JPH11212100A - Liquid crystal device, manufacture of liquid crystal device, and electronic equipment - Google Patents
Liquid crystal device, manufacture of liquid crystal device, and electronic equipmentInfo
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- JPH11212100A JPH11212100A JP1623598A JP1623598A JPH11212100A JP H11212100 A JPH11212100 A JP H11212100A JP 1623598 A JP1623598 A JP 1623598A JP 1623598 A JP1623598 A JP 1623598A JP H11212100 A JPH11212100 A JP H11212100A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に封
入された液晶に印加する電圧を制御することによって光
を変調する液晶装置に関する。また本発明は、その液晶
装置の製造方法に関する。また本発明は、その液晶装置
を用いて構成される電子機器に関する。The present invention relates to a liquid crystal device that modulates light by controlling a voltage applied to a liquid crystal sealed between a pair of substrates. The invention also relates to a method for manufacturing the liquid crystal device. The present invention also relates to an electronic device including the liquid crystal device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、デジタルカメラ、携帯電話機、携
帯情報端末器等といった各種の電子機器において液晶装
置が広く用いられている。例えば、数字、文字、その他
の可視像を表示するために液晶装置が用いられている。2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal devices have been widely used in various electronic devices such as digital cameras, portable telephones, portable information terminals and the like. For example, liquid crystal devices are used to display numbers, characters, and other visible images.
【0003】この液晶装置として、従来、例えば図8に
示すように、一対の基板である素子基板3a及び対向基
板3bをシール材2によって互いに貼り合せ、それらの
基板の間に形成される間隙、いわゆるセルギャップに液
晶を封入する構造の液晶装置が知られている。今、この
液晶装置をTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオー
ド)方式の液晶装置と考えれば、素子基板3aの内側表
面には画素電極6がドットマトリクス状に形成される。
そして、対向基板3bの内側表面にはストライプ状、す
なわち互いに平行に並べられていて直線状である複数の
対向電極8、すなわち導電線が設けられる。As a conventional liquid crystal device, as shown in FIG. 8, for example, an element substrate 3a and a counter substrate 3b, which are a pair of substrates, are adhered to each other with a sealing material 2, and a gap formed between the substrates is formed. A liquid crystal device having a structure in which liquid crystal is sealed in a so-called cell gap is known. Now, assuming that this liquid crystal device is a TFD (Thin Film Diode) liquid crystal device, pixel electrodes 6 are formed in a dot matrix on the inner surface of the element substrate 3a.
On the inner surface of the counter substrate 3b, a plurality of stripe-shaped counter electrodes 8, that is, straight lines arranged in parallel with each other, that is, conductive lines are provided.
【0004】図8に示すようなストライプ状の対向電極
8を用いる液晶装置では、その対向電極8の終端部8a
がシール材2と対向基板3bとの間に介在するように設
けられることが多い。その理由は次の通りである。すな
わち、対向電極8の入力側部分8bはその機能上シール
材2と対向基板3bとの間に介在せざるを得ないので、
仮に対向電極8の終端部8aをシール材2と基板3bと
の間に介在させないと、入力側部分8bと終端部8aと
の間で対向基板8の厚さ分だけセルギャップに誤差が生
じ、その結果、セルギャップが不均一になるからであ
る。このようにシール材2と対向基板3bとの間に対向
電極8の終端部8aを介在させるときには、対向電極8
の先端がシール材2の外部に露出することが多い。In a liquid crystal device using a stripe-shaped counter electrode 8 as shown in FIG.
Is often provided so as to be interposed between the sealing material 2 and the counter substrate 3b. The reason is as follows. That is, the input-side portion 8b of the counter electrode 8 has to be interposed between the sealing material 2 and the counter substrate 3b in terms of its function.
If the terminal 8a of the counter electrode 8 is not interposed between the sealing material 2 and the substrate 3b, an error occurs in the cell gap between the input portion 8b and the terminal 8a by the thickness of the counter substrate 8, and As a result, the cell gap becomes non-uniform. When the terminal 8a of the counter electrode 8 is interposed between the sealing material 2 and the counter substrate 3b in this manner, the counter electrode 8
Is often exposed to the outside of the sealing material 2.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、液晶装置を
製造する際には、液晶を貯溜した容器内に空の液晶パネ
ルを浸漬することによって、基板間のセルギャップ内に
液晶を注入するという液晶注入方法を採用することが多
い。そしてこの方法を採用する場合には、その液晶注入
処理が完了した後、液晶パネルの周囲を洗浄して不要な
液晶を除去することが一般的である。By the way, when manufacturing a liquid crystal device, an empty liquid crystal panel is immersed in a container storing the liquid crystal to inject the liquid crystal into a cell gap between the substrates. Injection methods are often employed. When this method is adopted, it is common to wash the periphery of the liquid crystal panel to remove unnecessary liquid crystals after the liquid crystal injection process is completed.
【0006】しかしながら、上記の洗浄処理を行った場
合でも液晶パネルの周囲から液晶を完全に除去できない
という状況がしばしば見受けられ、その場合には、液晶
パネルの周囲に部分的に液晶が残留し、しかもその液晶
の内部には汚れ成分が含まれることが多い。However, even when the above-described cleaning treatment is performed, it is often observed that the liquid crystal cannot be completely removed from the periphery of the liquid crystal panel. In this case, the liquid crystal partially remains around the liquid crystal panel, In addition, the liquid crystal often contains a dirt component.
【0007】このように、液晶パネルの周囲に液晶が残
留し、しかもその残留液晶がシール材の外側へ露出する
対向電極8の上に残留する場合には、対向電極8の個々
に対して断続的に電圧を印加するときに、その残存液晶
の存在下で各電極8に電蝕が発生し、さらにその電蝕が
対向電極8に沿って基板の内部方向へ進行し、その結
果、いわゆる線欠陥が発生して液晶装置の表示品質が損
なわれるおそれがある。As described above, when the liquid crystal remains around the liquid crystal panel and the remaining liquid crystal remains on the counter electrode 8 exposed to the outside of the sealing material, each of the counter electrodes 8 is interrupted. When a voltage is applied, electrolytic corrosion occurs in each of the electrodes 8 in the presence of the remaining liquid crystal, and the electrolytic corrosion proceeds along the counter electrode 8 toward the inside of the substrate. Defects may occur and display quality of the liquid crystal device may be impaired.
【0008】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、ストライプ状の対向電極等といった導電
線の終端部をシール材と基板との間に介在させてそれを
スペーサ材として用いる構造の液晶装置において、液晶
パネルの周囲に液晶の洗浄残りが発生しても、線状欠陥
等といった表示不良が発生しないようにすることを目的
とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a terminal portion of a conductive wire, such as a stripe-shaped counter electrode, interposed between a sealing material and a substrate, and is provided with a spacer material. An object of the present invention is to prevent a display defect such as a linear defect from occurring even if liquid crystal is left unwashed around a liquid crystal panel in a liquid crystal device having a structure used as a liquid crystal panel.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するため本発明に係る第1の液晶装置は、シール材に
よって互いに接合された一対の基板と、それらの基板の
少なくとも一方にストライプ状に形成された複数の導電
線とを有し、それらの導電線はその入力側部分でシール
材の一部分を横切りその終端部がシール材の他部分の近
傍まで延びる液晶装置において、前記導電線の終端部に
対応する前記シール材の他部分の所でそのシール材と前
記基板との間に、前記導電線の延長線上に配置されると
共に前記導電線と実質的に同じ厚さであってそれらの導
電線に対して電気的に絶縁されたスペーサ材を設けたこ
とを特徴とする。(1) In order to achieve the above object, a first liquid crystal device according to the present invention comprises a pair of substrates joined to each other by a sealing material, and a stripe formed on at least one of the substrates. A plurality of conductive lines formed in a shape, the conductive lines traversing a part of the sealing material at an input side portion thereof, and an end portion thereof extends to a vicinity of another part of the sealing material. The other end of the sealing material corresponding to the end portion, between the sealing material and the substrate, disposed on an extension of the conductive line and having substantially the same thickness as the conductive line; It is characterized in that a spacer material electrically insulated from the conductive wires is provided.
【0010】(2) 本発明に係る第2の液晶装置は、
シール材によって互いに接合された一対の基板と、それ
らの基板の少なくとも一方にストライプ状に形成された
複数の導電線とを有し、それらの導電線はその入力側部
分でシール材の一部分を横切りその終端部がシール材の
他部分の近傍まで延びる液晶装置において、前記複数
の導電線の終端はシール材の内側エッジよりも外側へ延
び、それらの導電線はシール材の外側エッジより内側
であって有効表示領域よりも外側の位置で分断され、
その分断によって前記導電線から離れた部分を前記基板
のためのスペーサ材として用いることを特徴とする。(2) A second liquid crystal device according to the present invention comprises:
It has a pair of substrates joined to each other by a sealing material, and a plurality of conductive lines formed in stripes on at least one of the substrates, and the conductive lines traverse a part of the sealing material at an input side portion thereof. In a liquid crystal device, the terminal end of which extends to the vicinity of the other part of the sealing material, the ends of the plurality of conductive lines extend outside the inner edge of the sealing material, and the conductive lines are inside the outer edge of the sealing material. Divided at a position outside the effective display area,
A part separated from the conductive line by the division is used as a spacer material for the substrate.
【0011】本発明に係る上記構成の各液晶装置によれ
ば、入力側部分の所でシール部材を横切る導電線の終端
部に対応する所のシール材と基板との間に、導電線の延
長線上であると共に導電線と実質的に同じ厚さのスペー
サ材を配設したので、互いに対向する一対の基板間の間
隙を導電線の入力側部分と終端部に対応する位置におい
て均等にすることができるため基板全体において均一な
寸法に設定できる。なお、「実質的に」というのは、製
造上あるいはその他の理由により寸法にバラツキが生じ
る場合も含む意味である。According to each of the liquid crystal devices having the above-mentioned structure according to the present invention, the extension of the conductive line is provided between the substrate and the sealing material corresponding to the terminal portion of the conductive line crossing the sealing member at the input side portion. Since the spacer material on the line and having substantially the same thickness as the conductive line is provided, the gap between the pair of substrates facing each other is made uniform at the position corresponding to the input side portion and the terminal end of the conductive line. Therefore, uniform dimensions can be set for the entire substrate. Note that the term “substantially” includes a case in which dimensions vary due to manufacturing or other reasons.
【0012】そして、そのように導電線の終端部近傍に
おいて、シール材と基板との間にスペーサ材を設ける場
合には、製造誤差等のためにスペーサ材の先端がシール
材の外側に露出することがある。その場合、シール材の
外側へ露出するスペーサ材が前記導電線に導通している
と、液晶の洗浄処理の後にスペーサ材の露出部分に液晶
が残存するときに電蝕が進行して線欠陥を発生するおそ
れがある。これに対して、本発明のようにスペーサ材と
導電線との導通を遮断しておけば、仮にスペーサ材の露
出部分に液晶が残存する場合でも、導電線が電蝕される
ことを防止できる。When a spacer material is provided between the sealing material and the substrate near the end of the conductive wire, the tip of the spacer material is exposed outside the sealing material due to a manufacturing error or the like. Sometimes. In this case, if the spacer material exposed to the outside of the seal material is in conduction with the conductive line, when the liquid crystal remains on the exposed portion of the spacer material after the cleaning process of the liquid crystal, the electrolytic corrosion proceeds and the line defect is caused. May occur. On the other hand, if the conduction between the spacer material and the conductive wire is cut off as in the present invention, even if liquid crystal remains in the exposed portion of the spacer material, the conductive wire can be prevented from being electrolytically corroded. .
【0013】(3) 上記の各液晶装置において、前記
一対の基板は非線形素子が形成される素子基板及びそれ
に対向する対向基板によって構成できる。その場合、前
記導電線は対向基板に形成されるストライプ状の対向電
極と考えることができる。非線形素子としては、3端子
型非線形素子であるTFT(Thin Film Transistor)
や、2端子型非線形素子であるTFD(Thin Film Diod
e)等が考えられる。(3) In each of the above liquid crystal devices, the pair of substrates can be constituted by an element substrate on which a non-linear element is formed and an opposing substrate opposed thereto. In that case, the conductive line can be considered as a stripe-shaped counter electrode formed on the counter substrate. As a non-linear element, a TFT (Thin Film Transistor) which is a three-terminal type non-linear element
And TFD (Thin Film Diod)
e) and so on.
【0014】ここで、TFDは、第1電極と第2電極と
の間に絶縁層を挟む構造を有しており、このTFDを用
いる方式の液晶装置について考えると、その液晶装置は
TFDが形成された素子基板とそれに対向する対向基板
とをシール材によって互いに接合することによって形成
される。本発明をこのTFD方式の液晶装置に適用する
場合には、前記の「導電線」として、対向基板の表面に
形成されるストライプ状の対向電極が考えられる。Here, the TFD has a structure in which an insulating layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode. Considering a liquid crystal device using this TFD, the liquid crystal device is formed by the TFD. The element substrate thus formed and the opposing substrate facing the element substrate are bonded to each other with a sealing material. When the present invention is applied to this TFD type liquid crystal device, a stripe-shaped counter electrode formed on the surface of a counter substrate may be used as the “conductive line”.
【0015】(4) 本発明に係る液晶装置の製造方法
は、一対の基板の少なくとも一方に複数の導電線をス
トライプ状に形成する導電線形成工程と、それらの基
板の少なくともいずれか一方にシール材を形成するシー
ル材形成工程と、シール材を介してそれらの基板を貼
り合せる基板貼合せ工程とを有し、一対の基板が互い
に貼り合わされたとき前記導電線はその入力側部分でシ
ール材の一部分を横切りその終端部がシール材の他部分
の近傍まで延びるようになる液晶装置の製造方法におい
て、前記導電線の終端部に対応する前記シール材の他
部分の所でそのシール材と前記基板との間に、前記導電
線と実質的に同じ厚さであってそれらの導電線に対して
電気的に絶縁されたスペーサ材を形成するスペーサ材形
成工程を有することを特徴とする。この液晶装置の製造
方法によれば、上記(1)に記載した液晶装置を確実に
形成できる。(4) In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a conductive line forming step of forming a plurality of conductive lines in a stripe shape on at least one of a pair of substrates, and a seal on at least one of the substrates. A sealing material forming step of forming a material, and a substrate bonding step of bonding the substrates via the sealing material, wherein when the pair of substrates are bonded to each other, the conductive wire is sealed at the input side thereof. In a liquid crystal device in which the terminal portion extends across the portion of the sealing material and extends near the other portion of the sealing material, the sealing material and the sealing material correspond to the other portion of the sealing material corresponding to the terminal portion of the conductive wire. A spacer material forming step of forming a spacer material having substantially the same thickness as the conductive lines and electrically insulating the conductive lines from the substrate. You. According to this method of manufacturing a liquid crystal device, the liquid crystal device described in (1) can be reliably formed.
【0016】(5) 上記(4)記載の液晶装置の製造
方法において、前記スペーサ材形成工程は前記導電線形
成工程と同時に行うことができる。そしてその場合に
は、前記スペーサ材は前記導電線が所定パターンに形成
されるときにその導電線と同じ材料によって所定パター
ンに形成される。この方法によれば、導電線を形成する
のと同時にスペーサ材が形成されるので、製造工程が簡
単になる。(5) In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the above (4), the spacer material forming step can be performed simultaneously with the conductive line forming step. In this case, when the conductive line is formed in a predetermined pattern, the spacer material is formed in a predetermined pattern using the same material as the conductive line. According to this method, since the spacer material is formed at the same time as the formation of the conductive line, the manufacturing process is simplified.
【0017】(6) 上記(4)記載の液晶装置の製造
方法は次のようにして実施できる。すなわち、前記導
電線形成工程において、前記複数の導電線の終端が前記
シール材の内側エッジよりも外側へ延びるように導電線
を形成し、前記スペーサ材形成工程をその導電線形成
工程の後に実行し、その際、形成された導電線をシー
ル材の外側エッジより内側であって有効表示領域よりも
外側の位置で分断することによって前記スペーサ材を形
成する。この方法によれば、スペーサ材を形成するため
にそれ専用の工程を実行する必要が生じるが、導電線を
形成する際のマスクパターンを簡単にすることができ
る。なお、導電線の分断は、例えば、レーザ光線を用い
た切断処理によって行うことができる。(6) The method for manufacturing a liquid crystal device described in the above (4) can be carried out as follows. That is, in the conductive line forming step, a conductive line is formed such that ends of the plurality of conductive lines extend outside the inner edge of the sealing material, and the spacer material forming step is performed after the conductive line forming step. At this time, the spacer material is formed by dividing the formed conductive line at a position inside the outer edge of the sealing material and outside the effective display area. According to this method, it is necessary to execute a dedicated process for forming the spacer material, but it is possible to simplify the mask pattern when forming the conductive lines. The cutting of the conductive wire can be performed by, for example, a cutting process using a laser beam.
【0018】(7) 上記の各液晶装置の製造方法は、
非線形素子が形成される素子基板及びそれに対向する対
向基板を含んで構成される液晶装置を製造するために用
いることができる。その場合、前記導電線は対向基板に
形成されるストライプ状の対向電極と考えることができ
る。非線形素子としては、3端子型非線形素子であるT
FT(Thin Film Transistor)や、2端子型非線形素子
であるTFD(Thin Film Diode)等が考えられる。(7) The method of manufacturing each of the above liquid crystal devices is as follows.
The present invention can be used to manufacture a liquid crystal device including an element substrate on which a non-linear element is formed and an opposing substrate facing the element substrate. In that case, the conductive line can be considered as a stripe-shaped counter electrode formed on the counter substrate. As the nonlinear element, a three-terminal type nonlinear element T
An FT (Thin Film Transistor), a TFD (Thin Film Diode) which is a two-terminal type nonlinear element, and the like are conceivable.
【0019】(8) 本発明に係る電子機器は、以上に
記載した構成の液晶装置を含んで構成されることを特徴
とする電子機器である。多くの場合は、その電子機器の
可視像表示部、すなわち数字、文字その他の情報を表示
するための部分として用いられることになるであろう
が、使用形態はそのような可視像表示部に限定されるも
のではない。このような電子機器としては、例えば、デ
ジタルカメラ、携帯電話機、携帯情報端末器等が考えら
れる。(8) An electronic apparatus according to the present invention is an electronic apparatus including the liquid crystal device having the above-described configuration. In many cases, it will be used as a visible image display part of the electronic device, that is, a part for displaying numbers, characters, and other information. However, the present invention is not limited to this. Examples of such an electronic device include a digital camera, a mobile phone, and a portable information terminal.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
に係る液晶装置の一実施形態を平面図によって示してい
る。ここに示す液晶装置1は、シール材2によって互い
に接合された一対の透光性基板3a及び3bを有する。
図の奥側の基板3aは素子基板用の透光性基板であり、
その表面には、互いに平行に並べられた直線状の配線、
すなわちストライプ状の配線4が形成され、さらにそれ
らの配線4の間に複数の画素電極6がドットマトリクス
状に形成され、さらに各画素電極6と配線4とがTFD
素子7を介して接続される。(First Embodiment) FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. The liquid crystal device 1 shown here has a pair of translucent substrates 3a and 3b joined to each other by a sealant 2.
The substrate 3a on the back side of the figure is a translucent substrate for an element substrate,
On its surface, linear wiring arranged in parallel with each other,
That is, a striped wiring 4 is formed, a plurality of pixel electrodes 6 are formed between the wirings 4 in a dot matrix, and each pixel electrode 6 and the wiring 4 are connected to a TFD.
Connected via element 7.
【0021】図1の手前側の基板3bは対向基板用の透
光性基板であり、その表面にはストライプ状の対向電極
8、すなわち導電線が形成される。これらの対向電極8
と素子基板3a上の画素電極6とが対向する部分にドッ
トマトリクス状の画素が形成される。今、矢印Aで示す
部分の対向基板3bの表面を拡大して示すと図2に示す
通りであり、各対向電極8のそれぞれに対してそれらの
延長線上の各位置にスペーサ材9が形成される。The substrate 3b on the near side in FIG. 1 is a light-transmitting substrate for a counter substrate, on which a counter electrode 8 in the form of a stripe, that is, a conductive line is formed. These counter electrodes 8
A pixel in a dot matrix is formed at a portion where the pixel electrode 6 on the element substrate 3a faces. FIG. 2 is an enlarged view of the surface of the counter substrate 3b at the portion indicated by the arrow A, as shown in FIG. 2. A spacer material 9 is formed at each position on the extension of each of the counter electrodes 8. You.
【0022】これらのスペーサ材9は、図3に示すよう
に、シール材2と透光性基板3bとの間に形成される。
これらのスペーサ材9は対向電極8と実質的に同じ厚さ
に形成され、さらに本実施形態の場合は、スペーサ材9
と対向電極8とが同じ材料、例えばITO(Indium Tin
Oxide)によって形成されている。スペーサ材9と対向
電極8との間は間隔Dで分断され、これによりスペーサ
材9と対向電極8とが電気的に絶縁されている。These spacer members 9 are formed between the sealing member 2 and the light-transmitting substrate 3b, as shown in FIG.
These spacer members 9 are formed to have substantially the same thickness as the counter electrode 8, and in the case of the present embodiment, the spacer members 9 are formed.
And the counter electrode 8 are made of the same material, for example, ITO (Indium Tin).
Oxide). The space between the spacer material 9 and the opposing electrode 8 is divided at the interval D, so that the spacer material 9 and the opposing electrode 8 are electrically insulated.
【0023】図3に示す通り、対向電極8と透光性基板
3bとの間には、各色光透過ドットパターン12及びブ
ラックマトリクス13から成るカラーフィルタ11が形
成される。図2では、赤色光透過パターンを“R”で示
し、緑色光透過パターンを“G”で示し、そして青色光
透過パターンを“B”で示す。また、図3においてカラ
ーフィルタ11と対向電極8との間には、カラーフィル
タ11の表面平滑性を高めて対向電極8の断線を防止す
る等といった作用を果たすオーバーコート層14が形成
される。さらに、対向電極8の上には配向膜16が形成
される。As shown in FIG. 3, a color filter 11 comprising a light-transmitting dot pattern 12 for each color and a black matrix 13 is formed between the counter electrode 8 and the light-transmitting substrate 3b. In FIG. 2, a red light transmission pattern is indicated by "R", a green light transmission pattern is indicated by "G", and a blue light transmission pattern is indicated by "B". In FIG. 3, an overcoat layer 14 is formed between the color filter 11 and the counter electrode 8, which functions to enhance the surface smoothness of the color filter 11 and prevent disconnection of the counter electrode 8. Further, an alignment film 16 is formed on the counter electrode 8.
【0024】一方、素子基板用の透光性基板3aには、
既述の通り、配線4、TFD素子7及び画素電極6が形
成され、さらにそれらの上に配向膜17が形成される。
素子基板用透光性基板3aと対向基板用透光性基板3b
との間に形成される間隙、いわゆるセルギャップには液
晶Lが封入される。On the other hand, the translucent substrate 3a for the element substrate includes
As described above, the wiring 4, the TFD element 7, and the pixel electrode 6 are formed, and the alignment film 17 is formed thereon.
Transparent substrate 3a for element substrate and translucent substrate 3b for counter substrate
The liquid crystal L is sealed in a gap formed between the liquid crystal L and the so-called cell gap.
【0025】図1に示した液晶装置1は、COG(Chip
On Glass)方式の液晶装置であり、よって、素子基板
用透光性基板3aの表面に液晶駆動用IC18aが直接
に装着され、また、対向基板側透光性基板3bの表面に
も液晶駆動用IC18bが直接に装着される。そして、
素子基板用透光性基板3a上に形成された配線4がIC
18aの出力端子に接続される。また、対向基板用透光
性基板3b上に形成された対向電極8がIC18bの出
力端子に接続される。符号19は、液晶駆動用IC18
a及び18bを外部回路に接続するための外部接続用端
子を示す。The liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 has a COG (Chip)
On-glass) type liquid crystal device, therefore, the liquid crystal driving IC 18a is directly mounted on the surface of the element substrate light transmitting substrate 3a, and the liquid crystal driving IC 18a is also mounted on the surface of the opposing substrate side light transmitting substrate 3b. The IC 18b is directly mounted. And
The wiring 4 formed on the translucent substrate 3a for an element substrate is an IC.
18a is connected to the output terminal. Further, the opposing electrode 8 formed on the opposing substrate translucent substrate 3b is connected to the output terminal of the IC 18b. Reference numeral 19 denotes a liquid crystal driving IC 18
4 shows external connection terminals for connecting a and 18b to an external circuit.
【0026】液晶駆動用IC18a及び18bが作動す
ると、選択された画素に相当する画素電極6と対向電極
8との間に所定の大きさのON電圧及びOFF電圧が印
加され、この電圧制御によって液晶Lの配向状態を制御
する。そして、この配向制御に基づいて光を変調するこ
とにより、文字、数字、絵柄等といった可視像を外部に
表示する。このように、液晶Lを用いて外部に像を表示
するための領域を本実施形態では有効表示領域というこ
とにして、図1、図2及び図3において符号Vで示すこ
とにする。外部の観察者はこの有効表示領域V内におい
て各種の表示を認識する。前述したスペーサ材9と対向
電極8との間の分断部Dは、シール材2の外側エッジ2
bより内側であって有効表示領域Vよりも外側の位置に
形成される。When the liquid crystal driving ICs 18a and 18b operate, ON and OFF voltages of a predetermined magnitude are applied between the pixel electrode 6 and the counter electrode 8 corresponding to the selected pixel. The orientation state of L is controlled. Then, by modulating the light based on the orientation control, a visible image such as a character, a numeral, or a picture is displayed outside. In this embodiment, a region for displaying an image outside using the liquid crystal L is referred to as an effective display region, and is denoted by a reference character V in FIGS. 1, 2, and 3. An external observer recognizes various displays in the effective display area V. The dividing portion D between the spacer material 9 and the counter electrode 8 is formed by the outer edge 2 of the sealing material 2.
b and at a position outside the effective display area V.
【0027】以下、上記液晶装置1の製造方法を一実施
形態を挙げて説明する。図5はその製造方法の一実施形
態をフローチャートによって示している。この製造方法
において、ステップS1〜S5の各ステップから成る素
子基板形成工程と、ステップS6〜S11の各ステップ
から成る対向基板形成工程とは、それぞれ別々に実施さ
れる。Hereinafter, a method for manufacturing the liquid crystal device 1 will be described with reference to an embodiment. FIG. 5 is a flowchart showing an embodiment of the manufacturing method. In this manufacturing method, the element substrate forming step including the steps S1 to S5 and the opposing substrate forming step including the steps S6 to S11 are separately performed.
【0028】まず、素子基板形成工程(ステップS1〜
S5)において、図4に示すような大面積の透光性基板
母材23aを用意する。この基板母材23aは、例えば
ガラス、プラスチック等といった透光性材料によって形
成される。この基板母材23aに対して、液晶パネルの
複数個分、本実施形態では4個分の配線4及びTFD素
子7を形成する(ステップS1)。First, an element substrate forming step (steps S1 to S1)
In S5), a large-area translucent substrate base material 23a as shown in FIG. 4 is prepared. The substrate base material 23a is formed of a translucent material such as glass, plastic, or the like. A plurality of liquid crystal panels, in this embodiment, four wirings 4 and TFD elements 7 are formed on the substrate base material 23a (Step S1).
【0029】通常の方法では、例えば次のような処理に
よって配線4及びTFD素子7が形成される。すなわ
ち、素子基板母材23aの表面に所定パターンのタンタ
ル(Ta)を形成することにより、配線4の第1層及び
TFD素子7の第1電極を形成する。次に、そのTaパ
ターンを陽極として用いて陽極酸化処理を施すことによ
り、配線4の第1層及びTFD素子7の第1電極のそれ
ぞれの上に陽極酸化膜を形成する。さらに、それらの陽
極酸化膜の上に、例えばクロム(Cr)によって配線4
の第3層及びTFD素子7の第2電極を形成し、これに
より、配線4及びTFD素子7を形成する。In the ordinary method, the wiring 4 and the TFD element 7 are formed by, for example, the following processing. That is, the first layer of the wiring 4 and the first electrode of the TFD element 7 are formed by forming a predetermined pattern of tantalum (Ta) on the surface of the element substrate base material 23a. Next, an anodic oxidation treatment is performed using the Ta pattern as an anode, thereby forming an anodic oxide film on each of the first layer of the wiring 4 and the first electrode of the TFD element 7. Further, wirings 4 are formed on the anodic oxide films by, for example, chromium (Cr).
Is formed and the second electrode of the TFD element 7 is formed, thereby forming the wiring 4 and the TFD element 7.
【0030】その後、TFD素子7の第2電極の先端に
重なるように、ITO(Indium TinOxide)等によって
所定形状の画素電極6を形成する(ステップS2)。こ
こで、TFD素子7の形成工程において、第2電極にI
TO等を用いると、この画素電極6も同時に一体に形成
できるため、素子基板の形成工程を短縮することができ
る。その後、画素電極6が形成された基板表面上にポリ
イミド、ポリビニルアルコール等を一様な厚さに形成す
ることによって配向膜17を形成し(ステップS3)、
さらにその配向膜17に対してラビング処理その他の配
向処理を実施する(ステップS4)。そしてその後、ス
クリーン印刷等といった手法によってシール材2を方形
の環状に形成する(ステップS5)。なお、環状のシー
ル材2の一部分に液晶注入用の開口2aを形成する。After that, a pixel electrode 6 having a predetermined shape is formed by ITO (Indium Tin Oxide) or the like so as to overlap the tip of the second electrode of the TFD element 7 (step S2). Here, in the step of forming the TFD element 7, I
When TO or the like is used, the pixel electrode 6 can be formed integrally at the same time, so that the step of forming the element substrate can be shortened. Thereafter, an alignment film 17 is formed by forming a uniform thickness of polyimide, polyvinyl alcohol, or the like on the surface of the substrate on which the pixel electrode 6 is formed (Step S3).
Further, a rubbing process and other alignment processes are performed on the alignment film 17 (step S4). After that, the sealing material 2 is formed in a square ring shape by a method such as screen printing (step S5). An opening 2a for injecting liquid crystal is formed in a part of the annular sealing material 2.
【0031】以上の素子基板形成工程とは別に、対向基
板形成工程(ステップS6〜S11)を実施する。ま
ず、図4において、例えばガラス、プラスチック等とい
った透光性材料によって形成された大面積の透光性基板
母材23bを用意し、その基板母材23bの表面上(図4
の下側表面上)に液晶パネル複数個分、本実施形態では
4個分のカラーフィルタ11を形成する(ステップS
6)。次に、カラーフィルタ11上にオーバーコート層
14(図3参照)を一様な厚さに形成して表面を平滑に
し(ステップS7)、その後、ITO等によって複数の
直線状の対向電極8を互いに平行に一定間隔で、すなわ
ちストライプ状に形成する(ステップS8)。A counter substrate forming step (steps S6 to S11) is performed separately from the above-described element substrate forming step. First, in FIG. 4, a large-area light-transmitting substrate base material 23b formed of a light-transmitting material such as glass or plastic is prepared, and the surface of the substrate base material 23b (see FIG.
(On the lower surface) of the liquid crystal panel, and in this embodiment, four color filters 11 are formed.
6). Next, an overcoat layer 14 (see FIG. 3) is formed on the color filter 11 to have a uniform thickness to smooth the surface (Step S7). Thereafter, a plurality of linear counter electrodes 8 are formed by ITO or the like. They are formed parallel to each other at regular intervals, that is, in a stripe shape (step S8).
【0032】なお、上記の対向電極形成工程において
は、まず図8に示すように、対向電極8をその終端部8
aがシール材2の内側エッジ2cよりも外側へ延びるよ
うに形成する。そして、ステップ9において、図1に示
すように、シール材2の外側エッジ2bよりも内側であ
って有効表示領域Vよりも外側の位置で、符号Dで示す
ように対向電極8を切断し、これにより、シール材2と
対向側基板3bとの間に、対向電極8に対して電気的に
絶縁されたスペーサ材9を残すようにしている。In the above-described counter electrode forming step, first, as shown in FIG.
a is formed so as to extend outside the inner edge 2 c of the sealing material 2. Then, in step 9, as shown in FIG. 1, the opposing electrode 8 is cut off at a position inside the outer edge 2 b of the sealing material 2 and outside the effective display area V as shown by reference numeral D, As a result, a spacer material 9 that is electrically insulated from the counter electrode 8 is left between the sealing material 2 and the counter substrate 3b.
【0033】対向電極8はその入力側部分8bでシール
材2と対向側基板3bとの間を通過しているので、仮に
対向電極8の終端近傍(符号Aで示す領域)においてシ
ール材2と対向側基板3bとの間にスペーサ材9を設け
ておかないと、対向電極8の入力側部分8bとその終端
近傍との間で、素子側基板3aと対向側基板3bとの間
の間隙、すなわちセルギャップが不均一になって表示品
質が低下するおそれがある。Since the opposing electrode 8 passes between the sealing material 2 and the opposing substrate 3b at the input side portion 8b, it is assumed that the opposing electrode 8 is near the end of the opposing electrode 8 (the area indicated by the symbol A). Unless the spacer material 9 is provided between the counter electrode substrate 3b and the input electrode portion 8b of the counter electrode 8 and the vicinity of the end thereof, the gap between the element substrate 3a and the counter substrate 3b, That is, there is a possibility that the cell gap becomes non-uniform and the display quality deteriorates.
【0034】これに対し、本実施形態のように対向電極
8の終端部近傍Aの所のシール材2と基板3bとの間
に、対向電極8と実質的に同じ厚さのスペーサ材9を介
在させておけば、上記のようにセルギャップが不均一に
なることを未然に防止できる。なお、対向電極8を切断
するための方法としては種々考えられるが、例えば、レ
ーザ光を照射することによって切断する方法を用いるこ
とができる。On the other hand, as in the present embodiment, a spacer material 9 having substantially the same thickness as the counter electrode 8 is provided between the sealing material 2 and the substrate 3b in the vicinity A of the terminal end portion of the counter electrode 8. By intervening, it is possible to prevent the cell gap from becoming non-uniform as described above. Although various methods for cutting the counter electrode 8 can be considered, for example, a method of cutting by irradiating a laser beam can be used.
【0035】以上のようにして対向電極8を分断してス
ペーサ材9を形成した後、対向電極8等の上にポリイミ
ド等によって一様な厚さの配向膜16(図3参照)を形
成し(ステップS10)、さらに、その配向膜16に対
してラビング処理等といった配向処理を施す(ステップ
S11)。これにより、対向基板母材が完成する。After the opposing electrode 8 is divided and the spacer material 9 is formed as described above, an alignment film 16 (see FIG. 3) having a uniform thickness is formed on the opposing electrode 8 and the like using polyimide or the like. (Step S10) Further, the alignment film 16 is subjected to an alignment process such as a rubbing process (Step S11). Thereby, the counter substrate base material is completed.
【0036】その後、図4に示すように、素子基板母材
23aと対向基板母材23bとをシール材2を間に挟ん
で互いに接合し(ステップS12)、さらに紫外線硬化
その他の手法によってシール材2を硬化させる(ステッ
プS13)。これにより、液晶パネル4個分の基板構造
を備えていて未だ液晶が封入されていない空の液晶パネ
ル基板母材が形成される。Thereafter, as shown in FIG. 4, the element substrate base material 23a and the opposing substrate base material 23b are joined to each other with the sealing material 2 interposed therebetween (step S12). 2 is cured (step S13). As a result, an empty liquid crystal panel substrate preform having a substrate structure for four liquid crystal panels and no liquid crystal sealed therein is formed.
【0037】その後、完成した空の液晶パネル基板母材
の所定位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成
し、さらにそのスクライブ溝を基準にして基板母材をブ
レイク、すなわち切断する(ステップS14)。これに
より、各液晶パネル部分のシール材2の液晶注入用開口
2aが外部へ露出する状態の長尺状の空液晶パネル母材
が形成される。Thereafter, scribe grooves, that is, cutting grooves are formed at predetermined positions of the completed empty liquid crystal panel substrate base material, and the substrate base material is broken, that is, cut based on the scribe grooves (step S14). . As a result, a long empty liquid crystal panel base material in which the liquid crystal injection opening 2a of the sealing material 2 of each liquid crystal panel portion is exposed to the outside is formed.
【0038】その後、露出した液晶注入用開口2aを通
して各液晶パネル部分の内部に液晶を注入し、さらに各
開口2aを封止する(ステップS15)。通常の液晶注
入処理は、例えば、減圧(ほぼ真空)状態のもとで、貯
溜容器の中に液晶を貯溜し、その貯溜された液晶の中に
長尺状の空液晶パネルを浸漬し、さらにその状態におい
て、減圧状態を解除し貯溜容器内の液晶を加圧すること
によって行われる。液晶注入処理後の液晶パネル母材の
まわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の液晶
パネル母材はステップS16において洗浄処理を受け、
これにより液晶パネル母材のまわりから汚れ成分を含む
不要な液晶が除去される。Thereafter, liquid crystal is injected into each liquid crystal panel through the exposed liquid crystal injection opening 2a, and each opening 2a is sealed (step S15). In a normal liquid crystal injection process, for example, a liquid crystal is stored in a storage container under a reduced pressure (substantially vacuum) state, and a long empty liquid crystal panel is immersed in the stored liquid crystal. In this state, the pressure reduction is released and the liquid crystal in the storage container is pressurized. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel base material after the liquid crystal injection processing, the liquid crystal panel base material after the liquid crystal injection processing is subjected to the cleaning processing in step S16.
As a result, unnecessary liquid crystal containing a dirt component is removed from around the liquid crystal panel base material.
【0039】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
長尺状の液晶パネル母材に対して再び所定位置にスクラ
イブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして
液晶パネル母材を切断することにより、4個の液晶パネ
ルが個々に作製される(ステップS17)。こうして作
製された個々の液晶パネルに液晶駆動用IC18a及び
18bを実装することにより、目標とする液晶装置1
(図1)が完成する。Thereafter, a scribe groove is formed again at a predetermined position in the elongated liquid crystal panel base material after the liquid crystal injection and washing are completed, and the liquid crystal panel base material is cut with reference to the scribe grooves. Thus, four liquid crystal panels are individually manufactured (Step S17). By mounting the liquid crystal driving ICs 18a and 18b on the individual liquid crystal panels thus manufactured, the target liquid crystal device 1
(FIG. 1) is completed.
【0040】以上のようにして作製された個々の液晶装
置1に関しては、図1に関連して既に説明したように、
対向基板用透光性基板3bの上に形成された対向電極8
の終端部近傍(矢印Aで示す領域)に位置するシール材
2と基板3bとの間に、対向電極8と同じ厚さのスペー
サ材9を介在させたので、両基板3a及び3bの間に形
成されるセルギャップを有効表示領域Vの全体にわたっ
て均一に形成できる。With respect to the individual liquid crystal devices 1 manufactured as described above, as described above with reference to FIG.
Counter electrode 8 formed on light-transmitting substrate for counter substrate 3b
Since the spacer material 9 having the same thickness as the counter electrode 8 is interposed between the sealing material 2 and the substrate 3b located near the terminal portion (the area indicated by the arrow A) of the substrate 3a, between the substrates 3a and 3b The formed cell gap can be formed uniformly over the entire effective display region V.
【0041】ところで、シール材2と基板3aとの間に
形成されるスペーサ材9の外側先端は寸法のバラツキに
応じてシール材2の内部に隠れたり、あるいは、シール
材2の外側へ露出することがある。また、図5のステッ
プS16の洗浄工程において長尺状の液晶パネル母材の
まわりに残留する液晶を除去することは既に説明した通
りであるが、場合によってはその洗浄が完全に行われ
ず、部分的に液晶が残留することがある。The outer end of the spacer member 9 formed between the seal member 2 and the substrate 3a is hidden inside the seal member 2 or exposed to the outside of the seal member 2 according to the dimensional variation. Sometimes. Further, the removal of the liquid crystal remaining around the elongate liquid crystal panel base material in the cleaning step of step S16 in FIG. 5 is as described above. However, in some cases, the cleaning is not completely performed. In some cases, liquid crystals may remain.
【0042】仮に、シール材2の外側に露出するスペー
サ材9の所に液晶が残留し、しかもそのスペーサ材9と
対向電極8とが電気的につながっているとすると、複数
の対向電極8に例えば選択電圧のような比較的高い電圧
が交互に電圧が印加されるときにそれらの対向電極8に
つながっているスペーサ材9に電蝕が発生し、その電蝕
が徐々に液晶パネル内の対向電極8へと進行することが
考えられる。この場合には、いわゆる線欠陥が発生して
液晶装置1の表示品質が著しく低下する。If it is assumed that liquid crystal remains at the spacer material 9 exposed outside the sealing material 2 and that the spacer material 9 and the counter electrode 8 are electrically connected, the plurality of counter electrodes 8 For example, when a relatively high voltage such as a selection voltage is alternately applied, an electric erosion occurs in the spacer material 9 connected to the opposing electrodes 8, and the electric erosion gradually occurs in the opposing surface of the liquid crystal panel. It is conceivable to proceed to the electrode 8. In this case, a so-called line defect occurs, and the display quality of the liquid crystal device 1 is significantly reduced.
【0043】これに対して本実施形態の液晶装置1によ
れば、スペーサ材9と対向電極8とが分断部Dによって
電気的に絶縁されているので、スペーサ材9に電蝕が発
生することを防止でき、また、仮に電食が発生したとし
ても、その電蝕が対向電極8に伝播することがなくな
る。これにより、上記の線欠陥の発生を確実に防止でき
る。On the other hand, according to the liquid crystal device 1 of the present embodiment, since the spacer material 9 and the counter electrode 8 are electrically insulated by the dividing portion D, the spacer material 9 is not eroded. In addition, even if electrolytic corrosion occurs, the electrolytic corrosion does not propagate to the counter electrode 8. As a result, the occurrence of the line defect can be reliably prevented.
【0044】なお、以上の説明では、スペーサ材を必要
とする導電線として対向基板用透光性基板3b上に形成
されるストライプ状の対向電極8を考えた。しかしなが
ら、図1において素子基板用透光性基板3a上に形成さ
れる配線4を導電線として考え、符号Bで示すように、
その配線4の終端近傍に位置するシール材2と基板3a
との間にスペーサ材9を設け、そのスペーサ材9と配線
4との間に分断部Dを形成することもできる。In the above description, the stripe-shaped counter electrode 8 formed on the light-transmitting substrate for counter substrate 3b was considered as a conductive line requiring a spacer material. However, in FIG. 1, the wiring 4 formed on the translucent substrate 3a for an element substrate is considered as a conductive line.
The sealing material 2 and the substrate 3a located near the end of the wiring 4
The spacer material 9 may be provided between them, and the dividing portion D may be formed between the spacer material 9 and the wiring 4.
【0045】(第2実施形態)図6は、本発明に係る液
晶装置の製造方法に関する他の実施形態を示している。
図5に示した先の実施形態では、対向基板形成工程のス
テップS8において、対向電極8(図1)をその終端部
Aがシール材2に到達するように長く形成した上でステ
ップS9においてその対向電極8を有効表示領域Vの外
側で切断することによってスペーサ材9を形成した。(Second Embodiment) FIG. 6 shows another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.
In the previous embodiment shown in FIG. 5, in step S8 of the counter substrate forming step, the counter electrode 8 (FIG. 1) is formed long so that the terminal end A thereof reaches the sealing material 2, and then in step S9. The spacer material 9 was formed by cutting the counter electrode 8 outside the effective display area V.
【0046】これに対し、図6に示す本実施形態の製造
方法では、図5におけるステップS8及びステップS9
の処理に代えて、ステップ18において対向電極8及び
スペーサ材9(図1参照)の両方を周知のパターニング
処理、例えばフォトリソグラフィ処理によって同時にパ
ターニングする。つまり、スペーサ材9、対向電極8及
び両者間の分断部Dの全てが同時に形成される。On the other hand, in the manufacturing method of this embodiment shown in FIG. 6, steps S8 and S9 in FIG.
In step 18, both the counter electrode 8 and the spacer material 9 (see FIG. 1) are simultaneously patterned by a well-known patterning process, for example, a photolithography process. That is, the spacer material 9, the counter electrode 8, and all of the dividing portions D between them are formed simultaneously.
【0047】(第3実施形態)図7は、本発明に係る電
子機器の一実施形態を示している。この実施形態は、本
発明に係る液晶装置を電子機器としてのデジタルスチル
カメラのファインダ部として使用した場合の実施形態で
ある。通常のカメラが被写体の光像によって感光フィル
ムを感光するのに対し、このデジタルスチルカメラは、
被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)等と
いった撮像素子を用いて光電変換して撮像信号を生成す
る。(Third Embodiment) FIG. 7 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. This embodiment is an embodiment in which the liquid crystal device according to the present invention is used as a viewfinder of a digital still camera as an electronic apparatus. While a normal camera exposes a photosensitive film with the light image of the subject, this digital still camera
An optical image of a subject is photoelectrically converted by using an image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device) to generate an image signal.
【0048】このデジタルスチルカメラは、ケーシング
26の前面側に配設した受光ユニット27と、ケーシン
グ26の上面に設けたシャッタボタン28と、そしてケ
ーシング26の背面に配設した液晶装置1とを含んで構
成される。この液晶装置1は、被写体を表示するための
ファインダとして作用するものであり、例えば図1に示
した構造の液晶装置を用いて構成できる。受光ユニット
27内には、シャッタボタン28に連動して開閉するシ
ャッタや、光学レンズや、CCDカメラ等といった撮像
素子等が含まれる。This digital still camera includes a light receiving unit 27 disposed on the front side of the casing 26, a shutter button 28 disposed on the upper surface of the casing 26, and the liquid crystal device 1 disposed on the rear side of the casing 26. It consists of. The liquid crystal device 1 functions as a finder for displaying a subject, and can be configured using, for example, a liquid crystal device having the structure shown in FIG. The light receiving unit 27 includes a shutter that opens and closes in conjunction with a shutter button 28, an optical lens, and an image sensor such as a CCD camera.
【0049】このデジタルカメラには、ビデオ信号出力
用端子31及びデータ通信用入出力端子32が設けら
れ、必要に応じて、ビデオ信号出力端子31にテレビモ
ニタ33が接続され、また、信号端子32にパーソナル
コンピュータ34が接続される。カメラ撮影者が受光ユ
ニット27を被写体に向けると、その被写体像が液晶装
置1に表示され、その表示像を確認しながらシャッタボ
タン28を押圧操作すると、CCDカメラを内蔵した受
光ユニット27の出力端子に被写体に対応した撮像信号
が出力され、その出力信号が回路基板29上のメモリ内
に格納され、必要に応じて、パーソナルコンピュータ3
4やテレビモニタ33へ出力される。This digital camera is provided with a video signal output terminal 31 and a data communication input / output terminal 32, and a television monitor 33 is connected to the video signal output terminal 31 as necessary. Is connected to a personal computer 34. When the camera photographer points the light receiving unit 27 at the subject, the subject image is displayed on the liquid crystal device 1. When the shutter button 28 is pressed while checking the displayed image, the output terminal of the light receiving unit 27 having a built-in CCD camera is output. The imaging signal corresponding to the object is output to the memory, and the output signal is stored in the memory on the circuit board 29. If necessary, the personal computer 3
4 and the TV monitor 33.
【0050】液晶装置1として図1に示すような液晶装
置を用いれば、スペーサ材9を設けて液晶パネルのセル
ギャップを有効表示領域の全域にわたって均一な寸法に
保持できるので、常に良好な被写体像を映し出すことが
できる。また、図1においてスペーサ材9と対向電極8
との間に電気的な絶縁部分を形成したので、仮にスペー
サ材9に電蝕が発生してもそれが対向電極8に伝播する
ことを確実に防止でき、その結果、線状欠陥の発生を確
実に防止できる。When a liquid crystal device as shown in FIG. 1 is used as the liquid crystal device 1, a spacer material 9 is provided so that the cell gap of the liquid crystal panel can be maintained at a uniform size over the entire effective display area. Can be projected. In FIG. 1, the spacer material 9 and the counter electrode 8 are shown.
Since an electrically insulating portion is formed between the spacer member 9 and the spacer member 9, even if electric corrosion occurs in the spacer material 9, it can be surely prevented from propagating to the counter electrode 8. It can be reliably prevented.
【0051】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実
施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments, but falls within the scope of the invention described in the claims. Various modifications can be made.
【0052】例えば、図1の液晶装置はCOG方式の液
晶装置であるが、TAB(Tape Automated Bonding)方
式の液晶装置、その他種々の方式の液晶装置に対しても
本発明を適用できる。また、図1の実施形態では素子基
板用透光性基板3a上に形成する非線形素子としてTF
D素子を考えたが、この非線形素子をTFT素子とする
こともできる。For example, the liquid crystal device shown in FIG. 1 is a COG type liquid crystal device, but the present invention can be applied to a TAB (Tape Automated Bonding) type liquid crystal device and other various types of liquid crystal devices. In the embodiment shown in FIG. 1, TF is used as the nonlinear element formed on the element substrate light-transmitting substrate 3a.
Although the D element has been considered, the non-linear element may be a TFT element.
【0053】[0053]
【発明の効果】本発明の液晶装置及び電子機器によれ
ば、入力側部分でシール材を通過する導電線の終端近傍
においてもシール材と基板との間にスペーサ材を設け、
そのスペーサ材の厚さを導電線の厚さと実質的に同じに
したので、液晶パネルのセルギャップを有効表示領域の
全域にわたって一様な厚さに保持できる。しかも、スペ
ーサ材と導電線との間の導通を遮断したので、仮にスペ
ーサ材の露出部分に液晶が残存して、それに起因してス
ペーサ材に電蝕が発生する場合でも、その電蝕が導電線
に伝播することを防止でき、従って線状欠陥の発生を防
止できる。また、本発明の液晶装置の製造方法によれ
ば、本発明に係る液晶装置を確実に作製できる。According to the liquid crystal device and the electronic apparatus of the present invention, a spacer material is provided between the sealing material and the substrate even near the end of the conductive wire passing through the sealing material at the input side.
Since the thickness of the spacer material is substantially the same as the thickness of the conductive line, the cell gap of the liquid crystal panel can be maintained at a uniform thickness over the entire effective display area. In addition, since the conduction between the spacer material and the conductive wire is interrupted, even if the liquid crystal remains in the exposed portion of the spacer material and the spacer material is thereby eroded, the erosion does not occur. Propagation to the line can be prevented, and thus the occurrence of linear defects can be prevented. Further, according to the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the liquid crystal device according to the present invention can be reliably manufactured.
【図1】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断
して示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention, partially cut away.
【図2】図1の要部を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing a main part of FIG. 1;
【図3】図2の構造の断面構造を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a sectional structure of the structure of FIG. 2;
【図4】本発明に係る液晶装置の製造方法を構成する1
工程を示す斜視図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a method for manufacturing a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention;
It is a perspective view showing a process.
【図5】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態
を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.
【図6】本発明に係る液晶装置の製造方法の他の実施形
態を示すフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart showing another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.
【図7】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜視
図である。FIG. 7 is a perspective view showing an embodiment of an electronic device according to the present invention.
【図8】従来の液晶装置の一例を一部破断して示す平面
図である。FIG. 8 is a plan view showing an example of a conventional liquid crystal device, partially cut away.
1 液晶装置 2 シール材 2a 液晶注入用開口 2b シール材の外側エッジ 2c シール材の内側エッジ 3a,3b 透光性基板 4 配線(導電線) 6 画素電極 7 TFD素子 8 対向電極(導電線) 8a 対向電極の終端部 8b 対向電極の入力側部分 9 スペーサ材 11 カラーフィルタ 14 オーバーコート層 16,17 配向膜 18a,18b 液晶駆動用IC 23a,23b 透光性基板母材 A,B 導電線の終端部分 D 分断部 L 液晶 Reference Signs List 1 liquid crystal device 2 sealing material 2a opening for liquid crystal injection 2b outer edge of sealing material 2c inner edge of sealing material 3a, 3b translucent substrate 4 wiring (conductive line) 6 pixel electrode 7 TFD element 8 counter electrode (conductive line) 8a Termination portion of counter electrode 8b Input side portion of counter electrode 9 Spacer material 11 Color filter 14 Overcoat layer 16, 17 Alignment film 18a, 18b Liquid crystal driving IC 23a, 23b Transparent substrate base material A, B Termination of conductive wire Part D Dividing part L Liquid crystal
Claims (8)
の基板と、それらの基板の少なくとも一方にストライプ
状に形成された複数の導電線とを有し、それらの導電線
はその入力側部分でシール材の一部分を横切りその終端
部がシール材の他部分の近傍まで延びる液晶装置におい
て、 前記導電線の終端部に対応する前記シール材の他部分の
所でそのシール材と前記基板との間に、前記導電線の延
長線上に配置されると共に前記導電線と実質的に同じ厚
さであってそれらの導電線に対して電気的に絶縁された
スペーサ材を設けたことを特徴とする液晶装置。1. A semiconductor device comprising: a pair of substrates joined to each other by a sealing material; and a plurality of conductive lines formed in a stripe on at least one of the substrates, and the conductive lines are sealed at an input side thereof. In a liquid crystal device, the terminal portion of which extends across a portion of the material to the vicinity of the other portion of the sealing material, between the sealing material and the substrate at the other portion of the sealing material corresponding to the terminal portion of the conductive wire. A liquid crystal device provided with a spacer material which is disposed on an extension of the conductive line, has substantially the same thickness as the conductive line, and is electrically insulated from the conductive line. .
の基板と、それらの基板の少なくとも一方にストライプ
状に形成された複数の導電線とを有し、それらの導電線
はその入力側部分でシール材の一部分を横切りその終端
部がシール材の他部分の近傍まで延びる液晶装置におい
て、 前記複数の導電線の終端はシール材の内側エッジよりも
外側へ延び、それらの導電線はシール材の外側エッジよ
り内側であって有効表示領域よりも外側の位置で分断さ
れ、 その分断によって前記導電線から離れた部分を前記基板
のためのスペーサ材として用いることを特徴とする液晶
装置。2. A semiconductor device comprising: a pair of substrates joined to each other by a sealing material; and a plurality of conductive lines formed in a stripe on at least one of the substrates, and the conductive lines are sealed at an input side thereof. In a liquid crystal device, the end of the plurality of conductive lines extends outside the inner edge of the seal material, and the conductive lines extend outside the seal material. A liquid crystal device, wherein the liquid crystal device is divided at a position inside an edge and outside a valid display area, and a part separated from the conductive line by the division is used as a spacer material for the substrate.
おいて、前記一対の基板は非線形素子が形成される素子
基板及びそれに対向する対向基板であり、前記導電線は
対向基板に形成されるストライプ状の対向電極であるこ
とを特徴とする液晶装置。3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the pair of substrates are an element substrate on which a non-linear element is formed and an opposing substrate facing the element substrate, and the conductive lines are formed on the opposing substrate. A liquid crystal device, which is a stripe-shaped counter electrode.
電線をストライプ状に形成する導電線形成工程と、それ
らの基板の少なくともいずれか一方にシール材を形成す
るシール材形成工程と、シール材を介してそれらの基板
を貼り合せる基板貼合せ工程とを有し、一対の基板が互
いに貼り合わされたとき前記導電線はその入力側部分で
シール材の一部分を横切りその終端部がシール材の他部
分の近傍まで延びるようになる液晶装置の製造方法にお
いて、 前記導電線の終端部に対応する前記シール材の他部分の
所でそのシール材と前記基板との間に、前記導電線と実
質的に同じ厚さであってそれらの導電線に対して電気的
に絶縁されたスペーサ材を形成するスペーサ材形成工程
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。4. A conductive line forming step of forming a plurality of conductive lines in a stripe on at least one of a pair of substrates, a seal material forming step of forming a seal material on at least one of the substrates, And a substrate bonding step of bonding the substrates through a substrate. When the pair of substrates are bonded to each other, the conductive wire traverses a part of the sealing material at the input side thereof, and its terminal end is formed of another sealing material. A method of manufacturing a liquid crystal device that extends to the vicinity of a portion, wherein the conductive line is substantially disposed between the seal material and the substrate at another portion of the seal material corresponding to the end of the conductive line. A spacer material forming step of forming a spacer material having the same thickness and being electrically insulated from the conductive lines.
いて、前記スペーサ材形成工程は前記導電線形成工程と
同時に行われ、その際、前記スペーサ材は前記導電線が
所定パターンに形成されるときにその導電線と同じ材料
によって所定パターンに形成されることを特徴とする液
晶装置の製造方法。5. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein the step of forming the spacer material is performed simultaneously with the step of forming the conductive line, and the conductive material is formed in the spacer material in a predetermined pattern. A method of manufacturing a liquid crystal device, which is sometimes formed in a predetermined pattern using the same material as the conductive wire.
いて、前記導電線形成工程では、前記複数の導電線の終
端が前記シール材の内側エッジよりも外側へ延びるよう
に導電線が形成され、 前記スペーサ材形成工程はその導電線形成工程の後に実
行され、その際、前記スペーサ材は、形成された導電線
をシール材の外側エッジより内側であって有効表示領域
よりも外側の位置で分断することによって形成されるこ
とを特徴とする液晶装置の製造方法。6. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein, in the conductive line forming step, the conductive lines are formed such that ends of the plurality of conductive lines extend outside an inner edge of the sealing material. The step of forming the spacer material is performed after the step of forming the conductive line. At this time, the spacer material moves the formed conductive line at a position inside the outer edge of the sealing material and outside the effective display area. A method for manufacturing a liquid crystal device, which is formed by dividing.
もいずれか1つに記載の液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板は非線形素子が形成される素子基板及び
それに対向する対向基板であり、前記導電線は対向基板
に形成されるストライプ状の対向電極であることを特徴
とする液晶装置の製造方法。7. The method for manufacturing a liquid crystal device according to at least one of claims 4 to 6, wherein
A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the pair of substrates are an element substrate on which a non-linear element is formed and an opposing substrate facing the element substrate, and the conductive lines are stripe-shaped opposing electrodes formed on the opposing substrate.
もいずれか1つに記載の液晶装置を含んで構成されるこ
とを特徴とする電子機器。8. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to at least one of claims 1 to 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1623598A JPH11212100A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Liquid crystal device, manufacture of liquid crystal device, and electronic equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1623598A JPH11212100A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Liquid crystal device, manufacture of liquid crystal device, and electronic equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11212100A true JPH11212100A (en) | 1999-08-06 |
Family
ID=11910903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1623598A Withdrawn JPH11212100A (en) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Liquid crystal device, manufacture of liquid crystal device, and electronic equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11212100A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6992745B2 (en) | 2000-09-08 | 2006-01-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Signal transmission film, control signal part and liquid crystal display including the film |
JP2013025125A (en) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Japan Display Central Co Ltd | Display device |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP1623598A patent/JPH11212100A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6992745B2 (en) | 2000-09-08 | 2006-01-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Signal transmission film, control signal part and liquid crystal display including the film |
JP2013025125A (en) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Japan Display Central Co Ltd | Display device |
US9295177B2 (en) | 2011-07-22 | 2016-03-22 | Japan Display Inc. | Display device |
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