＤＦ）、カイナー（Kynar）、露出面を
テフロン被覆した任意の材料、又はスラリーに対して不
活性な他の任意の材料（例えば硬質プラスチック）から
作られ得る。継手は通常テフロン製である。以下に説明
する排出・供給用ラインは、通常テフロン又はＰＶＤＦ
から作られる。ホイールハウジング２４０の内部の全て
の角部は、後に説明するように、スラリー供給装置１２
４の洗浄を容易にするため面取りされる。
【００２７】スラリー供給装置１２４は摺動式ドア２３
０も有している。この摺動式ドアはホイールハウジング
２４０の内部を洗浄できるように、閉じることができ
る。摺動式ドア２３０は、図６ａ及び図６ｂに示すよう
に、空気シリンダハウジング２３５の内部に包入された
空気シリンダ３３５により移動される。洗浄用の水は、
水入口ライン３４３から供給される。ホイールハウジン
グ２４０は、スラリー排出弁２４３に結合されたスラリ
ー排出ライン２４２を通して排出される。通常の動作時
においては、ホイールハウジング２４０はオペレータの
介入なしに各ウエハの研磨の間に洗浄される。
０も有している。この摺動式ドアはホイールハウジング
２４０の内部を洗浄できるように、閉じることができ
る。摺動式ドア２３０は、図６ａ及び図６ｂに示すよう
に、空気シリンダハウジング２３５の内部に包入された
空気シリンダ３３５により移動される。洗浄用の水は、
水入口ライン３４３から供給される。ホイールハウジン
グ２４０は、スラリー排出弁２４３に結合されたスラリ
ー排出ライン２４２を通して排出される。通常の動作時
においては、ホイールハウジング２４０はオペレータの
介入なしに各ウエハの研磨の間に洗浄される。
【００２８】摺動式ドア２３０には、一対の樋状部（gu
tter）３３２も取着されている。樋状部３３２は、ビニ
ール製のヒンジを備えたプラスチックで構成される。摺
動式ドア２３０が閉じられている時、樋状部３３２は内
側に折り畳まれ、水入口ライン３４３から供給される水
で洗浄される。摺動式ドア２３０が開けられている時、
樋状部３３２は、図５に示す前面２２０における開口部
２２５を通して水平に延び、ホイールハウジング２４０
の内部を、前面２２０から液体が流れ込んでこないよう
に保護する。スラリー供給装置１２４の通常の動作時に
は、水の流れは前面２２０を下向きに流れる。摺動式ド
ア２３０及び樋状部３３２により、ホイールハウジング
２４０の内部と外部との相互汚染を生じさせることなく
洗浄を行うことが可能となるという利点が得られる。つ
まり、ホイールハウジング２４０の内部を洗浄した時流
れ出たスラリーが、研磨ベルト１０１に被着された研磨
パッド上に落ちないようになり、また外部の洗浄時にホ
イールハウジング２４０内のスラリーが希釈されないよ
うになる。
tter）３３２も取着されている。樋状部３３２は、ビニ
ール製のヒンジを備えたプラスチックで構成される。摺
動式ドア２３０が閉じられている時、樋状部３３２は内
側に折り畳まれ、水入口ライン３４３から供給される水
で洗浄される。摺動式ドア２３０が開けられている時、
樋状部３３２は、図５に示す前面２２０における開口部
２２５を通して水平に延び、ホイールハウジング２４０
の内部を、前面２２０から液体が流れ込んでこないよう
に保護する。スラリー供給装置１２４の通常の動作時に
は、水の流れは前面２２０を下向きに流れる。摺動式ド
ア２３０及び樋状部３３２により、ホイールハウジング
２４０の内部と外部との相互汚染を生じさせることなく
洗浄を行うことが可能となるという利点が得られる。つ
まり、ホイールハウジング２４０の内部を洗浄した時流
れ出たスラリーが、研磨ベルト１０１に被着された研磨
パッド上に落ちないようになり、また外部の洗浄時にホ
イールハウジング２４０内のスラリーが希釈されないよ
うになる。
【００２９】本発明の第３の実施例は、研磨ベルトが垂
直に取り付けられるが水平方向に移動するような研磨装
置での使用に適するものである。（例えば研磨ベルト１
０１の平面に対してＣＭＰ装置１００を９０度回転させ
た実施例を考えられたい。）水平面において回転する図
１ａ及び図１ｂのスラリー供給装置１０４における回転
ホイールとは異なり、このような研磨装置用のスラリー
供給装置における回転ホイールは、垂直面において回転
する。このような装置においては、スラリーが引き出さ
れるリザーバを、図４のリザーバ２０５と同様に設ける
ことができないのは明らかである。図１０ａ及び図１０
ｂはそれぞれ、本発明の第３の実施例を実現するために
適するスラリー供給装置５００の垂直断面図及び水平断
面図である。
直に取り付けられるが水平方向に移動するような研磨装
置での使用に適するものである。（例えば研磨ベルト１
０１の平面に対してＣＭＰ装置１００を９０度回転させ
た実施例を考えられたい。）水平面において回転する図
１ａ及び図１ｂのスラリー供給装置１０４における回転
ホイールとは異なり、このような研磨装置用のスラリー
供給装置における回転ホイールは、垂直面において回転
する。このような装置においては、スラリーが引き出さ
れるリザーバを、図４のリザーバ２０５と同様に設ける
ことができないのは明らかである。図１０ａ及び図１０
ｂはそれぞれ、本発明の第３の実施例を実現するために
適するスラリー供給装置５００の垂直断面図及び水平断
面図である。
【００３０】図１０ａに示すように、スラリー供給装置
５００は、ハウジング５０５の側面上の開口部５０７か
らスラリーの流れを噴霧する。コンポーネントホイール
アセンブリ５０３は、ハウジング５０５内に包入されて
いるが、これは、ハウジング５０５の外部に配設された
可変速モータ５０２に結合されたシャフト５０４により
回転される。図１０ｂに示すように、コンポーネントホ
イールアセンブリ５０３はハウジング５０５の底部に配
設されたスラリーリザーバ５０６に部分的に沈められて
おり、これによって、成形ホイールアセンブリ５０３が
矢印５０３の示す方向にシャフト５０４によって回転さ
れた時、スラリーは成形ホイールアセンブリ５０３の回
転によって運ばれて、遠心力によりハウジング５０５の
開口部５０７から噴霧される。リザーバ５０６の部分壁
５０１ａ及び側壁５０１ｂは、図３ａ及び図３ｂのスラ
リー供給装置１０４の部分壁３０１ａ及び３０１ｂと同
様に、スプレーの角度φを制限する役目を果たす。
５００は、ハウジング５０５の側面上の開口部５０７か
らスラリーの流れを噴霧する。コンポーネントホイール
アセンブリ５０３は、ハウジング５０５内に包入されて
いるが、これは、ハウジング５０５の外部に配設された
可変速モータ５０２に結合されたシャフト５０４により
回転される。図１０ｂに示すように、コンポーネントホ
イールアセンブリ５０３はハウジング５０５の底部に配
設されたスラリーリザーバ５０６に部分的に沈められて
おり、これによって、成形ホイールアセンブリ５０３が
矢印５０３の示す方向にシャフト５０４によって回転さ
れた時、スラリーは成形ホイールアセンブリ５０３の回
転によって運ばれて、遠心力によりハウジング５０５の
開口部５０７から噴霧される。リザーバ５０６の部分壁
５０１ａ及び側壁５０１ｂは、図３ａ及び図３ｂのスラ
リー供給装置１０４の部分壁３０１ａ及び３０１ｂと同
様に、スプレーの角度φを制限する役目を果たす。
【００３１】上述の発明の詳細な説明は、特定の実施例
について説明したものであり、本発明をこれに限定しよ
うとするものではない。本発明の範囲内で様々に改良変
更をした実施が可能である。例えば。ＣＭＰ装置におけ
る利用で例示されている本発明は、他の任意の研磨装置
においての使用にも適するものである。本発明は以下の
請求項によって定義される。
について説明したものであり、本発明をこれに限定しよ
うとするものではない。本発明の範囲内で様々に改良変
更をした実施が可能である。例えば。ＣＭＰ装置におけ
る利用で例示されている本発明は、他の任意の研磨装置
においての使用にも適するものである。本発明は以下の
請求項によって定義される。
【００３２】
【発明の効果】従って、本発明により、供給するスラリ
ーの量を木目細かく制御することが可能で、スラリーの
浪費を防止でき、また、良好な作動状態を保つように洗
浄のための手段を備えたスラリー供給装置が提供され
る。
ーの量を木目細かく制御することが可能で、スラリーの
浪費を防止でき、また、良好な作動状態を保つように洗
浄のための手段を備えたスラリー供給装置が提供され
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ａ及びＢからなり、Ａは、本発明による、スラ
リー供給装置１０４を備えたＣＭＰ装置１００の概略的
な正面図であり、Ｂは、同ＣＭＰ装置１００の概略的な
側面図である。
リー供給装置１０４を備えたＣＭＰ装置１００の概略的
な正面図であり、Ｂは、同ＣＭＰ装置１００の概略的な
側面図である。
【図２】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
０４の側面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
組立側面図である。
０４の側面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
組立側面図である。
【図３】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
０４の正面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
動作を示した図である。
０４の正面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１０４の
動作を示した図である。
【図４】スラリー供給装置１０４の動作を示す、その垂
直断面図である。
直断面図である。
【図５】スラリー供給装置１２４の等角正面図である。
【図６】Ａ及びＢからなり、Ａは、スラリー供給装置１
２４の等角背面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１２
４の組立背面図である。
２４の等角背面図であり、Ｂは、スラリー供給装置１２
４の組立背面図である。
【図７】ホイール２５０を示した図である。
【図８】リザーバ２４８を示すようにホイールを取り除
いて図解した、ホイールハウジングの平面図である。
いて図解した、ホイールハウジングの平面図である。
【図９】スラリー供給装置１２４の動作を示す、ホイー
ルハウジング２４０の内部の上からみた図である。
ルハウジング２４０の内部の上からみた図である。
【図１０】Ａ及びＢからなり、Ａは、本発明によるスラ
リー供給装置５００の垂直断面図、Ｂは、同水平断面図
である。
リー供給装置５００の垂直断面図、Ｂは、同水平断面図
である。
【符号の説明】 １００ 化学的機械的研磨（ＣＭＰ）装置 １０１ 研磨ベルト １０２，１０３ プーリ １０４ スラリー供給装置 １０５ 研磨ヘッド １０６ 支持アセンブリ １０７ ウエハ ２０１ 下側ハウジング ２０２ 上側ハウジング ２０３ 可変速モータ ２０４ スラリー入口 ２０５ スラリーリザーバ ２１０ ホイールアセンブリ ２１１ 回転シャフト ２１２ リンク部材 ２１３ ディスク部 ２１４ 円錐形部 ２１５ 開口部 ２１６ スルーホール ２１７ 溝 ２２０ 前面 ２２５ 開口部 ２３０ 摺動式ドア ２４０ ホイールハウジング ２４８ スラリーリザーバ ２４９ 中心交差部 ２５０ ホイール ２５２ 円錐形部 ２５３ ディスク部 ３０１ａ，３０１ｂ 部分壁 ３１０ 開口部 ３２０ 可変速モータ ３３２ 樋状部 ３４０ スラリー入口ライン ５００ スラリー供給装置 ５０１ａ 部分壁 ５０１ｂ 側壁 ５０３ コンポーネントホイールアセンブリ ５０５ ハウジング ５０６ リザーバ ５０７ 開口部 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年４月２３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図４】
【図７】
【図８】
【図３】
【図５】
【図６】
【図９】
【図１０】
Claims (16)
- 【請求項１】 第１開口部を有するハウジングと、 前記ハウジング内部に配設されたスラリーを保持するた
めの第１リザーバと、 第１回動機構と、 前記ハウジング内部に配設された第１ホイールアセンブ
リとを有するスラリー供給装置において、 前記第１ホイールアセンブリが、前記第１回動機構に係
合し、前記第１回動機構とともに回転することを特徴と
し、 前記第１のホイールアセンブリが、前記第１ディスク部
と、前記リザーバから前記第１ディスク部へ前記スラリ
ーを運ぶための第１コンジットとを有し、これによっ
て、前記第１ホイールアセンブリが回転しているとき、
スラリーの流れが、前記第１コンジットを上って前記第
１ディスク部に達し、前記第１ディスク部により前記第
１開口部を通してスプレーとして供給されるようになっ
ていることを特徴とするスラリー供給装置。 - 【請求項２】 前記第１ホイールアセンブリの前記第
１コンジットが、前記第１リザーバに挿入される円錐形
部を含むことを特徴とする請求項１に記載のスラリー供
給装置。 - 【請求項３】 前記第１ディスク部が、前記ディスク
部の外縁部に沿って延びる溝を有することを特徴とする
請求項１に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項４】 前記第１回動機構が、可変速モータを
含むことを特徴とする請求項１に記載のスラリー供給装
置。 - 【請求項５】 前記第１ホイールアセンブリ及び前記
ハウジングが、前記スラリーに対して化学的に不活性な
材料を含むことを特徴とする請求項１に記載のスラリー
供給装置。 - 【請求項６】 前記材料がポリふっ化ビニリデン（Ｐ
ＶＤＦ）を含むことを特徴とする請求項５に記載のスラ
リー供給装置。 - 【請求項７】 前記材料がポリカーボネートを含むこ
とを特徴とする請求項５に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項８】 前記材料がポリプロピレンを含むこと
を特徴とする請求項５に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項９】 前記材料がテフロン被覆を含むことを
特徴とする請求項５に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項１０】 前記ハウジング内部の前記開口部の
近傍に設けられた壁部を更に有し、これによって前記ス
プレーが所定の角度に制限されることを特徴とする請求
項１に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項１１】 前記第１リザーバへのスラリーの連
続的な供給のための第１スラリー入口を更に有すること
を特徴とする請求項１に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項１２】 前記ハウジングが第２開口部を更に
有することを特徴とし、 前記スラリー供給装置が、 前記ハウジング内部に配設されたスラリーを保持するた
めの第２リザーバと、 第２回動機構と、 前記ハウジング内部に配設された第２ホイールアセンブ
リとを更に有することを特徴とし、 前記第２ホイールアセンブリが、前記第２回動機構と係
合し、かつ前記第２回動機構とともに回転することを特
徴とし、 前記第２ホイールアセンブリが、第２ディスク部と、前
記第２リザーバから前記第２ディスク部に前記スラリー
を運ぶための第２コンジットとを有し、これによって、
前記第１ホイールアセンブリ及び前記第２ホイールアセ
ンブリが回転しているとき、スラリーの流れが、前記第
１コンジット及び前記第２コンジットを上ってそれぞれ
前記第１ディスク部及び前記第２ディスク部に達し、そ
れぞれ前記第１ディスク部及び前記第２ディスク部によ
り前記第１開口部及び前記第２開口部を通して協働して
スプレーとして供給されるようになっていることを特徴
とする請求項１に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項１３】 前記第１回動機構及び前記第２回動
機構が、互いに反対方向に前記第１ホイールアセンブリ
及び前記第２ホイールアセンブリを回転するように動作
することを特徴とする請求項１２に記載のスラリー供給
装置。 - 【請求項１４】 開位置と閉位置とを取り得る摺動式
ドアであって、閉位置において前記摺動式ドアが前記ハ
ウジングにおける前記第１開口部及び前記第２開口部を
カバーする、該摺動式ドアと、 前記摺動式ドアを作動させる空気シリンダと、 前記ハウジングに洗浄用水を供給するための水入口ライ
ンを更に有することを特徴とする請求項１２に記載のス
ラリー供給装置。 - 【請求項１５】 洗浄の後前記ハウジングを空にする
ための排出ライン及び排出弁を更に含むことを特徴とす
る請求項１４に記載のスラリー供給装置。 - 【請求項１６】 前記摺動式ドアに取着された樋状部
を更に有することを特徴とし、 前記摺動式ドアが開位置にある時、前記樋状部が前記第
１開口部及び前記第２開口部から延出することを特徴と
する請求項１５に記載のスラリー供給装置。
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|---|---|---|---|
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| US09/113,727 US6098901A (en) | 1997-11-05 | 1998-07-10 | Apparatus for dispensing slurry |
| US08/965067 | 1998-07-10 |
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|---|---|
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