JPH11201862A - 測定方法及び測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、参照用光センサを用いないで、被測
定光センサの入射光量対出力特性を測定する方法と装置
とを提供することを目的とする。 【解決手段】かかる目的を達成するために、本発明の光
センサの入射光量対出力特性を測定する測定方法は、光
源（１）と光センサ（４ｂ）とを結ぶ光軸の所定位置の
光軸と直交する平面内の光強度分布を測定し、所定の位
置に可変開口絞り（３）を設け、その光強度分布に基い
てその可変開口絞りを通過する光量を変化させ、その光
量を光センサ（９）で測定することにより、光センサ
（９）の入射光量に対する出力特性を測定することを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、照明用光源とその
照明用光源からの照明光の光量を測定する光センサのキ
ャリブレーションの方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来このような測定を行うには、図５のよ
うな構成で測定を行っていた。照明用光源１からの照明
光の入射する光量に対する光センサである被測定光セン
サ９の出力特性を測定するを行うにあたり、まず被測定
光センサ９に入射する光量を測定する必要がある。

【０００３】この光量を測定するために被測定光センサ
９とは異なる参照用光センサ１３を設けて、被測定光セ
ンサに入射する光の一部をビームスプリッタ１２により
分岐させ、参照用光センサ１３に入射させる。参照用光
センサ１３の出力により、被測定光センサ９に入射する
光量の一部をモニタし、相対的に参照用光センサに入射
する光量を測定することを行っている。つまり、被測定
センサ９に入射する光量は、参照用光センサ１３の参照
用光センサ出力モニタ１４の出力値を基準としてにより
求められる。

【０００４】被測定光センサ９に入射する光量をモニタ
し、常に被測定光センサに入射する光の光量を測定する
参照用光センサを用いて光量の基準値を測定する。まず
被測定光センサ９に入射する光量をある光量にして参照
用光センサ１３の出力を測定する。その時の測定値を測
定値Ａとする。同時に被測定光センサの出力値を記憶す
る。

【０００５】次に被測定光センサ９に入射する光量変化
させ、その時の光量を参照用光センサ１３で測定すると
測定値Ｂになったとする。また同時に被測定光センサの
出力値も記憶する。このことは、１回目の光量と次の光
量との変化量がＢ／Ａ倍になったこと示す。つまり光量
の変化量は、常に参照用光センサ１３の変化によって求
まり、相対的な光量の変化量と被測定光センサ９の出力
値とをその都度記憶する。この様な動作を繰り返すこと
により、被測定光センサ９に入射する光量に対する被測
定光センサの入射光量対出力特性を測定していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のよう
な測定系での被測定光センサ９の入射光量とその時の出
力特性を測定する測定方法では、光源１からの照明光が
被測定光センサに入射する光量の相対値を参照用光セン
サ１３の出力を用いて求めており、被測定光センサの出
力値は、実際に被測定光センサに入射する光量に基づい
たものではなく、参照用光センサの出力に基づいて間接
的に求められたものであるため、いかに正確な参照光セ
ンサ１３を用いても、参照用光センサの測定誤差やその
参照用光センサの入射光量対出力特性の非直線的な特性
の影響を受けることとなる。

【０００７】図６は、従来の方法で測定した被測定光セ
ンサの入射入射光量対出力特性を示したものである。つ
まり、被測定光センサにも入射光量対出力特性があるの
と同様に参照用光センサにも入射光量対出力特性がある
ため、このような測定方法では、参照用光センサの入射
光量対出力特性の影響を無くすことは、容易ではなかっ
た。

【０００８】本発明は、以上のような点を考慮して、参
照用光センサの入射光量対出力特性の影響を除くよう
に、参照用光センサを用いないで、被測定光センサの入
射光量対出力特性を測定する方法と装置とを提供するこ
とを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明の光セ
ンサの入射光量対出力特性を測定する測定方法は、光源
（１）と光センサ（４ｂ）とを結ぶ光軸の所定位置の光
軸と直交する平面内の光強度分布を測定し、所定の位置
に可変開口絞り（３）を設け、その光強度分布に基いて
その可変開口絞りを通過する光量を変化させ、その光量
を光センサ（９）で測定することにより、光センサ
（９）の入射光量に対する出力特性を測定することを特
徴とする。本発明によると、可変開口絞りを通過する照
明光の光強度分布を測定し、その光強度分布に応じて可
変開口絞りの開口を制御することにより、可変開口絞り
を通過し被測定センサに入射する入射光量を制御する。

【００１０】したがって、光源は安定した状態で運転さ
れ、又可変開口絞りを開口を制御することによって入射
光量を変化させるので、光量変化時間を短時間で行うこ
とができる。又、本発明の入射光量対出力特性を測定す
る測定方法は、光センサ（９）とは異なる光強度分布測
定センサ（４）で前記光強度分布を測定することを特徴
とする。

【００１１】本発明によると、照明光の光強度分布を専
用の光強度分布測定センサを用いることにより測定を行
うので光強度分布測定を安定的に行うことができる。
又、本発明の入射光量対出力特性を測定する測定方法
は、光強度分布を測定する際に、所定の位置に所定の大
きさの開口絞り（４ａ）を設け、開口絞りを通過した光
量に基づいて測定することを特徴とする。

【００１２】本発明によると、照明光の光強度分布の測
定を開口の大きさを固定の開口絞りを用いており、光強
度分布を測定中に開口絞りが変化しないので、常に安定
した精度のより光強度分布の測定を行うことができる。
又、本発明の測定装置は、光源（１）により照射された
照射面に光センサ部（９）を配置し、前記光センサ部に
入射光量に対する出力特性を測定する測定装置におい
て、光源（１）と照射面とを結ぶ光軸の所定の位置に設
けた可変開口絞り（３）と所定位置の光軸と直交する平
面内の光強度分布と可変開口絞りの開口とに基づいて照
射面における光量を制御する光量制御部（７）と、光量
制御部を制御し光センサ（９）の出力と入射光量とに基
いて光センサの特性の測定を制御する制御部（１１）と
を備えたことを特徴とする。

【００１３】本発明によると、予め求められた照明光の
光強度分布に基き、可変開口絞りの開口を制御して照明
光の光センサに入射する光量を変えて入射光量に対する
出力特性を測定することができる。又、 本発明の測定
装置は、光強度分布を測定する光強度分布測定部（４、
６）を有し、光強度分布測定部で測定した光強度分布を
記憶する記憶部（１２）を含むことを特徴とする。

【００１４】本発明によると、照明光の光強度分布を測
定して、その光強度分布の測定結果を記憶し、その光強
度分布に基いて可変開口絞りの開口を制御して照明光の
光センサに入射する光量を変えて入射光量に対する出力
特性を測定する。これにより照明光の光強度分布が変化
した際にも正確に光センサに入射する入射光量に対する
光センサの出力特性を測定することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１（ａ）は、照明光の２次元の
光強度分布であるビームプロファイルの測定する装置構
成を示したものであり、図１（ｂ）は、そのビームプロ
ファイルに基づいて可変ブラインドを通過する光束の面
積を変化させて被測定光センサに入射する光量を制御
し、その被測定光センサの入射光量に対する出力特性を
測定する装置構成を示したものである。

【００１６】図１（ａ）に示すビームプロファイルの測
定する装置は、照明光の光源１と、照明光を平行光にす
るレンズ２と、平行光の通過する光束を制限する可変ブ
ラインド３と、その可変ブラインド３を通過した光束の
光強度分布であるビームプロファイルを測定する照度ム
ラセンサ部４と、照度ムラセンサ部４の照度センサ４ｂ
の信号を出力する照度センサモニタ６と、照度ムラセン
サ部４を制御し照度センサモニタ６からの出力を記憶部
１２に転送する制御部１１と、上記照明光のビームプロ
ファイルを記憶する記憶部１２とで構成されている。

【００１７】まず、水銀ランプやレーザ光の光源である
光源１からの照明光は、レンズ２によって平行光に偏向
され、可変ブラインド３を通過させる。このとき光源１
の照明光の光強度は変化ないように一定にし、可変ブラ
インド３を通過する位置での平行光の光強度分布の測定
を行う。この光強度分布は、照度ムラセンサ部４にて測
定を行う。可変ブラインド３を通過した平行光の光強度
分布は照度ムラセンサ部４の位置まで変わることなく維
持されているので、ある所定の距離離れた照度ムラセン
サ部４での測定が可能となる。

【００１８】照度ムラセンサ部４は、受光センサ部であ
る照度ムラセンサ４ｂと、ある所定の開口であるピンホ
ール５が設けられたピンホール板４ａとで構成されてい
る。ピンホール板４ａのピンホール５を通ってきた光束
の光強度を照度ムラセンサ４ｂで測定し、照度ムラモニ
タ６で出力する。照度ムラセンサ４ｂは、この照度ムラ
センサ部４の位置を図１（ａ）のＸ方向及びY方向に移
動させることにより、照明光の光強度分布を測定する。
制御部１１は、照度ムラセンサ部４を上記のようにＸ方
向及びY方向に移動させる制御を行い。又照度ムラモニ
タ６からの出力とＸ方向及びY方向の位置とを記憶部１
２で記憶し、照明光の各位置における光強度分布を形成
するデータとする。

【００１９】この測定により得られた照明光の可変ブラ
インド３を通過した平行光の可変ブラインド３の位置に
おける照明光の光強度分布つまり照明光の２次元的なビ
ームプロファイルが測定される。したがって、照明光の
２次元的なプロファイルを用いて、可変ブラインド３の
開口位置と開口面積とによって、可変ブラインドの開口
の位置に応じたある開口位置での通過する照明光の光量
を演算することができる。つまり予め求められた照明光
の可変ブラインド３の位置における２次元のビームプロ
ファイルを用いて、可変ブラインド３を駆動して開口を
変化させた際の、照明光の光量を演算して求めることが
できる。

【００２０】図２（ａ）は、上記の方法によって求めら
れたビームプロファイルの一例である。ここでは、可変
ブラインド３を通過した照明光のビームプロファイルで
ある。可変ブラインドを通過した照明光の光量は、ビー
ムプロファイルの容積で示される。図１（ｂ）に示す被
測定光センサ９の入射光量に対する出力特性を測定する
装置は、照明光の光源１と、照明光を平行光にするレン
ズ２と、平行光の通過する光束を制限する可変ブライン
ド３と、その可変ブラインド３の開口を駆動制御する駆
動部７と、可変ブラインド３の開口を通過した光束を被
測定光センサ９に集光させる集光レンズ８と、被測定光
センサ９の信号を出力する出力モニタ１０と、照明光の
ビームプロファイルを記憶している記憶部１２と、記憶
部１２に記憶されたビームプロファイルに基づいて駆動
部７を駆動して被測定光センサ９に入射する光量を制御
する制御部１１とで構成されている。

【００２１】図１（ｂ）は、図１（ａ）の光源１とレン
ズ２との部分が共通であって、結果的に図１（ａ）と同
じ条件の平行光が可変ブラインド３の部分を通過するこ
とになる。したがって図１（ａ）で測定した可変ブライ
ンド３を通過するビームプロファイルに基づき、可変ブ
ラインド３の開口を可変ブラインドを駆動させる駆動部
７で制御することにより可変ブラインドを通過する光量
を制御する。

【００２２】その通過した照明光を集光レンズ８を用い
て、被測定光センサ９に集光させることにより、可変ブ
ラインド３を通過した光量をすべて被測定光センサに入
射させる。可変ブラインド３の開口形状を変化させなが
ら被測定光センサ９に入射する光量を制御しその時の被
測定光センサの出力モニタ１０の出力を測定する。

【００２３】この時の被測定光センサ９への入射光量
は、前述の方法で求めた平行光の２次元的なビームプロ
ファイルと可変絞り３の開口位置とに基づいて求めら
れ、求められた入射光量と出力モニタ１０の出力値とを
記憶部１２に記憶する。図２（ｂ）は、ある時点での被
測定光センサに入射する入射光量の一例を示しており、
この時の光量が実線で示された容積である。ちなみに点
線は可変ブラインドを最大開口時のときのビームプロフ
ァイルである。

【００２４】図３は、可変ブラインドの開口形状を変化
させてゆき、各時点での被測定光センサに入射する入射
光量と被測定光センサの出力モニタの出力値をプロット
したものである。従来のように被測定光センサに入射す
る入射光量をモニタする参照用光センサを用いていない
ため、参照用光センサの入射光量対出力特性に左右され
ることなく可変ブラインドの制御精度によってのみ被測
定光センサの入射光量対出力特性を測定することを可能
とする。

【００２５】ここで本発明の測定方法では、矩形の開口
を持つ可変ブラインドの制御精度によって被測定光セン
サに入射する光量の精度が決まってくるが、本発明の可
変ブラインドは、仮に可変絞りの開口の一辺を１０mmと
すると約±１〜±１０μmの制御精度は可能であり、例
えば制御精度を±１０μmで制御できるとすると誤差
は、式（１）、（２）に示せる。 (10.01mm×10.01mm)÷(10.00mm×10.00mm)=1.002 （１） (9.99mm×9.99mm)÷(10.00mm×10.00mm)=0.998 （２） 又、制御精度を±１μmで制御できるとすると誤差は、
式（３）、（４）に示せる。 (10.001mm×10.001mm)÷(10.000mm×10.000mm)=1.0002 （３） (9.999mm×9.999mm)÷(10.000mm×10.000mm)=0.9998 （４） したがって可変ブラインドの制御精度が±１０μmのと
きは、±０．２％しか測定される入射光量対出力特性へ
影響を及ぼさない。又、制御精度が±１μmのときは、
±０．０２％しか測定される入射光量対出力特性へ影響
を及ぼさない。

【００２６】また、照明光のビームプロファイルを求め
る際にも光センサである照度ムラセンサを用いるが、こ
の時は、ビームプロファイルがほぼ均一であるため、照
度ムラセンサの入射光量対出力特性の微小入射光量区間
しか使用しない。また照度ムラセンサの入射光量対出力
特性は、一般に図７のような短調増加であるため、微小
入射光量区間ΔＰでは、ほぼ直線的な特性となる。

【００２７】つまり照明光のビームプロファイルを求め
る際に使用する照度ムラセンサの入射光量対出力特性の
計測に与える影響は、可変ブラインドが与える影響より
相対的に微小であり無視できる。さらに、照明光のビー
ムプロファイルを測定する際にもピンホール板のピンホ
ールを通過する光量は、ピンホールで規制され、あまり
大きく光量が変わることが無いため安定した測定を行う
ことができる。したがって、ビームプロファイルについ
ては、被測定光センサに入射する複数の入射光量に対す
る出力値を用いて近似的に求めることも可能であるし、
又照明光の照明領域内の測定点を多くすることでビーム
プロファイルの測定精度を向上させることが可能とな
る。

【００２８】照明光の光強度分布を測定することによ
り、被測定光センサに入射する総光量を可変ブラインド
を用いて制限することが可能で、被測定光センサに入射
する光量を光センサの許容値以下の入射光に調整するこ
とができる。また、被測定光センサの測定感度が、広い
レンジであっても狭いレンジであっても、照明領域を変
化させて被測定光センサへの入射光量を調整するため、
光源に負担をかけずに、微少な光量制御や、急速な光量
変化を伴う制御や、何度も入射光量を変えて測定する場
合においても容易に光量を制御することができ、入射光
量と光センサの出力との特性を正確に測定するが可能と
なる。

【００２９】照度ムラセンサ部として２次元ＣＣＤのよ
うなセンサを用いることで、アパーチャなどを別に設け
る必要もなくセンサを２次元に移動させる必要もなく容
易に測定位置での光強度分布の測定を行うことが可能と
なる。又、可変ブラインドと照度ムラセンサ部との間に
レンズを設けて、照度ムラセンサ部のピンホール板に可
変ブラインドの開口の像を転写するように共役な位置関
係とすることにより、可変ブラインドの位置で光強度分
布を正確に測定することができる。

【００３０】又、可変ブラインドの代わりとして、開口
の大きさが異なる複数の開口を持つターレット板を用い
て照明光が通過する開口部を選択するようにしても開口
の大きさが変えることができ、被測定光センサに入射す
る入射光量を容易に変えることが可能である。特に光強
度分布が一様である時には、光量を変化させる開口がそ
れぞれ固定した開口であるので、被測定光センサに入射
する入射光量を正確に設定することができる。

【００３１】図４は、本発明を半導体素子を製造する際
に使用される露光装置に用いた場合の実施例を示したも
のである。図４において、超高圧水銀ランプ３１はレジ
スト層を感光するような波長域の照明光を発生する。露
光用照明光源としては、超高圧水銀ランプ等の輝線の他
にＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ等のレーザ光、あるい
は金属蒸気レーザやＹＡＧレーザの高調波を用いてもよ
い。

【００３２】楕円ミラー３２で反射された照明光は、集
光光学系３３ａ、および所望の波長帯の光（例えばｉ
線）を選択する光学フィルター３３ｂよりなる集光フィ
ルター光学系３３を経てシャッタ３４に達する。照明光
は、楕円ミラー３２の第２焦点に集光された後インプッ
トレンズ３７に向かう。第２焦点の近傍にはシャッタ３
４が配置され、駆動モータ３５により必要に応じて照明
光を遮断する。

【００３３】インプットレンズ３７によりほぼ平行に変
換された照明光はオプチカルインテグレータとしてのフ
ライアイレンズ３８に入射する。このフライアイレンズ
３８の後（レチクルＲ）側焦点面には、照明光のほぼ均
一な２次光源像が形成される。この２次光源像が形成さ
れている位置（照明光学系中のレチクルパターンのフー
リエ変換面、又はその共役面もしくは近傍の面内）に回
転板４１が設けられている。回転板４１は駆動モータ３
９により回転自在である。回転板４１には種々の形状の
絞りが設けられており、レチクルパターンに応じてフラ
イアイレンズ３８の２次光源の形状を変化させることが
可能となっている。

【００３４】回転板４１には、各種の絞りが設けられて
いる。絞りはσ値（照明系のＮＡと投影光学系のＮＡと
の比）の小さな照明を行う絞り、絞りは輪体照明や変形
照明を行うための絞りである。回転板４１を発した照明
光はリレーレンズ４３、４６、可変ブラインド４４及び
メインコンデンサレンズ４８を通過してミラー４７に至
り、ここでほぼ垂直な下方に反射された後、レチクルＲ
のパターン領域ＰＡをほぼ均一な照度で照明する。可変
ブラインド４４の面は、レチクルＲと共役な位置にある
ので、可変ブラインド４４の開口部の大きさ、形状を換
えることによりレチクルＲの照度視野を任意に設定でき
る。可変ブラインド４４の開口部の大きさ形状の変更
は、可変ブラインド４４を構成する複数枚の可変ブレー
ドをモータにより駆動させて開閉させて行う。

【００３５】本露光装置では、照明領域の設定を行うた
め、可変ブラインド４４の位置を１〜１０μmで制御す
ることにより、ウエハＷ面とレチクルＲ面との縮小率が
１／５〜１／４であるので、ウエハ面上の照明領域で
は、０．２〜２．５μmとなり、より正確な領域設定が
可能である。レチクルＲのパターン領域ＰＡを通過した
照明光は、例えば両側テレセントリックな投影光学系Ｐ
Ｌに入射し、投影光学系ＰＬはレチクルＲの回路パター
ン（パターン領域内のパターン）の投影像を、表面にレ
ジスト層が形成されその表面にレジスト層が形成されそ
の表面が最良像面とほぼ一致する様に保持されたウエハ
Ｗ上の１つのショット領域に重ね合わせて投影する。

【００３６】ウエハＷは、ウエハホルダに真空吸着さ
れ、このウエハホルダを介してウエハステージＷＳ上の
保持されている。ウエハステージＷＳは投影光学系ＰＬ
の最良面に対して任意方向に傾斜可能で、且つ光軸方向
に微動可能であると共に、２次元方向に移動可能に構成
されている。ウエハステージＷＳの端部にはレーザ干渉
計（不図示）のレーザビームを反射する移動鏡が固定さ
れており、ウエハステージＷＳのＸＹ平面内で２次元的
な位置はレーザ干渉計により例えば０．０１μｍ程度の
分解能で常時検出される。

【００３７】又、ウエハステージＷＳ上には照射量モニ
タとしての光センサ（照射量センサ４９と呼ぶ）の受光
面がウエハＷの表面とほぼ一致する高さに設けられてい
る。照射量センサ４９は例えば投影光学系ＰＬのイメー
ジフィールド、又はレチクルパターンの投影領域とほぼ
同じ面積の受光面で構成されている。照射量センサ４９
からの信号は、コントローラに送られる。この照射量セ
ンサ４９は、投影光学系ＰＬに入射するエネルギー量を
測定するのに使用される。当然のことながら照射量セン
サ４９は、レチクルパターンとほぼ共役な位置にあり、
同様に可変ブラインド４４ともほぼ共役な位置関係にあ
る。ウエハステージＷＳ上には、照度分布を測定する別
の光センサ（照度ムラセンサ５０と呼ぶ）が前に述べた
照射量センサと同様にウエハＷの表面とほぼ一致する高
さに設けられている。

【００３８】この照度ムラセンサ５０は、ウエハＷの表
面と一致する高さにピンホール５０ｃを設けた遮光体５
０ａがあり、その下にそのピンホールを通った光を検出
する照度ムラセンサの受光部５０ｂがある。つまり、ピ
ンホールと可変ブラインド４４の開口が共役な位置に相
当し、その遮光体５０ａを通った光を受光部５０ｂで光
電変換し電気信号に変換される。

【００３９】ここで遮光体５０ａに設けられたピンホー
ル５０ｃは、前に述べた投影光学系のイメージフィール
ドよりも充分小さく約１ｍｍΦの大きさに設定されてい
る。したがって、ウエハ面上での照明領域における照度
分布を測定するには、ウエハステージＷＳをＸＹ方向に
移動させることにより、照度ムラセンサ５０を照明領域
内で移動させることができ、光源からの照明光の光強度
分布を測定することにより、照明光の２次元的なプロフ
ァイルが測定できる。

【００４０】この実施例では、ピンホール５０ｃを設け
た照度ムラセンサ５０を照明光の照明領域内で移動させ
ることにより照明光の光強度分布を測定するものを示し
たが、この他にＣＣＤなどのマルチアレイの光電面を持
つ光電センサを用いることにより、照明光全体の光強度
分布を一度に測定することも可能である。この露光装置
で、例えば照射量センサ４９の入射光量対出力特性の測
定を行うとすると、前に述べた照度ムラセンサ５０によ
り測定された照明光の２次元的なプロファイルと可変ブ
ラインド４４を用いて制御された照明光の照明領域との
関係を用いて、全体の光量に対する可変ブラインドの開
口部を通過した照明領域の光量を演算して求め、可変ブ
ラインド４４の開口率を制御することにより、照射量セ
ンサ４９に入射する光量を０〜最大光量まで制御する。
また、この時の照射量センサの出力値と演算された光量
とを記録することにより、照射量センサの入射光量対出
力特性を測定することができる。

【００４１】

【発明の効果】以上のように本発明の測定方法によれ
ば、従来の測定方法で問題となっていて参照用光センサ
の影響を受けずに、被測定光センサの入射光量対出力特
性を測定することが可能となる。又、照明光の光強度分
布の測定回数を増やすことにより光強度分布の測定値の
平均化効果を得ることも可能で、さらに被測定光センサ
に入射する光量を多数回に分けて行うことで、入射光量
対出力特性を正確に測定することが可能となる。又、被
測定センサへの入射光量と出力値との関係がある特定の
光量で校正されている被測定光センサで、このような方
法で測定された被測定光センサを用いると、被測定光セ
ンサの出力値と被測定光センサに入射する入射光量の関
係を記憶することにより、逆に被測定光センサの出力値
から被測定光センサに入射した光量を正確に求めること
ができる。

【００４２】同様に被測定光センサの出力値と入射光量
とを対応させる光量マップを記憶しておき、光量マップ
を逆に用いることにより被測定光センサの出力値から被
測定光センサに入射する入射光量を即座に求めることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を簡単な構成で示した実施例で、（ａ）
は照度分布の測定、（ｂ）は入射光量対出力特性の測定
を示したものである。

【図２】（ａ）、（ｂ）は、本発明で得られたビームプ
ロファイルである。

【図３】本発明で得られた入射光量対出力特性を示した
ものである。

【図４】本発明による測定方法を露光装置に適用した実
施例である。

【図５】従来の測定装置である。

【図６】従来の測定方法で得られた入射光量対出力特性
を示したものである。

【図７】照度ムラセンサの入射光量対出力特性を示した
ものである。

【符号の説明】

１ …………光源 ２ …………レンズ ３ …………可変ブラインド ４ …………照度ムラセンサ部 ４ａ………ピンホール板 ４ｂ………照度ムラセンサ ５…………ピンホール ６…………照度ムラモニタ ７…………駆動部 ８…………集光レンズ ９…………被測定光センサ １０………出力モニタ １１………制御部 １２………記憶部

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光センサの入射光量に対する出力特性を
   測定する方法において、光源と前記光センサとを結ぶ光
   軸の所定位置の前記光軸と直交する平面内の光強度分布
   を測定し、前記所定位置に可変開口絞りを設け、前記光
   強度分布に基いて前記可変開口絞りを通過する光量を変
   化させ、該光量を前記光センサで測定することにより、
   前記光センサの入射光量に対する出力特性を測定するこ
   とを特徴とする測定方法。
2. 【請求項２】 前記光センサとは異なる光強度分布測定
   センサを用いて前記光強度分布を測定することを特徴と
   する請求項１記載の測定方法。
3. 【請求項３】 前記光強度分布を測定する際に、前記所
   定の位置に所定の大きさの開口絞りを設け、該開口絞り
   を通過した光量に基づいて測定することを特徴とする請
   求項１又は２記載の測定方法。
4. 【請求項４】 光源により照射された照射面に光センサ
   部を配置し、前記光センサ部に入射光量に対する出力特
   性を測定する測定装置において、前記光源と前記照射面
   とを結ぶ光軸の所定の位置に設けた可変開口絞りと前記
   所定位置の前記光軸と直交する平面内の光強度分布と前
   記可変開口絞りの開口とに基づいて前記照射面における
   光量を制御する光量制御部と、前記光量制御部を制御
   し、前記光センサの出力と前記入射光量とに基いて該光
   センサの特性の測定を制御する制御部とを備えたことを
   特徴とする測定装置。
5. 【請求項５】 前記光強度分布を測定する光強度分布測
   定部を有し、前記光強度分布測定部で測定した前記光強
   度分布を記憶する記憶部を含むことを特徴とする請求項
   ４記載の測定装置。