JPH11190801A - Anti-reflective coating - Google Patents
Anti-reflective coatingInfo
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- JPH11190801A JPH11190801A JP9358206A JP35820697A JPH11190801A JP H11190801 A JPH11190801 A JP H11190801A JP 9358206 A JP9358206 A JP 9358206A JP 35820697 A JP35820697 A JP 35820697A JP H11190801 A JPH11190801 A JP H11190801A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広い波長領域に亘って反射を抑え、製造コス
トを抑え、作業も容易とし、生産性を良好とする。
【解決手段】 基板２の一主面２ａ上に、波長４００〜
７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７
の範囲であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長
側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範
囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側
のそれより高い微粒子を少なくとも含有する第１の光学
薄膜３と、この上に第２の光学薄膜４を形成する。な
お、上記第１の光学薄膜３が光学的に透明な材料を含有
していても良い。上記光学的に透明な材料においては、
波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．３８〜
２．７であることが好ましい。また、上記微粒子が金で
あることが好ましい。さらに、上記第２の光学薄膜４の
波長３８０〜７８０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが
１．３５〜１．７であることが好ましい。
PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress reflection over a wide wavelength range, suppress manufacturing cost, facilitate work, and improve productivity. SOLUTION: On one main surface 2a of a substrate 2, a wavelength of 400 to
The refractive index n in the light of 730 (nm) is 0.1 to 2.7.
, The refractive index n on the long wavelength side is lower than that on the short wavelength side, the extinction coefficient k is in the range of 1.0 to 5.4, and the extinction coefficient on the long wavelength side A first optical thin film 3 containing at least fine particles where k is higher than that on the short wavelength side, and a second optical thin film 4 is formed thereon. Note that the first optical thin film 3 may contain an optically transparent material. In the optically transparent material,
The refractive index n of light having a wavelength of 550 (nm) is 1.38 to
It is preferably 2.7. Preferably, the fine particles are gold. Furthermore, it is preferable that the refractive index n of the second optical thin film 4 for light having a wavelength of 380 to 780 (nm) is 1.35 to 1.7.
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜に関す
る。詳しくは、基板上に所定の屈折率及び消衰係数を有
する微粒子を含む光学薄膜が形成され、広い波長域に対
応して良好な反射防止特性を有するとともに、生産性も
良好な反射防止膜に係わるものである。[0001] The present invention relates to an antireflection film. Specifically, an optical thin film containing fine particles having a predetermined refractive index and extinction coefficient is formed on a substrate, and has an excellent antireflection property corresponding to a wide wavelength range, and also has a good productivity. It is concerned.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、反射防止膜は、例えば空気とガラ
スとの光学的境界面における屈折率を減少させることが
好ましかったり、また、その必要がある光学や電気光学
の分野で広く使われている。これらの応用分野として
は、カメラのレンズ、コピー装置のプラテン（原稿
台）、機器用のカバーガラス、陰極線管（いわゆる、Ｃ
ＲＴ）用パネル、その他の表示装置等がある。2. Description of the Related Art Conventionally, antireflection films have been widely used in the fields of optics and electro-optics where it is preferable to reduce the refractive index at the optical interface between air and glass, for example. Have been done. These application fields include a camera lens, a platen (original platen) for a copier, a cover glass for equipment, and a cathode ray tube (so-called C
RT) panel and other display devices.
【０００３】各種の応用分野で使われる反射防止膜とし
ては、マグネシウムフッ化物からなる薄膜を形成した単
一層のコーティングがなされたもの、１つの波長領域に
おける屈折率を最小とする２層のコーティングがなされ
たもの、比較的広い波長領域、例えば可視光領域の範囲
に亘って低い屈折率を有する多層のコーティングがなさ
れたもの等が挙げられる。As an antireflection film used in various application fields, a single-layer coating having a thin film made of magnesium fluoride formed thereon, or a two-layer coating which minimizes the refractive index in one wavelength region is used. And a multilayer coating having a low refractive index over a relatively wide wavelength range, for example, a visible light range.
【０００４】上記多層のコーティングがなされた反射防
止膜としては、低屈折率誘電体膜、高屈折率誘電体膜、
高屈折率導電体膜、低屈折率導電体膜を組み合わせた構
成のもの等が挙げられる。[0004] Examples of the antireflection film having the multilayer coating include a low-refractive-index dielectric film, a high-refractive-index dielectric film,
Examples thereof include a combination of a high refractive index conductive film and a low refractive index conductive film.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な反射防止膜においては、近年、比較的広い波長領域、
例えば可視光領域の範囲に亘って低い屈折率を有するこ
とが要求されており、上述の多層のコーティングがなさ
れた反射防止膜が注目されている。Incidentally, in the above-mentioned antireflection film, in recent years, a relatively wide wavelength region,
For example, it is required to have a low refractive index over a range of a visible light region, and the above-mentioned antireflection film having a multilayer coating has attracted attention.
【０００６】しかしながら、この多層コーティングがな
された反射防止膜においては、これら多層コーティング
を真空薄膜形成手段により形成しており、製造コストが
高価となってしまい、また作業も煩雑であることから、
生産性が良好とは言えない。However, in the antireflection film having the multilayer coating formed thereon, these multilayer coatings are formed by vacuum thin film forming means, so that the manufacturing cost is high and the operation is complicated.
The productivity is not good.
【０００７】そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提
案されるものであって、広い波長領域に亘って反射が抑
えられ、製造コストが抑えられ、作業も容易で、生産性
が良好な反射防止膜を提供しようとするものである。Accordingly, the present invention has been proposed in view of the above-mentioned circumstances, and it has been proposed that reflection is suppressed over a wide wavelength range, manufacturing costs are suppressed, work is easy, and productivity is good. It is intended to provide an antireflection film.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明に係る反射防止膜は、基板の一主面上に、波
長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．
１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側での屈折率
ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜
５．４の範囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋ
が短波長側のそれより高い微粒子を少なくとも含有する
第１の光学薄膜が形成され、上記第１の光学薄膜の上に
第２の光学薄膜が形成されてなることを特徴とするもの
である。このとき、上記第１の光学薄膜に含有される微
粒子の波長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．５〜０．２であり、消衰係数ｋが２．０〜４．
５であることが好ましい。In order to solve the above-mentioned problems, an antireflection film according to the present invention has a refractive index n of 0.4 to 730 (nm) on a main surface of a substrate.
The refractive index n on the long wavelength side is lower than that on the short wavelength side, and the extinction coefficient k is 1.0 to 2.7.
5.4 and the extinction coefficient k on the long wavelength side
Is characterized in that a first optical thin film containing at least fine particles higher than that on the short wavelength side is formed, and a second optical thin film is formed on the first optical thin film. At this time, the refractive index n of the fine particles contained in the first optical thin film in light having a wavelength of 400 to 730 (nm) is 1.5 to 0.2, and the extinction coefficient k is 2.0 to 4.0.
It is preferably 5.
【０００９】より具体的には、光の波長と上記微粒子に
おける屈折率ｎ及び消衰係数ｋの関係が、表１に示すよ
うな関係に近似した関係を有することが好ましい。そし
て、微粒子の各波長における屈折率が表１中に示す各波
長における屈折率に対して零以上で且つ±１．０の範
囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲となること
が好ましい。さらには、微粒子の各波長における消衰係
数が表１中に示す各波長における消衰係数に対して±
１．０の範囲、好ましくは±０．６の範囲となることが
好ましい。More specifically, it is preferable that the relationship between the wavelength of light and the refractive index n and the extinction coefficient k of the fine particles has a relationship similar to the relationship shown in Table 1. The refractive index at each wavelength of the fine particles may be at least zero and ± 1.0, preferably at least zero and ± 0.6 with respect to the refractive index at each wavelength shown in Table 1. preferable. Further, the extinction coefficient at each wavelength of the fine particles is ±± with respect to the extinction coefficient at each wavelength shown in Table 1.
It is preferably in the range of 1.0, preferably ± 0.6.
【００１０】[0010]
【表１】 [Table 1]
【００１１】なお、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第１の光学薄膜が光学的に透明な材料を含有し
ていても良い。上記光学的に透明な材料としては、ポリ
マーや無機物が挙げられ、このような光学的に透明な材
料においては、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．３８〜２．７であることが好ましい。In the antireflection film of the present invention, the first optical thin film may contain an optically transparent material. Examples of the optically transparent material include a polymer and an inorganic material. In such an optically transparent material, the refractive index n of light having a wavelength of 550 (nm) is 1.38 to 2.7. Is preferred.
【００１２】さらに、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第１の光学薄膜に含有される微粒子が金である
こと、金属の窒化物であることが好ましく、上記金属の
窒化物が、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニ
ウムの何れかであることが好ましい。また、上記第１の
光学薄膜に含有される微粒子は、銅あるいは黄銅の何れ
かであっても良い。Further, in the antireflection film of the present invention, the fine particles contained in the first optical thin film are preferably gold and a metal nitride, and the metal nitride is preferably a nitride. Preferably, any of titanium, zirconium nitride, and hafnium nitride is used. The fine particles contained in the first optical thin film may be either copper or brass.
【００１３】また、上記本発明の反射防止膜において、
第１の光学薄膜中に光学的に透明な材料が含有されてお
り、微粒子が金である場合には、上記金の含有量が３０
〜８０（体積％）であることが好ましい。In the above antireflection film of the present invention,
When the first optical thin film contains an optically transparent material and the fine particles are gold, the gold content is 30%.
It is preferably from 80 to 80 (vol%).
【００１４】そして、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第２の光学薄膜の波長３８０〜７８０（ｎｍ）
の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７であることが
好ましく、このような特性を有するものとしては、二酸
化珪素よりなる薄膜やフッ化マグネシウムよりなる薄膜
が挙げられる。なお、上記第２の光学薄膜が二酸化珪素
よりなる薄膜とされている場合には、その膜厚が５５〜
８０（ｎｍ）であることが好ましい。In the antireflection film of the present invention, the wavelength of the second optical thin film is 380 to 780 (nm).
It is preferable that the refractive index n in the light of the above is from 1.35 to 1.7, and those having such characteristics include a thin film made of silicon dioxide and a thin film made of magnesium fluoride. When the second optical thin film is a thin film made of silicon dioxide, the thickness is 55 to 55.
It is preferably 80 (nm).
【００１５】また、上記のような条件を満たすものであ
れば、上記第２の光学薄膜は、ポリマーよりなる単層
膜、第１の光学薄膜側から珪素の酸化物と二酸化珪素が
積層された積層膜であっても良い。このとき、上記珪素
の酸化物は、化学式ＳｉＯx で表されるものであり、Ｘ
が１〜１．９の化合物を示す。このように第２の光学薄
膜が積層膜とされている場合には、珪素の酸化物よりな
る部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とされている、或いは
第１の光学薄膜の膜厚が８〜２５（ｎｍ）とされ、珪
素の酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とさ
れ、二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８０（ｎ
ｍ）とされていることが好ましい。If the above condition is satisfied, the second optical thin film is a single-layer film made of a polymer, and a silicon oxide and silicon dioxide are laminated from the first optical thin film side. It may be a laminated film. At this time, the silicon oxide is represented by the chemical formula SiO x , and X
Represents a compound of 1 to 1.9. When the second optical thin film is a laminated film as described above, the thickness of the portion made of silicon oxide is 2 to 10 (nm), or the thickness of the first optical thin film Is 8 to 25 (nm), the thickness of the portion made of silicon oxide is 2 to 10 (nm), and the thickness of the portion made of silicon dioxide is 55 to 80 (n).
m).
【００１６】上記本発明に係る反射防止膜においては、
基板の一主面上に、波長４００〜７３０（ｎｍ）の光に
おける屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲であるととも
に、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそれよりも低
く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であるととも
に、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれより高い
微粒子を少なくとも含有する第１の光学薄膜と、この上
に第２の光学薄膜が形成されていることから、第２の光
学薄膜側から光が入射した場合に、第１の光学薄膜との
光の干渉により、反射が抑えられる。また、上記本発明
の反射防止膜においては、従来の反射防止膜よりも層数
が少なく、製造コストが低減され、作業も容易となる。In the antireflection film according to the present invention,
On one principal surface of the substrate, the refractive index n of light having a wavelength of 400 to 730 (nm) is in the range of 0.1 to 2.7, and the refractive index n on the long wavelength side is higher than that on the short wavelength side. A first optical thin film having a low extinction coefficient k in the range of 1.0 to 5.4 and containing at least fine particles having an extinction coefficient k on the long wavelength side higher than that on the short wavelength side; Since the second optical thin film is formed thereon, when light is incident from the second optical thin film side, reflection is suppressed by light interference with the first optical thin film. Further, in the antireflection film of the present invention, the number of layers is smaller than that of the conventional antireflection film, the manufacturing cost is reduced, and the work is easy.
【００１７】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜に光学的に透明な材料を含有させ、
これを基板上に塗布可能なポリマー等とすれば、ポリマ
ーと微粒子を含む第１の光学薄膜が塗布形成され、第２
の光学薄膜のみを真空薄膜形成手段により形成すれば良
く、製造コストが更に低減され、作業も更に容易とな
る。In the antireflection film of the present invention,
The first optical thin film contains an optically transparent material,
If this is a polymer or the like that can be applied on a substrate, a first optical thin film containing a polymer and fine particles is applied and formed,
Only the optical thin film need be formed by the vacuum thin film forming means, so that the manufacturing cost is further reduced and the work is further facilitated.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１９】本発明に係る反射防止膜は、図１に示すよ
うに、例えばポリエチレンテレフタレートよりなる基台
１の一主面１ａ上に例えばアクリル等のポリマーよりな
るハードコート２（以下、基板２と称する。）が積層形
成され、上記基板２の基台１との対向面とは反対側とな
る一主面２ａ上に、第１の光学薄膜３が形成され、この
第１の光学薄膜３の基板２との対向面とは反対側となる
一主面３ａ上に第２の光学薄膜４が形成されてなるもの
である。As shown in FIG. 1, an antireflection film according to the present invention comprises a hard coat 2 made of a polymer such as acrylic (hereinafter referred to as a substrate 2) on one main surface 1a of a base 1 made of polyethylene terephthalate, for example. The first optical thin film 3 is formed on one principal surface 2a of the substrate 2 opposite to the surface facing the base 1 of the first optical thin film 3. The second optical thin film 4 is formed on one main surface 3a opposite to the surface facing the substrate 2.
【００２０】そして、本発明の反射防止膜においては、
上記第１の光学薄膜３が、波長４００〜７３０（ｎｍ）
の光における屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲であると
ともに、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそれよりも
低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であるととも
に、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれより高い
微粒子を少なくとも含有する薄膜として形成されてい
る。なお、上記第１の光学薄膜に含有される微粒子の波
長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．
５〜０．２であり、消衰係数ｋが２．０〜４．５である
ことがより好ましい。In the antireflection film of the present invention,
The first optical thin film 3 has a wavelength of 400 to 730 (nm).
Is in the range of 0.1 to 2.7, the refractive index n on the long wavelength side is lower than that on the short wavelength side, and the extinction coefficient k is 1.0 to 5.4. And the extinction coefficient k on the long wavelength side is formed as a thin film containing at least fine particles higher than that on the short wavelength side. The refractive index n of the fine particles contained in the first optical thin film at a wavelength of 400 to 730 (nm) is 1.
More preferably, the extinction coefficient k is 2.0 to 4.5.
【００２１】より具体的には、光の波長と上記微粒子に
おける屈折率ｎ及び消衰係数ｋの関係が、先に示した表
１に示すような関係に近似した関係を有することが好ま
しい。そして、微粒子の各波長における屈折率が表１中
に示す各波長における屈折率に対して零以上で且つ±
１．０の範囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲
となることが好ましい。さらには、微粒子の各波長にお
ける消衰係数が表１中に示す各波長における消衰係数に
対して±１．０の範囲、好ましくは±０．６の範囲とな
ることが好ましい。More specifically, it is preferable that the relationship between the wavelength of light and the refractive index n and the extinction coefficient k of the fine particles has a relationship similar to the relationship shown in Table 1 described above. The refractive index at each wavelength of the fine particles is not less than zero and ±
It is preferably in the range of 1.0, more preferably zero or more and ± 0.6. Further, the extinction coefficient at each wavelength of the fine particles is preferably in a range of ± 1.0, and more preferably in a range of ± 0.6 with respect to the extinction coefficient at each wavelength shown in Table 1.
【００２２】また、この反射防止膜においては、上記第
１の光学薄膜３が光学的に透明な材料を含有していても
良い。上記光学的に透明な材料としては、ポリマーや無
機物が挙げられ、このような光学的に透明な材料におい
ては、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．
３８〜２．７であることが好ましい。このように光学的
に透明な材料を含有させれば、当該材料と微粒子の割合
により第１の光学薄膜の光学特性を変更することが可能
である。In this antireflection film, the first optical thin film 3 may contain an optically transparent material. Examples of the optically transparent material include polymers and inorganic substances. In such an optically transparent material, the refractive index n of light having a wavelength of 550 (nm) is 1.
It is preferably from 38 to 2.7. When an optically transparent material is contained as described above, it is possible to change the optical characteristics of the first optical thin film depending on the ratio of the material and the fine particles.
【００２３】なお、上記第１の光学薄膜３に含有される
微粒子としては、金が最も好ましく例示され、その他に
金属の窒化物や銅あるいは黄銅が例示される。上記金属
の窒化物としては、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒
化ハフニウムが例示される。The fine particles contained in the first optical thin film 3 are most preferably gold, and metal nitride, copper or brass. Examples of the metal nitride include titanium nitride, zirconium nitride, and hafnium nitride.
【００２４】また、上記本発明の反射防止膜において、
第１の光学薄膜３中に光学的に透明な材料が含有されて
おり、微粒子が金である場合には、上記金の含有量が３
０〜８０（体積％）であることが好ましい。Further, in the above antireflection film of the present invention,
When the first optical thin film 3 contains an optically transparent material and the fine particles are gold, the gold content is 3
It is preferably from 0 to 80 (vol%).
【００２５】そして、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第２の光学薄膜４の波長３８０〜７８０（ｎ
ｍ）の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７であるこ
とが好ましく、このような特性を有するものとしては、
二酸化珪素よりなる薄膜やフッ化マグネシウムよりなる
薄膜が挙げられる。なお、上記第２の光学薄膜４が二酸
化珪素よりなる薄膜とされている場合には、その膜厚が
５５〜８０（ｎｍ）であることが好ましい。In the antireflection film of the present invention, the wavelength of the second optical thin film 4 is 380 to 780 (n
It is preferable that the refractive index n in the light of m) is from 1.35 to 1.7.
Examples include a thin film made of silicon dioxide and a thin film made of magnesium fluoride. When the second optical thin film 4 is a thin film made of silicon dioxide, the thickness is preferably 55 to 80 (nm).
【００２６】また、上記のような条件を満たすものであ
れば、上記第２の光学薄膜４は、ポリマーよりなる単層
膜、第１の光学薄膜３側から珪素の酸化物と二酸化珪素
が積層された積層膜であっても良い。このとき、上記珪
素の酸化物は、化学式ＳｉＯx で表されるものであり、
Ｘが１〜１．９の化合物を示す。このように第２の光学
薄膜４が積層膜とされている場合には、珪素の酸化物よ
りなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とされている、或
いは 第１の光学薄膜３の膜厚が８〜２５（ｎｍ）とさ
れ、珪素の酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎ
ｍ）とされ、二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８
０（ｎｍ）とされていることが好ましい。If the above-mentioned conditions are satisfied, the second optical thin film 4 is a single-layer film made of a polymer, and silicon oxide and silicon dioxide are laminated from the first optical thin film 3 side. A laminated film may be used. At this time, the silicon oxide is represented by the chemical formula SiO x ,
X represents a compound of 1 to 1.9. When the second optical thin film 4 is a laminated film as described above, the thickness of the portion made of silicon oxide is 2 to 10 (nm), or the thickness of the first optical thin film 3 is The film thickness is 8 to 25 (nm), and the film thickness of the portion made of silicon oxide is 2 to 10 (n
m), and the film thickness of the portion made of silicon dioxide is 55 to 8
It is preferably set to 0 (nm).
【００２７】なお、上記本発明の反射防止膜において
は、例えば、基台１の厚さＴ1 を１８８（μｍ）、基板
２の厚さＴ2 を３〜６（μｍ）、第１の光学薄膜３の厚
さＴ３を１２．０（ｎｍ）、第２の光学薄膜４の厚さＴ
４ を７０．８（ｎｍ）として形成すれば良い。In the antireflection film of the present invention, for example, the thickness T 1 of the base 1 is 188 (μm), the thickness T 2 of the substrate 2 is 3 to 6 (μm), and the first optical The thickness T 3 of the thin film 3 is 12.0 (nm), and the thickness T of the second optical thin film 4 is
4 may be formed as 70.8 (nm).
【００２８】上記本発明の反射防止膜においては、基板
２の一主面２ａ上に、所定の特性を有する微粒子を少な
くとも含有する第１の光学薄膜３と、この上に第２の光
学薄膜４を形成しており、第２の光学薄膜４側から光が
入射した場合に、第１の光学薄膜３との光の干渉によ
り、反射が抑えられる。また、上記本発明の反射防止膜
においては、従来の反射防止膜よりも格段に層数が少な
く、真空薄膜形成手段による薄膜形成工程が削減される
ことから、製造コストが低減され、作業も容易となり、
生産性が向上する。さらに、全体の膜厚も例えば８０
（ｎｍ）程度であり、従来の反射防止膜よりも格段に薄
く、薄膜形成材料にかかるコストが抑えられ、このこと
からも製造コストが抑えられて、生産性が向上する。In the antireflection film of the present invention, the first optical thin film 3 containing at least fine particles having predetermined characteristics is provided on one main surface 2a of the substrate 2, and the second optical thin film 4 Is formed, and when light is incident from the second optical thin film 4 side, reflection is suppressed due to interference of light with the first optical thin film 3. Further, in the antireflection film of the present invention, the number of layers is significantly smaller than that of the conventional antireflection film, and the thin film forming step by the vacuum thin film forming means is reduced, so that the manufacturing cost is reduced and the work is easy. Becomes
Productivity is improved. Further, the total film thickness is, for example, 80
(Nm), which is much thinner than the conventional antireflection film, the cost of the thin film forming material is reduced, and the production cost is also reduced, and the productivity is improved.
【００２９】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜３に光学的に透明な材料を含有さ
せ、これを基板２上に塗布可能なポリマー等とすれば、
ポリマーと微粒子を含む第１の光学薄膜３を塗布形成し
て、第２の光学薄膜４のみを真空薄膜形成手段により形
成すれば良く、真空薄膜形成手段による薄膜形成工程が
更に削減され、製造コストが更に低減され、作業も更に
容易となり、生産性が更に向上する。In the antireflection film of the present invention,
If the first optical thin film 3 contains an optically transparent material and is made of a polymer or the like that can be applied on the substrate 2,
The first optical thin film 3 containing the polymer and the fine particles may be applied and formed, and only the second optical thin film 4 may be formed by the vacuum thin film forming means. The thin film forming process by the vacuum thin film forming means is further reduced, and the manufacturing cost is reduced. Is further reduced, work is further facilitated, and productivity is further improved.
【００３０】さらには、上記本発明の反射防止膜におい
て、上記第１の光学薄膜３に含有される微粒子を金等の
導電性微粒子とすれば、この反射防止膜を導電膜として
使用することも可能となり、反射防止膜に導電性を付与
するためにＩＴＯガラス膜等の導電膜を改めて形成する
必要がない。Further, in the antireflection film of the present invention, if the fine particles contained in the first optical thin film 3 are conductive fine particles such as gold, the antireflection film may be used as a conductive film. This makes it unnecessary to newly form a conductive film such as an ITO glass film in order to impart conductivity to the antireflection film.
【００３１】このような本発明の反射防止膜は、前述し
たようなカメラのレンズ、コピー装置のプラテン（原稿
台）、機器用のカバーガラス、陰極線管（いわゆる、Ｃ
ＲＴ）用パネル、その他の表示装置等に適用可能である
が、ここでは、ＣＲＴ用パネルに適用した例を示す。Such an anti-reflection film of the present invention comprises a lens of a camera, a platen (original platen) of a copying apparatus, a cover glass for equipment, a cathode ray tube (so-called C
Although the present invention is applicable to a panel for RT) and other display devices, an example in which the present invention is applied to a panel for CRT will be described.
【００３２】すなわち、図２に示すように、ＣＲＴ５の
画像表示面となる一主面５ａ上に、前述のような反射防
止膜６を基台１側が下層となるようにパネルとして配置
すれば良い。このとき、図２中に示すように、反射防止
膜６を接地しておけば、ＣＲＴ５内部で発生する図２中
矢印Ａ1 で示す電磁波は反射防止膜６により遮断され、
ＣＲＴ５の画像表示面である一主面５ａから漏れ出す図
２中矢印Ａ2 で示す電磁波は大幅に低減されたものとな
る。That is, as shown in FIG. 2, an antireflection film 6 as described above may be disposed as a panel on one main surface 5a serving as an image display surface of the CRT 5 such that the base 1 side is a lower layer. . At this time, as shown in FIG. 2, if grounded antireflection film 6, an electromagnetic wave shown in FIG. 2 in an arrow A 1 generated within CRT5 is blocked by the anti-reflection film 6,
Electromagnetic waves shown in Figure 2 in an arrow A 2 leaking from the main surface 5a is an image display surface of CRT5 becomes what is greatly reduced.
【００３３】また、当然のことながら、反射防止膜６が
配されておりＣＲＴ５の画像表示面となる一主面５ａに
図２中矢印Ｂ1 で示すように外部から光が入射した場合
においては、ＣＲＴ５の画像表示面である一主面５ａか
ら反射される図２中矢印Ｂ2で示す光は反射防止膜６に
より大幅に低減されたものとなる。[0033] It will also be appreciated that in the case where the light from the outside as shown in Figure 2 in an arrow B 1 is incident on one main surface 5a antireflection film 6 is made of an image display surface of which is arranged CRT5 is light shown in Figure 2 in an arrow B 2 which is reflected from the main surface 5a is an image display surface of CRT5 becomes what is significantly reduced by the anti-reflection film 6.
【００３４】[0034]
【実施例】次に、本発明の効果を確認するべく、以下に
示すようなシミュレーションを行った。Next, in order to confirm the effects of the present invention, the following simulation was performed.
【００３５】実験例１ すなわち、先ず、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折
率が１．５のアクリル系の有機ポリマーと表２に示すよ
うな光学特性を有する金を混合し、金を５２（体積％）
の割合で含む混合物を用意したと想定した。そして、こ
れを厚さ１８８（μｍ）のポリエチレンテレフタレート
よりなる基台上に配される厚さ３．５（μｍ）のアクリ
ル系ポリマーよりなる基板上に厚さが１２．０（ｎｍ）
の膜として配して第１の光学薄膜を塗布形成したと想定
した。 EXPERIMENTAL EXAMPLE 1 First, an acrylic organic polymer having a refractive index of 1.5 for light having a wavelength of 550 (nm) was mixed with gold having optical characteristics as shown in Table 2, and the gold was mixed with 52 ( volume%)
Was assumed to be prepared. Then, this is placed on a substrate made of an acrylic polymer having a thickness of 3.5 (μm) and disposed on a base made of polyethylene terephthalate having a thickness of 188 (μm) to have a thickness of 12.0 (nm).
It was assumed that the first optical thin film was applied and formed by disposing as a film.
【００３６】[0036]
【表２】 [Table 2]
【００３７】屈折率の異なる材料の混合物の屈折率は、
個々の材料の屈折率とその含有量から単純な算出平均で
算出可能である。すなわち、個々の材料の含有量を変更
することで、混合物の光学特性を変更することが可能で
ある。そこで、上記第１の光学薄膜の屈折率及び消衰係
数を算出し、これを表２に併せて示した。The refractive index of a mixture of materials having different refractive indices is
It can be calculated by a simple calculation average from the refractive index of each material and its content. That is, the optical characteristics of the mixture can be changed by changing the content of each material. Thus, the refractive index and extinction coefficient of the first optical thin film were calculated, and are shown in Table 2.
【００３８】そして、上記第１の光学薄膜の上に厚さ７
０．８（ｎｍ）のＳｉＯ2 よりなる薄膜をスパッタリン
グにより形成し、第２の光学薄膜として形成し、反射防
止膜とすることとした。ＳｉＯ2 の屈折率を表２中に併
せて示す。Then, a thickness of 7 on the first optical thin film
A thin film made of 0.8 (nm) SiO 2 was formed by sputtering to form a second optical thin film, which was used as an anti-reflection film. Table 2 also shows the refractive index of SiO 2 .
【００３９】次に、この反射防止膜の分光反射特性と分
光透過率を計算した。結果を図３及び図４に示す。図３
中横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。また、図４
中横軸は波長を示し、縦軸は透過率を示す。Next, the spectral reflection characteristics and the spectral transmittance of the antireflection film were calculated. The results are shown in FIGS. FIG.
The horizontal axis indicates the wavelength, and the vertical axis indicates the reflectance. FIG.
The horizontal axis indicates the wavelength, and the vertical axis indicates the transmittance.
【００４０】図３から、上記の反射防止膜においては、
広い波長領域で反射が低く抑えられており、図４から、
上記の反射防止膜においては、波長に関係なく透過率が
略一定とされていることが確認された。このように、波
長に関係なく透過率が略一定であると、全体的に光の透
過が少なくなり、光の波長による偏りがない。このた
め、前述のようにＣＲＴのパネルに適用した場合等にお
いて、色調整に問題が発生しにくい。FIG. 3 shows that in the above-described antireflection film,
The reflection is suppressed low over a wide wavelength range, and from FIG.
In the antireflection film, it was confirmed that the transmittance was substantially constant regardless of the wavelength. As described above, when the transmittance is substantially constant irrespective of the wavelength, light transmission is reduced as a whole, and there is no deviation due to the wavelength of light. For this reason, when applied to a CRT panel as described above, a problem does not easily occur in color adjustment.
【００４１】さらに、上記の反射防止膜の光学特性をま
とめて表３に示す。ただし、表３中の平均反射率及び最
大反射率は波長４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲内におけ
る値とする。また、表３中ｘ，ｙはＣＩＥ１９３１の色
度を示す。Table 3 summarizes the optical characteristics of the antireflection film. However, the average reflectance and the maximum reflectance in Table 3 are values within a wavelength range of 450 to 650 (nm). In Table 3, x and y indicate the chromaticity of CIE1931.
【００４２】[0042]
【表３】 [Table 3]
【００４３】すなわち、本発明を適用し、基板の一主面
上に、波長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが０．１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側で
の屈折率ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが
１．０〜５．４の範囲であるとともに、長波長側での消
衰係数ｋが短波長側のそれより高い微粒子である金を含
有する第１の光学薄膜と第２の光学薄膜が積層形成され
てなる反射防止膜においては、第２の光学薄膜側から光
が入射した場合に、第１の光学薄膜との光の干渉によ
り、反射が抑えられ、広い波長領域で反射が低く抑えら
れることが計算上確認された。That is, by applying the present invention, the refractive index n of light having a wavelength of 400 to 730 (nm) is in the range of 0.1 to 2.7 on one main surface of the substrate, and on the long wavelength side, Of which the refractive index n is lower than that on the short wavelength side, the extinction coefficient k is in the range of 1.0 to 5.4, and the extinction coefficient k on the long wavelength side is higher than that on the short wavelength side. In an antireflection film formed by laminating a first optical thin film containing gold and a second optical thin film, when light is incident from the side of the second optical thin film, It has been confirmed by calculation that reflection is suppressed by light interference and the reflection is suppressed low in a wide wavelength range.
【００４４】ところで、上記本発明を適用した反射防止
膜においては、第１の光学薄膜中に含有される微粒子の
光学特性を規定して、第２の光学薄膜側から光が入射し
た場合に、第１の光学薄膜との光の干渉により、反射を
抑えるようにしている。すなわち、微粒子としては、上
記の光学特性を有するものであれば、使用可能である。
より具体的には、光の波長と上記微粒子における屈折率
ｎ及び消衰係数ｋの関係が、先に述べたように表４に示
すような関係に近似した関係を有するものであれば使用
可能であり、微粒子の各波長における屈折率が表４中に
示す各波長における屈折率に対して零以上で且つ±１．
０の範囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲であ
るもの、微粒子の各波長における消衰係数が表４中に示
す各波長における消衰係数に対して±１．０の範囲、好
ましくは±０．６の範囲であるものであれば十分使用可
能である。By the way, in the antireflection film to which the present invention is applied, the optical characteristics of the fine particles contained in the first optical thin film are defined, and when light enters from the second optical thin film side, Reflection is suppressed by interference of light with the first optical thin film. That is, any fine particles having the above-mentioned optical characteristics can be used.
More specifically, any relationship can be used as long as the relationship between the wavelength of light and the refractive index n and extinction coefficient k of the fine particles has a relationship similar to the relationship shown in Table 4 as described above. Where the refractive index at each wavelength of the fine particles is not less than zero with respect to the refractive index at each wavelength shown in Table 4, and ± 1.
0, preferably 0 or more and ± 0.6 range, the extinction coefficient at each wavelength of the fine particles ± 1.0 range with respect to the extinction coefficient at each wavelength shown in Table 4, Preferably, a value within the range of ± 0.6 is sufficient.
【００４５】[0045]
【表４】 [Table 4]
【００４６】表４にて示した上記微粒子の波長と屈折率
及び消衰係数の関係を図５に示す。図５中横軸は波長を
示し、縦軸は屈折率及び消衰係数を示し、図５中○は表
４中に示した各波長における屈折率、◎は表４中に示し
た各波長における消衰係数を示す。さらに、図５中に金
及び銅の屈折率と消衰係数も併せて示す。図５中△は金
の屈折率を示し、図５中□は金の消衰係数を示し、図５
中▽は銅の屈折率を示し、図５中×は銅の消衰係数を示
す。図５を見て明らかなように、これら金及び銅の特性
は前述の条件を十分満たしており、先に使用した金以外
に銅も十分使用可能であることが確認された。また、こ
こには示さないが、銅の他にも、窒化チタン、窒化ジル
コニウム、窒化ハフニウムといった金属の窒化物や黄銅
等も同様の特性を有することから使用可能である。FIG. 5 shows the relationship between the wavelength and the refractive index and the extinction coefficient of the fine particles shown in Table 4. In FIG. 5, the abscissa indicates the wavelength, the ordinate indicates the refractive index and the extinction coefficient, and in FIG. 5, は indicates the refractive index at each wavelength shown in Table 4, and ◎ indicates the wavelength at each wavelength shown in Table 4. Indicates the extinction coefficient. FIG. 5 also shows the refractive index and extinction coefficient of gold and copper. 5 shows the refractive index of gold, and □ in FIG. 5 shows the extinction coefficient of gold.
The center square indicates the refractive index of copper, and the cross in FIG. 5 indicates the extinction coefficient of copper. As apparent from FIG. 5, the characteristics of gold and copper sufficiently satisfy the above-mentioned conditions, and it was confirmed that copper other than gold used previously can be sufficiently used. Although not shown here, other than copper, metal nitrides such as titanium nitride, zirconium nitride, and hafnium nitride, brass, and the like can be used because they have similar characteristics.
【００４７】実験例２ 次に、第１の光学薄膜及び第２の光学薄膜の条件を変更
して種々の反射防止膜を想定し、その光学特性をシミュ
レーションした。これらの反射防止膜は、種々の材料の
組合わせにより、実験例１で使用した反射防止膜と同様
に十分実現可能である。 Experimental Example 2 Next, various antireflection films were assumed by changing the conditions of the first optical thin film and the second optical thin film, and their optical characteristics were simulated. These antireflection films can be sufficiently realized by combining various materials similarly to the antireflection films used in Experimental Example 1.
【００４８】すなわち、表５に示すように、金を表５中
に示す割合で含有し、これと波長５５０（ｎｍ）の光に
対して表５中に示すような屈折率を有する光学的に透明
な材料を含有する混合材料を想定し、これを基板上に配
して表５中に示す厚さを有する第１の光学薄膜を形成し
たと想定し、その上に表５中に示す厚さのＳｉＯ2 単層
或いは第１の光学薄膜側から表５中に示す厚さのＳｉＯ
x 層と表５中に示す厚さのＳｉＯ2 層が積層されてなる
第２の光学薄膜を形成したと想定し、サンプル１〜１３
の１３種の反射防止膜を想定した。That is, as shown in Table 5, gold is contained in the ratio shown in Table 5 and optically having a refractive index shown in Table 5 with respect to light having a wavelength of 550 (nm). Assuming a mixed material containing a transparent material, disposing the mixed material on a substrate to form a first optical thin film having a thickness shown in Table 5, and forming a first optical thin film thereon having a thickness shown in Table 5 the thickness of the SiO shown in Table 5 is the SiO 2 single layer or the first optical thin film side
Assuming that a second optical thin film was formed by laminating the x layer and the SiO 2 layer having the thickness shown in Table 5, samples 1 to 13
13 antireflection films were assumed.
【００４９】[0049]
【表５】 [Table 5]
【００５０】表５中屈折率が１．５２とされている透明
材料としては、波長３８０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５３、波長４５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５１、波長５５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５２、波長６５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５４、波長７８０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５６であるものを想定し、表５中に示される屈
折率が１．５２以外の透明材料については、波長３８０
〜７８０（ｎｍ）の光に対して屈折率が一定であるもの
を想定した。In Table 5, the transparent material having a refractive index of 1.52 has a refractive index n of 1.53 for light having a wavelength of 380 (nm) and a refractive index n of 1 for light having a wavelength of 450 (nm). .51, the refractive index n for light having a wavelength of 550 (nm) is 1.52, the refractive index n for light having a wavelength of 650 (nm) is 1.54, and the refractive index n for light having a wavelength of 780 (nm) is 1.56. As for transparent materials having a refractive index other than 1.52 shown in Table 5, a wavelength of 380
It is assumed that the refractive index is constant for light of ７780 (nm).
【００５１】そして、上記サンプル１〜１３について、
視感反射率、ＣＩＥ１９３１の色度（ｘ，ｙ）、波長５
５０（ｎｍ）及び４５０（ｎｍ）の光に対する透過率を
シミュレートし、総合的な評価を行った。これらの結果
を表５に併せて示すこととする。なお、総合的な評価
は、３段階で評価することとし、△は実用上問題は無い
が、所定の単一波長において反射を零とすることができ
るものの他の波長での反射率が高いものを示し、○は実
用に十分対応可能であるが、所定の単一波長において反
射を零とすることができるものの他の波長での反射率が
若干高いものを示し、◎は実用上非常に好ましく、広い
波長領域に亘って反射率が低く抑えられているものを示
す。Then, for the above samples 1 to 13,
Luminous reflectance, CIE1931 chromaticity (x, y), wavelength 5
The transmittance for light of 50 (nm) and 450 (nm) was simulated, and comprehensive evaluation was performed. These results are also shown in Table 5. In addition, comprehensive evaluation shall be evaluated in three stages, and Δ indicates that there is no problem in practical use, but that reflection can be made zero at a predetermined single wavelength, and that reflectance is high at other wavelengths ○ indicates that the reflectance can be reduced to zero at a predetermined single wavelength, but that the reflectance at other wavelengths is slightly higher, which is sufficiently practicable, and ◎ is very preferable in practice. , The reflectance of which is kept low over a wide wavelength range.
【００５２】すなわち、表５の結果から、波長４００〜
７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７
の範囲であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長
側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範
囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側
のそれより高い微粒子である金と波長５５０（ｎｍ）の
光における屈折率ｎが１．３８〜２．７とされている光
学的に透明な材料を含有する第１の光学薄膜が形成さ
れ、その上に第２の光学薄膜が形成されているサンプル
１〜５、７〜９、１２，１３においては、実用上問題の
無い特性が得られることが確認された。That is, from the results in Table 5, the wavelength of 400 to
The refractive index n in the light of 730 (nm) is 0.1 to 2.7.
, The refractive index n on the long wavelength side is lower than that on the short wavelength side, the extinction coefficient k is in the range of 1.0 to 5.4, and the extinction coefficient on the long wavelength side First optics containing gold, which is a fine particle in which k is higher than that on the short wavelength side, and an optically transparent material having a refractive index n of 1.38 to 2.7 for light having a wavelength of 550 (nm). In samples 1 to 5, 7 to 9, 12, and 13 in which a thin film was formed and a second optical thin film was formed thereon, it was confirmed that characteristics having no practical problem were obtained.
【００５３】そして、これらのうち、金の含有量が３０
〜８０（体積％）とされているサンプル３〜５、７〜
９、１２，１３においては、実用に十分対応可能である
特性が得られることが確認された。Of these, the gold content is 30
Samples 3 to 5, 7 to 80% by volume
In 9, 12, and 13, it was confirmed that characteristics that could be sufficiently used for practical use were obtained.
【００５４】また、表５の結果から、第２の光学薄膜と
して、波長５５０（ｎｍ）の光に対する屈折率ｎが１．
３５〜１．７である薄膜が形成されているサンプル１〜
１３においては、実用上問題の無い特性が得られること
が確認された。サンプル１０〜１３においては、第２の
光学薄膜をＳｉＯX 層とＳｉＯ2 層を積層した積層膜と
しており、ＳｉＯX との光学特性としては、表６に示す
ようなものが例示されるが、この第２の光学薄膜の光学
特性は光の入射側となるＳｉＯ2 の光学特性により略決
定されるため、上記のような特性を有するものとなる。From the results shown in Table 5, the refractive index n for light having a wavelength of 550 (nm) is 1.
Sample 1 having a thin film of 35 to 1.7 formed thereon
In No. 13, it was confirmed that characteristics having no practical problem were obtained. In Samples 10 to 13, the second optical thin film is a laminated film in which a SiO X layer and a SiO 2 layer are laminated, and the optical characteristics with SiO X are as shown in Table 6, for example. The optical characteristics of the second optical thin film are substantially determined by the optical characteristics of SiO 2 on the light incident side, and thus have the above-described characteristics.
【００５５】[0055]
【表６】 [Table 6]
【００５６】さらに、表５の結果から、第２の光学薄膜
をＳｉＯ2 よりなる薄膜としているサンプル１〜９のう
ち、第２の光学薄膜の厚さを５５〜８０（ｎｍ）として
いるサンプル３〜９においては、実用に十分対応可能で
ある特性が得られることが確認された。ただし、サンプ
ル２においては、金の含有量が若干少ないことから、特
性が若干劣っている。Further, from the results shown in Table 5, among Samples 1 to 9 in which the second optical thin film is a thin film made of SiO 2, Sample 3 in which the thickness of the second optical thin film is 55 to 80 (nm) In Nos. To 9, it was confirmed that characteristics sufficiently applicable to practical use were obtained. However, the properties of Sample 2 are slightly inferior because the content of gold is slightly small.
【００５７】さらにまた、表５の結果から、第２の光学
薄膜をＳｉＯX とＳｉＯ2 を積層した積層膜としてお
り、ＳｉＯX よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）と
されている、或いは 第１の光学薄膜の膜厚が８〜２５
（ｎｍ）とされ、ＳｉＯX よりなる部分の膜厚が２〜１
０（ｎｍ）とされ、ＳｉＯ2 よりなる部分の膜厚が５５
〜８０（ｎｍ）とされているサンプル１０〜１３におい
ては、実用上非常に好ましい特性が得られることが確認
された。Further, from the results shown in Table 5, the second optical thin film is a laminated film in which SiO X and SiO 2 are laminated, and the thickness of the portion made of SiO X is 2 to 10 (nm). Or, the thickness of the first optical thin film is 8 to 25.
(Nm), and the thickness of the portion made of SiO X is 2 to 1
0 (nm), and the thickness of the portion made of SiO 2 is 55
It was confirmed that samples 10 to 13 having a wavelength of ８０80 (nm) can obtain practically very preferable characteristics.
【００５８】[0058]
【発明の効果】上述のように、本発明に係る反射防止膜
においては、基板の一主面上に、波長４００〜７３０
（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲
であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそ
れよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であ
るとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれ
より高い微粒子を少なくとも含有する第１の光学薄膜
と、この上に第２の光学薄膜が形成されていることか
ら、第２の光学薄膜側から光が入射した場合に、第１の
光学薄膜との光の干渉により、反射が抑えられ、広い波
長領域に亘って反射が抑えられる。また、上記本発明の
反射防止膜においては、従来の反射防止膜よりも層数が
少なく、製造コストが低減され、作業も容易となり、生
産性が向上する。As described above, in the antireflection film according to the present invention, the wavelength of 400 to 730 is formed on one main surface of the substrate.
(Nm), the refractive index n is in the range of 0.1 to 2.7, the refractive index n on the long wavelength side is lower than that on the short wavelength side, and the extinction coefficient k is 1.0 to 2.7. A first optical thin film containing at least fine particles having an extinction coefficient k on the long wavelength side higher than that on the short wavelength side, and a second optical thin film formed thereon. Therefore, when light is incident from the second optical thin film side, reflection is suppressed due to interference of light with the first optical thin film, and reflection is suppressed over a wide wavelength range. Further, in the antireflection film of the present invention, the number of layers is smaller than that of the conventional antireflection film, the manufacturing cost is reduced, the work is easy, and the productivity is improved.
【００５９】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜に光学的に透明な材料を含有させ、
これを基板上に塗布可能なポリマー等とすれば、ポリマ
ーと微粒子を含む第１の光学薄膜が塗布形成され、第２
の光学薄膜のみを真空薄膜形成手段により形成すれば良
く、製造コストが更に低減され、作業も更に容易とな
り、生産性が更に向上する。In the antireflection film of the present invention,
The first optical thin film contains an optically transparent material,
If this is a polymer or the like that can be applied on a substrate, a first optical thin film containing a polymer and fine particles is applied and formed,
Only the optical thin film may be formed by the vacuum thin film forming means, so that the manufacturing cost is further reduced, the operation is further facilitated, and the productivity is further improved.
【図１】本発明に係る反射防止膜の構成を模式的に示す
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an antireflection film according to the present invention.
【図２】本発明に係わる反射防止膜をＣＲＴのパネルに
適用した状態を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which the antireflection film according to the present invention is applied to a CRT panel.
【図３】波長と反射率の関係を示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between wavelength and reflectance.
【図４】波長と透過率の関係を示す特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between wavelength and transmittance.
【図５】波長と屈折率及び消衰係数の関係を示す特性図
である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing a relationship between a wavelength, a refractive index, and an extinction coefficient.
１ 基台、１ａ，２ａ，３ａ 一主面、２ 基板、３
第１の光学薄膜、４第２の光学薄膜1 base, 1a, 2a, 3a one main surface, 2 substrates, 3
First optical thin film, fourth optical thin film
Claims (19)
０．１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側での屈
折率ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．
０〜５．４の範囲であるとともに、長波長側での消衰係
数ｋが短波長側のそれより高い微粒子を少なくとも含有
する第１の光学薄膜が形成され、 上記第１の光学薄膜の上に第２の光学薄膜が形成されて
なることを特徴とする反射防止膜。1. A method according to claim 1, wherein the refractive index n of light having a wavelength of 400 to 730 (nm) is in the range of 0.1 to 2.7 and the refractive index n on the long wavelength side is short. The extinction coefficient k is lower than that on the wavelength side.
A first optical thin film having a range of 0 to 5.4 and containing at least fine particles having an extinction coefficient k on the long wavelength side higher than that on the short wavelength side is formed; An anti-reflection film characterized by comprising a second optical thin film formed thereon.
料を含有することを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。2. The anti-reflection film according to claim 1, wherein said first optical thin film contains an optically transparent material.
に透明な材料がポリマーであることを特徴とする請求項
２記載の反射防止膜。3. The anti-reflection film according to claim 2, wherein the optically transparent material contained in the first optical thin film is a polymer.
に透明な材料が無機物であることを特徴とする請求項２
記載の反射防止膜。4. The optically transparent material contained in the first optical thin film is an inorganic material.
The antireflection film as described in the above.
に透明な材料の波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．３８〜２．７であることを特徴とする請求項２
記載の反射防止膜。5. The optically transparent material contained in the first optical thin film has a refractive index n of 1.38 to 2.7 for light having a wavelength of 550 (nm). 2
The antireflection film as described in the above.
が金であることを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。6. The antireflection film according to claim 1, wherein the fine particles contained in the first optical thin film are gold.
が金属の窒化物であることを特徴とする請求項１記載の
反射防止膜。7. The antireflection film according to claim 1, wherein the fine particles contained in the first optical thin film are metal nitrides.
ジルコニウム、窒化ハフニウムの何れかであることを特
徴とする請求項７記載の反射防止膜。8. The antireflection film according to claim 7, wherein said metal nitride is any one of titanium nitride, zirconium nitride and hafnium nitride.
が銅あるいは黄銅の何れかであることを特徴とする請求
項１記載の反射防止膜。9. The antireflection film according to claim 1, wherein the fine particles contained in the first optical thin film are either copper or brass.
８０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７
であることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。10. The wavelength 380-7 of the second optical thin film.
The refractive index n in light of 80 (nm) is 1.35 to 1.7.
The anti-reflection film according to claim 1, wherein
なる薄膜であることを特徴とする請求項１０記載の反射
防止膜。11. The anti-reflection film according to claim 10, wherein said second optical thin film is a thin film made of silicon dioxide.
０（ｎｍ）であることを特徴とする請求項１１記載の反
射防止膜。12. The film thickness of the second optical thin film is 55-8.
The antireflection film according to claim 11, wherein the thickness is 0 (nm).
ウムよりなる薄膜であることを特徴とする請求項１０記
載の反射防止膜。13. The anti-reflection film according to claim 10, wherein said second optical thin film is a thin film made of magnesium fluoride.
る単層膜であることを特徴とする請求項１０記載の反射
防止膜。14. The anti-reflection film according to claim 10, wherein said second optical thin film is a single-layer film made of a polymer.
側から珪素の酸化物と二酸化珪素が積層された積層膜で
あることを特徴とする請求項１０記載の反射防止膜。15. The anti-reflection film according to claim 10, wherein said second optical thin film is a laminated film in which silicon oxide and silicon dioxide are laminated from the first optical thin film side.
酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）であるこ
とを特徴とする請求項１５記載の反射防止膜。16. The anti-reflection coating according to claim 15, wherein the thickness of the portion of the second optical thin film made of silicon oxide is 2 to 10 (nm).
（ｎｍ）であり、上記第２の光学薄膜を形成する珪素の
酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）であり、
二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８０（ｎｍ）で
あることを特徴とする請求項１５記載の反射防止膜。17. The film thickness of the first optical thin film is 8 to 25.
(Nm), and the film thickness of the portion made of silicon oxide forming the second optical thin film is 2 to 10 (nm);
The anti-reflection film according to claim 15, wherein the thickness of the portion made of silicon dioxide is 55 to 80 (nm).
子が金であることを特徴とする請求項２記載の反射防止
膜。18. The anti-reflection film according to claim 2, wherein the fine particles contained in said first optical thin film are gold.
％）であることを特徴とする請求項１７記載の反射防止
膜。19. The antireflection film according to claim 17, wherein the gold content is 30 to 80 (vol%).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9358206A JPH11190801A (en) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | Anti-reflective coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9358206A JPH11190801A (en) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | Anti-reflective coating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11190801A true JPH11190801A (en) | 1999-07-13 |
Family
ID=18458084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9358206A Abandoned JPH11190801A (en) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | Anti-reflective coating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11190801A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007241179A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Cover glass for display |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP9358206A patent/JPH11190801A/en not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007241179A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Cover glass for display |
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