JPH11204490A - Stuck liquid removal device - Google Patents

Stuck liquid removal device

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JPH11204490A
JPH11204490A JP422998A JP422998A JPH11204490A JP H11204490 A JPH11204490 A JP H11204490A JP 422998 A JP422998 A JP 422998A JP 422998 A JP422998 A JP 422998A JP H11204490 A JPH11204490 A JP H11204490A
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JP
Japan
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substrate
gas
auxiliary roller
liquid
auxiliary
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JP422998A
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Mitsuaki Yoshitani
光明 芳谷
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress sag of a substrate to raise efficiency of the removal of a treating liquid being stuck to the substrate. SOLUTION: A stuck liquid removal device 120 is a device of a structure, wherein a gas is blown onto a substrate W with stuck cleaning liquid, whereby the cleaning liquid is blown away from the substrate W to remove the cleaning liquid adhered to the substrate W. In this device 120, a plurality of carrying rollers 5, air knives 25 and 26 and auxiliary roller assembled bodies 41 and 42 are provided. The rollers 5 carry the substrate W while supporting the substrate W. The knives 25 and 26 are means for blowing the gas on the substrate W, and are extendedly provided in the directions in which the knives 25 and 26 intersect the substrate carrying direction between the rollers 5. The assembled bodies 41 and 42 are respectively adjacent to the knives 25 and 26 and support the lower surface of the substrate W to suppress the deformation of the substrate W.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種基板の付着液
除去装置、特に、液晶表示器用基板等のFPD(Fla
t Panel Display)用基板、フォトマス
ク用基板、プリント基板、及び半導体基板に付着した処
理液を除去する付着液除去装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for removing an adhering liquid from various substrates, and more particularly to an FPD (Fla) for a substrate for a liquid crystal display.
The present invention relates to an adhering liquid removing apparatus that removes a processing liquid adhering to a substrate (t Panel Display), a photomask substrate, a printed circuit board, and a semiconductor substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示器、カラーフィルタ、フォトマ
スク等の製造工程では、基板洗浄処理等の各種の湿式表
面処理が行われる。そして、これらの基板の処理後に基
板の表面に付着した液滴を除去する作業が行われる。従
来の基板の付着液除去装置として、例えば、搬送ローラ
とエアーナイフとから構成されるものが知られている。
ここでは、表面に洗浄液などの処理液が付着した基板を
複数の搬送ローラによってほぼ水平に支持しつつ所定の
方向に搬送させる。そして、その長手方向が基板搬送方
向と直交する方向(以下、川幅方向という。)に概ね沿
った上下1対のエアーナイフ(気体を吹き付ける気体吹
付手段)に設けられたスリット状の吐出口から、層状の
気体を基板の表面に吹き付ける。すると、吹き付けられ
た気体が基板に付着している処理液を基板の搬送方向上
流側に移動させ、処理液が基板の搬送方向上流側の後端
縁から基板の後方に吹き飛ばされる。これにより、基板
から処理液が除去される。
2. Description of the Related Art In a process of manufacturing a liquid crystal display, a color filter, a photomask and the like, various wet surface treatments such as a substrate cleaning treatment are performed. Then, after these substrates are processed, an operation of removing the liquid droplets attached to the surface of the substrate is performed. 2. Description of the Related Art As a conventional substrate adhering liquid removing device, for example, a device including a transport roller and an air knife is known.
Here, a substrate having a processing liquid such as a cleaning liquid adhered to the surface is transported in a predetermined direction while being supported substantially horizontally by a plurality of transport rollers. Then, a slit-shaped discharge port provided on a pair of upper and lower air knives (gas blowing means for blowing gas) substantially along a direction in which the longitudinal direction is orthogonal to the substrate transfer direction (hereinafter, referred to as a river width direction). A layered gas is blown onto the surface of the substrate. Then, the blown gas moves the processing liquid adhering to the substrate to the upstream side in the transport direction of the substrate, and the processing liquid is blown away from the rear end edge of the upstream side in the transport direction of the substrate to the rear of the substrate. Thereby, the processing liquid is removed from the substrate.

【0003】ここでは、処理液除去の効率を上げるため
にエアーナイフと基板とを接近させる必要があり、エア
ーナイフと基板との間に搬送ローラを配置することはで
きない。したがって、エアーナイフは、所定の2つの搬
送ローラの基板搬送方向の間に、搬送ローラと重ならな
いように配置される。
In this case, it is necessary to bring the air knife and the substrate close to each other in order to increase the efficiency of removing the processing liquid, and it is not possible to arrange a transport roller between the air knife and the substrate. Therefore, the air knife is disposed so as not to overlap with the transport rollers between the predetermined two transport rollers in the substrate transport direction.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような付着液除
去装置では、搬送ローラは川幅方向に延設されるのに対
し、エアーナイフは、水はねの抑制及び基板後端での液
滴の効果的な除去等のために、川幅方向に対して所定の
角度だけ傾かせて配置されている。このため、処理する
基板が大型化してエアーナイフの川幅方向に沿った長さ
が長くなると、エアーナイフの基板搬送方向の長さも長
くなり、エアーナイフを挟んで隣接する搬送ローラの基
板搬送方向の設置スパンが大きくなる。このように搬送
ローラの設置スパンが大きくなると、搬送ローラに下面
を支持されながら搬送される基板は搬送ローラ間で大き
く垂れる。
In the above adhering liquid removing apparatus, the transport roller is extended in the river width direction, while the air knife is used to suppress water splashing and droplets at the rear end of the substrate. In order to remove the water effectively, it is arranged at a predetermined angle to the river width direction. For this reason, when the substrate to be processed is enlarged and the length of the air knife along the river width direction is increased, the length of the air knife in the substrate transport direction is also increased, and the transport rollers in the substrate transport direction of the adjacent transport rollers sandwiching the air knife are interposed. Installation span increases. As described above, when the installation span of the transport roller is increased, the substrate transported while the lower surface is supported by the transport roller droops greatly between the transport rollers.

【0005】一方、一般に基板は上下1対のエアーナイ
フのまん中を通過させることが望ましいが、基板が大き
く垂れたのではエアーナイフのまん中を通過させること
は困難である。この結果、基板の上下面に対する気体吹
き付けのバランスが崩れて、処理液の除去効率が悪化す
る。本発明の課題は、基板に気体を吹き付けることによ
り基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置にお
いて、基板の垂れを抑えて基板に付着している処理液の
除去の効率を向上させることにある。
On the other hand, it is generally desirable for the substrate to pass through the middle of a pair of upper and lower air knives. However, if the substrate droops greatly, it is difficult to pass through the center of the air knife. As a result, the balance of the gas blowing on the upper and lower surfaces of the substrate is lost, and the efficiency of removing the processing liquid is deteriorated. An object of the present invention is to improve the efficiency of removing a processing liquid adhering to a substrate by suppressing dripping of the substrate in an adhesion liquid removing apparatus that removes a processing liquid adhering to the substrate by blowing gas onto the substrate. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る付着液除
去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けるこ
とにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した
処理液を除去する装置において、複数の搬送手段と、気
体吹付手段と、補助支持手段とを備えている。搬送手段
は基板を支持しつつ搬送する。気体吹付手段は、基板に
気体を吹き付ける手段であって、搬送手段の間に、基板
搬送方向と交差する方向に延設されている。補助支持手
段は、気体吹付手段に隣接しており、基板の下面を支持
して基板の変形を抑える。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for removing a processing liquid attached to a substrate by blowing the processing liquid from the substrate by blowing a gas onto the substrate to which the processing liquid is attached. , A plurality of conveying means, a gas blowing means, and an auxiliary supporting means. The transport means transports the substrate while supporting it. The gas blowing unit is a unit that blows a gas to the substrate, and extends between the transporting units in a direction crossing the substrate transporting direction. The auxiliary supporting means is adjacent to the gas blowing means and supports the lower surface of the substrate to suppress deformation of the substrate.

【0007】搬送されている基板に対して気体吹付手段
により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処
理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端か
ら後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着し
た処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離
が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が
低下する。
[0007] When gas is blown against the substrate being transported by the gas blowing means, the processing liquid adhering to the substrate is flushed to the upstream side in the substrate transport direction and blown backward from the rear end of the substrate. The processing liquid attached to the substrate is removed in this manner, but if the distance between the gas blowing means and the substrate is not maintained at a predetermined size, the processing liquid removal efficiency is reduced.

【0008】ここでは、気体吹付手段に隣接する補助支
持手段を設けて、気体吹付手段により気体が吹き付けら
れる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板
サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段に
より基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段
との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支
持手段がない場合に較べて処理液の除去効率が向上す
る。
Here, an auxiliary supporting means adjacent to the gas blowing means is provided to suppress dripping of a portion of the substrate to which the gas is blown by the gas blowing means. Thereby, even when the substrate size becomes large and the substrate cannot be supported by the transfer means in the vicinity of the gas blowing means, the distance between the substrate and the gas blowing means can be kept within a predetermined range, and the auxiliary support means can be provided. The efficiency of removing the processing solution is improved as compared with the case where no such solution is provided.

【0009】請求項2に係る付着液除去装置は、請求項
1に記載の付着液除去装置において、補助支持手段は気
体吹付手段の基板搬送方向両側に配置されている。ここ
では、補助支持手段が気体吹付手段の基板搬送方向両側
に配置されているため、より基板の垂れを抑えることが
でき、特に基板の前端部及び後端部が気体吹き付け位置
を通過する時にも基板と気体吹付手段との距離を適当な
範囲に保つことができる。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the auxiliary support means is disposed on both sides of the gas blowing means in the substrate transport direction. Here, since the auxiliary support means is disposed on both sides of the gas blowing means in the substrate transport direction, the dripping of the substrate can be further suppressed, especially when the front end and the rear end of the substrate pass through the gas blowing position. The distance between the substrate and the gas blowing means can be kept in an appropriate range.

【0010】請求項3に係る付着液除去装置は、処理液
が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を
基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する
付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付
手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送
手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って
延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持し
ながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともあ
る2つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもの
で、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されてい
る。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対し
て、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手
段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部
を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体
吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配
置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持す
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an adhesion liquid removing apparatus for blowing a gas onto a substrate to which the processing liquid has adhered to blow off the processing liquid from the substrate to remove the processing liquid attached to the substrate. It is provided with a conveying means, a gas blowing means, a support, and an auxiliary supporting means. The transfer means extends along a direction substantially perpendicular to the substrate transfer direction, and transfers the substrate while supporting the lower surface of the substrate to which the processing liquid has adhered. The gas blowing means extends between at least two of the transport means in the substrate transport direction, and extends along a direction intersecting the substrate transport direction. The gas blowing means blows gas from both the upper and lower sides to the substrate to which the processing liquid has adhered. The support supports both ends of the conveying means and also supports both ends of the gas blowing means. The auxiliary support means is disposed between the gas blowing means and the transport means adjacent to the gas blowing means in the substrate transport direction, and partially supports the lower surface of the substrate to be transported.

【0011】搬送されている基板に対して気体吹付手段
により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処
理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端か
ら後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着し
た処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離
が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が
低下する。しかし、基板の川幅方向の寸法が大きくなる
と、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段も川幅方向及
び基板搬送方向に長くなり、気体吹付手段を挟んで配置
される2つの搬送手段間の基板搬送方向の距離が長くな
る。すなわち、基板の支持スパンが大きくなり基板の垂
れが大きくなる。
When a gas is blown onto the substrate being transported by the gas blowing means, the processing liquid adhering to the substrate is flushed to the upstream side in the substrate transport direction and blown backward from the rear end of the substrate. The processing liquid attached to the substrate is removed in this manner, but if the distance between the gas blowing means and the substrate is not maintained at a predetermined size, the processing liquid removal efficiency is reduced. However, when the size of the substrate in the river width direction increases, the gas blowing means for blowing the gas to the substrate also becomes longer in the river width direction and the substrate transfer direction, and the gas blowing means in the substrate transfer direction between the two transfer means arranged with the gas blowing means interposed therebetween. The distance becomes longer. That is, the support span of the substrate increases, and the sag of the substrate increases.

【0012】ここでは、気体吹付手段に隣接させて補助
支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持
させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けら
れる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板
サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段に
より基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段
との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支
持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率
が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅
方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分
的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保さ
れる。
In this case, the auxiliary supporting means is provided adjacent to the gas blowing means, and the lower surface of the substrate is partially supported by the auxiliary supporting means. I have. Thereby, even when the substrate size becomes large and the substrate cannot be supported by the transfer means in the vicinity of the gas blowing means, the distance between the substrate and the gas blowing means can be kept within a predetermined range, and the auxiliary support means can be provided. The efficiency of removing the processing liquid from the substrate is improved as compared with the case where no substrate is provided. Further, since the auxiliary supporting means does not support the lower surface of the substrate in the river width direction but partially supports the lower surface of the substrate, good maintenance is ensured.

【0013】請求項4に係る付着液処理装置は、請求項
3に記載の付着液除去装置において、搬送手段は、基板
搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気
体吹付手段は、上側気体吹付部と、下側気体吹付部とを
有している。上側気体吹付部は基板の上面に気体を吹き
付け、下側気体吹付部は基板の下面に気体を吹き付け
る。補助支持手段は、補助ローラ支持部材と、補助ロー
ラ組立体とを有している。補助ローラ支持部材は、下側
気体吹付部の下部に配置されており、両端部が支持体に
支持されている。補助ローラ組立体は、補助ローラを含
んでいる組立体であって、補助ローラ支持部材から上方
に延びている。補助ローラは、基板の下面に接触して回
転する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the adhesion liquid processing apparatus, the transportation means is a transportation roller extending in a direction orthogonal to the substrate transportation direction. The gas blowing means has an upper gas blowing section and a lower gas blowing section. The upper gas blowing unit blows gas on the upper surface of the substrate, and the lower gas blowing unit blows gas on the lower surface of the substrate. The auxiliary support means has an auxiliary roller support member and an auxiliary roller assembly. The auxiliary roller support member is disposed below the lower gas blowing unit, and both ends are supported by the support. The auxiliary roller assembly is an assembly including the auxiliary roller, and extends upward from the auxiliary roller support member. The auxiliary roller rotates in contact with the lower surface of the substrate.

【0014】ここでは、両支持体に補助ローラ支持部材
を渡して、それに補助ローラ組立体を固定している。し
たがって、補助ローラ支持部材を基板に近づけることに
より、基板からの荷重による補助ローラ組立体の変形を
小さく抑え、基板をより精度よく支持することが可能で
ある。また、補助ローラ支持部材は、両支持体に両端が
支持されており、片持ちの状態に較べて補助ローラ支持
部材自身の変形も抑えられている。
Here, an auxiliary roller supporting member is passed over both supports, and the auxiliary roller assembly is fixed to the supporting member. Therefore, by bringing the auxiliary roller supporting member closer to the substrate, it is possible to suppress deformation of the auxiliary roller assembly due to a load from the substrate to be small, and to support the substrate more accurately. Further, both ends of the auxiliary roller support member are supported by both supports, so that the deformation of the auxiliary roller support member itself is suppressed as compared with the cantilever state.

【0015】請求項5に係る付着液除去装置は、請求項
3に記載の付着液除去装置において、搬送手段は、基板
搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気
体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体
吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付
部とを有している。補助支持手段は、補助ローラと、ア
ームとを有している。補助ローラは、基板の下面に接触
して回転する。アームは、上部が補助ローラを回転自在
に支持しており、下部が下側気体吹付部に装着されてい
る。
According to a fifth aspect of the present invention, in the adhesion liquid removing apparatus according to the third aspect, the transport means is a transport roller extending in a direction orthogonal to the substrate transport direction. The gas blowing means has an upper gas blowing unit for blowing gas on the upper surface of the substrate and a lower gas blowing unit for blowing gas on the lower surface of the substrate. The auxiliary support means has an auxiliary roller and an arm. The auxiliary roller rotates in contact with the lower surface of the substrate. The upper part of the arm rotatably supports the auxiliary roller, and the lower part is mounted on the lower gas blowing unit.

【0016】ここでは、気体吹付手段の下側気体吹付部
にアームを装着し、そのアームに補助ローラを支持させ
ている。補助支持手段は気体吹付手段の近隣に配置され
るため、補助支持手段を気体吹付手段に装着することは
容易であり、アームの長さも小さく抑えることができ
る。さらに、補助支持手段の補助ローラと気体吹付手段
とがアームによって直接結ばれているため、両者間の距
離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラ
に支持される基板と気体吹付手段との距離も精度が上が
る。これにより、基板からの処理液の除去効率が向上す
る。
Here, an arm is mounted on the lower gas blowing portion of the gas blowing means, and the arm supports an auxiliary roller. Since the auxiliary supporting means is arranged near the gas blowing means, it is easy to mount the auxiliary supporting means on the gas blowing means, and the length of the arm can be reduced. Furthermore, since the auxiliary roller of the auxiliary support means and the gas blowing means are directly connected by the arm, the dimensional accuracy of the distance between the two is improved, and accordingly, the distance between the substrate supported by the auxiliary roller and the gas blowing means is improved. Also increases accuracy. This improves the efficiency of removing the processing liquid from the substrate.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】[第1実施形態]本発明の一実施
形態である付着液除去装置20を含む洗浄装置1を、図
1に示す。洗浄装置1は、搬入されてきた基板に対して
洗浄及び付着する洗浄液(処理液)の除去を施して搬出
する装置であり、搬送ローラ5と、洗浄ノズル15が収
容されている洗浄チャンバー2と、付着液除去装置20
が収容されている液切りチャンバー3とから構成されて
いる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] FIG. 1 shows a cleaning apparatus 1 including an adhesion liquid removing apparatus 20 according to one embodiment of the present invention. The cleaning device 1 is a device that performs cleaning and removal of a cleaning liquid (processing liquid) that adheres to a carried-in substrate and carries out the substrate. The cleaning device 1 includes a transport roller 5 and a cleaning chamber 2 in which a cleaning nozzle 15 is housed. , Attached liquid removing device 20
And a liquid draining chamber 3 in which is stored.

【0018】基板Wは、洗浄チャンバー2の搬入口12
から搬入され、搬送ローラ5によって水平姿勢で保持さ
れつつ洗浄チャンバー2内を図1の矢印Aの方向(以
下、基板搬送方向という。)に搬送される。洗浄チャン
バー2内を搬送されている基板Wに対しては、複数の洗
浄ノズル15から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が
行われる。この後、基板Wは搬送ローラ5によって両チ
ャンバー2,3の連結口22を通って液切りチャンバー
3に送られる。液切りチャンバー3では、搬送ローラ5
によって搬送されている基板Wに対して、エアーナイフ
25,26から気体が吹き付けられる。これにより、基
板Wに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Wが
乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基
板Wは、搬出口23から搬出される。
The substrate W is loaded into the loading port 12 of the cleaning chamber 2.
The cleaning chamber 2 is transported in the direction of arrow A in FIG. 1 (hereinafter, referred to as a substrate transport direction) while being held in a horizontal posture by the transport rollers 5. The cleaning liquid is sprayed from the plurality of cleaning nozzles 15 on the substrate W being transported in the cleaning chamber 2, and the upper and lower surfaces are cleaned. Thereafter, the substrate W is sent to the liquid draining chamber 3 by the transfer roller 5 through the connection port 22 of both chambers 2 and 3. In the liquid removal chamber 3, the transport rollers 5
Gas is blown from the air knives 25 and 26 to the substrate W being transported. Thereby, the cleaning liquid adhering to the substrate W is blown off, and the substrate W is dried. The substrate W that has been subjected to the cleaning and the liquid removal processing is carried out from the carry-out port 23.

【0019】搬送ローラ5は、基板Wの川幅方向両端部
及び中央部を支持して水平に基板Wを保持するとともに
図1の矢印Aの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段で
あり、図示しないチェーン等を介してモータに連結され
ている。また、図2に示すように、搬送ローラ5の両端
は、液切りチャンバー3の両側壁(支持体)21に支持
されている。
The transport roller 5 is a transport unit that supports the substrate W at both ends and the center in the river width direction, horizontally holds the substrate W, and transports the substrate W at a predetermined speed in the direction of arrow A in FIG. It is connected to the motor via a chain or the like. As shown in FIG. 2, both ends of the transport roller 5 are supported by both side walls (supports) 21 of the liquid removal chamber 3.

【0020】洗浄チャンバー2内に配備された洗浄ノズ
ル15は、搬送ローラ5により搬送される基板Wの上方
及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Wの上下両面に
向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー2
は、洗浄ノズル15から吹き付けられた洗浄液が外に飛
散することを防止し、また外から洗浄チャンバー2内に
パーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チ
ャンバー2には、洗浄チャンバー2内の空気を図示しな
い排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー2内
を流下する洗浄液を排水するための第1排気口14が下
部に設けられている。
A plurality of cleaning nozzles 15 provided in the cleaning chamber 2 are provided above and below the substrate W transported by the transport roller 5, respectively, and spray a cleaning liquid such as pure water onto both upper and lower surfaces of the substrate W. . Cleaning chamber 2
This prevents the cleaning solution sprayed from the cleaning nozzle 15 from scattering outside and prevents particles from entering the cleaning chamber 2 from outside. Further, the cleaning chamber 2 is provided with a first exhaust port 14 at a lower portion for exhausting air in the cleaning chamber 2 by an exhaust unit (not shown) and draining a cleaning liquid flowing down in the cleaning chamber 2.

【0021】液切りチャンバー3内の付着液除去装置2
0は、液切りチャンバー3内の搬送ローラ5と、エアー
ナイフ(気体吹付手段)25,26と、補助ローラ支持
ベース(補助支持部材の補助ローラ支持部材)31及び
補助ローラ組立体32〜35とから構成されている。ま
た、液切りチャンバー3には、液切りチャンバー3内の
空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切
りチャンバー3内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するた
めの第2排気口24が下部に設けられている。
Adhered liquid removing device 2 in liquid draining chamber 3
Reference numeral 0 denotes a transport roller 5 in the liquid draining chamber 3, air knives (gas blowing means) 25 and 26, an auxiliary roller support base (auxiliary roller support member of auxiliary support member) 31, and auxiliary roller assemblies 32 to 35. It is composed of Further, the liquid drain chamber 3 is provided with a second exhaust port 24 at a lower portion for exhausting air in the liquid drain chamber 3 by an exhaust unit (not shown) and draining the cleaning liquid blown off in the liquid drain chamber 3. ing.

【0022】エアーナイフ25,26は、上側エアーナ
イフ(上側気体吹付部)25と下側エアーナイフ(下側
気体吹付部)26とから成るもので、搬送される基板W
に対して、上側エアーナイフ25は上方に、下側エアー
ナイフ26は下方に配置されている。このエアーナイフ
25,26は、基板Wの上面及び下面に向けて、図示し
ない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先
端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体
の圧力により基板Wに付着している洗浄液を吹き飛ばす
ものである。また、エアーナイフ25,26は、図2に
示すように、基板搬送方向(図2の矢印A)に直交する
方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図2
及び図3に示すように、エアーナイフ25,26の両端
は、液切りチャンバー3の両側壁21に支持されてい
る。
The air knives 25, 26 are composed of an upper air knife (upper gas blowing section) 25 and a lower air knife (lower gas blowing section) 26.
On the other hand, the upper air knife 25 is arranged above and the lower air knife 26 is arranged below. The air knives 25 and 26 eject a gas, such as air or nitrogen, supplied from a gas supply source (not shown) in a strip shape from a slit-like discharge port at the tip toward the upper and lower surfaces of the substrate W. The cleaning liquid adhering to the substrate W is blown off by the pressure. Further, as shown in FIG. 2, the air knives 25 and 26 have a planar inclination with respect to a direction orthogonal to the substrate transfer direction (arrow A in FIG. 2). FIG.
As shown in FIG. 3, both ends of the air knives 25 and 26 are supported by both side walls 21 of the liquid draining chamber 3.

【0023】補助ローラ支持ベース31は、基板搬送方
向に直交する方向に延びる部材であって、図3に示すよ
うに、下側エアーナイフ26の下部に配置され、その両
端が液切りチャンバー3の両側壁21に固定されてい
る。補助ローラ組立体32は、基板の川幅方向の中央付
近であって下側エアーナイフ26の基板搬送方向上流側
の位置に配置されている。この補助ローラ組立体32
は、図1に示すように、第1,第2,及び第3支持部材
32a,32b,32cと補助ローラ32dとから構成
されている。第1支持部材32aは補助ローラ支持ベー
ス31に固定され、第2支持部材32bは第1支持部材
32aに固定され、第3支持部材32cは第2支持部材
32bに固定される。第1支持部材32aに対する第2
支持部材32bの固定位置は水平方向に調整可能であ
り、第2支持部材32bに対する第3支持部材32cの
固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ32
dは、第3支持部材32cに回転自在に支持されてお
り、その上面の高さは上側エアーナイフ25と下側エア
ーナイフ26との中間位置と基板Wの厚みの中心とが一
致するように合わされる。
The auxiliary roller support base 31 is a member extending in a direction perpendicular to the substrate transport direction, and is disposed below the lower air knife 26 as shown in FIG. It is fixed to both side walls 21. The auxiliary roller assembly 32 is disposed near the center of the substrate in the river width direction and at a position upstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. This auxiliary roller assembly 32
Is composed of first, second, and third support members 32a, 32b, and 32c and an auxiliary roller 32d, as shown in FIG. The first support member 32a is fixed to the auxiliary roller support base 31, the second support member 32b is fixed to the first support member 32a, and the third support member 32c is fixed to the second support member 32b. The second with respect to the first support member 32a
The fixed position of the support member 32b can be adjusted in the horizontal direction, and the fixed position of the third support member 32c with respect to the second support member 32b can be adjusted in the vertical direction. Auxiliary roller 32
d is rotatably supported by the third support member 32c, and the upper surface thereof has a height such that an intermediate position between the upper air knife 25 and the lower air knife 26 coincides with the center of the thickness of the substrate W. Are combined.

【0024】補助ローラ組立体33は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送方
向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体33は、図1に示すように、第1,第2,及び第3支
持部材33a,33b,33cと補助ローラ33dとか
ら構成されている。第1支持部材33aは補助ローラ支
持ベース31に固定され、第2支持部材33bは第1支
持部材33aに固定され、第3支持部材33cは第2支
持部材33bに固定される。第1支持部材33aに対す
る第2支持部材33bの固定位置は水平方向に調整可能
であり、第2支持部材33bに対する第3支持部材33
cの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ
33dは、第3支持部材33cに回転自在に支持されて
おり、その上面の高さは上側エアーナイフ25と下側エ
アーナイフ26との中間位置と基板Wの厚みの中心とが
一致するように合わされる。
The auxiliary roller assembly 33 is disposed near the center of the substrate in the river width direction and at a position downstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. As shown in FIG. 1, the auxiliary roller assembly 33 includes first, second, and third support members 33a, 33b, and 33c and an auxiliary roller 33d. The first support member 33a is fixed to the auxiliary roller support base 31, the second support member 33b is fixed to the first support member 33a, and the third support member 33c is fixed to the second support member 33b. The fixed position of the second support member 33b with respect to the first support member 33a can be adjusted in the horizontal direction, and the third support member 33 with respect to the second support member 33b can be adjusted.
The fixed position of c can be adjusted in the vertical direction. The auxiliary roller 33d is rotatably supported by the third support member 33c. The height of the upper surface of the auxiliary roller 33d coincides with the middle position between the upper air knife 25 and the lower air knife 26 and the center of the thickness of the substrate W. So that they fit together.

【0025】補助ローラ組立体34は、基板の川幅方向
の一端部付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送
方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
34の構成については、上記補助ローラ組立体33と同
様である。補助ローラ組立体35は、基板Wの川幅方向
の他端部付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送
方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
35の構成については、上記補助ローラ組立体32と同
様である。
The auxiliary roller assembly 34 is disposed near one end of the substrate in the river width direction and downstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. The configuration of the auxiliary roller assembly 34 is the same as that of the auxiliary roller assembly 33 described above. The auxiliary roller assembly 35 is disposed near the other end of the substrate W in the river width direction and at a position upstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. The configuration of the auxiliary roller assembly 35 is the same as that of the auxiliary roller assembly 32 described above.

【0026】次に、付着液除去装置20による基板Wか
らの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ5によ
り搬送されている基板Wに対してエアーナイフ25,2
6によって気体が吹き付けられると、基板Wに付着して
いた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板W
の後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板
Wに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ2
5,26と基板Wとの各隙間寸法が所定の範囲内に保た
れていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
Next, the removal of the cleaning liquid from the substrate W by the adhesion liquid removing device 20 will be described. Air knives 25 and 2 are applied to substrate W being transported by transport rollers 5.
6, the cleaning liquid attached to the substrate W is flushed to the upstream side in the substrate transport direction and the substrate W
It is blown backward from the rear end. In this way, the cleaning liquid attached to the substrate W is removed.
If the gap between the substrates 5, 26 and the substrate W is not kept within a predetermined range, the efficiency of removing the cleaning liquid is reduced.

【0027】ここで、もし補助ローラ32d〜35dが
存在していなければ、下側エアーナイフ26をかわすた
めに下側エアーナイフ26に隣接する両搬送ローラ5間
の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため
(図1及び図2参照)、エアーナイフ25,26による
気体吹き付け位置を通過する基板Wの部分は大きな変形
を起こして垂れる。このような変形が生じていたので
は、上側エアーナイフ25からの気流と下側エアーナイ
フ26からの気流のバランスが乱れ、特に基板Wの後端
における洗浄液の除去効率が悪化する。
If the auxiliary rollers 32d to 35d do not exist, the installation span in the substrate transport direction between the two transport rollers 5 adjacent to the lower air knife 26 becomes large in order to dodge the lower air knife 26. Because of this (see FIGS. 1 and 2), the portion of the substrate W that passes through the gas blowing position by the air knives 25 and 26 is greatly deformed and sags. If such deformation occurs, the balance between the airflow from the upper air knife 25 and the airflow from the lower air knife 26 is disturbed, and the cleaning liquid removal efficiency particularly at the rear end of the substrate W is deteriorated.

【0028】しかし、ここでは、エアーナイフ25,2
6に隣接させて補助ローラ32d〜35dを設け、これ
により基板Wの下面を部分的に支持させている。このた
め、エアーナイフ25,26により気体が吹き付けられ
る基板Wの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板
Wとエアーナイフ25,26との各隙間寸法を所定の範
囲に収めることができ、補助ローラ32d〜35dがな
い場合に較べて基板Wからの洗浄液の除去効率が向上す
る。なお、補助ローラ組立体32〜35は、川幅方向に
点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されて
いる。
However, here, the air knives 25, 2
Auxiliary rollers 32d to 35d are provided adjacent to the substrate 6, thereby partially supporting the lower surface of the substrate W. Therefore, dripping of the portion of the substrate W to which the gas is blown by the air knives 25 and 26 is suppressed. Therefore, the clearance between the substrate W and the air knives 25 and 26 can be kept within a predetermined range, and the efficiency of removing the cleaning liquid from the substrate W is improved as compared with the case where the auxiliary rollers 32d to 35d are not provided. In addition, since the auxiliary roller assemblies 32 to 35 are scattered in the river width direction, good maintenance is ensured.

【0029】また、ここでは、液切りチャンバー3の両
側壁21に補助ローラ支持ベース31を渡して、それに
補助ローラ組立体32〜35を固定している。したがっ
て、液切りチャンバー3の側壁21や底板等に補助ロー
ラ組立体32〜35を直接固定させる場合に較べて、補
助ローラ組立体32〜35の支持が安定する。これによ
り、基板Wからの荷重による補助ローラ組立体32〜3
5の変形が小さくなり、基板Wをより精度よく支持する
ことができる。
In this case, the auxiliary roller support base 31 is passed over the both side walls 21 of the liquid draining chamber 3, and the auxiliary roller assemblies 32 to 35 are fixed thereto. Therefore, the support of the auxiliary roller assemblies 32 to 35 is more stable than when the auxiliary roller assemblies 32 to 35 are directly fixed to the side wall 21 or the bottom plate of the liquid draining chamber 3. Thereby, the auxiliary roller assemblies 32 to 3 due to the load from the substrate W
5 is small, and the substrate W can be supported more accurately.

【0030】また、ここでは、補助ローラ組立体32,
33がエアーナイフ25,26の基板搬送方向両側に配
置されているため、より基板Wの垂れを抑えることがで
き、特に基板Wの前端部及び後端部がエアーナイフ2
5,26による気体吹き付け位置を通過する時にも基板
Wとエアーナイフ25,26との各隙間寸法を適当な範
囲に保つことができる。なお、基板Wの川幅方向端部付
近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体
34あるいは補助ローラ組立体35を配置しているが、
これらの補助ローラ組立体34,35の位置は下側エア
ーナイフ26に隣接する両搬送ローラ5のほぼ中間位置
であるため、基板Wの垂れは許容範囲に収まる。
Here, the auxiliary roller assembly 32,
33 are disposed on both sides of the air knives 25 and 26 in the substrate transfer direction, the dripping of the substrate W can be further suppressed. In particular, the front end and the rear end of the substrate W
When passing through the gas blowing position by the air knives 5 and 26, the size of each gap between the substrate W and the air knives 25 and 26 can be maintained in an appropriate range. In the vicinity of the edge of the substrate W in the river width direction, the auxiliary roller assembly 34 or the auxiliary roller assembly 35 is disposed only on one side in the substrate transport direction.
Since the positions of these auxiliary roller assemblies 34 and 35 are almost at the intermediate positions between the two conveying rollers 5 adjacent to the lower air knife 26, the dripping of the substrate W falls within an allowable range.

【0031】[第2実施形態]本発明の第2実施形態で
ある付着液除去装置120を含む洗浄装置101を、図
4に示す。洗浄装置101は、搬入されてきた基板に対
して洗浄及び付着する洗浄液(処理液)の除去を施して
搬出する装置である。なお、以降の説明において第1実
施形態と同一又は同様な部材の符号は同一符号を付すも
のとする。
[Second Embodiment] FIG. 4 shows a cleaning apparatus 101 including an attached liquid removing apparatus 120 according to a second embodiment of the present invention. The cleaning device 101 is a device that cleans a carried-in substrate and removes a cleaning liquid (treatment liquid) adhering to the substrate and carries out the substrate. In the following description, the same or similar members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0032】洗浄装置101は、搬送ローラ5と、洗浄
ノズル15が収容されている洗浄チャンバー2と、付着
液除去装置120が収容されている液切りチャンバー3
とから構成されている。基板Wは、洗浄チャンバー2の
搬入口12から搬入され、搬送ローラ5によって水平姿
勢で保持されつつ洗浄チャンバー2内を図4の矢印Aの
方向(以下、基板搬送方向という。)に搬送される。洗
浄チャンバー2内を搬送されている基板Wに対しては、
複数の洗浄ノズル15から洗浄液が噴射され、上下両面
の洗浄が行われる。この後、基板Wは搬送ローラ5によ
って両チャンバー2,3の連結口22を通って液切りチ
ャンバー3に送られる。液切りチャンバー3では、搬送
ローラ5によって搬送されている基板Wに対して、エア
ーナイフ25,26から気体が吹き付けられる。これに
より、基板Wに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、
基板Wが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行
われた基板Wは、搬出口23から搬出される。
The cleaning device 101 includes a transporting roller 5, a cleaning chamber 2 containing a cleaning nozzle 15, and a liquid removal chamber 3 containing an attached liquid removing device 120.
It is composed of The substrate W is carried in from the carry-in port 12 of the cleaning chamber 2, and is carried in the cleaning chamber 2 in the direction of arrow A in FIG. . For the substrate W being transported in the cleaning chamber 2,
The cleaning liquid is sprayed from the plurality of cleaning nozzles 15 to clean the upper and lower surfaces. Thereafter, the substrate W is sent to the liquid draining chamber 3 by the transfer roller 5 through the connection port 22 of both chambers 2 and 3. In the liquid draining chamber 3, gas is blown from the air knives 25 and 26 to the substrate W being transported by the transport roller 5. Thereby, the cleaning liquid adhering to the substrate W is blown off,
The substrate W dries. The substrate W that has been subjected to the cleaning and the liquid removal processing is carried out from the carry-out port 23.

【0033】搬送ローラ5は、基板Wの川幅方向両端部
及び中央部を支持して水平に基板Wを保持するとともに
図4の矢印Aの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段で
あり、図示しないチェーン等を介してモータに連結され
ている。また、図5に示すように、搬送ローラ5の両端
は、液切りチャンバー3の両側壁21に支持されてい
る。
The transport roller 5 is a transport means that supports the substrate W at both ends and the center in the river width direction, horizontally holds the substrate W, and transports the substrate W at a predetermined speed in the direction of arrow A in FIG. It is connected to the motor via a chain or the like. Further, as shown in FIG. 5, both ends of the transport roller 5 are supported by both side walls 21 of the liquid removal chamber 3.

【0034】洗浄チャンバー2内に配備された洗浄ノズ
ル15は、搬送ローラ5により搬送される基板Wの上方
及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Wの上下両面に
向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー2
は、洗浄ノズル15から吹き付けられた洗浄液が外に飛
散することを防止し、また外から洗浄チャンバー2内に
パーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チ
ャンバー2には、洗浄チャンバー2内の空気を図示しな
い排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー2内
を流下する洗浄液を排水するための第1排気口14が下
部に設けられている。
A plurality of cleaning nozzles 15 provided in the cleaning chamber 2 are provided above and below the substrate W transported by the transport roller 5, respectively, and spray a cleaning liquid such as pure water onto both upper and lower surfaces of the substrate W. . Cleaning chamber 2
This prevents the cleaning solution sprayed from the cleaning nozzle 15 from scattering outside and prevents particles from entering the cleaning chamber 2 from outside. Further, the cleaning chamber 2 is provided with a first exhaust port 14 at a lower portion for exhausting air in the cleaning chamber 2 by an exhaust unit (not shown) and draining a cleaning liquid flowing down in the cleaning chamber 2.

【0035】液切りチャンバー3内の付着液除去装置1
20は、液切りチャンバー3内の搬送ローラ5と、エア
ーナイフ(気体吹付手段)25,26と、補助ローラ組
立体41〜44とから構成されている。また、液切りチ
ャンバー3には、液切りチャンバー3内の空気を図示し
ない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー
3内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第2排気
口24が下部に設けられている。
Adhered liquid removing device 1 in liquid draining chamber 3
Reference numeral 20 denotes a transport roller 5 in the liquid draining chamber 3, air knives (gas blowing means) 25 and 26, and auxiliary roller assemblies 41 to 44. Further, the liquid drain chamber 3 is provided with a second exhaust port 24 at a lower portion for exhausting air in the liquid drain chamber 3 by an exhaust unit (not shown) and draining the cleaning liquid blown off in the liquid drain chamber 3. ing.

【0036】エアーナイフ25,26は、上側エアーナ
イフ(上側気体吹付部)25と下側エアーナイフ(下側
気体吹付部)26とから成るもので、搬送される基板W
に対して、上側エアーナイフ25は上方に、下側エアー
ナイフ26は下方に配置されている。このエアーナイフ
25,26は、基板Wの上面及び下面に向けて、図示し
ない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先
端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体
の圧力により基板Wに付着している洗浄液を吹き飛ばす
ものである。また、エアーナイフ25,26は、図5に
示すように、基板搬送方向(図5の矢印A)に直交する
方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図5
及び図6に示すように、エアーナイフ25,26の両端
は、液切りチャンバー3の両側壁21に支持されてい
る。
The air knives 25, 26 are composed of an upper air knife (upper gas blowing section) 25 and a lower air knife (lower gas blowing section) 26.
On the other hand, the upper air knife 25 is arranged above and the lower air knife 26 is arranged below. The air knives 25 and 26 eject a gas, such as air or nitrogen, supplied from a gas supply source (not shown) in a strip shape from a slit-like discharge port at the tip toward the upper and lower surfaces of the substrate W. The cleaning liquid adhering to the substrate W is blown off by the pressure. Further, as shown in FIG. 5, the air knives 25 and 26 have a planar inclination with respect to a direction orthogonal to the substrate transfer direction (arrow A in FIG. 5). FIG.
As shown in FIG. 6, both ends of the air knives 25 and 26 are supported by both side walls 21 of the liquid draining chamber 3.

【0037】補助ローラ組立体41は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送方
向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体41は、図4に示すように、アーム41aと補助ロー
ラ41bとから構成されている。アーム41aの下部
は、下側エアーナイフ26の基板搬送方向上流側の面に
固定され、アーム41aの上部は、補助ローラ41bを
回転自在に支持する。また、アーム41aは、補助ロー
ラ41bの位置を水平方向及び垂直方向に調整すること
ができるような調節機能を備えている。補助ローラ41
bの上面の高さは、上側エアーナイフ25と下側エアー
ナイフ26との中間位置と基板Wの厚みの中心とが一致
するように合わされている。
The auxiliary roller assembly 41 is disposed near the center of the substrate in the river width direction and upstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. As shown in FIG. 4, the auxiliary roller assembly 41 includes an arm 41a and an auxiliary roller 41b. The lower part of the arm 41a is fixed to the surface of the lower air knife 26 on the upstream side in the substrate transport direction, and the upper part of the arm 41a rotatably supports the auxiliary roller 41b. In addition, the arm 41a has an adjustment function that can adjust the position of the auxiliary roller 41b in the horizontal direction and the vertical direction. Auxiliary roller 41
The height of the upper surface b is adjusted so that the middle position between the upper air knife 25 and the lower air knife 26 coincides with the center of the thickness of the substrate W.

【0038】補助ローラ組立体42は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送方
向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体42は、図4に示すように、アーム42aと補助ロー
ラ42bとから構成されている。アーム42aは、下側
エアーナイフ26の基板搬送方向下流側の面に固定され
る。アーム42aの上端部は、補助ローラ42bを回転
自在に支持する。また、アーム42aは、補助ローラ4
2bの位置を水平方向及び垂直方向に調整することがで
きるような調節機能を備えている。補助ローラ42bの
上面の高さは、上側エアーナイフ25と下側エアーナイ
フ26との中間位置と基板Wの厚みの中心とが一致する
ように合わされている。
The auxiliary roller assembly 42 is disposed near the center of the substrate in the river width direction and downstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. As shown in FIG. 4, the auxiliary roller assembly 42 includes an arm 42a and an auxiliary roller 42b. The arm 42a is fixed to the downstream surface of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. The upper end of the arm 42a rotatably supports the auxiliary roller 42b. The arm 42a is provided with the auxiliary roller 4
An adjustment function is provided so that the position of 2b can be adjusted in the horizontal and vertical directions. The height of the upper surface of the auxiliary roller 42b is adjusted so that an intermediate position between the upper air knife 25 and the lower air knife 26 and the center of the thickness of the substrate W coincide with each other.

【0039】補助ローラ組立体43は、基板の川幅方向
の一端部付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送
方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
43の構成については、上記補助ローラ組立体42と同
様である。補助ローラ組立体44は、基板Wの川幅方向
の他端部付近であって下側エアーナイフ26の基板搬送
方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
44の構成については、上記補助ローラ組立体41と同
様である。
The auxiliary roller assembly 43 is disposed near one end of the substrate in the river width direction and at a position downstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. The configuration of the auxiliary roller assembly 43 is the same as that of the auxiliary roller assembly 42 described above. The auxiliary roller assembly 44 is disposed near the other end of the substrate W in the river width direction and upstream of the lower air knife 26 in the substrate transport direction. The configuration of the auxiliary roller assembly 44 is the same as that of the auxiliary roller assembly 41 described above.

【0040】次に、付着液除去装置120による基板W
からの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ5に
より搬送されている基板Wに対してエアーナイフ25,
26によって気体が吹き付けられると、基板Wに付着し
ていた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板
Wの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基
板Wに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ2
5,26と基板Wとの各隙間寸法が所定の範囲内に保た
れていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
Next, the substrate W by the attached liquid removing device 120
The removal of the cleaning liquid from the substrate will be described. An air knife 25 is attached to the substrate W being transported by the transport roller 5.
When the gas is blown by 26, the cleaning liquid adhering to the substrate W is flushed to the upstream side in the substrate transport direction and blown backward from the rear end of the substrate W. In this way, the cleaning liquid attached to the substrate W is removed.
If the gap between the substrates 5, 26 and the substrate W is not kept within a predetermined range, the efficiency of removing the cleaning liquid is reduced.

【0041】ここで、もし補助ローラ41b〜44bが
存在していなければ、下側エアーナイフ26をかわすた
めに下側エアーナイフ26に隣接する両搬送ローラ5間
の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため
(図4及び図5参照)、エアーナイフ25,26による
気体吹き付け位置を通過する基板Wの部分は大きな変形
を起こして垂れる。このような変形が生じていたので
は、上側エアーナイフ25からの気流と下側エアーナイ
フ26からの気流のバランスが乱れ、特に基板Wの後端
における洗浄液の除去効率が悪化する。
Here, if the auxiliary rollers 41b to 44b are not present, the installation span in the substrate transport direction between the two transport rollers 5 adjacent to the lower air knife 26 is large in order to dodge the lower air knife 26. 4 (see FIGS. 4 and 5), the portion of the substrate W passing through the gas blowing position by the air knives 25 and 26 undergoes large deformation and hangs down. If such deformation occurs, the balance between the airflow from the upper air knife 25 and the airflow from the lower air knife 26 is disturbed, and the cleaning liquid removal efficiency particularly at the rear end of the substrate W is deteriorated.

【0042】しかし、ここでは、エアーナイフ25,2
6に隣接させて補助ローラ41b〜44bを設け、これ
により基板Wの下面を部分的に支持させている。このた
め、エアーナイフ25,26により気体が吹き付けられ
る基板Wの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板
Wとエアーナイフ25,26との各隙間寸法を所定の範
囲に収めることができ、補助ローラ41b〜44bがな
い場合に較べて基板Wからの洗浄液の除去効率が向上す
る。なお、補助ローラ組立体41〜44は、川幅方向に
点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されて
いる。
However, here, the air knives 25, 2
Auxiliary rollers 41b to 44b are provided adjacent to the substrate 6, thereby partially supporting the lower surface of the substrate W. Therefore, dripping of the portion of the substrate W to which the gas is blown by the air knives 25 and 26 is suppressed. Therefore, the clearance between the substrate W and the air knives 25 and 26 can be kept within a predetermined range, and the efficiency of removing the cleaning liquid from the substrate W is improved as compared with the case where the auxiliary rollers 41b to 44b are not provided. Since the auxiliary roller assemblies 41 to 44 are scattered in the river width direction, good maintainability is ensured.

【0043】また、ここでは、補助ローラ組立体41,
42がエアーナイフ25,26の基板搬送方向両側に配
置されているため、より基板Wの垂れを抑えることがで
き、特に基板Wの前端部及び後端部がエアーナイフ2
5,26による気体吹き付け位置を通過する時にも基板
Wとエアーナイフ25,26との隙間寸法を適当な範囲
に保つことができる。なお、基板Wの川幅方向端部付近
においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体4
3あるいは補助ローラ組立体44を配置しているが、こ
れらの補助ローラ組立体43,44の位置は下側エアー
ナイフ26に隣接する両搬送ローラ5のほぼ中間位置で
あるため、基板Wの垂れは許容範囲に収まる。
Here, the auxiliary roller assemblies 41,
Since the reference numerals 42 are arranged on both sides of the air knives 25 and 26 in the substrate transfer direction, the dripping of the substrate W can be further suppressed. In particular, the front end and the rear end of the substrate W
The gap between the substrate W and the air knives 25 and 26 can be maintained in an appropriate range even when passing through the gas blowing position by the air knives 5 and 26. In the vicinity of the edge of the substrate W in the river width direction, the auxiliary roller assembly 4 is provided only on one side in the substrate transport direction.
3 or an auxiliary roller assembly 44, but the position of these auxiliary roller assemblies 43, 44 is almost the middle of the two transport rollers 5 adjacent to the lower air knife 26, so that the substrate W Is within the allowable range.

【0044】また、ここでは、下側エアーナイフ26に
アーム41a〜44aを装着し、そのアーム41a〜4
4aに補助ローラ41b〜44bを支持させている。補
助ローラ組立体41〜44はエアーナイフ25,26の
近隣に配置する必要があることから、補助ローラ組立体
41〜44を下側エアーナイフ26に装着することは容
易であり、アーム41a〜44aの長さも小さく抑えら
れている。さらに、補助ローラ41b〜44bと下側エ
アーナイフ26とがアーム41a〜44aによって直接
結ばれているため、両者(補助ローラ41b〜44bと
下側エアーナイフ26)間の距離の寸法精度がよくな
り、それにしたがって補助ローラ41b〜44bに支持
される基板Wとエアーナイフ25,26との隙間寸法も
精度が上がっている。これにより、装置の組立や調整が
容易になり、また、基板Wからの洗浄液の除去効率が向
上している。
Here, the arms 41a to 44a are attached to the lower air knife 26, and the arms 41a to
4a supports the auxiliary rollers 41b to 44b. Since the auxiliary roller assemblies 41 to 44 need to be arranged near the air knives 25 and 26, it is easy to mount the auxiliary roller assemblies 41 to 44 on the lower air knife 26 and the arms 41a to 44a. Is also kept small. Furthermore, since the auxiliary rollers 41b to 44b and the lower air knife 26 are directly connected by the arms 41a to 44a, the dimensional accuracy of the distance between the two (the auxiliary rollers 41b to 44b and the lower air knife 26) is improved. Accordingly, the gap size between the substrate W supported by the auxiliary rollers 41b to 44b and the air knives 25 and 26 is also improved in accuracy. This facilitates the assembly and adjustment of the apparatus, and improves the efficiency of removing the cleaning liquid from the substrate W.

【0045】なお、この実施形態では、補助ローラ41
b〜44bと下側エアーナイフ26と間の寸法精度が向
上するので、アーム41a,42a等が持っている補助
ローラ41b〜44bの位置調整機能を省略することも
可能であり、その場合には装置の構造をより簡素化でき
る。
In this embodiment, the auxiliary roller 41
Since the dimensional accuracy between the lower air knife 26 and the lower air knife 26 is improved, the position adjustment function of the auxiliary rollers 41b to 44b of the arms 41a and 42a can be omitted. The structure of the device can be further simplified.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明では、気体吹付手段に隣接させて
補助支持手段を設けて気体吹付手段により気体が吹き付
けられる基板の部分の垂れを抑えているため、基板と気
体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることがで
き、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液
の除去効率を向上させることができる。
According to the present invention, the auxiliary supporting means is provided adjacent to the gas blowing means to suppress dripping of the portion of the substrate to which the gas is blown by the gas blowing means. The distance can be kept within a predetermined range, and the efficiency of removing the processing liquid from the substrate can be improved as compared with the case where there is no auxiliary support means.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態による付着液除去装置を
含む洗浄装置の縦断面図。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a cleaning device including an attached liquid removing device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】液切りチャンバーの上面図。FIG. 2 is a top view of a drain chamber.

【図3】図2のIII −III 矢視図。FIG. 3 is a view taken in the direction of arrows III-III in FIG. 2;

【図4】本発明の第2実施形態による付着液除去装置を
含む洗浄装置の縦断面図。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view of a cleaning device including an adhesion liquid removing device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】第2実施形態の液切りチャンバーの上面図。FIG. 5 is a top view of a liquid drain chamber according to a second embodiment.

【図6】図5のVI−VI矢視図。FIG. 6 is a view taken along the line VI-VI in FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 搬送ローラ(搬送手段) 20,120, 付着液除去装置 21 側壁(支持体) 25 上側エアーナイフ(気体吹付手段の
上側気体吹付部) 26 下側エアーナイフ(気体吹付手段の
下側気体吹付部) 31 補助ローラ支持ベース 32〜35 補助ローラ組立体 32d〜35d 補助ローラ 41〜44 補助ローラ組立体 41a〜44a アーム 41b〜44b 補助ローラ
5 Conveyance Rollers (Conveyance Means) 20, 120, Adhered Liquid Removal Device 21 Side Wall (Support) 25 Upper Air Knife (Upper Gas Blower of Gas Blower) 26 Lower Air Knife (Lower Gas Blower of Gas Blower) 31) Auxiliary roller support base 32 to 35 Auxiliary roller assembly 32d to 35d Auxiliary roller 41 to 44 Auxiliary roller assembly 41a to 44a Arm 41b to 44b Auxiliary roller

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】処理液が付着した基板に気体を吹き付ける
ことにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着し
た処理液を除去する付着液除去装置において、 基板を支持しつつ搬送する複数の搬送手段と、 前記搬送手段の間に基板搬送方向と交差する方向に延設
され、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段と、 前記気体吹付手段に隣接し、基板の下面を支持して基板
の変形を抑える補助支持手段と、を備えた付着液除去装
置。
An apparatus for removing a processing liquid attached to a substrate by blowing the processing liquid from the substrate by blowing a gas onto the substrate having the processing liquid attached thereto, wherein a plurality of transporting means for transporting the substrate while supporting the substrate. A gas blowing means extending between the transfer means in a direction intersecting with the substrate transfer direction and blowing a gas to the substrate; a gas blowing means adjacent to the gas blowing means, supporting a lower surface of the substrate to suppress deformation of the substrate. An adhering liquid removing device comprising: an auxiliary support unit.
【請求項2】前記補助支持手段は前記気体吹付手段の基
板搬送方向両側に配置される、請求項1に記載の付着液
除去装置。
2. The adhered liquid removing device according to claim 1, wherein said auxiliary supporting means is disposed on both sides of said gas blowing means in a substrate transport direction.
【請求項3】処理液が付着した基板に気体を吹き付ける
ことにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着し
た処理液を除去する付着液除去装置において、 基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設さ
れ、処理液が付着した基板の下面を支持しつつ搬送する
複数の搬送手段と、 少なくともある2つの前記搬送手段の基板搬送方向の間
に基板搬送方向と交差する方向に沿って延設され、処理
液が付着した基板に上下両側から気体を吹き付ける気体
吹付手段と、 前記搬送手段の両端部、及び前記気体吹付手段の両端部
を支持する支持体と、 前記気体吹付手段と前記気体吹付手段に隣接する前記搬
送手段との基板搬送方向の間に配置され、搬送される基
板の下面を部分的に支持する補助支持手段と、を備えた
付着液除去装置。
3. An adhering liquid removing apparatus for blowing off a processing liquid from a substrate by blowing a gas onto a substrate to which the processing liquid has adhered to remove the processing liquid adhering to the substrate. A plurality of transporting means extending along and supporting the lower surface of the substrate to which the processing liquid has adhered, and a direction intersecting the substrate transporting direction between at least two of the transporting means in the substrate transporting direction. Gas spraying means for extending and blowing gas from both the upper and lower sides to the substrate to which the processing liquid is adhered, both ends of the transporting means, and a support for supporting both ends of the gas spraying means, the gas blowing means, and An adhering liquid removing device, comprising: an auxiliary support unit disposed between the transfer unit adjacent to the gas blowing unit and the transfer unit in the substrate transfer direction, and partially supporting a lower surface of the transferred substrate.
【請求項4】前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する
方向に延びる搬送ローラであり、 前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上
側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気
体吹付部とを有しており、 前記補助支持手段は、前記下側気体吹付部の下部に配置
され両端部が前記支持体に支持される補助ローラ支持部
材と、基板の下面に接触して回転する補助ローラを含み
前記補助ローラ支持部材から上方に延びる補助ローラ組
立体とを有している、請求項3に記載の付着液除去装
置。
4. The transfer means is a transfer roller extending in a direction perpendicular to the substrate transfer direction, wherein the gas blowing means blows gas on an upper surface of the substrate and blows gas on a lower surface of the substrate. An auxiliary roller supporting member disposed below the lower gas blowing section and having both ends supported by the support, and a lower surface of the substrate; The adhering liquid removing device according to claim 3, further comprising: an auxiliary roller assembly including an auxiliary roller that rotates by rotating the auxiliary roller assembly.
【請求項5】前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する
方向に延びる搬送ローラであり、 前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上
側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気
体吹付部とを有しており、 前記補助支持手段は、基板の下面に接触して回転する補
助ローラと、上部が前記補助ローラを回転自在に支持し
下部が前記下側気体吹付部に装着されるアームとを有し
ている、請求項3に記載の付着液除去装置。
5. The transfer means is a transfer roller extending in a direction orthogonal to the substrate transfer direction, wherein the gas blowing means blows gas on an upper surface of the substrate and blows gas on a lower surface of the substrate. An auxiliary roller rotating in contact with the lower surface of the substrate; an upper portion rotatably supporting the auxiliary roller, and a lower portion including the lower gas blowing portion. The attached liquid removing device according to claim 3, further comprising: an arm attached to the device.
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