JPH11223841A - Liquid crystal device and electronic equipment using the same - Google Patents

Liquid crystal device and electronic equipment using the same

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JPH11223841A
JPH11223841A JP2625598A JP2625598A JPH11223841A JP H11223841 A JPH11223841 A JP H11223841A JP 2625598 A JP2625598 A JP 2625598A JP 2625598 A JP2625598 A JP 2625598A JP H11223841 A JPH11223841 A JP H11223841A
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liquid crystal
side substrate
crystal device
sealing material
film
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善夫 山口
Yoshio Yokouchi
義雄 横内
Kazuhiro Tanaka
千浩 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the cell gap of a liquid crystal device uniform over an entire visible image display area by adjusting the film thickness of the panel outer peripheral part of the liquid crystal device where a sealing material is provided. SOLUTION: A liquid crystal device 1 has an element-side substrate 3a having a film for TFD(thin-film diode) elements 7, an opposite-side substrate 3b which has a film for an opposite electrode 8 and faces the element-side substrate 3a, and a sealant 2 which joins the opposite-side substrate 3b and element-side substrate 3a while leaving a specific cell gap. Patterns 11 and 12 for gap adjustment are provided between the sealant 2 and element-side substrate 2a and/or the sealant 2 and opposite-side substrate 3b. Those patterns can be formed at the same time with various films formed on the substrates 3a and 3b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に封
入された液晶に印加する電圧を制御することによって光
を変調する液晶装置に関する。また本発明は、その液晶
装置を用いて構成される電子機器に関する。
The present invention relates to a liquid crystal device that modulates light by controlling a voltage applied to a liquid crystal sealed between a pair of substrates. The present invention also relates to an electronic device including the liquid crystal device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、デジタルスチルカメラ、携帯電話
機、携帯情報端末器等といった各種の電子機器において
液晶装置が広く用いられている。例えば、数字、文字、
その他の可視像を表示するために液晶装置が用いられて
いる。従来の液晶装置は、一般に、一対の基板を環状の
シール材によって互いに貼り合せた構造を有している。
液晶装置は長方形状に形成されることが多く、その場合
には、上記シール材は4つの直線状の辺を有する長方形
の環状に形成されて一対の基板を互いに接合する。
2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal devices have been widely used in various electronic devices such as digital still cameras, portable telephones, portable information terminals and the like. For example, numbers, letters,
Liquid crystal devices are used to display other visible images. A conventional liquid crystal device generally has a structure in which a pair of substrates are bonded to each other with an annular sealing material.
In many cases, the liquid crystal device is formed in a rectangular shape. In such a case, the sealing material is formed in a rectangular ring shape having four straight sides to join a pair of substrates to each other.

【0003】また従来、アクティブマトリクス方式の液
晶装置として、一対の基板の一方にTFD(Thin Film
Diode:薄膜ダイオード)素子等といった非線形素子及
び画素電極をドットマトリクス状に並べて形成し、他方
の基板にストライプ状の対向電極を形成した構造の液晶
装置が知られている。この液晶装置では、各画素電極と
各対向電極とが重なり合う所に可視像を表示するための
1個の画素が形成される。
Conventionally, as an active matrix type liquid crystal device, TFD (Thin Film) is provided on one of a pair of substrates.
2. Description of the Related Art There is known a liquid crystal device having a structure in which a non-linear element such as a diode (thin film diode) element and the like and pixel electrodes are arranged in a dot matrix form, and a counter electrode in the form of a stripe is formed on the other substrate. In this liquid crystal device, one pixel for displaying a visible image is formed where each pixel electrode and each counter electrode overlap.

【0004】液晶装置を構成する一対の基板の両方又は
一方には、液晶へ印加する電圧を制御するための液晶駆
動用ICが、基板上に直接に又はヒートシール、FPC
(Flexible Printed Circuit:可撓性プリント基板)、
TCP(Tape Carrier Package)等を介して基板に接続
される。
A liquid crystal driving IC for controlling the voltage applied to the liquid crystal is provided on both or one of the pair of substrates constituting the liquid crystal device, either directly on the substrate or by heat sealing, FPC.
(Flexible Printed Circuit)
It is connected to the substrate via a TCP (Tape Carrier Package) or the like.

【0005】対向側基板上に形成されるストライプ状の
対向電極は、液晶駆動用ICと接続をとるためにシール
材を横切って可視像表示領域の外側へ延びる必要があ
る。また素子側基板上には、TFD素子等に信号を伝送
するための配線がストライプ状に形成され、その配線
は、液晶駆動用ICと接続をとるためにシール材を横切
って可視像表示領域の外側へ延びる必要がある。
The stripe-shaped counter electrode formed on the counter substrate must extend outside the visible image display area across the seal material in order to establish connection with the liquid crystal driving IC. Wiring for transmitting signals to the TFD element and the like is formed on the element-side substrate in a stripe shape, and the wiring traverses a sealing material in order to establish connection with a liquid crystal driving IC. It needs to extend outside.

【0006】素子側基板上の信号伝送用の配線がシール
材を横切る位置は、そのシール材の4辺のうちの特定の
1辺である。また、対向側基板上のストライプ状電極が
シール材を横切る位置も、そのシール材の4辺のうちの
特定の1辺である。
The position where the signal transmission wiring on the element-side substrate crosses the sealing material is a specific one of the four sides of the sealing material. The position where the stripe-shaped electrode on the opposing substrate crosses the sealing material is also a specific one of the four sides of the sealing material.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のように液晶装置
においては、素子側基板上の信号伝送用配線や対向側基
板上の対向電極等がシール材を横切って可視像表示領域
の内側から外側へと延びるのであるが、その横切る部分
はシール材の一部分に設定されている。そのため、シー
ル材のうち配線等が横切る部分は膜厚が厚くなり、その
他の部分は膜厚が薄いままである。一般にシール材の中
には円筒状スペーサが混入されており、一対の基板間の
間隙、いわゆるセルギャップの寸法がその円筒状スペー
サによって維持されることが多いが、従来のようにシー
ル材の所の間隙が不均一であると、円筒状スペーサが有
効に働かず、その結果、可視像表示領域内においてセル
ギャップの寸法が不均一になるという問題があった。
As described above, in the liquid crystal device, the signal transmission wiring on the element-side substrate and the counter electrode on the counter-side substrate cross the sealant from the inside of the visible image display area. It extends outward, but its crossing part is set as a part of the sealing material. Therefore, the thickness of the portion of the sealing material which is traversed by the wiring or the like becomes large, and the thickness of the other portions remains small. In general, a cylindrical spacer is mixed in the sealing material, and the dimension of a gap between a pair of substrates, that is, a so-called cell gap, is often maintained by the cylindrical spacer. If the gap is not uniform, the cylindrical spacer does not work effectively, and as a result, there is a problem that the dimensions of the cell gap become uneven in the visible image display area.

【0008】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、液晶装置のうちシール材が設けられる外
周部分の膜厚を調節することによって液晶装置のセルギ
ャップの寸法を可視像表示領域の全域にわたって均一に
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and the size of the cell gap of a liquid crystal device can be adjusted by adjusting the thickness of the outer peripheral portion of the liquid crystal device where a seal member is provided. An object is to make the entire image display area uniform.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するため、本発明に係る液晶装置は、非線形素子のた
めの膜を備えた素子側基板と、対向電極のための膜を備
えると共に前記素子側基板に対向する対向側基板と、そ
の対向側基板と前記素子側基板とを所定のセルギャップ
を隔てて互いに接合するシール材とを有し、前記シール
材と前記素子側基板との間及び/又は前記シール材と前
記対向側基板との間に、前記セルギャップの寸法ムラを
少なくするためのギャップ調整用パターンを設けた液晶
装置であって、前記ギャップ調整用パターンは、少なく
ともその一部が前記シール材の少なくとも1辺と重なる
ように設けられ、前記シール材の4辺の少なくとも一部
における、前記シール材と前記素子側基板及び前記対向
側基板との間に配置される膜の合計の厚みが互いにほぼ
等しくなるように形成されてなることを特徴とする。
(1) In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention includes an element-side substrate provided with a film for a non-linear element and a film for a counter electrode. Together with an opposing substrate opposing the element-side substrate, and a sealing material for joining the opposing substrate and the element-side substrate to each other with a predetermined cell gap therebetween, and the sealing material and the element-side substrate And / or between the sealing material and the opposing substrate, a liquid crystal device provided with a gap adjustment pattern for reducing dimensional unevenness of the cell gap, wherein the gap adjustment pattern is at least A part thereof is provided so as to overlap with at least one side of the sealing material, and at least a part of four sides of the sealing material is disposed between the sealing material and the element-side substrate and the opposed-side substrate. The total thickness of the film is characterized by comprising formed to be substantially equal to each other.

【0010】この液晶装置によれば、液晶装置において
シール材が設けられる部分、すなわち液晶装置の外周部
分の適所にギャップ調整用パターンを設けることによ
り、その液晶装置の外周部分に形成される膜の膜厚寸法
をその外周部分の4辺の少なくとも一部において、均一
に調節することができ、それ故、シール材の内部に混入
させた円筒状スペーサを有効に活用して液晶装置のセル
ギャップの寸法を可視像表示領域の全域にわたって均一
にすることができる。
According to this liquid crystal device, by providing the gap adjusting pattern in a portion of the liquid crystal device where the sealing material is provided, that is, in an appropriate position on the outer peripheral portion of the liquid crystal device, the film formed on the outer peripheral portion of the liquid crystal device is formed. The thickness of the film can be uniformly adjusted in at least a part of the four sides of the outer peripheral portion thereof. Therefore, the cell gap of the liquid crystal device can be effectively reduced by effectively utilizing the cylindrical spacer mixed in the sealing material. The dimensions can be made uniform over the entire visible image display area.

【0011】上記構成において、非線形素子とは、印加
電圧が変化するときにそれを流れる電流量が直線的では
なくて非直線的に変化する性質を有する素子のことであ
り、例えば、絶縁層を挟んで一対の電極を対向させた構
造のTFD(Thin Film Diode)素子や、TFT(Thin
Film Transistor:薄膜トランジスタ)等が考えられ
る。また、素子側基板及び対向側基板は、例えば、ガラ
ス、プラスチック等といった透光性材料によって形成で
きる。
In the above structure, the non-linear element is an element having a property that the amount of current flowing therethrough when the applied voltage changes is changed not linearly but non-linearly. A TFD (Thin Film Diode) element having a structure in which a pair of electrodes are opposed to each other, or a TFT (Thin
Film Transistor). The element-side substrate and the opposing-side substrate can be formed of a light-transmitting material such as glass, plastic, or the like.

【0012】(2) 上記(1)記載の液晶装置におい
て、前記ギャップ調整用パターンは前記素子側基板又は
前記対向側基板に設けられる膜によって形成されるダミ
ーパターンによって構成できる。こうすれば、ギャップ
調整用パターンを形成するためだけに専用の工程を設け
る必要が無くなり、よって、液晶装置が高価になること
を防止できる。
(2) In the liquid crystal device according to the above (1), the gap adjusting pattern can be constituted by a dummy pattern formed by a film provided on the element-side substrate or the opposing-side substrate. This eliminates the need to provide a dedicated process only for forming the gap adjustment pattern, thereby preventing the liquid crystal device from becoming expensive.

【0013】ダミーパターンとは、本来設けられるのと
は別の用途で使用されるパターンの意味である。例え
ば、対向側基板上にITO(Indium Tin Oxide)によっ
て対向電極を形成する場合には、そのITOによってダ
ミーパターンを形成し、そのダミーパターンをギャップ
調整用パターンとして用いることができる。また、対向
側基板上にカラーフィルタを形成する場合には、R,
G,B各色透光部分のまわりに形成されるブラックマス
クの構成材料であるCr(クロム)によってダミーパタ
ーンを形成し、そのダミーパターンをギャップ調整用パ
ターンとして用いることができる。
The term "dummy pattern" refers to a pattern used for a purpose other than that originally provided. For example, when forming a counter electrode by ITO (Indium Tin Oxide) on the counter substrate, a dummy pattern can be formed by the ITO and the dummy pattern can be used as a gap adjustment pattern. When a color filter is formed on the opposite substrate, R,
A dummy pattern is formed from Cr (chromium), which is a constituent material of a black mask formed around each of the G and B color transmitting portions, and the dummy pattern can be used as a gap adjustment pattern.

【0014】対向電極の膜厚寸法は3000Å、220
0Å又は1500Å程度に設定されることが多く、ブラ
ックマスクの膜厚寸法は1000Å程度に設定されるこ
とが多い。よって、これらの膜材料を用いてギャップ調
整用パターンを形成すれば、それらの各膜厚寸法を基準
にしてセルギャップを調節できる。
The film thickness of the counter electrode is 3000 °, 220
It is often set to about 0 ° or 1500 °, and the thickness of the black mask is often set to about 1000 °. Therefore, if a gap adjusting pattern is formed using these film materials, the cell gap can be adjusted based on the respective film thickness dimensions.

【0015】次に、素子側基板上に薄膜ダイオード(T
FD)素子を形成する場合を考えれば、TFD素子の第
1電極、絶縁層又は第2電極のそれぞれを構成する材料
のいずれか1つ以上によってダミーパターンを形成し、
そのダミーパターンをギャップ調整用パターンとして用
いることができる。第1電極及びその上に形成される絶
縁層としては、例えばTa+TaOX(タンタル及びタ
ンタル酸化物の積層構造)が考えられ、この膜厚は18
00Å程度に設定されることが多い。また、第2電極と
しては、例えばCrが考えられ、この膜厚は1600Å
程度に設定されることが多い。よって、これらの膜材料
を用いてギャップ調整用パターンを形成すれば、それら
の各膜厚寸法を基準にしてセルギャップを調節できるな
お、素子側基板上に形成されるドットマトリクス状の画
素電極はTFD素子の第2電極に重ねて形成されるが、
そのとき、TFD素子に信号を伝送するための配線の上
にも画素電極と同じ構成材料を積層することがある。こ
れは、いわゆる冗長設計のためのものであり、配線を形
成する金属に断線が発生しても全体的な導通を確保でき
るようにするためのものである。この画素電極及び配線
被覆層はITOによって膜厚500Å程度に形成される
ことが多い。よって、この膜材料を用いてギャップ調整
用パターンを形成すれば、その膜厚寸法を基準にしてセ
ルギャップを調節できる。
Next, a thin film diode (T
Considering the case of forming an FD) element, a dummy pattern is formed by using at least one of materials constituting each of a first electrode, an insulating layer, and a second electrode of the TFD element,
The dummy pattern can be used as a gap adjustment pattern. As the first electrode and the insulating layer formed thereon, for example, Ta + TaO x (a laminated structure of tantalum and tantalum oxide) is considered, and the thickness is 18
It is often set to about 00 °. The second electrode may be, for example, Cr, and the thickness of the second electrode is 1600 °.
Often set to about. Therefore, if a gap adjustment pattern is formed using these film materials, the cell gap can be adjusted based on the respective film thickness dimensions.The dot matrix pixel electrodes formed on the element-side substrate are It is formed so as to overlap with the second electrode of the TFD element,
At that time, the same constituent material as that of the pixel electrode may be laminated on the wiring for transmitting a signal to the TFD element. This is for a so-called redundant design, and is intended to ensure overall conduction even if a break occurs in the metal forming the wiring. The pixel electrode and the wiring covering layer are often formed of ITO to a thickness of about 500 °. Therefore, if a gap adjusting pattern is formed using this film material, the cell gap can be adjusted based on the film thickness.

【0016】次に、本発明に係る電子機器は、以上に記
載した構成の液晶装置を含んで構成されることを特徴と
する電子機器である。多くの場合は、その電子機器の可
視像表示部、すなわち数字、文字その他の情報を表示す
るための部分として用いられることになるであろうが、
使用形態はそのような可視像表示部に限定されるもので
はない。このような電子機器としては、例えば、デジタ
ルスチルカメラ、携帯電話機、携帯情報端末器等が考え
られる。
Next, an electronic apparatus according to the present invention is an electronic apparatus including the liquid crystal device having the configuration described above. In many cases, it will be used as a visible image display part of the electronic device, that is, a part for displaying numbers, characters and other information,
The mode of use is not limited to such a visible image display section. Examples of such an electronic device include a digital still camera, a mobile phone, and a portable information terminal.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
に係る液晶装置の一実施形態を平面図によって示してい
る。この図は、本発明に係る液晶装置の特長部分を分か
り易く示すために模式的に示されており、従って、各要
素の寸法比率は実際の液晶装置と異なっている。
(First Embodiment) FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. This diagram is schematically shown in order to clearly show the features of the liquid crystal device according to the present invention, and therefore, the dimensional ratio of each element is different from that of an actual liquid crystal device.

【0018】ここに示す液晶装置1は、長方形の環状に
形成されたシール材2によって互いに接合された一対の
透光性基板3a及び3bを有する。図の奥側の基板3a
は素子基板用の透光性基板であり、図の手前側の基板3
bは対向基板用の透光性基板である。
The liquid crystal device 1 shown here has a pair of translucent substrates 3a and 3b joined to each other by a sealing member 2 formed in a rectangular ring shape. Substrate 3a on the back side of the figure
Is a translucent substrate for the element substrate, and the substrate 3 on the near side of the figure is
b is a translucent substrate for the opposite substrate.

【0019】素子側基板3aの表面には、図3に示すよ
うに、互いに平行に並べられた直線状の配線、すなわち
ストライプ状の配線4が形成され、さらにそれらの配線
4の間に複数の画素電極6がドットマトリクス状に形成
され、さらに各画素電極6がTFD素子7を介して各配
線4に接続される。素子側基板3aのIC実装辺には液
晶駆動用IC9aが実装され、そのIC9aの出力端子
に各配線4が接続される。
As shown in FIG. 3, on the surface of the element-side substrate 3a, linear wirings arranged parallel to each other, that is, stripe-shaped wirings 4, are formed. The pixel electrodes 6 are formed in a dot matrix, and each pixel electrode 6 is connected to each wiring 4 via a TFD element 7. A liquid crystal driving IC 9a is mounted on an IC mounting side of the element side substrate 3a, and each wiring 4 is connected to an output terminal of the IC 9a.

【0020】TFD素子7は、図10に示すように、基
板3a上に形成された第1電極7aと、その第1電極7
aの上に積層された絶縁層としての陽極酸化膜7bと、
そしてその陽極酸化膜7bの上に積層された第2電極7
cとによって構成される。画素電極6は、第2電極7c
に重なるようにして形成される。本実施形態の場合、第
1電極7aはTa(タンタル)によって形成され、従っ
て陽極酸化膜7bはTaOX(タンタル酸化物)によっ
て形成され、そして第2電極7cはCr(クロム)によ
って形成される。
As shown in FIG. 10, the TFD element 7 has a first electrode 7a formed on a substrate 3a and a first electrode 7a.
an anodic oxide film 7b as an insulating layer laminated on
The second electrode 7 laminated on the anodic oxide film 7b
c. The pixel electrode 6 is a second electrode 7c
Are formed so as to overlap. In this embodiment, the first electrode 7a is formed by Ta (tantalum), hence the anodic oxide film 7b is formed by TaO X (tantalum oxide), and are formed second electrode 7c by Cr (chromium) .

【0021】一方、TFD素子7に信号を伝送するため
の配線4は、基板3a上に形成された第1層4aと、そ
の第1層4aの上に形成された第2層4bと、その第2
層4bの上に形成された第3層4cとを含んで構成され
る。第1層4aは、TFD素子7の第1電極7a及び陽
極酸化膜7bを形成するときにそれらのダミーパターン
として同時にパターニングされる。従って、第1層4a
はTa+TaOX(タンタルとタンタル酸化物の積層構
造)によって形成され、その厚さは1800Å程度であ
る。
On the other hand, the wiring 4 for transmitting a signal to the TFD element 7 includes a first layer 4a formed on the substrate 3a, a second layer 4b formed on the first layer 4a, Second
And a third layer 4c formed on the layer 4b. The first layer 4a is simultaneously patterned as a dummy pattern when forming the first electrode 7a and the anodic oxide film 7b of the TFD element 7. Therefore, the first layer 4a
Is formed by Ta + TaO x (laminated structure of tantalum and tantalum oxide), and its thickness is about 1800 °.

【0022】第2層4bは、TFD素子7の第2電極7
cを形成するときにそのダミーパターンとして同時にパ
ターニングされる。従って、第2層4bはCrによって
形成され、その厚さは1600Å程度である。また、第
3層4cは、画素電極6を形成するときにそのダミーパ
ターンとして同時にパターニングされる。従って、第3
層4cはITOによって形成され、その厚さは500Å
程度である。この第3層4cは、第2層4bに断線が発
生したときでも配線4の全体としては通電を確保できる
ようにするための、いわゆる冗長設計のために用いられ
る。
The second layer 4b is the second electrode 7 of the TFD element 7.
When forming c, it is simultaneously patterned as its dummy pattern. Therefore, the second layer 4b is formed of Cr and has a thickness of about 1600 °. The third layer 4c is simultaneously patterned as a dummy pattern when the pixel electrode 6 is formed. Therefore, the third
The layer 4c is formed of ITO and has a thickness of 500
It is about. The third layer 4c is used for a so-called redundant design so that even when a disconnection occurs in the second layer 4b, energization of the entire wiring 4 can be ensured.

【0023】図1の対向側基板3bの表面には、図2に
示すように、ストライプ状の対向電極8が形成される。
対向側基板3bのIC実装辺には液晶駆動用IC9bが
実装され、そのIC9bの出力端子に各対向電極8が接
続される。図1において、素子側基板3a上の画素電極
6と対向側基板3b上の対向電極8とが対向する部分に
可視像を表示するための1画素が形成される。
As shown in FIG. 2, a stripe-shaped counter electrode 8 is formed on the surface of the counter substrate 3b in FIG.
A liquid crystal driving IC 9b is mounted on the IC mounting side of the opposing substrate 3b, and each opposing electrode 8 is connected to an output terminal of the IC 9b. In FIG. 1, one pixel for displaying a visible image is formed in a portion where the pixel electrode 6 on the element-side substrate 3a and the counter electrode 8 on the counter-side substrate 3b face each other.

【0024】なお、図2では対向側基板3b上にシール
材2が図示され、図3では素子側基板3a上にもシール
材2が図示されているが、これらは両基板のそれぞれに
シール材2が形成されるということを示しているのでは
なく、シール材2の位置関係を分かり易くするために図
示されている。実際には、シール材2は素子側基板3a
又は対向側基板3bのいずれか一方に形成される。
In FIG. 2, the sealing material 2 is shown on the opposing substrate 3b, and in FIG. 3, the sealing material 2 is also shown on the element side substrate 3a. 2 are not shown, but are shown in order to make the positional relationship of the sealing material 2 easy to understand. Actually, the sealing material 2 is used as the element side substrate 3a.
Alternatively, it is formed on one of the opposing substrates 3b.

【0025】図3に示す素子側基板3aと図2に示す対
向側基板3bとを貼り合せる際には、素子側基板3aの
A部、B部、C部、D部の各部が、それぞれ、対向側基
板3bのE部、F部、G部、H部の各部に重ね合わされ
る。図4は、図2のE部に関する拡大図であって対向側
基板3bを省略した状態で該部を拡大して示している。
図示の通り、対向電極8の先端はシール材2の中に入り
込んでいる。
When the element-side substrate 3a shown in FIG. 3 and the opposing-side substrate 3b shown in FIG. 2 are bonded to each other, the parts A, B, C, and D of the element-side substrate 3a The portions E, F, G, and H of the opposing substrate 3b are superposed. FIG. 4 is an enlarged view of a portion E in FIG. 2 and shows the portion in an enlarged manner with the opposing substrate 3b omitted.
As shown in the drawing, the tip of the counter electrode 8 enters the sealing material 2.

【0026】図5は、図3のA部を拡大して示してい
る。図示の通り、配線4、画素電極6及びTFD素子7
はシール材2によって囲まれる領域に形成され、さらに
各配線4の端子部分4dはシール材2を横切って外部へ
導き出される。また、シール材2のうち配線4の端子部
分4dが存在しない辺領域の内部には第1ギャップ調整
用パターン11が形成される。
FIG. 5 is an enlarged view of part A of FIG. As shown, the wiring 4, the pixel electrode 6, and the TFD element 7
Are formed in a region surrounded by the sealing material 2, and the terminal portions 4 d of the respective wirings 4 are guided to the outside across the sealing material 2. Further, a first gap adjusting pattern 11 is formed inside a side region of the sealing material 2 where the terminal portion 4d of the wiring 4 does not exist.

【0027】このパターン11は、素子側基板3a上に
配線4の第1層4a(図10参照)を形成するときにそ
れと同時にパターニングされる。すなわち、その第1層
4aのダミーパターンとして形成される。従って、パタ
ーン11は、厚さ1800Å程度のTa+TaOXによ
って形成される。さらに、このパターン11は、素子側
基板3aと対向側基板3b(図4参照)とを互いに貼り
合せるときに、対向電極8の先端部分に重なり合うよう
な位置に形成される。
This pattern 11 is simultaneously patterned when the first layer 4a (see FIG. 10) of the wiring 4 is formed on the element-side substrate 3a. That is, it is formed as a dummy pattern of the first layer 4a. Therefore, the pattern 11 is formed of Ta + TaO X having a thickness of about 1800 °. Further, the pattern 11 is formed at a position where the element-side substrate 3a and the opposing-side substrate 3b (see FIG. 4) are overlapped with the tip end of the opposing electrode 8 when they are bonded to each other.

【0028】図6は、図2のF部に関する拡大図であっ
て対向側基板3bを省略した状態で該部を拡大して示し
ている。図示の通り、対向電極8の端子部分8aはシー
ル材2を横切って外部へ導き出されている。
FIG. 6 is an enlarged view of a portion F in FIG. 2 and shows the portion with the opposing substrate 3b omitted. As shown, the terminal portion 8a of the counter electrode 8 is led to the outside across the sealing material 2.

【0029】図7は、図3のB部を拡大して示してい
る。図示の通り、シール材2のうち配線4の端子部分4
dが存在しない辺領域の内部には第2ギャップ調整用パ
ターン12が形成される。このパターン12も、素子側
基板3a上に配線4の第1層4a(図10参照)を形成
するときにそのダミーパターンとしてそれと同時にパタ
ーニングされ、従って、厚さ1800Å程度のTa+T
aOXによって形成される。さらに、このパターン12
は、素子側基板3aと対向側基板3b(図6参照)とを
互いに貼り合せるときに、シール材2の内部において対
向電極8の端子部分8aと重なり合うような位置に形成
される。
FIG. 7 is an enlarged view of part B of FIG. As shown, the terminal portion 4 of the wiring 4 in the sealing material 2
The second gap adjusting pattern 12 is formed inside the side region where d does not exist. This pattern 12 is also patterned at the same time as the dummy pattern when the first layer 4a (see FIG. 10) of the wiring 4 is formed on the element-side substrate 3a.
formed by aO-X. Furthermore, this pattern 12
When the element-side substrate 3a and the opposing-side substrate 3b (see FIG. 6) are bonded to each other, they are formed in positions inside the sealing material 2 so as to overlap the terminal portions 8a of the opposing electrode 8.

【0030】図1に示す液晶装置1をX−X線の所で切
断して示すと図8に示す通りである。図8において、
A,D,E,Hで示す各部分は、図2及び図3で同じ符
号を用いて示す部分を示している。図8からも明らかな
ように、シール材2のIC実装辺及びそれと反対側の辺
において、シール材2と素子側基板3aとの間に配線4
が存在している。また、対向側基板3bに関しては、対
向電極8と基板3bとの間にカラーフィルタ13が形成
される。このカラーフィルタ13は、周知の通り、R
(赤)、G(緑)、B(青)の各色透光部分と、それら
の透光部分を取り囲んで配置されるブラックマトリクス
とによって構成される。ブラックマトリクスは、例えば
Cr膜によって形成される。
FIG. 8 is a sectional view of the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 taken along the line XX. In FIG.
The parts indicated by A, D, E, and H indicate the parts indicated by the same reference numerals in FIGS. As is clear from FIG. 8, the wiring 4 is provided between the sealing material 2 and the element-side substrate 3a on the IC mounting side of the sealing material 2 and on the side opposite thereto.
Exists. Further, for the opposing substrate 3b, a color filter 13 is formed between the opposing electrode 8 and the substrate 3b. As is well known, this color filter 13 has an R
(Red), G (green), and B (blue) light-transmitting portions, and a black matrix surrounding the light-transmitting portions. The black matrix is formed by, for example, a Cr film.

【0031】図1に示す液晶装置1をY−Yの所で切断
して示すと図9に示す通りである。図9において、A,
B,E,Fで示す各部分は、図2及び図3で同じ符号を
用いて示す部分を示している。図9において、素子側基
板3aに関しては、シール材2の右側部分と基板3aと
の間に第1ギャップ調整パターン11が形成され、さら
にシール材2の左側部分と基板3aとの間に第2ギャッ
プ調整パターン12が形成されている。そして、対向側
基板3bに関しては、シール材2の左右両側部分と基板
3bとの間に対向電極8が存在している。
FIG. 9 shows the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 cut along the line YY. In FIG. 9, A,
Each part shown by B, E, and F has shown the part shown using the same code | symbol in FIG.2 and FIG.3. 9, with respect to the element-side substrate 3a, a first gap adjustment pattern 11 is formed between the right side portion of the sealing material 2 and the substrate 3a, and a second gap adjustment pattern 11 is further formed between the left side portion of the sealing material 2 and the substrate 3a. A gap adjustment pattern 12 is formed. Then, with respect to the opposing substrate 3b, opposing electrodes 8 exist between the left and right side portions of the sealing material 2 and the substrate 3b.

【0032】素子側基板3aと対向側基板3bとの間に
形成される間隙、すなわちセルギャップ内には液晶Lが
封入される。TFD素子7によるON/OFF電圧制御
に従って各画素を構成する画素電極6及び対向電極8に
印加される電圧を変化させることにより、該画素部分の
液晶Lの配向を制御し、もって、該画素部分を通過する
光を変調し、その結果、対向側基板3b又は素子側基板
3aの外部に希望の可視像を表示できる。この可視像が
表示される領域が可視像表示領域であり、通常は、画素
電極6及びカラーフィルタ13の両方が互いに対向して
存在する領域よりもわずかに狭い領域になることが多
い。
Liquid crystal L is sealed in a gap formed between the element-side substrate 3a and the opposite-side substrate 3b, that is, in a cell gap. By changing the voltage applied to the pixel electrode 6 and the counter electrode 8 constituting each pixel in accordance with the ON / OFF voltage control by the TFD element 7, the orientation of the liquid crystal L in the pixel portion is controlled. Is modulated, and as a result, a desired visible image can be displayed outside the opposing substrate 3b or the element-side substrate 3a. The region in which the visible image is displayed is a visible image display region, which is usually a region slightly smaller than the region where both the pixel electrode 6 and the color filter 13 are opposed to each other.

【0033】以上の構成から成る液晶装置1に関して
は、図3に示すように、素子側基板3aに環状に形成さ
れるシール材2のIC非実装部分の一方に第1ギャップ
調整用パターン11を形成し、IC非実装部分の他方に
第2ギャップ調整用パターン12を形成した。そしてさ
らに、図4及び図5に関連して説明したように、第1ギ
ャップ調整用パターン11は対向する対向電極8の先端
部分に重なり合う位置に形成する。また、図6及び図7
に関連して説明したように、第2ギャップ調整用パター
ン12は対向する対向電極8の端子部分8aに重なり合
う位置に形成する。
In the liquid crystal device 1 having the above configuration, as shown in FIG. 3, the first gap adjusting pattern 11 is provided on one of the IC non-mounting portions of the sealing member 2 formed in a ring shape on the element side substrate 3a. The second gap adjusting pattern 12 was formed on the other of the IC non-mounted portions. Further, as described with reference to FIGS. 4 and 5, the first gap adjusting pattern 11 is formed at a position overlapping with the tip of the opposing electrode 8. 6 and 7
As described above, the second gap adjusting pattern 12 is formed at a position overlapping with the terminal portion 8a of the opposing electrode 8.

【0034】以上の結果、図9において、液晶装置1の
Y−Y断面に関するシール材2部分の膜厚寸法を考える
と、右側のシール材2部分に存在する膜は、膜厚180
0Åの第1ギャップ調整用パターン11及び膜厚220
0Åの対向電極8であるので、膜厚合計は 1800Å+2200Å=4000Å となる。
As a result, in FIG. 9, considering the thickness of the sealing material 2 in the Y-Y cross section of the liquid crystal device 1, the film existing in the sealing material 2 on the right side has a thickness of 180.
0 ° first gap adjusting pattern 11 and film thickness 220
Since the counter electrode 8 is 0 °, the total film thickness is 1800 ° + 2200 ° = 4000 °.

【0035】一方、図8において、液晶装置1のX−X
断面に関するシール材2部分の膜厚寸法を考えると、右
側及び左側の両方のシール材2部分に存在する膜は配線
4であり、この膜4は、膜厚1800Åの第1層4a
と、膜厚1600Åの第2層4bと、そして膜厚500
Åの第3層4cとによって構成されるので、膜厚合計は
1800Å+1600Å+500Å=3900Åとな
る。
On the other hand, in FIG.
Considering the thickness dimension of the sealing material 2 portion with respect to the cross section, the film existing in both the right and left sealing material portions 2 is the wiring 4, and this film 4 is the first layer 4a having a thickness of 1800 °.
A second layer 4b having a thickness of 1600 °, and a thickness of 500
And the third layer 4c of Å, the total thickness is 1800Å + 1600 膜厚 + 500Å = 3900Å.

【0036】以上の結果、図1において、液晶装置1に
おいてシール材2が形成されている外周部分の膜厚寸法
は、X−X断面によって切断される辺部分が3900Å
となり、Y−Y断面によって切断される辺部分が400
0Åとなり、両者の間でほとんど差が無くなる。一般
に、シール材2の中には円筒状スペーサが混入され、こ
の円筒状スペーサによってセルギャップが維持される。
この場合、円筒状スペーサを挟む間隔が不均一である
と、可視像表示領域のセルギャップも不均一になって表
示品質が劣化する。これに対し上記のように、シール材
2が設けられる部分の膜厚を全体にわたって均一に調整
すれば、円筒状スペーサによるセル厚制御を適正に行う
ことができ、その結果、液晶装置1の可視像表示領域の
全域にわたってセルギャップの寸法を均一にすることが
できる。それ故、液晶装置1に関して高品質の表示特性
を実現できる。
As a result, in FIG. 1, the outer peripheral portion of the liquid crystal device 1 where the sealing material 2 is formed has a thickness of 3900 ° on the side cut along the XX section.
And the side portion cut by the YY section is 400
0 °, and there is almost no difference between the two. Generally, a cylindrical spacer is mixed into the sealing material 2, and the cell gap is maintained by the cylindrical spacer.
In this case, if the interval between the cylindrical spacers is not uniform, the cell gap in the visible image display area is also uneven, and the display quality is degraded. On the other hand, as described above, if the film thickness of the portion where the sealing material 2 is provided is uniformly adjusted throughout, the cell thickness can be properly controlled by the cylindrical spacers. The dimensions of the cell gap can be made uniform over the entire visual display area. Therefore, high quality display characteristics of the liquid crystal device 1 can be realized.

【0037】従来の液晶装置では、図9において、シー
ル材2の所に第1ギャップ調整用パターン11及び第2
ギャップ調整用パターン12を設けていなかったので、
液晶装置1のうちシール材2を設けた外周部分の間隙寸
法が不均一になって、その結果、可視像表示領域内のセ
ルギャップの寸法が不均一になるという問題があった。
これに対して本実施形態のように、液晶装置1の外周部
分にギャップ調整用パターン11及び12を設けること
によって該外周部分の膜厚を調節すれば、セルギャップ
の寸法を均一にすることができる。
In the conventional liquid crystal device, the first gap adjustment pattern 11 and the second gap
Since the gap adjustment pattern 12 was not provided,
In the liquid crystal device 1, the gap size in the outer peripheral portion where the seal material 2 is provided becomes non-uniform, and as a result, there is a problem that the size of the cell gap in the visible image display area becomes non-uniform.
On the other hand, as in the present embodiment, by providing the gap adjusting patterns 11 and 12 on the outer peripheral portion of the liquid crystal device 1 to adjust the film thickness of the outer peripheral portion, the dimensions of the cell gap can be made uniform. it can.

【0038】以上、液晶装置に関して好ましい実施形態
を挙げて本発明を説明したが、本発明に係る液晶装置は
その実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記
載した発明の範囲内で種々に改変できる。
As described above, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments of the liquid crystal device. However, the liquid crystal device according to the present invention is not limited to the embodiment, but falls within the scope of the invention described in the claims. Various modifications can be made.

【0039】例えば、上記実施形態では第1ギャップ調
整用パターン11及び第2ギャップ調整用パターン12
の両方を、素子側基板3a上に配線4の第1層4a、す
なわち(Ta+TaOX)膜を形成するときに、それと
同時にパターニングすることにした。しかしながら、そ
れらのギャップ調整用パターンは、素子側基板3a上に
形成されるその他の各種の膜材料、例えば、配線4の第
2層4b又は第3層4c等によって形成することもでき
る。また、対向側基板3b上に形成される膜材料、例え
ば、カラーフィルタのブラックマスク等によって形成す
ることもできる。
For example, in the above embodiment, the first gap adjustment pattern 11 and the second gap adjustment pattern 12
Both are patterned at the same time when the first layer 4a of the wiring 4, that is, the (Ta + TaO x ) film is formed on the element-side substrate 3a. However, those gap adjustment patterns can also be formed by other various film materials formed on the element-side substrate 3a, for example, the second layer 4b or the third layer 4c of the wiring 4. Alternatively, it can be formed using a film material formed on the opposing substrate 3b, for example, a black mask of a color filter.

【0040】また、図5に示す第1ギャップ調整用パタ
ーン11及び図7に示す第2ギャップ調整用パターン1
2は対向電極8の形状に合わせて島状に分断して形成し
たが、これは、それらのパターン11及び12を導電性
のTaを用いて形成したからであり、仮にそれらのパタ
ーン11及び12を絶縁性の材料によって形成するので
あれば、それらのパターンは分断状態でない単一のパタ
ーンとして形成することもできる。
The first gap adjusting pattern 11 shown in FIG. 5 and the second gap adjusting pattern 1 shown in FIG.
2 was formed by dividing it into islands in conformity with the shape of the counter electrode 8 because these patterns 11 and 12 were formed using conductive Ta. Are formed of an insulating material, the patterns can be formed as a single pattern that is not divided.

【0041】また、上記の実施形態では、液晶駆動用I
Cを透光性基板上に直接に搭載する構造の、いわゆるC
OG(Chip On Glass)方式の液晶装置に本発明を適用
したが、その他の各種構造の液晶装置、例えばTAB
(Tape Automated Bonding)方式の液晶装置に対して本
発明を適用できることはもちろんである。
In the above embodiment, the liquid crystal driving I
A structure in which C is directly mounted on a translucent substrate, a so-called C
The present invention is applied to an OG (Chip On Glass) type liquid crystal device, but other various types of liquid crystal devices, for example, TAB
Needless to say, the present invention can be applied to a (Tape Automated Bonding) type liquid crystal device.

【0042】また、上記の実施形態では、TFD素子を
非線形素子として用いたアクティブマトリクス方式の液
晶装置に対して本発明を適用したが、TFTその他の非
線形素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置
に本発明を適用することもできる。
In the above embodiment, the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device using a TFD element as a non-linear element. However, the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device using a TFT and other non-linear elements. The invention can also be applied.

【0043】(第2実施形態)図11は、本発明に係る
電子機器の一実施形態を示している。この実施形態は、
本発明に係る液晶装置を電子機器としてのデジタルスチ
ルカメラのファインダ部として使用した場合の実施形態
である。通常のカメラが被写体の光像によって感光フィ
ルムを感光するのに対し、このデジタルスチルカメラ
は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)
等といった撮像素子を用いて光電変換して撮像信号を生
成する。
(Second Embodiment) FIG. 11 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. This embodiment is
This is an embodiment in which the liquid crystal device according to the present invention is used as a finder of a digital still camera as an electronic apparatus. Whereas a normal camera exposes a photosensitive film with an optical image of a subject, this digital still camera uses a CCD (Charge Coupled Device) to capture the optical image of the subject.
The photoelectric conversion is performed by using an image sensor such as the above to generate an image signal.

【0044】このデジタルスチルカメラは、ケーシング
26の前面側に配設した受光ユニット27と、ケーシン
グ26の上面に設けたシャッタボタン28と、そしてケ
ーシング26の背面に配設した液晶装置1とを含んで構
成される。この液晶装置1は、被写体を表示するための
ファインダとして作用するものであり、例えば図1に示
した構造の液晶装置を用いて構成できる。受光ユニット
27内には、シャッタボタン28に連動して開閉するシ
ャッタや、光学レンズや、CCDカメラ等といった撮像
素子等が含まれる。
This digital still camera includes a light receiving unit 27 disposed on the front side of the casing 26, a shutter button 28 disposed on the upper surface of the casing 26, and the liquid crystal device 1 disposed on the rear side of the casing 26. It consists of. The liquid crystal device 1 functions as a finder for displaying a subject, and can be configured using, for example, a liquid crystal device having the structure shown in FIG. The light receiving unit 27 includes a shutter that opens and closes in conjunction with a shutter button 28, an optical lens, and an image sensor such as a CCD camera.

【0045】このデジタルカメラには、ビデオ信号出力
用端子31及びデータ通信用入出力端子32が設けら
れ、必要に応じて、ビデオ信号出力用端子31にテレビ
モニタ33が接続され、また、信号端子32にパーソナ
ルコンピュータ34が接続される。カメラ撮影者が受光
ユニット27を被写体に向けると、その被写体像が液晶
装置1に表示され、その表示像を確認しながらシャッタ
ボタン28を押圧操作すると、CCDカメラを内蔵した
受光ユニット27の出力端子に被写体に対応した撮像信
号が出力され、その出力信号が回路基板29上のメモリ
内に格納され、必要に応じて、パーソナルコンピュータ
34やテレビモニタ33へ出力される。
This digital camera is provided with a video signal output terminal 31 and a data communication input / output terminal 32. A TV monitor 33 is connected to the video signal output terminal 31 as necessary. A personal computer 34 is connected to 32. When the camera photographer points the light receiving unit 27 at the subject, the subject image is displayed on the liquid crystal device 1. When the shutter button 28 is pressed while checking the displayed image, the output terminal of the light receiving unit 27 having a built-in CCD camera is output. An image pickup signal corresponding to the subject is output to a personal computer 34 and a television monitor 33 as necessary.

【0046】液晶装置1として図1に示すような液晶装
置を用いれば、液晶装置1の外周部分にギャップ調整用
パターンを設けることによって該外周部分の膜厚を調節
し、もって、セルギャップの寸法を可視像表示領域の全
体にわたって均一に保持しているので、常に良好な被写
体像を映し出すことができる。
When a liquid crystal device as shown in FIG. 1 is used as the liquid crystal device 1, a gap adjusting pattern is provided on the outer peripheral portion of the liquid crystal device 1 to adjust the film thickness of the outer peripheral portion. Is uniformly held over the entire visible image display area, so that a good subject image can always be displayed.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明に係る液晶装置及び電子機器によ
れば、液晶装置のうちシール材が設けられる外周部分の
適所にギャップ調整用パターンを設けることにより、そ
の液晶装置の外周部分に形成される膜の膜厚寸法を該外
周部分の全域にわたって均一に調節することができ、そ
れ故、液晶装置のセルギャップの寸法を可視像表示領域
の全域にわたって均一にすることができる。
According to the liquid crystal device and the electronic equipment according to the present invention, the gap adjusting pattern is provided at an appropriate position on the outer peripheral portion of the liquid crystal device where the sealing material is provided, so that the liquid crystal device is formed on the outer peripheral portion of the liquid crystal device. The thickness of the film can be uniformly adjusted over the entire outer peripheral portion, and therefore, the size of the cell gap of the liquid crystal device can be made uniform over the entire visible image display area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断
して示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention, partially cut away.

【図2】図1に示す液晶装置の対向側基板を示す平面図
である。
FIG. 2 is a plan view showing an opposite substrate of the liquid crystal device shown in FIG.

【図3】図1に示す液晶装置の素子側基板を示す平面図
である。
FIG. 3 is a plan view showing an element-side substrate of the liquid crystal device shown in FIG.

【図4】図2のE部を拡大して示す図である。FIG. 4 is an enlarged view showing a portion E in FIG. 2;

【図5】図3のA部を拡大して示す図である。FIG. 5 is an enlarged view showing a portion A in FIG. 3;

【図6】図2のF部を拡大して示す図である。FIG. 6 is an enlarged view showing a portion F in FIG. 2;

【図7】図3のB部を拡大して示す図である。FIG. 7 is an enlarged view showing a portion B in FIG. 3;

【図8】図1のX−X線に従った断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along line XX of FIG. 1;

【図9】図1のY−Y線に従った断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line YY of FIG. 1;

【図10】非線形素子の一例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing an example of a nonlinear element.

【図11】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜
視図である。
FIG. 11 is a perspective view illustrating an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶装置 2 シール材 3a 素子側基板用透光性基板 3b 対向基板用透光性基板 4 配線 4a 配線の第1層 4b 配線の第2層 4c 配線の第3層 4d 配線の端子部分 6 画素電極 7 TFD素子 8 対向電極 8a 対向電極の端子部分 9a,9b 液晶駆動用IC 11 第1ギャップ調整用パターン 12 第2ギャップ調整用パターン 13 カラーフィルタ L 液晶 Reference Signs List 1 liquid crystal device 2 sealing material 3a translucent substrate for element-side substrate 3b translucent substrate for opposing substrate 4 wiring 4a first layer of wiring 4b second layer of wiring 4c third layer of wiring 4d terminal part of wiring 6 pixels Electrode 7 TFD element 8 Counter electrode 8a Terminal portion of counter electrode 9a, 9b Liquid crystal drive IC 11 First gap adjustment pattern 12 Second gap adjustment pattern 13 Color filter L Liquid crystal

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非線形素子のための膜を備えた素子側基
板と、対向電極のための膜を備えると共に前記素子側基
板に対向する対向側基板と、その対向側基板と前記素子
側基板とを所定のセルギャップを隔てて互いに接合する
シール材とを有し、前記シール材と前記素子側基板との
間及び/又は前記シール材と前記対向側基板との間に、
前記セルギャップの寸法ムラを少なくするためのギャッ
プ調整用パターンを設けた液晶装置であって、 前記ギャップ調整用パターンは、少なくともその一部が
前記シール材の少なくとも1辺と重なるように設けら
れ、前記シール材の4辺の少なくとも一部における、前
記シール材と前記素子側基板及び前記対向側基板との間
に配置される膜の合計の厚みが互いにほぼ等しくなるよ
うに形成されてなることを特徴とする液晶装置。
An element-side substrate provided with a film for a non-linear element, a counter-side substrate provided with a film for a counter electrode and opposed to the element-side substrate, and the opposing substrate and the element-side substrate Having a sealing material bonded to each other with a predetermined cell gap therebetween, and between the sealing material and the element-side substrate and / or between the sealing material and the opposing-side substrate,
A liquid crystal device provided with a gap adjustment pattern for reducing dimensional unevenness of the cell gap, wherein the gap adjustment pattern is provided so that at least a part thereof overlaps at least one side of the sealing material, At least a part of the four sides of the sealing material, the total thickness of the film disposed between the sealing material and the element-side substrate and the counter-side substrate is formed to be substantially equal to each other. Characteristic liquid crystal device.
【請求項2】 請求項1記載の液晶装置において、前記
ギャップ調整用パターンは前記素子側基板又は前記対向
側基板に設けられる膜によって形成されるダミーパター
ンであることを特徴とする液晶装置。
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the gap adjustment pattern is a dummy pattern formed by a film provided on the element-side substrate or the counter-side substrate.
【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の液晶装置に
おいて、前記ギャップ調整用パターンは、素子側基板上
に形成される非線形素子のための膜によって形成される
ことを特徴とする液晶装置。
3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the gap adjusting pattern is formed by a film for a non-linear element formed on an element-side substrate. .
【請求項4】 請求項1から請求項3のうちの少なくと
もいずれか1つに記載の液晶装置において、 前記非線形素子は第1電極、絶縁層及び第2電極を順次
に積層した構造の薄膜ダイオードであり、 前記ギャップ調整用パターンは前記第1電極、前記絶縁
層及び前記第2電極の少なくともいずれか1つ以上によ
って形成されることを特徴とする液晶装置。
4. The thin-film diode according to claim 1, wherein the nonlinear element has a structure in which a first electrode, an insulating layer, and a second electrode are sequentially stacked. Wherein the gap adjusting pattern is formed by at least one of the first electrode, the insulating layer, and the second electrode.
【請求項5】 請求項1から請求項4のうちの少なくと
もいずれか1つに記載の液晶装置を含んで構成されるこ
とを特徴とする電子機器。
5. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to at least one of claims 1 to 4.
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