JPH1120105A - Release film having slight contaminating property - Google Patents

Release film having slight contaminating property

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JPH1120105A
JPH1120105A JP17562797A JP17562797A JPH1120105A JP H1120105 A JPH1120105 A JP H1120105A JP 17562797 A JP17562797 A JP 17562797A JP 17562797 A JP17562797 A JP 17562797A JP H1120105 A JPH1120105 A JP H1120105A
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release film
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release film wherein impurities in a release layer are few and a shift of the impurities in a polyester film into an adhesive tape is suppressed and which is useful for a protective film of an adhesive used in a wafer grinding process or a dicing process on the occasion of manufacture of a semiconductor, or others. SOLUTION: This release film is constituted in such a manner that the resin obtained by a method wherein modified silicone resin containing dimethyl polysiloxane having a phenyl group, as a constituent, is made to react in the rate of 0-30 mol.% on organic resin constituted of at least one kind of resin selected from alkyd resin and acrylic resin and of melamine resin is provided as a release layer at least on one surface of a polyester film. In this case, a wafer contamination value of an adhesive tape for a semiconductor manufacturing process, wherein the release film is used as a protective film, is made 200 pcs. or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリエステルフィ
ルムをベースフィルムとした離型フィルムに関し、さら
に詳しくは、半導体製造工程用粘着テープの保護フィル
ムとして用いた際、優れた剥離挙動を有し、離型層中の
不純物が少なく、ポリエステルフィルム中の不純物が粘
着テープへ移行するのを抑制した、半導体製造の際のウ
エハー研磨工程又はダイシング工程で使用する粘着剤の
保護フィルムなどに有用な離型フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film using a polyester film as a base film, and more particularly to a release film having excellent peeling behavior when used as a protective film for an adhesive tape for a semiconductor manufacturing process. Release film useful for a protective film of an adhesive used in a wafer polishing process or a dicing process in the production of semiconductors, in which impurities in a mold layer are small and impurities in a polyester film are prevented from migrating to an adhesive tape. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造の際のウエハー裏面の研磨工
程(バックグラインド工程)と、完成したウエハーから
ICチップを切断する工程(ダイシング工程)では、種
々の粘着剤を積層した粘着テープがウエハーの固定用に
使用される。バックグラインド工程において表面に回路
形成されたウエハーは粘着テープに固定された状態で裏
面を研磨され、UV照射や加熱などにより粘着剤の粘着
力が低減された後、次のダイシング工程へ移動する。ダ
イシング工程では粘着テープに固定されたウエハーが個
々のICチップ単位にカッティングされ、バックグライ
ンド工程と同様にUV照射や加熱などにより粘着剤の粘
着力が低減された後、一つづつ取り出される。取り出さ
れたICチップは次のボンディング工程、モールディン
グ工程に移送される。
2. Description of the Related Art In a process of polishing a back surface of a wafer (a back grinding process) and a process of cutting an IC chip from a completed wafer (a dicing process) at the time of manufacturing a semiconductor, an adhesive tape on which various adhesives are laminated is used. Used for fixing. In the back grinding process, the wafer with the circuit formed on the front surface is polished on the back surface while being fixed to the adhesive tape, and the adhesive force of the adhesive is reduced by UV irradiation, heating, or the like, and then moves to the next dicing process. In the dicing process, the wafers fixed on the adhesive tape are cut into individual IC chips, and the adhesive force of the adhesive is reduced by UV irradiation or heating as in the back grinding process, and then the wafers are taken out one by one. The extracted IC chip is transferred to the next bonding step and molding step.

【0003】通常、粘着テープは粘着剤層の表面を離型
フィルムに保護された形態で保管され、前述のバックグ
ラインド工程やダイシング工程で離型フィルムを剥離除
去してウエハーと貼り合わされて使用される。バックグ
ラインド工程においては直接粘着剤が回路表面と接触す
るため、粘着テープを剥離した後に、反応残渣などの不
純物がわずかでも存在すると回路通電不良の原因とな
る。近年、半導体チップのサイズが極めて小さく薄くな
っているため、ウエハー表面に不純物がわずかでも存在
すると、モールディング工程においてその部分を起点と
した接着不良によるひび割れなどが発生し、製品の歩留
りを低下するという問題が生じている。
Usually, the pressure-sensitive adhesive tape is stored in a form in which the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is protected by a release film, and is used after being peeled off and removed from the release film in the above-mentioned back grinding step and dicing step. You. In the back grinding process, since the pressure-sensitive adhesive directly contacts the circuit surface, even if there is even a small amount of impurities such as reaction residues after the pressure-sensitive adhesive tape is peeled off, circuit conduction failure may occur. In recent years, since the size of semiconductor chips has become extremely small and thin, even if there is even a small amount of impurities on the wafer surface, cracks and the like will occur due to poor adhesion starting from that part in the molding process, reducing the product yield. There is a problem.

【0004】上記粘着テープの保護フィルムには、例え
ばポリエステルフィルムの表面にシランカップリング剤
を架橋させたプライマー層を設け、その上にシリコーン
離型層を設けた離型フィルム(特開平1−5838号公
報等)が従来から用いられている。ところが、これらの
離型フィルムはポリエステルフィルム中の不純物(例え
ばオリゴマーや重合触媒として用いた金属化合物)がプ
ライマー層及びシリコーン離型層中を移行し離型層表面
に集積しやすく、この離型層表面に集積した不純物が、
粘着テープの粘着剤層表面に転写され、さらに上記半導
体製造の際のバックグラインド工程やダイシング工程で
ウエハーに再転写され、ウエハー表面の回路に種々の不
具合を生じたり、モールディング工程でクラックが発生
したりしてICチップの歩留りが低下する問題がある。
The protective film of the pressure-sensitive adhesive tape is, for example, provided on a polyester film surface with a primer layer obtained by crosslinking a silane coupling agent, and a silicone release layer provided thereon (Japanese Patent Laid-Open No. 1-5838). No. 1) has been conventionally used. However, in these release films, impurities (for example, oligomers and metal compounds used as polymerization catalysts) in the polyester film easily migrate through the primer layer and the silicone release layer and accumulate on the surface of the release layer. Impurities accumulated on the surface
Transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape, and retransferred to the wafer in the back grinding process and dicing process in the above semiconductor production, causing various problems on the circuit on the wafer surface and cracking in the molding process As a result, the yield of IC chips is reduced.

【0005】また、シリコーン樹脂中の不純物(未硬化
のシリコーンモノマーやオリゴマー等)が一定量以上存
在したり、シリコーン樹脂離型層の耐溶剤性が低いと粘
着テープ製造における粘着剤塗工時に粘着剤の溶剤によ
り離型層を形成する成分が溶けだし、溶剤乾燥後に粘着
剤表面に析出する問題がある。
In addition, when impurities (such as uncured silicone monomers and oligomers) in the silicone resin are present in a certain amount or more, or when the solvent resistance of the silicone resin release layer is low, the adhesive during the adhesive application in the production of an adhesive tape is poor. There is a problem that a component of the release layer is dissolved by the solvent of the agent and is deposited on the surface of the pressure-sensitive adhesive after the solvent is dried.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る従来技術の欠点を解消し、離型層中の不純物が少なく
かつポリエステルフィルム中の不純物が粘着テープ表面
へ移行するのを抑制した、半導体製造の際のバックグラ
インド工程やダイシング工程で使用する粘着テープの粘
着剤表面の保護フィルムに有用な離型フィルムを提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art, to reduce the amount of impurities in the release layer and to prevent the impurities in the polyester film from migrating to the surface of the pressure-sensitive adhesive tape. An object of the present invention is to provide a release film useful as a protective film on the surface of the pressure-sensitive adhesive of a pressure-sensitive adhesive tape used in a back grinding step or a dicing step in semiconductor production.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリエステル
フィルムの少なくとも片面に、アルキッド樹脂及びアク
リル樹脂から選ばれた少なくとも1種の樹脂並びにメラ
ミン樹脂からなる有機樹脂に対し、フェニル基を有する
ジメチルポリシロキサンを成分として含む変性シリコー
ン樹脂を0〜30mol%の割合で反応させて得られる
樹脂を離型層として設けた離型フィルムであって、該離
型フィルムを保護フィルムとして用いた半導体製造工程
用粘着テープのウエハー汚染値が200個以下である離
型フィルムである。以下、本発明を詳細に説明する。
According to the present invention, there is provided a dimethylpolysiloxane having a phenyl group on at least one surface of a polyester film with respect to at least one resin selected from an alkyd resin and an acrylic resin and an organic resin comprising a melamine resin. A release film provided as a release layer with a resin obtained by reacting a modified silicone resin containing siloxane as a component at a rate of 0 to 30 mol%, for a semiconductor manufacturing process using the release film as a protective film. A release film having a wafer contamination value of the adhesive tape of 200 or less. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0008】[ポリエステルフィルム]本発明において
は、フィルム基材としてポリエステルフィルムを用いる
が、透明性が要求される用途には透明性の良好なポリエ
ステルフィルムを用いることが好ましく、透明性の良好
な二軸延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。ま
た、遮光性が要求される用途には無機顔料を配合したポ
リエステルフィルムを用いることが好ましく、Ti
2、SiO2等の如き顔料を配合した二軸延伸ポリエス
テルフィルムが特に好ましい。
[Polyester Film] In the present invention, a polyester film is used as a film base material. For applications requiring transparency, a polyester film having good transparency is preferably used. Axial stretched polyester films are particularly preferred. For applications requiring light-shielding properties, it is preferable to use a polyester film containing an inorganic pigment.
A biaxially stretched polyester film containing a pigment such as O 2 or SiO 2 is particularly preferred.

【0009】かかるポリエステルフィルムを構成するポ
リエステルは、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性
誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから
合成される線状飽和ポリエステルである。
The polyester constituting such a polyester film is a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof.

【0010】かかるポリエステルとして、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテ
トラメチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘ
キシレンメチレンテレフタレート)、ポリエチレン−
2,6−ナフタレンジカルボキシレート等を、特にポリ
エチレンテレフタレートを好ましい例として挙げること
ができる。これらのポリエステルは単独重合体であるこ
とが好ましいが、共重合成分を少量(例えば5mol%
以下)共重合したポリエステルであってもよい。また、
これらのポリエステルに小割合(例えば10重量%以
下)で他の樹脂をブレンドしたものであってもよい。
As such polyesters, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polytetramethylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylene methylene terephthalate), polyethylene
Preferred examples include 2,6-naphthalenedicarboxylate, and particularly polyethylene terephthalate. These polyesters are preferably homopolymers, but a small amount of copolymer components (for example, 5 mol%
The following) may be a copolymerized polyester. Also,
These resins may be blended with other resins in a small proportion (for example, 10% by weight or less).

【0011】本発明を構成するポリエステルは、例えば
ポリエチレンテレフタレートの場合、テレフタル酸とエ
チレングリコールとを混合し、撹拌しながら加熱してエ
ステル化反応を行なわせ、得られたエステル化反応物に
重縮合反応触媒を加え、減圧状態で撹拌しながら加熱し
て重縮合反応を行なわせることにより得ることができ
る。あるいは、例えばジメチルフタレートとエチレング
リコールとを混合し、エステル交換反応触媒を加えて、
撹拌しながら加熱してエステル交換反応を行なわせ、得
られたエステル交換反応物に重縮合触媒を加え、減圧状
態で撹拌しながら加熱して重縮合反応を行なわせること
により得ることができる。
In the case where the polyester constituting the present invention is, for example, polyethylene terephthalate, terephthalic acid and ethylene glycol are mixed, and the mixture is heated with stirring to perform an esterification reaction. It can be obtained by adding a reaction catalyst and heating while stirring under reduced pressure to cause a polycondensation reaction. Alternatively, for example, dimethyl phthalate and ethylene glycol are mixed, and a transesterification catalyst is added,
It can be obtained by performing a transesterification reaction by heating while stirring, adding a polycondensation catalyst to the obtained transesterification product, and heating and performing a polycondensation reaction while stirring under reduced pressure.

【0012】上記重縮合反応触媒としては、任意の公知
の化合物を用いることができるが、ポリエステルフィル
ム中の金属元素及びオリゴマー量を低減できる点でゲル
マニウム化合物が好ましく、例えば酸化ゲルマニウムを
挙げることができる。
As the polycondensation reaction catalyst, any known compound can be used, but a germanium compound is preferable in that the amounts of metal elements and oligomers in the polyester film can be reduced, and examples thereof include germanium oxide. .

【0013】かかる酸化ゲルマニウムとしては、 (イ)無定形酸化ゲルマニウム (ロ)微細な結晶性酸化ゲルマニウム (ハ)酸化ゲルマニウムを水に溶解した溶液 等を用いることができる。As such germanium oxide, (a) amorphous germanium oxide (b) fine crystalline germanium oxide (c) a solution of germanium oxide dissolved in water can be used.

【0014】重縮合反応触媒に用いるゲルマニウム化合
物の量は、ポリエステル中に残存するゲルマニウムの金
属元素として10〜200ppmであることが好まし
く、特に20〜150ppmであることが好ましい。ゲ
ルマニウム化合物の量がこの範囲であると、離型フィル
ムの離型層表面に析出するオリゴマーを抑制できるため
好ましい。
The amount of the germanium compound used for the polycondensation reaction catalyst is preferably from 10 to 200 ppm, more preferably from 20 to 150 ppm, as a metal element of germanium remaining in the polyester. When the amount of the germanium compound is within this range, it is preferable because oligomers precipitated on the surface of the release layer of the release film can be suppressed.

【0015】なお、エステル交換反応を行なって得られ
るポリエステルの場合は、エステル交換反応触媒として
チタン化合物を用いることが、離型フィルムの離型層表
面に析出するオリゴマーを抑制できるため好ましい。こ
のチタン化合物としては、例えば酢酸チタン、安息香酸
チタン、チタンテトラブトキシド、チタンテトライソプ
ロポキシド、トリメリット酸チタンなどを挙げることが
できる。
In the case of a polyester obtained by performing a transesterification reaction, it is preferable to use a titanium compound as a transesterification catalyst because oligomers that precipitate on the surface of the release layer of the release film can be suppressed. Examples of the titanium compound include titanium acetate, titanium benzoate, titanium tetrabutoxide, titanium tetraisopropoxide, and titanium trimellitate.

【0016】上記ポリエステルには、その他の改良剤を
配合することができる。例えば帯電防止剤としてドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の如きスルホン酸塩
基を有する化合物などを含有させることができる。これ
らの改良剤を含まないポリエステルも用いることができ
る。
The above-mentioned polyester may contain other improving agents. For example, a compound having a sulfonate group such as sodium dodecylbenzene sulfonate can be contained as an antistatic agent. Polyesters without these modifiers can also be used.

【0017】上記ポリエステルには、フィルムの滑り性
を良好なものとするため、滑剤として平均粒径が0.0
1〜20μm程度の有機や無機の微粒子を、例えば0.
005〜20重量%の配合割合で含有させることができ
る。かかる微粒子の具体例としては、酸化ケイ素などの
無機微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、架橋シリコ
ーン樹脂微粒子、架橋アクリル樹脂微粒子などの有機微
粒子を挙げることができる。これらのうち、樹脂微粒子
などの有機微粒子が特に好ましい。
The above-mentioned polyester has an average particle diameter of 0.0 as a lubricant in order to improve the slipperiness of the film.
Organic or inorganic fine particles having a size of about 1 to
It can be contained at a blending ratio of 005 to 20% by weight. Specific examples of such fine particles include organic fine particles such as inorganic fine particles such as silicon oxide, crosslinked polystyrene resin fine particles, crosslinked silicone resin fine particles, and crosslinked acrylic resin fine particles. Among these, organic fine particles such as resin fine particles are particularly preferable.

【0018】本発明におけるポリエステルフィルムは、
従来から知られている方法で製造することができる。例
えば、二軸延伸ポリエステルフィルムは、ポリエステル
を乾燥後、押出機にて溶融し、ダイ(例えばT−ダイ、
I−ダイ等)から回転冷却ドラム上に押出し、急冷して
未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを二軸方
向に延伸し、必要に応じて熱固定することにより製造す
ることができる。フィルムの厚みは特に制限するもので
はないが、5〜250μmが好ましい。
The polyester film in the present invention comprises:
It can be manufactured by a conventionally known method. For example, a biaxially stretched polyester film is obtained by drying a polyester, melting it with an extruder, and forming a die (for example, a T-die,
(I-die or the like), extruded onto a rotary cooling drum, quenched to obtain an unstretched film, and then stretched in the biaxial direction, and heat-fixed if necessary. The thickness of the film is not particularly limited, but is preferably 5 to 250 μm.

【0019】[プライマー層]本発明においては、ポリ
エステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステル中
の不純物が離型層表面に移行するのを抑制するため、下
記式(I)で示される化合物を架橋させた0.02〜2
μmの肉厚のプライマー層を設けてもよい。
[Primer layer] In the present invention, a compound represented by the following formula (I) is crosslinked on at least one surface of the polyester film in order to suppress migration of impurities in the polyester to the surface of the release layer. 0.02-2
A primer layer having a thickness of μm may be provided.

【0020】[0020]

【化2】Y−Si−X3 ……(I) [式(I)中、Xはアルコキシ基、Yはエポキシ基、ア
ミノ基、ビニル基、メタクリル基、メルカプト基又はア
ルコキシ基を有する反応性有機官能基を表わす。]
Embedded image in Y-Si-X 3 ...... ( I) [ Formula (I), X is an alkoxy group, Y epoxy group, an amino group, a vinyl group, reactive with a methacryl group, a mercapto group or an alkoxy group Represents an organic functional group. ]

【0021】上記式(I)で示される化合物において、
Xはアルコキシ基であるが、メトキシ基又はエトキシ基
であることが好ましく、特にメトキシ基であることがプ
ライマー層の架橋高分子化速度が速いため好ましい。
In the compound represented by the above formula (I),
X is an alkoxy group, but is preferably a methoxy group or an ethoxy group, and particularly preferably a methoxy group because the rate of cross-linking and polymerizing the primer layer is high.

【0022】また、上記式(I)で示される化合物にお
いて、Yはエポキシ基、アミノ基を有する反応性有機官
能基であることが好ましく、特にYがエポキシ基を有す
る反応性有機官能基であることがプライマー層とポリエ
ステルフィルムとの接着性が良好となりかつポリエステ
ル中の不純物が離型層表面に移行するのを抑制する効果
が良好であるため好ましい。かかる反応性有機官能基と
しては、例えば3−グリシドキシプロピル基、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基などを挙
げることができる。
In the compound represented by the formula (I), Y is preferably a reactive organic functional group having an epoxy group or an amino group, and particularly Y is a reactive organic functional group having an epoxy group. This is preferable because the adhesion between the primer layer and the polyester film becomes good and the effect of suppressing the migration of impurities in the polyester to the surface of the release layer is good. Examples of such a reactive organic functional group include a 3-glycidoxypropyl group and a 2-glycidoxypropyl group.
And a (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group.

【0023】上記式(I)で示される化合物としては、
例えば下記式(II)、下記式(III)で示される化合物
が特に好ましい。
The compound represented by the above formula (I) includes
For example, compounds represented by the following formulas (II) and (III) are particularly preferred.

【0024】[0024]

【化3】 Embedded image

【0025】[0025]

【化4】 Embedded image

【0026】かかるプライマー層は、例えば前述の式
(I)で示される化合物を水に溶解又は分散させた後、
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布し、例え
ば120〜210℃の温度で10〜60秒加熱して水を
乾燥除去させると共に架橋硬化させることにより塗設す
ることができる。
Such a primer layer is formed, for example, by dissolving or dispersing the compound represented by the above formula (I) in water,
The coating can be performed by coating on at least one surface of the polyester film, heating at a temperature of, for example, 120 to 210 ° C. for 10 to 60 seconds to dry and remove water, and crosslinking and curing.

【0027】また、プライマー層の肉厚は、0.02〜
2μmである。この肉厚が0.02μm未満であると、
ポリエステル中の不純物が離型層表面から粘着テープに
移行するのを抑制する効果が不足し、2μmを超えると
プライマー層を積層したポリエステルフィルムの耐ブロ
ッキング性が不良となる。
The primer layer has a thickness of 0.02 to 0.02.
2 μm. If the thickness is less than 0.02 μm,
The effect of suppressing migration of impurities in the polyester from the surface of the release layer to the adhesive tape is insufficient, and if it exceeds 2 μm, the blocking resistance of the polyester film on which the primer layer is laminated becomes poor.

【0028】[離型層]本発明においては、ポリエステ
ルフィルムの少なくとも片面に、アルキッド樹脂及びア
クリル樹脂から選ばれた少なくとも1種の樹脂並びにメ
ラミン樹脂からなる有機樹脂に対し、フェニル基を有す
るジメチルポリシロキサンを成分として含む変性シリコ
ーン樹脂を0〜30mol%の割合で反応させて得られ
る樹脂を離型層として設ける。
[Release Layer] In the present invention, on at least one surface of the polyester film, at least one resin selected from an alkyd resin and an acrylic resin and an organic resin composed of a melamine resin are used. A resin obtained by reacting a modified silicone resin containing siloxane as a component at a rate of 0 to 30 mol% is provided as a release layer.

【0029】この有機樹脂とは、アルキッド樹脂及びア
クリル樹脂から選ばれた少なくとも1種の樹脂並びにメ
ラミン樹脂からなるものであり、その配合割合はアルキ
ッド樹脂及びアクリル樹脂の合計量100molに対
し、メラミン樹脂5〜200molであることが好まし
い。
The organic resin comprises at least one resin selected from an alkyd resin and an acrylic resin and a melamine resin. The compounding ratio of the organic resin is 100 mol based on the total amount of the alkyd resin and the acrylic resin. It is preferably from 5 to 200 mol.

【0030】本発明における樹脂組成物のうち、アルキ
ッド樹脂及び/又はアクリル樹脂は、塗工前にシリコー
ン樹脂を配合させてもよいし、あらかじめシリコーン樹
脂との共重合体を形成させておいてもよい。メラミン樹
脂は、主としてアルキッド樹脂と架橋反応して離型層を
硬化させるよう作用する。
In the resin composition of the present invention, the alkyd resin and / or the acrylic resin may be mixed with a silicone resin before coating or may be formed in advance with a copolymer with the silicone resin. Good. The melamine resin mainly acts to crosslink with the alkyd resin to cure the release layer.

【0031】上記のアルキッド樹脂とは、酸成分として
無水フタル酸等の多塩基酸と、グリコール成分としてグ
リセリンやエチレングリコール等の多価アルコールとの
縮合物を骨格とし、これを乾性油等の脂肪酸で変性した
樹脂である。例えば、ヒマシ油変性アルキッド樹脂や大
豆油変性アルキッド樹脂、アマニ油変性アルキッド樹脂
などが用いられるが、任意の組み合わせにより、各種脂
肪酸変性のアルキッド樹脂を用いることができる。本発
明における樹脂組成物では、例えばアルキッド樹脂の製
造中又は製造後にシリコーン樹脂を配合し、アルキッド
樹脂にシリコーン樹脂をグラフト共重合させることがで
きる。
The above-mentioned alkyd resin has a skeleton of a condensate of a polybasic acid such as phthalic anhydride as an acid component and a polyhydric alcohol such as glycerin or ethylene glycol as a glycol component. It is a resin modified with. For example, castor oil-modified alkyd resin, soybean oil-modified alkyd resin, linseed oil-modified alkyd resin, and the like are used, and alkyd resins modified with various fatty acids can be used in any combination. In the resin composition of the present invention, for example, a silicone resin can be blended during or after the production of the alkyd resin, and the alkyd resin can be graft-copolymerized with the silicone resin.

【0032】アクリル樹脂は、離型層を強靭なものとす
るため、また離型層表面の濡れ性を良好なものとするた
め配合される。このアクリル樹脂としては、例えばポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチ
ル等を用いることができる。アルキッド樹脂とアクリル
樹脂の混合比率は、その混合比率により様々な物性が得
られるため目的に応じて設定することができ、またアク
リル樹脂又はアルキッド樹脂を単体で使用することがで
きる。
The acrylic resin is blended in order to make the release layer tough and to improve the wettability of the surface of the release layer. As the acrylic resin, for example, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, or the like can be used. The mixing ratio of the alkyd resin and the acrylic resin can be set according to the purpose because various physical properties can be obtained by the mixing ratio, and the acrylic resin or the alkyd resin can be used alone.

【0033】メラミン樹脂としては、例えばメチル化メ
ラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、メチル化尿素メラ
ミン樹脂等を用いることができる。アルキッド樹脂及び
アクリル樹脂の合計量100molに対し、メラミン樹
脂を5〜200molの比率で用いることが好ましい。
また、この架橋反応の硬化触媒として、例えばパラトル
エンスルホン酸ナトリウム等の酸性触媒を使用できる。
As the melamine resin, for example, methylated melamine resin, butylated melamine resin, methylated urea melamine resin and the like can be used. It is preferable to use the melamine resin in a ratio of 5 to 200 mol based on 100 mol of the total amount of the alkyd resin and the acrylic resin.
An acidic catalyst such as sodium paratoluenesulfonate can be used as a curing catalyst for this crosslinking reaction.

【0034】本発明で用いる変性シリコーン樹脂とは、
下記式(IV)で示されるフェニル基を有するジメチルポ
リシロキサンを成分として含む変性シリコーン樹脂であ
る。
The modified silicone resin used in the present invention is:
The modified silicone resin contains, as a component, dimethylpolysiloxane having a phenyl group represented by the following formula (IV).

【0035】[0035]

【化5】 Embedded image

【0036】[式(IV)中、Rはメチル基又はフェニル
基、m,nはそれぞれ1以上の数であり、m+n=50
〜2000である。] なお、上記式(IV)における
[In the formula (IV), R is a methyl group or a phenyl group, m and n are each 1 or more, and m + n = 50.
~ 2000. In the above formula (IV),

【0037】[0037]

【化6】 Embedded image

【0038】は、ブロック結合を意味しているのではな
く、これらは単にそれぞれの単位の和がm,nであるこ
とを示しているに過ぎないと解すべきである。従って、
上記式(IV)における各単位はランダム結合していても
よく、またブロック結合していてもよい。
It should be understood that does not mean block connection, but merely indicates that the sum of the respective units is m, n. Therefore,
Each unit in the above formula (IV) may be randomly bonded or may be block-bonded.

【0039】本発明において、上記式(IV)で示される
フェニル基を有するポリジメチルシロキサンを成分とし
て含む変性シリコーン樹脂は、アルキッド樹脂又はアク
リル樹脂から選ばれた少なくとも1種の樹脂、及びメラ
ミン樹脂からなる有機樹脂に対して0〜30mol%、
好ましくは5〜30mol%、さらに好ましくは10〜
20mol%の割合で反応させて得られる樹脂を用いて
離型層を形成させるが、この割合が30mol%より多
くなると、未反応樹脂成分が多くなり、離型フィルムを
保護フィルムとして用いた粘着テープのウエハーに対す
る汚染値が大きくなるので好ましくない。
In the present invention, the modified silicone resin containing, as a component, polydimethylsiloxane having a phenyl group represented by the above formula (IV) is at least one resin selected from alkyd resins and acrylic resins, and melamine resins. 0 to 30 mol% based on the organic resin
Preferably 5 to 30 mol%, more preferably 10 to
A release layer is formed using a resin obtained by reacting at a ratio of 20 mol%. When the ratio exceeds 30 mol%, an unreacted resin component increases, and an adhesive tape using a release film as a protective film. Is unfavorable because the contamination value of the wafer becomes large.

【0040】[離型層の塗設方法]本発明においては、
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を設け
るが、この離型層は例えばアルキッド樹脂、メラミン樹
脂及びフェニル基を有するジメチルポリシロキサンを成
分として含む変性シリコーン樹脂を含む塗液をフィルム
に塗布し、加熱して乾燥及び硬化反応させることにより
設けることができる。この加熱の条件は、例えば80〜
160℃で10〜120秒間、特に100〜150℃で
15〜60秒間とすることが、乾燥及び硬化反応が充分
なものとなるため好ましい。なお、塗液の塗布方法とし
ては、任意の公知の塗工法が適用でき、例えばロールコ
ーター法、ブレードコーター法等を挙げることができる
が、これらの方法に限定されるものではない。また、塗
液は有機溶剤系であっても、水分散エマルジョン系であ
ってもよい。
[Method of Coating Release Layer] In the present invention,
A release layer is provided on at least one surface of the polyester film, and the release layer is coated with a coating liquid containing a modified silicone resin containing, for example, an alkyd resin, a melamine resin, and a dimethylpolysiloxane having a phenyl group as components. And a drying and curing reaction. The heating conditions are, for example, 80 to
It is preferable to set the temperature at 160 ° C. for 10 to 120 seconds, particularly at 100 to 150 ° C. for 15 to 60 seconds, since the drying and curing reaction becomes sufficient. In addition, as a coating method of the coating liquid, any known coating method can be applied, and examples thereof include a roll coater method and a blade coater method. However, the coating method is not limited to these methods. Further, the coating liquid may be an organic solvent type or an aqueous dispersion emulsion type.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに説明す
る。なお、フィルムの各特性値は下記の方法で測定し
た。
The present invention will be further described below with reference to examples. In addition, each characteristic value of the film was measured by the following method.

【0042】(1)ウエハー汚染値の測定 サンプルの離型フィルムに、下記組成のUV硬化型粘着
剤を、乾燥後の粘着剤層の厚みが20μmになるように
ギーサーで塗工し、溶剤を乾燥機で蒸発させた後、二軸
延伸ポリプロピレンフィルムと貼合せることにより粘着
テープを作成した。この粘着テープはUV照射により粘
着剤層が硬化し、粘着力が低下するものである。
(1) Measurement of Wafer Contamination Value A UV-curable pressure-sensitive adhesive having the following composition was applied to the release film of the sample with a geser so that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying was 20 μm, and the solvent was removed. After evaporating with a dryer, an adhesive tape was prepared by laminating with a biaxially stretched polypropylene film. The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape is cured by UV irradiation, and the adhesive strength is reduced.

【0043】次に、ブランクとして、離型フィルムの代
わりにポリエステルフィルムを用い、上記と同じ方法で
粘着テープを作成した。
Next, an adhesive tape was prepared in the same manner as described above, using a polyester film instead of the release film as a blank.

【0044】4インチのクリーンシリコンウエハーに、
粘着テープを貼付し、UV照射を行なった後、テープを
剥離した。シリコンウエハーの剥離面の残渣物をレーザ
表面検査装置(日立電子エンジニアリング製、LS−5
000)を用い、0.25μm以上の残渣物をカウント
し、ブランクの値(粘着剤のみに起因する汚染値)を引
いた値をウエハー汚染値とした。
On a 4-inch clean silicon wafer,
After applying an adhesive tape and performing UV irradiation, the tape was peeled off. Laser surface inspection equipment (LS-5, manufactured by Hitachi Electronics Engineering)
000), the residue of 0.25 μm or more was counted, and the value obtained by subtracting the blank value (contamination value caused only by the adhesive) was taken as the wafer contamination value.

【0045】 <粘着剤組成> 2−エチルヘキシルアクリレート/アクリル酸共重合体(95/5) 60部 ヒドロキシ末端ポリブタジエン/アクリロニトリル共重合体(83/17) 15部 ジオクチルマレエート 5部 2−エチルヘキシルアクリレート 10部 テトラエチレングリコールジアクリレート 10部 ベンゾインエチルエーテル 3部 酢酸エチル(溶剤) 200部<Adhesive composition> 2-ethylhexyl acrylate / acrylic acid copolymer (95/5) 60 parts Hydroxy-terminated polybutadiene / acrylonitrile copolymer (83/17) 15 parts Dioctyl maleate 5 parts 2-ethylhexyl acrylate 10 Part Tetraethylene glycol diacrylate 10 parts Benzoin ethyl ether 3 parts Ethyl acetate (solvent) 200 parts

【0046】(2)ポリエステル中の金属元素の分析 ポリエステルフィルムの所定量を硫酸と硝酸の混酸で分
解し、純水で所定の容量に希釈した後、誘導結合高周波
プラズマ(ICP)発光分光法により金属の定量分析を
行い、ポリエステル中の金属元素濃度を求めた。
(2) Analysis of Metal Elements in Polyester A predetermined amount of a polyester film is decomposed with a mixed acid of sulfuric acid and nitric acid, diluted with pure water to a predetermined volume, and then subjected to inductively coupled high frequency plasma (ICP) emission spectroscopy. The metal was quantitatively analyzed to determine the metal element concentration in the polyester.

【0047】(3)残留接着率 ポリエステル粘着テープ(ニットー31B)を、JIS
・G4305に規定する冷間圧延ステンレス板(SUS
304)に貼り付けた後の剥離力を測定し、基礎接着力
(f0)とする。また、前記ポリエステル粘着テープを
サンプルフィルムの離型層塗設面に5kgの圧着ローラ
ーで圧着し、30秒間放置した後粘着テープを剥がす。
そして剥がした粘着テープを上記のステンレス板に貼
り、該貼合せ部剥離力を測定し、残留接着力(f)とす
る。得られた基礎接着力(f0)と残留接着力(f)よ
り下記式を用いて残留接着率を求めた。
(3) Residual Adhesion Rate A polyester adhesive tape (Nitto 31B) was used according to JIS.
・ Cold rolled stainless steel sheet (SUS
The peeling force after application to step 304) is measured, and the measured value is defined as a basic adhesive force (f 0 ). In addition, the polyester adhesive tape was pressed against the release layer coating surface of the sample film with a 5 kg pressure roller, left for 30 seconds, and then the adhesive tape was peeled off.
Then, the peeled adhesive tape is stuck on the above stainless steel plate, the peeling force of the bonded portion is measured, and the measured value is defined as a residual adhesive force (f). From the obtained basic adhesive strength (f 0 ) and residual adhesive strength (f), a residual adhesive rate was determined using the following equation.

【0048】[0048]

【数1】残留接着率(%)=(f/f0)×100## EQU1 ## Residual adhesion rate (%) = (f / f 0 ) × 100

【0049】(4)剥離強度(ラビングテスト) ポリエステルフィルムの離型層面にポリエステル粘着テ
ープ(ニットー31B)を貼合せ、5kgの圧着ローラ
ーで圧着し、20時間放置後離型層と粘着テープとの剥
離力(g/in)を引張試験機にて測定した。
(4) Peeling strength (rubbing test) A polyester pressure-sensitive adhesive tape (Nitto 31B) was adhered to the surface of the release layer of the polyester film, pressed with a pressure roller of 5 kg, left standing for 20 hours, and then separated from the release layer with the pressure-sensitive adhesive tape. The peeling force (g / in) was measured with a tensile tester.

【0050】[実施例1]ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールを出発原料とし、エステル交換反応触
媒としてテトラブチルチタネートをジメチルテレフタレ
ート100重量部に対して0.015重量部用い、重縮
合反応触媒として酸化ゲルマニウムをジメチルテレフタ
レート100重量部に対して0.01重量部用いて得ら
れたポリエチレンテレフタレート(35℃のオルソクロ
ロフェノール中で測定した固有粘度0.65、平均粒径
0.17μmのSiO2粒子を0.05重量%含有)を
20℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して厚み
950μmの未延伸フィルムを得、次に該未延伸フィル
ムを機械軸方向(縦方向)に3.5倍延伸して一軸延伸
フィルムとした後、この一軸延伸フィルムの片面に、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの5重量%
水溶液をキスコート法にて塗布し、105℃×10秒の
条件で乾燥した。このときの平均塗布量は固形分換算で
100mg/m2であった。引き続き105℃で横方向
に3.9倍延伸し、220℃で熱処理し、厚み75μm
のベースフィルムの片面に厚み0.025μmのプライ
マー層を塗設した二軸延伸ポリエステルフィルムを得
た。なお、ポリエステル中の金属元素の濃度はTi金属
元素が8ppm、Ge金属元素が30ppmであった。
Example 1 Dimethyl terephthalate and ethylene glycol were used as starting materials, tetrabutyl titanate was used as a transesterification catalyst in an amount of 0.015 part by weight per 100 parts by weight of dimethyl terephthalate, and germanium oxide was used as a polycondensation reaction catalyst. Polyethylene terephthalate obtained by using 0.01 part by weight with respect to 100 parts by weight of dimethyl terephthalate (having an intrinsic viscosity of 0.65 measured in orthochlorophenol at 35 ° C. and SiO 2 particles having an average particle diameter of 0.17 μm of 0.1 part by weight). (95% by weight) was melt-extruded on a rotary cooling drum maintained at 20 ° C. to obtain an unstretched film having a thickness of 950 μm, and then stretched 3.5 times in the machine axis direction (longitudinal direction). After forming a uniaxially stretched film, 3
5% by weight of glycidoxypropyltrimethoxysilane
The aqueous solution was applied by a kiss coat method, and dried under the conditions of 105 ° C. × 10 seconds. The average coating amount at this time was 100 mg / m 2 in terms of solid content. Subsequently, the film is stretched 3.9 times in the transverse direction at 105 ° C., and heat-treated at 220 ° C.
A biaxially stretched polyester film having a primer layer having a thickness of 0.025 μm coated on one side of the base film was obtained. The concentration of the metal element in the polyester was 8 ppm for the Ti metal element and 30 ppm for the Ge metal element.

【0051】次いで、ヒマシ油変性アルキッド樹脂75
mol%,ブチル化メラミン樹脂10mol%及び前述
の式(IV)において、Rがフェニル基、n+mが20
0、m/(n+m)が0.25のフェニル基置換ジメチ
ルポリシロキサン15mol%の変性シリコーンをトル
エン/メチルエチルケトン(50重量%/50重量%)
混合溶剤に固形分濃度が3重量%となるよう溶解した塗
工液を作成した。
Next, castor oil-modified alkyd resin 75
mol%, butylated melamine resin 10 mol% and in the above formula (IV), R is a phenyl group and n + m is 20
0, m / (n + m): 15% by mole of phenyl-substituted dimethylpolysiloxane having a modified ratio of 0.25, toluene / methyl ethyl ketone (50% by weight / 50% by weight)
A coating solution dissolved in a mixed solvent so that the solid content concentration was 3% by weight was prepared.

【0052】次いで、この塗工液を先に得た二軸延伸ポ
リエステルフィルムに6g/m2(wet)の塗布量で
塗布し、加熱温度150℃、加熱時間1分で乾燥及び硬
化反応を行なわせて離型層厚さ0.2μmの離型フィル
ムを作成した。この離型フィルムの特性を表1に示す。
Next, this coating liquid was applied to the previously obtained biaxially stretched polyester film at a coating amount of 6 g / m 2 (wet), and a drying and curing reaction was performed at a heating temperature of 150 ° C. and a heating time of 1 minute. Then, a release film having a release layer thickness of 0.2 μm was prepared. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0053】[実施例2]ヒマシ油変性アルキッド樹脂
62mol%、ブチル化メラミン樹脂8mol%及びフ
ェニル基置換ジメチルポリシロキサンを30mol%と
する以外は実施例1と同じ方法で離型フィルムを作成し
た。この離型フィルムの特性を表1に示す。
Example 2 A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that castor oil-modified alkyd resin was 62 mol%, butylated melamine resin was 8 mol%, and phenyl-substituted dimethylpolysiloxane was 30 mol%. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0054】[実施例3]ヒマシ油変性アルキッド樹脂
88mol%、ブチル化メラミン樹脂12mol%及び
フェニル基置換ジメチルポリシロキサンを0mol%と
する以外は実施例1と同じ方法で離型フィルムを作成し
た。この離型フィルムの特性を表1に示す。
Example 3 A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the castor oil-modified alkyd resin was 88 mol%, the butylated melamine resin was 12 mol%, and the phenyl-substituted dimethylpolysiloxane was 0 mol%. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0055】[比較例1]ヒマシ油変性アルキッド樹脂
45mol%、ブチル化メラミン樹脂5mol%及びフ
ェニル基置換ジメチルポリシロキサンを50mol%と
する以外は実施例1と同じ方法で離型フィルムを作成し
た。この離型フィルムの特性を表1に示す。
Comparative Example 1 A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that castor oil-modified alkyd resin was 45 mol%, butylated melamine resin was 5 mol%, and phenyl-substituted dimethylpolysiloxane was 50 mol%. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0056】[比較例2]ブチル化メラミン樹脂を加え
ない他は実施例1と同じ方法で離型フィルムを作成し
た。この離型フィルムの特性を表1に示す。
Comparative Example 2 A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the butylated melamine resin was not added. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0057】[実施例4]ポリメタクリル酸メチルを主
成分とするアクリル樹脂70mol%,ブチル化メラミ
ン樹脂15mol%及びフェニル基置換ジメチルポリシ
ロキサンを15mol%とする以外は実施例1と同じ方
法で離型フィルムを作成した。この離型フィルムの特性
を表1に示す。
Example 4 Separation was carried out in the same manner as in Example 1 except that 70 mol% of an acrylic resin containing polymethyl methacrylate as a main component, 15 mol% of a butylated melamine resin and 15 mol% of a phenyl-substituted dimethylpolysiloxane were used. A mold film was made. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0058】[実施例5]ポリメタクリル酸メチルを主
成分とするアクリル樹脂35mol%、ヒマシ油変性ア
ルキッド樹脂35mol%、ブチル化メラミン樹脂15
mol%及びフェニル基置換ジメチルポリシロキサンを
15mol%とする以外は実施例1と同じ方法で離型フ
ィルムを作成した。この離型フィルムの特性を表1に示
す。
Example 5 35 mol% of an acrylic resin containing polymethyl methacrylate as a main component, 35 mol% of a castor oil-modified alkyd resin, and a butylated melamine resin 15
A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the mol% and the phenyl-substituted dimethylpolysiloxane were changed to 15 mol%. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0059】[実施例6]ポリエチレンテレフタレート
を、ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを出
発原料とし、エステル交換反応触媒として二酸化マンガ
ンをジメチルテレフタレート100重量部に対して0.
02重量部用い、重縮合反応触媒として三酸化アンチモ
ンをジメチルテレフタレート100重量部に対して0.
06重量部用いて得られたポリエチレンテレフタレート
(35℃のオルソクロロフェノール中で測定した固有粘
度0.65、平均粒径0.17μmのSiO2粒子を
0.05重量%含有)に変更する以外は実施例1と同じ
方法で離型フィルムを作成した。この離型フィルムの特
性を表1に示す。なお、ポリエステル中の金属元素の濃
度はMn金属元素が100ppm、Sb金属元素が40
0ppmであった。
Example 6 Polyethylene terephthalate was used starting from dimethyl terephthalate and ethylene glycol, and manganese dioxide was used as a transesterification catalyst in an amount of 0.1 to 100 parts by weight of dimethyl terephthalate.
Antimony trioxide as a polycondensation reaction catalyst was used in an amount of 0.2 parts by weight based on 100 parts by weight of dimethyl terephthalate.
With the exception of changing the polyethylene terephthalate obtained by using 0.66 parts by weight (intrinsic viscosity measured in orthochlorophenol at 35 ° C. of 0.65 and containing 0.05% by weight of SiO 2 particles having an average particle size of 0.17 μm). A release film was prepared in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the characteristics of the release film. The concentration of the metal element in the polyester was 100 ppm for the Mn metal element and 40 ppm for the Sb metal element.
It was 0 ppm.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明によれば、離型層中の不純物が少
なく、ポリエステルフィルム中の不純物が離型層へ移行
するのを抑制した、半導体製造の際のウエハー研磨工程
又はダイシング工程で使用する粘着剤の保護フィルムな
どに有用な離型フィルムを提供することができる。
According to the present invention, the amount of impurities in the release layer is small, and the migration of impurities in the polyester film to the release layer is suppressed. It is possible to provide a release film useful as a protective film for a pressure-sensitive adhesive.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリエステルフィルムの少なくとも片面
に、アルキッド樹脂及びアクリル樹脂から選ばれた少な
くとも1種の樹脂並びにメラミン樹脂からなる有機樹脂
に対し、フェニル基を有するジメチルポリシロキサンを
成分として含む変性シリコーン樹脂を0〜30mol%
の割合で反応させて得られる樹脂を離型層として設けた
離型フィルムであって、該離型フィルムを保護フィルム
として用いた半導体製造工程用粘着テープのウエハー汚
染値が200個以下である離型フィルム。
1. A modified silicone resin comprising, on at least one surface of a polyester film, at least one resin selected from an alkyd resin and an acrylic resin and an organic resin composed of a melamine resin, and a dimethylpolysiloxane having a phenyl group as a component. 0 to 30 mol%
The release film provided with a resin obtained by reacting at a ratio of the release film as a release layer, wherein the wafer contamination value of the adhesive tape for a semiconductor manufacturing process using the release film as a protective film is 200 or less. Mold film.
【請求項2】 メラミン樹脂が、アルキッド樹脂及びア
クリル樹脂の合計量100molに対し、5〜200m
olである請求項1記載の離型フィルム。
2. The melamine resin is used in an amount of 5 to 200 m with respect to a total amount of 100 mol of the alkyd resin and the acrylic resin.
The release film according to claim 1, which is ol.
【請求項3】 ポリエステルフィルム表面と離型層との
間に、下記式(I)で示される化合物を架橋させた0.
02〜2μmの肉厚のプライマー層を設けた請求項1記
載の離型フィルム。 【化1】Y−Si−X3 ……(I) [式(I)中、Xはアルコキシ基、Yはエポキシ基、ア
ミノ基、ビニル基、メタクリル基、メルカプト基又はア
ルコキシ基を有する反応性有機官能基を表わす。]
3. A compound of the following formula (I) crosslinked between the polyester film surface and the release layer.
The release film according to claim 1, wherein a primer layer having a thickness of from 02 to 2 µm is provided. ## STR1 Y-Si-X 3 ...... ( I) [ Formula (I), X is an alkoxy group, Y epoxy group, an amino group, a vinyl group, reactive with a methacryl group, a mercapto group or an alkoxy group Represents an organic functional group. ]
【請求項4】 ポリエステルフィルムがポリエチレンテ
レフタレートフィルム又はポリエチレン−2,6−ナフ
タレートフィルムである請求項1記載の離型フィルム。
4. The release film according to claim 1, wherein the polyester film is a polyethylene terephthalate film or a polyethylene-2,6-naphthalate film.
【請求項5】 半導体製造におけるウエハー研磨工程又
はダイシング工程で使用する粘着テープの保護フィルム
に用いる請求項1〜4のいずれかに記載の離型フィル
ム。
5. The release film according to claim 1, which is used as a protective film for an adhesive tape used in a wafer polishing step or a dicing step in semiconductor production.
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