JPH11183705A - Optical member having reflection preventing film - Google Patents

Optical member having reflection preventing film

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JPH11183705A
JPH11183705A JP9350706A JP35070697A JPH11183705A JP H11183705 A JPH11183705 A JP H11183705A JP 9350706 A JP9350706 A JP 9350706A JP 35070697 A JP35070697 A JP 35070697A JP H11183705 A JPH11183705 A JP H11183705A
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JP
Japan
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layer
refractive index
thickness
optical member
range
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JP9350706A
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Japanese (ja)
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Kei Ishimura
圭 石村
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Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical member in which a reflection preventing film excellent in durability where a reflection color becomes a green reflection color and easy in the control of its film thickness is formed on a plastic lens base material. SOLUTION: This optical member made of a plastic and its provided with a reflection preventing film constituted of a base material in which a refractive index is >=1.45 and <1.58, a 1st layer having a refractive index in the range of 1.37 to 1.48 and optical film thickness in the range of 0.60 to 1.25λ (provided that λis a value in the range of 400 to 650 nm), a 2nd layer having a refractive index in the range of 1.90 to 2.10 and optical film thickness in the range of 0.20 to 0.40λ, a 3rd layer having a refractive index in the range of 2.15 to 2.30 and optical film thickness in the range of 0.15 to 0.35λ and a 4th layer having a refractive index in the range of 1.37 to 1.48 and optical film thickness in the range of 0.20 to 0.35λ which are successively laminated from the side of the base material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、光学部材、特に
眼鏡レンズなどに用いる合成樹脂製基材に設ける反射防
止膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film provided on an optical member, in particular, a synthetic resin substrate used for an eyeglass lens or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチックなどの合成樹脂は、ガラス
に比べて軽量で、かつ加工性および耐衝撃性に優れてお
り、また染色しやすいという性質を備えている。このた
め、近年、プラスチックは、眼鏡レンズ等、ガラスに代
わる光学部材の材料として注目されている。
2. Description of the Related Art Synthetic resins such as plastics are lighter in weight, more excellent in workability and impact resistance than glass, and have properties of being easily dyed. For this reason, plastics have recently attracted attention as a material for optical members that replace glass, such as eyeglass lenses.

【0003】しかしながら、このプラスチックは、ガラ
スと比べると硬度が低いため、傷つきやすい。また、溶
媒に侵されやすい、帯電して埃を吸着してしまう、耐熱
性が低い等といった欠点がある。このため、光学部材と
して使用するためには、これらの欠点を補うような膜が
プラスチックの基材上に形成される。
[0003] However, since this plastic has a lower hardness than glass, it is easily damaged. In addition, there are disadvantages such as being easily attacked by a solvent, being charged and adsorbing dust, and having low heat resistance. Therefore, for use as an optical member, a film that compensates for these drawbacks is formed on a plastic substrate.

【0004】例えば、眼鏡レンズにおいては、プラスチ
ックレンズ基材の上に耐衝撃性を向上させるプライマー
層や、基材表面を保護するハードコート層や、レンズの
表面反射を抑えるための反射防止膜が形成されている。
For example, in a spectacle lens, a primer layer for improving impact resistance, a hard coat layer for protecting the substrate surface, and an antireflection film for suppressing surface reflection of the lens are provided on a plastic lens substrate. Is formed.

【0005】この反射防止膜に関しても、上述したプラ
スチックの欠点を補うような膜となっていることが望ま
しい。例えば、特公平6−85001号公報に開示され
ている多層反射防止膜を有する光学物品は、プラスチッ
ク透明基材の上側に4層からなる多層反射防止膜が設け
られていて、基材側から順に第1層が酸化ジルコニウム
を主成分とする層であって、第2層が二酸化ケイ素を主
成分とする層であって、第3層が酸化チタンを主成分と
する層であって、第4層が二酸化ケイ素を主成分とする
層となっている。これによれば、特に密着強度および耐
久性に優れた反射防止膜が得られる。
It is desirable that the antireflection film also be a film that makes up for the above-mentioned disadvantages of plastic. For example, in an optical article having a multilayer antireflection film disclosed in Japanese Patent Publication No. 6-85001, a multilayer antireflection film consisting of four layers is provided on the upper side of a plastic transparent substrate, and is sequentially arranged from the substrate side. The first layer is a layer mainly containing zirconium oxide, the second layer is a layer mainly containing silicon dioxide, the third layer is a layer mainly containing titanium oxide, and the fourth layer is a layer mainly containing titanium oxide. The layer is a layer containing silicon dioxide as a main component. According to this, an antireflection film having particularly excellent adhesion strength and durability can be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この反
射防止膜を構成する各層のなかには、0.15λ以下の
厚さの層が含まれている(λは設定波長を示し、ここで
は450〜550nmとしている。)。このように層の
厚さが薄い場合には、反射防止膜を製造する際、層の厚
さを制御するのが困難となる。これにより、光学部材自
体の生産性を低下させてしまうおそれがある。
However, among the layers constituting the antireflection film, a layer having a thickness of 0.15λ or less is included (λ represents a set wavelength, and here, 450 to 550 nm. There.) When the thickness of the layer is small, it is difficult to control the thickness of the layer when manufacturing the antireflection film. As a result, the productivity of the optical member itself may be reduced.

【0007】また、屈折率が1.45以上1.58未満
という低屈折率で、安価なプラスチックレンズ基材上に
もうける反射防止膜において、耐擦傷性、耐薬品(溶
媒)性、帯電防止性および耐熱性等の耐久性が劣化して
いるというプラスチックの欠点を補うことができるもの
はこれまでなかった。
In addition, in an antireflection film formed on an inexpensive plastic lens substrate having a low refractive index of 1.45 or more and less than 1.58, scratch resistance, chemical (solvent) resistance, and antistatic properties There has not been anything that can compensate for the drawbacks of plastics, such as poor heat resistance and durability.

【0008】また、近年、眼鏡レンズにおいてはファッ
ション性を高めるということ、およびカメラのレンズに
おいては高級感を出すということが望まれていて、レン
ズの反射色を緑色にするのが、一般的に好ましいとされ
ている。
In recent years, it has been desired to enhance the fashionability of spectacle lenses and to give a high-quality appearance to camera lenses. In general, the reflection color of lenses is made green. It is preferred.

【0009】このため、屈折率が1.45以上1.58
未満という値を有するプラスチックレンズ基材に、耐久
性に優れ、反射色が緑色となり、かつ膜を構成する層の
厚さの制御が容易であるような反射防止膜が設けられた
光学部材の出現が望まれていた。
Therefore, the refractive index is 1.45 or more and 1.58 or more.
The emergence of an optical member provided with an anti-reflection film having excellent durability, a green reflection color, and easy control of the thickness of a layer constituting the film on a plastic lens substrate having a value of less than Was desired.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このため、この発明の光
学部材は、プラスチックからなる基材と、この基材上に
形成された反射防止膜とを備えた光学部材であって、基
材の屈折率の値が1.45以上1.58未満の範囲内に
あり、反射防止膜は、前記基材の側から順に積層され
た、第1層、第2層、第3層および第4層を含み、第1
層は、屈折率の値が1.37〜1.48の範囲内にあ
り、かつ光学的膜厚が0.60λ〜1.25λ(但し、
λは設計中心波長とし、400nm〜650nmの範囲
内の値とする。)の範囲内にある層とし、第2層は、屈
折率の値が1.90〜2.10の範囲内にあり、かつ光
学的膜厚が0.20λ〜0.40λの範囲内にある層と
し、第3層は、屈折率の値が2.15〜2.30の範囲
内にあり、かつ光学的膜厚が0.15λ〜0.35λの
範囲内にある層とし、第4層は、屈折率の値が1.37
〜1.48の範囲内にあり、かつ光学的膜厚が0.20
λ〜0.35λの範囲内にある層とすることを特徴とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an optical member according to the present invention is an optical member comprising a plastic base material and an antireflection film formed on the base material. The value of the refractive index is in the range of 1.45 or more and less than 1.58, and the antireflection film is a first layer, a second layer, a third layer, and a fourth layer sequentially laminated from the base material side. Including the first
The layer has a refractive index value in the range of 1.37 to 1.48 and an optical film thickness of 0.60λ to 1.25λ (provided that
λ is a design center wavelength, and a value within a range of 400 nm to 650 nm. ), And the second layer has a refractive index value in the range of 1.90 to 2.10 and an optical film thickness in the range of 0.20λ to 0.40λ. A third layer having a refractive index value in the range of 2.15 to 2.30 and an optical film thickness in the range of 0.15λ to 0.35λ; Means that the value of the refractive index is 1.37
11.48 and the optical film thickness is 0.20
The layer is characterized by being in the range of λ to 0.35λ.

【0011】この反射防止膜を構成する層のうち、第1
層から第4層までの各層のうち、光学膜厚が一番薄くな
る層の厚さを0.15λ以上の厚さにすることができ
る。このため、合成樹脂からなる基材上に膜を形成する
ときの膜厚の制御を容易に行うことができる。このた
め、光学部材の生産性を向上させることができる。
Among the layers constituting the antireflection film, the first
Of the layers from the layer to the fourth layer, the thickness of the layer having the smallest optical film thickness can be 0.15λ or more. Therefore, it is possible to easily control the film thickness when the film is formed on the substrate made of the synthetic resin. For this reason, the productivity of the optical member can be improved.

【0012】また、この反射防止膜を構成する層のう
ち、屈折率の値が1.37〜1.48の範囲内にある第
1層および第4層を構成する材料をSiO2 とすると、
SiO2 は硬度の高い材料であるため、耐擦傷性に優れ
た反射防止膜を形成することができる。
When the material constituting the first and fourth layers having a refractive index in the range of 1.37 to 1.48 is SiO 2 among the layers constituting the antireflection film,
Since SiO 2 is a material having high hardness, an antireflection film having excellent scratch resistance can be formed.

【0013】さらに、反射防止膜を上記のような構成に
することによって、この光学部材の反射色を緑色にする
ことができる。
Further, by forming the anti-reflection film as described above, the reflection color of the optical member can be made green.

【0014】また、好ましくは、基材と反射防止膜との
間に、ハードコート層、もしくは、プライマー層および
ハードコート層が設けられているのがよい。
Preferably, a hard coat layer or a primer layer and a hard coat layer are provided between the substrate and the antireflection film.

【0015】ハードコート層が設けられていれば、光学
部材の耐擦傷性をより向上させることができる。また、
プライマー層が設けられていれば、光学部材の耐衝撃性
をより向上させることができる。このため、光学部材の
耐久性を向上させることができる。
If the hard coat layer is provided, the scratch resistance of the optical member can be further improved. Also,
If the primer layer is provided, the impact resistance of the optical member can be further improved. For this reason, the durability of the optical member can be improved.

【0016】また、第2層を、ZrO2 およびTa2
5 のうちの一方の材料で形成するか、もしくは双方の材
料の混合物で形成するのがよい。
The second layer is made of ZrO 2 and Ta 2 O.
It is preferable to use one of the five materials or a mixture of both materials.

【0017】第2層を構成する材料としては、ZrO2
やTa22 以外にも、HfO2 、CeO2 、Al2
3 、La23 およびNd23 等のような金属酸化物
を用いることができる。しかし、光学部材の耐久性を向
上させるためにはZrO2 とTa25 を用いるのが好
ましい。
The material constituting the second layer is ZrO 2
Besides or Ta 2 O 2, HfO 2, CeO 2, Al 2 O
3 , metal oxides such as La 2 O 3 and Nd 2 O 3 can be used. However, in order to improve the durability of the optical member, it is preferable to use ZrO 2 and Ta 2 O 5 .

【0018】また、第3層を構成する材料を、TiO2
のみ、TiO2 とZrO2 またはTa25 との2成分
の混合物、もしくはTiO2 、ZrO2 、およびTa2
5の3成分の混合物とするのがよい。第3層を構成す
る材料は、屈折率が2.15の高屈折率材料である。反
射防止膜および光学部材の耐久性を考慮すると、上記し
た材料を用いるのがよい。
The material constituting the third layer is TiO 2
Only, a binary mixture of TiO 2 and ZrO 2 or Ta 2 O 5 , or TiO 2 , ZrO 2 and Ta 2
It is preferable to use a mixture of three components of O 5 . The material constituting the third layer is a high refractive index material having a refractive index of 2.15. In consideration of the durability of the antireflection film and the optical member, the above-described materials are preferably used.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
き説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0020】この発明の光学部材は、プラスチックから
なる基材と、この基材上に形成された反射防止膜とを備
えた光学部材である。基材の屈折率の値は1.45以上
1.58未満の範囲内にある。また、反射防止膜は、基
材の側から順に積層された第1層、第2層、第3層およ
び第4層を含んでいる。
The optical member of the present invention is an optical member comprising a base made of plastic and an antireflection film formed on the base. The value of the refractive index of the substrate is in the range of 1.45 or more and less than 1.58. Further, the antireflection film includes a first layer, a second layer, a third layer, and a fourth layer sequentially laminated from the side of the base material.

【0021】プラスチックの基材の材料となる高分子化
合物としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル酸エス
テルおよび/またはメタクリル酸エステルの共重合体
(この中には他のビニルモノマとの共重合体を含
む。)、ポリアミド、ポリエステル(いわゆるアルキド
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂を含む。)、各種アミノ
樹脂(尿素樹脂を含む。)、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルアルコール、透明塩化ビニル樹脂、繊
維素系樹脂およびエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート重合体(CR39)を用いることができる。
Examples of the polymer compound used as the material of the plastic base material include, for example, a copolymer of an epoxy resin, an acrylate ester and / or a methacrylate ester (including a copolymer with another vinyl monomer. .), Polyamide, polyester (including so-called alkyd resin and unsaturated polyester resin), various amino resins (including urea resin), urethane resin, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, transparent vinyl chloride resin, and cellulose resin And ethylene glycol bisallyl carbonate polymer (CR39).

【0022】反射防止膜の第1層は、屈折率の値が1.
37〜1.48の範囲内にあり、かつ光学的膜厚が0.
60λ〜1.25λの範囲内にある層とする。ここで、
λは設計中心波長とし、400nm〜650nmの範囲
内の値とする。第2層は、屈折率の値が1.90〜2.
10の範囲内にあり、かつ光学的膜厚が0.20λ〜
0.40λの範囲内にある層とし、第3層は、屈折率の
値が2.15〜2.30の範囲内にあり、かつ光学的膜
厚が0.15λ〜0.35λの範囲内にある層とし、第
4層は、屈折率の値が1.37〜1.48の範囲内にあ
り、かつ光学的膜厚が0.20λ〜0.35λの範囲内
にある層とする。
The first layer of the antireflection film has a refractive index value of 1.
It is in the range of 37 to 1.48, and the optical film thickness is 0.4.
The layer is in the range of 60λ to 1.25λ. here,
λ is a design center wavelength, and a value within a range of 400 nm to 650 nm. The second layer has a refractive index value of 1.90-2.
10 and the optical film thickness is 0.20λ-
The third layer has a refractive index value in the range of 2.15 to 2.30 and an optical film thickness in the range of 0.15λ to 0.35λ. And the fourth layer has a refractive index value in the range of 1.37 to 1.48 and an optical film thickness in the range of 0.20λ to 0.35λ.

【0023】ここで、第1層および第4層を構成する材
料をSiO2 とすると、SiO2は硬度の高い材料であ
るため、耐擦傷性に優れた反射防止膜を形成することが
できる。
Here, if the material constituting the first layer and the fourth layer is SiO 2 , since SiO 2 is a material having high hardness, an antireflection film having excellent scratch resistance can be formed.

【0024】また、第2層を、ZrO2 およびTa2
5 のうちの一方の材料で形成するか、もしくは双方の材
料の混合物で形成するのがよい。
The second layer is made of ZrO 2 and Ta 2 O.
It is preferable to use one of the five materials or a mixture of both materials.

【0025】第2層を構成する材料としては、ZrO2
やTa22 以外にも、HfO2 、CeO2 、Al2
3 、La23 およびNd23 等のような金属酸化物
を用いることができる。しかし、光学部材の耐久性を向
上させるためにはZrO2 とTa25 を用いるのが好
ましい。
The material constituting the second layer is ZrO 2
Besides or Ta 2 O 2, HfO 2, CeO 2, Al 2 O
3 , metal oxides such as La 2 O 3 and Nd 2 O 3 can be used. However, in order to improve the durability of the optical member, it is preferable to use ZrO 2 and Ta 2 O 5 .

【0026】また、第3層を構成する材料を、TiO2
のみ、TiO2 とZrO2 またはTa25 との2成分
の混合物、もしくはTiO2 、ZrO2 、およびTa2
5の3成分の混合物とするのがよい。第3層を構成す
る材料は、屈折率が2.15の高屈折率材料である。反
射防止膜および光学部材の耐久性を考慮すると、上記し
た材料を用いるのがよい。
The material constituting the third layer is TiO 2
Only, a binary mixture of TiO 2 and ZrO 2 or Ta 2 O 5 , or TiO 2 , ZrO 2 and Ta 2
It is preferable to use a mixture of three components of O 5 . The material constituting the third layer is a high refractive index material having a refractive index of 2.15. In consideration of the durability of the antireflection film and the optical member, the above-described materials are preferably used.

【0027】また、基材と反射防止膜との間に、ハード
コート層、もしくは、プライマー層およびハードコート
層が設けられているのがよい。
A hard coat layer or a primer layer and a hard coat layer are preferably provided between the substrate and the antireflection film.

【0028】ハードコート層が設けられていれば、光学
部材の耐擦傷性をより向上させることができる。また、
プライマー層が設けられていれば、光学部材の耐衝撃性
をより向上させることができる。このため、光学部材の
耐久性を向上させることができる。
If the hard coat layer is provided, the scratch resistance of the optical member can be further improved. Also,
If the primer layer is provided, the impact resistance of the optical member can be further improved. For this reason, the durability of the optical member can be improved.

【0029】ハードコート膜は、下記一般式(I)で表
わされる有機ケイ素化合物またはその加水分解物が好ま
しい。
The hard coat film is preferably an organosilicon compound represented by the following general formula (I) or a hydrolyzate thereof.

【0030】一般式(I): R1 a2 bSi(OR34-(a+b) 但し、式中、R1 は、官能基又は不飽和2重結合を有す
る炭素数4〜14の有機基であり、R2 は、炭素数1〜
6の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基でり、R3
炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基又は
アシル基あり、a及びbは、それぞれ0又は1であり、
かつa+bは、1又は2である。
Formula (I): R 1 a R 2 b Si (OR 3 ) 4- (a + b) wherein R 1 is a functional group or an unsaturated double bond having 4 to 4 carbon atoms. 14 organic groups, and R 2 has 1 to 1 carbon atoms.
6 is a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group, R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an acyl group, a and b are each 0 or 1,
And a + b is 1 or 2.

【0031】一般式(I)の化合物のうち、R1 が官能
基としてエポキシ基を有するものが好ましく使用され
る。
Of the compounds of the general formula (I), those in which R 1 has an epoxy group as a functional group are preferably used.

【0032】上記一般式で表わされる化合物は、いずれ
もエポキシ基を有するので、エポキシシランとも呼ばれ
る。
Each of the compounds represented by the above general formula has an epoxy group, and is therefore also called epoxysilane.

【0033】エポキシシランの具体例としては、例え
ば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリアセトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランな
どが挙げられる。
Specific examples of epoxysilane include, for example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane , Β- (3,4-
Epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and the like.

【0034】また、一般式(I)の化合物のうち、R1
が官能基としてエポキシ基を有すもの以外(a=0のも
のを含む)の例としては、例えば次のものが使用され
る。メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、アミノメチルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエト
キシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシランなどの各種トリアルコキシシラン、トリア
シロキシシランあるいはトリアルコキシアルコキシシラ
ン化合物。
Further, among the compounds of the general formula (I), R 1
Examples of compounds other than those having an epoxy group as a functional group (including those having a = 0) include, for example, the following. Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, aminomethyltrimethoxysilane, 3
-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyl Various trialkoxysilanes such as trimethoxysilane, trisiloxysilane or trialkoxyalkoxysilane compounds.

【0035】以上に挙げた一般式(I)の例示化合物
は、いずれもSi原子に結合するOR3 基が3個ある
(a+b=1)3官能の例であるが、OR3 基が2個あ
る(b=2)2官能の相当する化合物ももちろん使用す
ることができる。2官能の相当する化合物の例として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどが
ある。
The above-mentioned compounds of the general formula (I) are all trifunctional examples (a + b = 1) having three OR 3 groups bonded to a Si atom, but have two OR 3 groups. Certain (b = 2) bifunctional equivalents can of course also be used. Examples of bifunctional equivalent compounds include dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and the like.

【0036】一般式(I)の化合物は、1種で使用して
もよいが、目的に応じて2種以上を混合して使用しても
よい。
The compounds of the general formula (I) may be used alone or in combination of two or more according to the purpose.

【0037】特に、2官能の化合物を使用するときに
は、3官能の化合物と併用することが好ましい。併用し
た場合には、平均で2>a+b>1となる。
In particular, when a bifunctional compound is used, it is preferable to use it in combination with a trifunctional compound. When they are used together, 2> a + b> 1 on average.

【0038】更に、a+b=0の4官能の相当する化合
物を併用することも可能である。4官能の相当する化合
物の例としては、メチルシリケート、エチルシリケー
ト、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケー
ト、n−ブチルシリケート、t−ブチルシリケート、s
ec−ブチルシリケートなどが挙げられる。
Further, it is also possible to use a compound corresponding to tetrafunctional of a + b = 0 in combination. Examples of tetrafunctional equivalents include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, t-butyl silicate, s
ec-butyl silicate and the like.

【0039】これら組成物を使用した場合、屈折率の制
御、硬度向上、干渉縞の防止、帯電防止効果の付与のた
めに無機微粒子を添加することも可能である。また、塗
布時における流れ性を向上し、硬化膜の平滑性を向上す
るために、例えば、水、低級アルコール、アセトン、エ
ーテル、ケトン、エステルなど各種の溶媒を使用するこ
とが可能である。
When these compositions are used, it is possible to add inorganic fine particles for controlling the refractive index, improving the hardness, preventing interference fringes, and imparting an antistatic effect. In addition, various solvents such as water, lower alcohol, acetone, ether, ketone, and ester can be used in order to improve the flowability at the time of coating and improve the smoothness of the cured film.

【0040】上記した無機微粒子としては、例えば、酸
化亜鉛、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタニウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸
化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウム、酸化
鉄、酸化スズと酸化タングステンの複合微粒子等の無機
微粒子の微粒子が使用可能である。
Examples of the above inorganic fine particles include zinc oxide, silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, beryllium oxide, antimony oxide, tungsten oxide, cerium oxide, iron oxide, tin oxide and tungsten oxide. Fine particles of inorganic fine particles such as composite fine particles can be used.

【0041】また、これらの微粒子は、単独で使用する
だけでなく、必要に応じて2種以上を、混合物または固
溶体の状態で使用することも可能である。本発明での混
合物とは、異なった物質からなる複数のものが、各々の
物質の構造を保ったまま存在している状態を言い、固溶
体とは、異なった複数の物質どおしが新たな化学結合を
形成して存在するものを称している。
These fine particles can be used not only alone, but also in a mixture or a solid solution of two or more kinds, if necessary. The mixture in the present invention refers to a state in which a plurality of different substances are present while maintaining the structure of each substance, and a solid solution is different from a plurality of different substances. It refers to what exists by forming a chemical bond.

【0042】特に、酸化チタニウム、酸化アンチモン、
酸化タングステン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、
酸化スズを使用した場合には、組成物の屈折率を高くす
ることができ、基材に高屈折率のものを用い、この上に
膜を成膜した場合、干渉縞の発生を抑止することが可能
となる。
In particular, titanium oxide, antimony oxide,
Tungsten oxide, cerium oxide, zirconium oxide,
When tin oxide is used, the refractive index of the composition can be increased, and when a substrate having a high refractive index is used and a film is formed thereon, interference fringes can be suppressed. Becomes possible.

【0043】微粒子の粒子径は、1〜200nm、特に
5〜100nmのものが好ましい。これより小さいと製
造が困難であり、微粒子自身の安定性も悪く、かつ効果
も小さい。これより大きいと、コーティング組成物の安
定性、塗膜の透明性、平滑性などが低下する。
The particle diameter of the fine particles is preferably from 1 to 200 nm, particularly preferably from 5 to 100 nm. If it is smaller than this, the production is difficult, the stability of the fine particles themselves is poor, and the effect is small. If it is larger than this, the stability of the coating composition, the transparency and the smoothness of the coating film, etc. will be reduced.

【0044】ハードコート層の塗布方法は、刷毛塗り、
浸漬、ロール塗り、スプレー塗装、流し塗り等、通常の
塗布法を用いることができる。この際、塗布条件は、主
としてビヒクルの性質によって決定される。
The method of applying the hard coat layer includes brush coating,
Conventional coating methods such as dipping, roll coating, spray coating, and flow coating can be used. At this time, the application conditions are determined mainly by the properties of the vehicle.

【0045】このように基材上にハードコート層を形成
し、この上に本発明の反射防止膜を形成することによっ
て、光学部材の耐擦傷性をより向上させることができ
る。
By forming the hard coat layer on the base material and forming the antireflection film of the present invention on the hard coat layer, the scratch resistance of the optical member can be further improved.

【0046】また、従来、前記のようなハードコートと
なる有機ケイ素化合物を主成分とする液状高分子(ハー
ドコート液)を用いてレンズ基材表面に塗布する湿式法
で形成されていた。このような湿式法に代わり、乾式法
であるCVD法によりハードコート層を形成することも
可能である。
Further, heretofore, it has been formed by a wet method in which a liquid polymer (hard coat liquid) containing an organosilicon compound as a main component as a hard coat as described above as a main component is applied to the lens substrate surface. Instead of such a wet method, the hard coat layer can be formed by a CVD method which is a dry method.

【0047】CVD法により形成されたハードコート層
は、Si及びOを有する材料で形成される。好ましくは
Si系および/またはTi系化合物の少なくとも一方を
含み、厚さ方向に向かって屈折率が変化している、CV
D法により形成された変性層をレンズ基材上に形成する
ことが好ましい。また、基材上に厚さ方向に向かって屈
折率が変化している変性層を設け、その上に変性層より
も相対的に厚い膜厚を有し、かつ、屈折率が一定であ
り、Si及びOを有するハードコート層をCVD法によ
り形成することも可能である。変性層及びハードコート
層の製造工程において用いられるSiを含む有機化合物
としては、テトラエトキシシラン、ジメトキシシラン、
メチルメトキシシラン、テトラメトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、メチ
ルトリエトキシシラン等が好適に用いられる。
The hard coat layer formed by the CVD method is formed of a material containing Si and O. Preferably, the CV contains at least one of a Si-based compound and / or a Ti-based compound, and has a refractive index changing in a thickness direction.
It is preferable that the modified layer formed by the method D is formed on a lens substrate. Further, a modified layer whose refractive index is changed in the thickness direction is provided on the base material, has a relatively thicker film than the modified layer, and has a constant refractive index. A hard coat layer containing Si and O can be formed by a CVD method. Organic compounds containing Si used in the production process of the modified layer and the hard coat layer include tetraethoxysilane, dimethoxysilane,
Methylmethoxysilane, tetramethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, diethoxydimethylsilane, methyltriethoxysilane and the like are preferably used.

【0048】第一工程において用いられるTiを含む有
機化合物としては、テトラメトキシチタン、テトラエト
キシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−n
−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テ
トライソブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチ
タン、テトラ−t−ブトキシチタン、テトラジエチルア
ミノチタン等が好適に用いられる。
The organic compounds containing Ti used in the first step include tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n
-Titanium propoxy, tetra-n-butoxytitanium, tetraisobutoxytitanium, tetra-sec-butoxytitanium, tetra-t-butoxytitanium, tetradiethylaminotitanium and the like are preferably used.

【0049】これらのSiおよびTiを含む有機化合物
は、その一種類を単独で用いてもよく、また、2種類以
上を併用してもよい。
One of these organic compounds containing Si and Ti may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

【0050】前記ハードコート層の膜厚は0.4μmよ
りも厚く、5μmよりも薄いことが好ましい。また変性
層の膜厚は100nmよりも厚く、900nmよりも薄
いことをが好ましい。化学気相成長法は、原料ガスに熱
エネルギー及び電気エネルギーを与えることにより放電
させ、そのプラズマ雰囲気中の非熱平衡状態において反
応を促進させ、基体上に薄膜を堆積させる方法であり、
通常使われているものには平行平板電極型、容量結合電
極型、または誘導結合型がある。特に本発明において
は、基体の主平面に平行に電界と磁界をかけるプラズマ
促進CVD法により形成することが好適である。
The thickness of the hard coat layer is preferably larger than 0.4 μm and smaller than 5 μm. The thickness of the denatured layer is preferably larger than 100 nm and smaller than 900 nm. Chemical vapor deposition is a method of discharging by applying thermal energy and electric energy to a source gas, promoting a reaction in a non-thermal equilibrium state in a plasma atmosphere, and depositing a thin film on a substrate.
Commonly used types include a parallel plate electrode type, a capacitive coupling electrode type, and an inductive coupling type. In particular, in the present invention, it is preferable to form by a plasma enhanced CVD method in which an electric field and a magnetic field are applied in parallel to the main plane of the substrate.

【0051】この発明の光学部材の基材上に設けてもよ
い変性層とは、基材表面上に形成され、基材側から膜厚
方向に徐々に屈折率が変化している層であり、変性層内
の物質の組成比が変化しているものである。またさら
に、変性層を設けることにより、耐衝撃性が向上する事
も確認している。これは、従来のハードコート層の膜厚
が3μm以上であったためにハードコート層の内部応力
が高くなっていたものを、本発明のような変性層を基材
とハードコート層との間に設けることにより、ハードコ
ート層に残留する内部応力を低くすることが可能であ
る。従って、内部応力を低く出来るために、耐温水性、
耐熱性によって引き起こされるクラックなどが回避でき
る効果がある。
The modified layer which may be provided on the substrate of the optical member of the present invention is a layer which is formed on the surface of the substrate and whose refractive index gradually changes in the thickness direction from the substrate side. And the composition ratio of the substance in the modified layer is changed. Further, it has been confirmed that the impact resistance is improved by providing the modified layer. This is due to the fact that the internal stress of the hard coat layer was increased because the thickness of the conventional hard coat layer was 3 μm or more, but the modified layer as in the present invention was placed between the substrate and the hard coat layer. By providing this, the internal stress remaining in the hard coat layer can be reduced. Therefore, in order to reduce internal stress,
There is an effect that cracks and the like caused by heat resistance can be avoided.

【0052】このように基材上にCVD法によりハード
コート層を形成し、この上に本発明の反射防止膜を形成
することによって、乾式法のみで、より好ましい反射色
を備え、優れた耐擦傷性を有する光学部材を得ることが
できる。
By forming the hard coat layer on the base material by the CVD method and forming the anti-reflection film of the present invention on the hard coat layer, it is possible to obtain a more preferable reflection color only by the dry method and to obtain an excellent resistance to light. An optical member having abrasion properties can be obtained.

【0053】更にプラスチック基材とハードコート層の
間に密着性や耐衝撃性を向上させるプライマー層を形成
すれば、さらに耐衝撃性の優れたプラスチックレンズを
得ることができる。プライマー層の材料としては、ポリ
ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂など
が好ましい。
Further, if a primer layer for improving adhesion and impact resistance is formed between the plastic substrate and the hard coat layer, a plastic lens having more excellent impact resistance can be obtained. As a material of the primer layer, a polyurethane resin, an epoxy resin, a polyacetal resin, or the like is preferable.

【0054】ウレタン溶液からなるプライマー層の組成
物は、活性水素含有化合物とポリイソシアネートとから
なる。
The composition of the primer layer comprising a urethane solution comprises an active hydrogen-containing compound and a polyisocyanate.

【0055】ここで、ウレタン溶液とは、活性水素含有
化合物とポリイソシアネートとの混合物でも、また重合
物でもよい。また、ウレタンを主成分とするエマルジョ
ンを用いてもよい。
Here, the urethane solution may be a mixture of an active hydrogen-containing compound and a polyisocyanate, or a polymer. Further, an emulsion containing urethane as a main component may be used.

【0056】また、ポリビニルアセタールまたは架橋さ
れたポリビニルアセタールからなるプライマー層を形成
することも可能である。ポリビニルアセタールからなる
プライマー層は、主成分であるポリビニルアセタール
と、加水分解性オルガノシラン化合物又はその加水分解
縮合物、アルミニウム又はチタニウムのアルコキシド化
合物あるいはアルミニウム又はチタニウムのアルコキシ
ドジケトネート化合物及び硬化触媒を溶解したプライマ
ー組成物をプラスチックレンズ表面に塗布し、加熱処理
することにより形成可能である。
It is also possible to form a primer layer made of polyvinyl acetal or cross-linked polyvinyl acetal. The primer layer made of polyvinyl acetal dissolves polyvinyl acetal as a main component, a hydrolyzable organosilane compound or a hydrolysis condensate thereof, an aluminum or titanium alkoxide compound or an aluminum or titanium alkoxide diketonate compound, and a curing catalyst. It can be formed by applying the primer composition thus obtained to the surface of a plastic lens and subjecting it to heat treatment.

【0057】プライマー層の膜厚は、熱硬化後の段階で
0.1〜5μm、好ましくは0.2〜3μmである。プ
ライマー層の膜厚が0.1μmより薄いと耐衝撃性の改
善が十分でなく、また5μmより厚いと耐衝撃性の点で
は問題がないが、耐熱性と面精度が低下する。
The thickness of the primer layer is 0.1 to 5 μm, preferably 0.2 to 3 μm at the stage after thermosetting. If the thickness of the primer layer is less than 0.1 μm, the impact resistance is not sufficiently improved, and if it is more than 5 μm, there is no problem in terms of the impact resistance, but the heat resistance and surface accuracy are reduced.

【0058】また、プライマー溶液には前記ハードコー
ト層に添加したような無機微粒子を含んでもよい。無機
微粒子又はこれらの無機酸化物の複合体の平均粒子径は
1〜300nmであり、好ましくは1〜50nmであ
る。平均粒子径が300nmを越えると光の散乱による
レンズの曇りが生ずる。
The primer solution may contain inorganic fine particles as added to the hard coat layer. The average particle diameter of the inorganic fine particles or the composite of these inorganic oxides is 1 to 300 nm, preferably 1 to 50 nm. If the average particle diameter exceeds 300 nm, fogging of the lens occurs due to light scattering.

【0059】プライマー組成物中の無機酸化物微粒子の
添加量は固形分濃度として0.1〜30重量%である
が、プライマー硬化膜の屈折率がプラスチックレンズの
屈折率に一致するかもしくは極めて近くなるよう、無機
酸化物微粒子の種類、添加量が調整される。
The amount of the inorganic oxide fine particles to be added in the primer composition is 0.1 to 30% by weight as a solid content, but the refractive index of the cured primer film matches or is very close to the refractive index of the plastic lens. The type and the amount of the inorganic oxide fine particles are adjusted so as to be as follows.

【0060】この プライマー層の膜厚は、0.01〜
30μmであるのが好ましい。特に好ましくは、1〜2
0μmである。
The thickness of the primer layer is from 0.01 to
It is preferably 30 μm. Particularly preferably, 1-2
0 μm.

【0061】プライマー層となる樹脂の塗布方法として
は、スピンナー法,ディップ法,スプレー法等の公知の
方法の中から適宜選択され、真空蒸着法等の乾式法でも
形成可能である。
The method of applying the resin for forming the primer layer is appropriately selected from known methods such as a spinner method, a dipping method and a spray method, and can be formed by a dry method such as a vacuum evaporation method.

【0062】本発明の反射防止膜上には水やけ防止層を
形成することも可能である。材料としては、有機ポリシ
ロキサン系重合物またはパーフルオロアルキル基材含有
化合物を重合してなる重合物からなる有機物含有硬化物
が好ましく用いられ、フッ素原子を有する1から3官能
のシラザン化合物、シロキサザン化合物、フッ素基を有
するアルコキシ化合物等が使用可能である。形成方法と
しては、浸漬法や乾式法である真空蒸着法やCVD法、
スパッタリング法等で形成可能である。
On the antireflection film of the present invention, a drainage preventing layer can be formed. As the material, an organic polysiloxane-based polymer or an organic-containing cured product made of a polymer obtained by polymerizing a perfluoroalkyl base material-containing compound is preferably used, and a mono- to tri-functional silazane compound having a fluorine atom and a siloxazan compound having a fluorine atom are preferably used. And an alkoxy compound having a fluorine group. As a forming method, a vacuum evaporation method or a CVD method, which is an immersion method or a dry method,
It can be formed by a sputtering method or the like.

【0063】このように本発明の反射防止膜上に水やけ
防止膜を形成することにより、レンズ表面の汚れを防止
したり、水滴の付着を防止できることから、反射色をよ
り鮮やかにすることができ、高級感を有する反射色を長
期間持続させることが可能となる。
By forming the anti-reflection film on the anti-reflection film of the present invention as described above, it is possible to prevent the lens surface from being stained and to prevent water droplets from adhering, thereby making the reflection color more vivid. It is possible to maintain a high-quality reflection color for a long period of time.

【0064】また、この発明の光学部材の一実施の形態
としては、基材の屈折率の値を1.45とし、および設
計中心波長λを480nmとしたとき、第1層を屈折率
の値が1.47であるSiO2 で構成し、この第1層の
光学膜厚を0.75λとし、第2層を屈折率の値が2.
00であるZrO2 で構成し、この第2層の膜厚を0.
30λとし、第3層を屈折率の値が2.25であるTi
2 で構成し、この第3層の膜厚を0.20λとし、お
よび第4層を屈折率の値が1.47であるSiO2 で構
成し、この第4層の膜厚を0.27λとして形成される
反射防止膜を備えているものを挙げることができる。
In one embodiment of the optical member of the present invention, when the value of the refractive index of the substrate is 1.45 and the design center wavelength λ is 480 nm, the refractive index of the first layer is There composed of SiO 2 is 1.47, the optical thickness of the first layer and 0.75?, the refractive index of the second layer 2.
The second layer is made of ZrO 2 having a thickness of 0.000.
The third layer is made of Ti having a refractive index value of 2.25.
Composed of O 2, the thickness of the third layer and 0.20Ramuda, and a fourth layer composed of SiO 2 and the refractive index is 1.47, the thickness of the fourth layer 0. One having an antireflection film formed as 27λ can be mentioned.

【0065】この光学部材においては、反射防止特性お
よび耐擦傷性に優れた反射防止膜を基材上に設けること
ができる。また、反射防止膜を形成するときに、通常真
空蒸着法を用いるが、膜を構成する層の厚さを一番薄く
ても0.20λであるため、従来よりも膜厚の制御を容
易に行うことができる。また、このような構成にすれ
ば、光学部材の反射色を緑色にすることができる。
In this optical member, an antireflection film having excellent antireflection characteristics and scratch resistance can be provided on the substrate. When forming an anti-reflection film, a vacuum evaporation method is usually used. However, since the thickness of the layer constituting the film is 0.20λ even at the thinnest, control of the film thickness is easier than before. It can be carried out. With such a configuration, the reflection color of the optical member can be green.

【0066】また、基材の屈折率の値を1.50とし、
および設計中心波長λを480nmとしたとき、第1層
を屈折率の値が1.47であるSiO2 で構成し、この
第1層の膜厚を1.00λとし、第2層を屈折率の値が
2.00であるZrO2 で構成し、この第2層の膜厚を
0.32λとし、第3層を屈折率の値が2.25である
TiO2 で構成し、この第3層の膜厚を0.18λと
し、および第4層を屈折率の値が1.47であるSiO
2 で構成し、この第4層の膜厚を0.27λとして形成
される反射防止膜を備えた光学部材としてもよい。
Further, the value of the refractive index of the substrate is set to 1.50,
When the design center wavelength λ is 480 nm, the first layer is made of SiO 2 having a refractive index value of 1.47, the thickness of the first layer is 1.00λ, and the second layer is the refractive index. Is made of ZrO 2 whose value is 2.00, the thickness of this second layer is 0.32λ, and the third layer is made of TiO 2 whose refractive index value is 2.25. The fourth layer has a thickness of 0.18λ, and the fourth layer has a refractive index value of 1.47.
Constituted by 2, or an optical member having an antireflection film formed with the film thickness of the fourth layer as 0.27Ramuda.

【0067】この光学部材においても、上述したような
特性の反射防止膜を基材上に設けることができる。ま
た、反射防止膜を構成する層のうち、一番薄い層を、従
来よりも厚くすることができるために、この反射防止膜
を形成するとき、膜厚の制御を容易に行うことができ
る。このため、再現性よく、安定した膜を形成すること
ができる。また、このような構成の光学部材の反射色も
緑色となる。
Also in this optical member, an antireflection film having the above-described characteristics can be provided on the substrate. In addition, since the thinnest layer among the layers constituting the anti-reflection film can be made thicker than in the related art, the thickness can be easily controlled when the anti-reflection film is formed. Therefore, a stable film can be formed with good reproducibility. Further, the reflection color of the optical member having such a configuration is also green.

【0068】また、基材の屈折率の値を1.56とし、
および設計中心波長λを520nmとしたとき、第1層
を屈折率の値が1.47であるSiO2 で構成し、この
第1層の膜厚を1.00λとし、第2層を屈折率の値が
2.00であるZrO2 で構成し、この第2層の膜厚を
0.30λとし、第3層を屈折率の値が2.25である
TiO2 で構成し、この第3層の膜厚を0.16λと
し、および第4層を屈折率の値が1.47であるSiO
2 で構成し、この第4層の膜厚を0.26λとする反射
防止膜を備えた光学部材としてもよい。
Further, the value of the refractive index of the substrate is set to 1.56,
When the design center wavelength λ is 520 nm, the first layer is made of SiO 2 having a refractive index value of 1.47, the thickness of the first layer is 1.00λ, and the second layer is the refractive index. Is made of ZrO 2 whose value is 2.00, the thickness of this second layer is 0.30λ, and the third layer is made of TiO 2 whose refractive index value is 2.25. The fourth layer has a thickness of 0.16λ, and the fourth layer has a refractive index of 1.47.
The optical member may be made of 2 and provided with an antireflection film having a thickness of the fourth layer of 0.26λ.

【0069】この光学部材においても、上述したような
特性を有する反射防止膜を基材上に設けることができ
る。また、再現性よく、安定した反射防止膜を従来より
も容易に形成することができる。また、この構成の場合
も光学部材の反射色を緑色にすることができる。
Also in this optical member, an antireflection film having the above-described characteristics can be provided on the substrate. In addition, a stable antireflection film with good reproducibility can be formed more easily than before. Also in the case of this configuration, the reflection color of the optical member can be green.

【0070】[0070]

【実施例】1.実施例1 実施例1として、この発明の光学部材の具体的な一例を
示す。この例では、光学部材を、眼鏡などに用いるレン
ズとする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Example 1 As Example 1, a specific example of the optical member of the present invention will be described. In this example, the optical member is a lens used for spectacles or the like.

【0071】まず、屈折率が1.45である洗浄済みの
プラスチックレンズ基材(CR−39)を真空チャンバ
内にセットして、チャンバの真空度が1.0×10ー5To
rrになるまで、排気する。
First, a cleaned plastic lens substrate (CR-39) having a refractive index of 1.45 is set in a vacuum chamber, and the degree of vacuum in the chamber is set to 1.0 × 10 −5 To.
Exhaust until rr.

【0072】この1.0×10-5Torrの真空度条件下
で、レンズ基材上にSiO2 を、電子ビームを用いて2
450Åの厚さになるまで堆積して第1層を形成する。
この層の厚さは、設計中心波長λを480nmとし、
0.75λの厚さとなるようにしたものである。
Under the condition of a vacuum degree of 1.0 × 10 −5 Torr, SiO 2 was deposited on the lens substrate by electron beam.
Deposit to a thickness of 450 ° to form a first layer.
The thickness of this layer is such that the design center wavelength λ is 480 nm,
The thickness is set to 0.75λ.

【0073】次に、チャンバ内に酸素または空気を導入
して、真空度を5.0×10-5Torrにした後、第1層上
にZrO2 を電子ビームにより堆積し、720Åの厚さ
(0.30λ)の第2層を形成する。
Next, oxygen or air is introduced into the chamber to reduce the degree of vacuum to 5.0 × 10 −5 Torr, and then ZrO 2 is deposited on the first layer by an electron beam to a thickness of 720 °. A second layer of (0.30λ) is formed.

【0074】チャンバ内にさらに酸素を導入して、チャ
ンバ内の真空度を1×10-4Torrにする。この後、第2
層の上側に電子ビームを用いて、Ti35 を酸化させ
ながら積層する。これにより、厚さが430Å(0.2
0λ)のTiO2 の第3層が形成される。
Oxygen is further introduced into the chamber to make the degree of vacuum in the chamber 1 × 10 −4 Torr. After this, the second
A layer is formed on the upper side of the layer while oxidizing Ti 3 O 5 using an electron beam. This allows the thickness to be 430 mm (0.2
A third layer of TiO 2 (0λ) is formed.

【0075】次に、酸素の導入を止めて、チャンバ内の
真空度が1.0×10-5Torr以下になるまで排気を行っ
た後、第3層上にSiO2 を電子ビームを用いて、厚さ
が880Å(0.27λ)になるまで堆積して第4層を
形成する。
Next, the introduction of oxygen was stopped, and the chamber was evacuated until the degree of vacuum in the chamber became 1.0 × 10 −5 Torr or less. Then, SiO 2 was formed on the third layer using an electron beam. Is deposited until the thickness becomes 880 ° (0.27λ) to form a fourth layer.

【0076】これにより、レンズ基材上に、4層で構成
される反射防止膜が設けられた光学部材が得られる。
As a result, an optical member having an antireflection film composed of four layers on the lens substrate is obtained.

【0077】この光学部材の分光反射特性を図1に示
す。ここでは、この光学部材を眼鏡レンズとして使用す
ることを目的としているため、眼鏡レンズが使用される
波長範囲である400nmから700nmまでの反射特
性を、日立製作所製の分光光度計(商品名U−400
0)を用いて測定している。また、得られた結果を図1
に横軸を波長とし、縦軸を反射率とした特性曲線で示し
ている。
FIG. 1 shows the spectral reflection characteristics of this optical member. Here, since the purpose is to use this optical member as a spectacle lens, the reflection characteristics from 400 nm to 700 nm, which is the wavelength range in which the spectacle lens is used, are measured by using a spectrophotometer (trade name: U- 400
0). FIG. 1 shows the obtained results.
In the graph, the horizontal axis represents the wavelength, and the vertical axis represents the reflectance.

【0078】この特性曲線によれば、約420nm〜約
650nmの波長範囲における反射率を1%以下に抑え
ることができる。また、この波長範囲内において、50
0nmの波長の付近でひとつのピークが見られ、このピ
ーク部分はおよそ1%程度の反射率であった。このた
め、実施例1で得られた反射防止膜は眼鏡レンズとして
用いて好ましい反射防止特性を有していることが確認で
きた。
According to this characteristic curve, the reflectance in the wavelength range of about 420 nm to about 650 nm can be suppressed to 1% or less. Also, within this wavelength range, 50
One peak was observed near the wavelength of 0 nm, and this peak portion had a reflectance of about 1%. Therefore, it was confirmed that the antireflection film obtained in Example 1 had preferable antireflection characteristics when used as a spectacle lens.

【0079】また、この波長範囲内において、500n
mの波長の付近でひとつのピークが見られ、このピーク
部分はおよそ1%程度の反射率であった。なお、500
nm付近の波長は、緑色光を示している。このため、膜
の反射率がピークの波長が500nm付近の波長範囲内
にある場合には、反射色は緑色になる。
In this wavelength range, 500n
One peak was observed near the wavelength of m, and this peak portion had a reflectance of about 1%. In addition, 500
A wavelength near nm indicates green light. Therefore, when the reflectance of the film has a peak wavelength in the wavelength range around 500 nm, the reflection color is green.

【0080】なお、反射色は、目視にて確認したとこ
ろ、緑色であった。
The reflection color was green when visually observed.

【0081】2.実施例2 実施例2としては、実施例1で用いたプラスチックレン
ズ基材よりも屈折率が高いプラスチックレンズ基材を用
い、かつ各層の膜厚を変えてレンズ基材上に形成された
反射防止膜の例を挙げる。以下、実施例1と相違する点
につき説明し、実施例1と同様の点については、その詳
細な説明を省略する。
2. Example 2 In Example 2, an antireflection film formed on a lens substrate using a plastic lens substrate having a higher refractive index than the plastic lens substrate used in Example 1 and changing the thickness of each layer. An example of a film will be given. Hereinafter, points different from the first embodiment will be described, and detailed description of the same points as the first embodiment will be omitted.

【0082】屈折率が1.50であるプラスチックレン
ズ基材、例えば、CR39(商品名・PPG社製)を真
空チャンバ内にセットして、実施例1と同様にチャンバ
内の真空度が1.0×10ー5Torrになるまで排気する。
A plastic lens substrate having a refractive index of 1.50, for example, CR39 (trade name, manufactured by PPG) was set in a vacuum chamber, and the degree of vacuum in the chamber was 1. It is evacuated to 0 × 10 over 5 Torr.

【0083】この後、レンズ基材上に設計の中心波長λ
を480nmとして、レンズ基材上に順次、第1層から
第4層までの層をそれぞれ電子ビームを用いて蒸着させ
る。
Thereafter, the center wavelength λ of the design is placed on the lens substrate.
Is set to 480 nm, and the first to fourth layers are sequentially deposited on the lens substrate using an electron beam.

【0084】この例では、チャンバ内の真空度を1.0
×10-5Torrとして、SiO2 の第1層を3270Åの
膜厚(設計中心波長λを480nmとして、光学的な層
厚を1.00λとしている。)で形成する。第2層は、
実施例1と同様に5.0×10-5Torrの真空度の下で、
ZrO2 の層を770Åの膜厚(0.32λ)で形成す
る。第3層は、真空度を1.0×10-4Torrとして、T
iO2 の層を385Åの厚さ(0.18λ)で形成す
る。第4層は、真空度を1.0×10-5以下に戻してS
iO2 の層を880Åの厚さ(0.27λ)で形成す
る。
In this example, the degree of vacuum in the chamber is set to 1.0
At 10 × 10 −5 Torr, the first layer of SiO 2 is formed to have a thickness of 3270 ° (design center wavelength λ is 480 nm and optical layer thickness is 1.00λ). The second layer is
As in Example 1, under a vacuum of 5.0 × 10 −5 Torr,
A ZrO 2 layer is formed with a thickness of 770 ° (0.32λ). The third layer has a degree of vacuum of 1.0 × 10 −4 Torr and T
An iO 2 layer is formed with a thickness of 385 ° (0.18λ). In the fourth layer, the degree of vacuum is returned to 1.0 × 10 −5 or less, and S
An iO 2 layer is formed with a thickness of 880 ° (0.27λ).

【0085】これにより、実施例2の光学部材が得られ
る。
Thus, the optical member of the second embodiment is obtained.

【0086】この光学部材の分光反射特性を図2に示
す。図2によれば、約420nmから約650nmの波
長範囲における反射率を1%以内に抑えることができ
る。500nmの波長の付近でひとつのピークが見ら
れ、このピーク部分はおよそ1%強の反射率を示してい
る。実施例2で得られた反射防止膜は眼鏡レンズとして
用いて好ましい反射防止特性を有していることが確認で
きる。
FIG. 2 shows the spectral reflection characteristics of this optical member. According to FIG. 2, the reflectance in the wavelength range from about 420 nm to about 650 nm can be suppressed to within 1%. One peak is observed around the wavelength of 500 nm, and this peak portion shows a reflectance of about 1% or more. It can be confirmed that the antireflection film obtained in Example 2 has preferable antireflection characteristics when used as a spectacle lens.

【0087】また、目視にて確認した実施例2の光学部
材の反射色は緑色であった。
The reflection color of the optical member of Example 2 visually confirmed was green.

【0088】3.実施例3 実施例3としては、実施例1および実施例2で用いたプ
ラスチックレンズ基材よりも屈折率が大きいプラスチッ
クレンズ基材を用い、かつ設計の中心波長を変えた反射
防止膜の例を挙げる。
3. Example 3 Example 3 is an example of an antireflection film using a plastic lens substrate having a larger refractive index than the plastic lens substrates used in Examples 1 and 2 and changing the center wavelength of the design. I will.

【0089】屈折率が1.56であるプラスチックレン
ズ基材であるMCR10(商品名・三菱レイヨン社製)
を真空チャンバ内にセットして、チャンバ内の真空度が
1.0×10ー5Torrになるまで排気する。
MCR10, a plastic lens substrate having a refractive index of 1.56 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Is set in a vacuum chamber, and the chamber is evacuated until the degree of vacuum in the chamber reaches 1.0 × 10 −5 Torr.

【0090】この後、実施例1および実施例2と同様に
してレンズ基材上に順次4層からなる反射防止膜を形成
する。
Thereafter, in the same manner as in Examples 1 and 2, an antireflection film consisting of four layers is formed on the lens substrate in order.

【0091】まず、チャンバ内の真空度が1.0×10
ー5Torrになるまで排気する。
First, the degree of vacuum in the chamber is 1.0 × 10
It is evacuated to over 5 Torr.

【0092】この後、レンズ基材上に設計の中心波長λ
を520nmとして、レンズ基材上に順次、第1層から
第4層までの層をそれぞれ電子ビームを用いて蒸着させ
る。
Thereafter, the designed center wavelength λ is placed on the lens substrate.
Is set to 520 nm, and the first to fourth layers are sequentially deposited on the lens substrate by using an electron beam.

【0093】この例では、チャンバ内の真空度を1.0
×10-5Torrとして、SiO2 の第1層を3540Åの
膜厚(光学的な層厚を1.00λとしている。)で形成
する。第2層は、実施例1と同様に5.0×10-5Torr
の真空度の下で、ZrO2 の層を780Åの膜厚(0.
30λ)で形成する。第3層は、真空度を1.0×10
-4Torrとして、TiO2 の層を370Åの厚さ(0.1
6λ)で形成する。第4層は、真空度を1.0×10-5
以下に戻してSiO2 の層を920Åの厚さ(0.26
λ)で形成する。
In this example, the degree of vacuum in the chamber is set to 1.0
The first layer of SiO 2 is formed at a thickness of 3540 ° (at an optical layer thickness of 1.00λ) at × 10 -5 Torr. The second layer is 5.0 × 10 −5 Torr as in the first embodiment.
Under a vacuum degree, a layer of ZrO 2 is formed to a thickness of 780 ° (0.
30λ). The third layer has a vacuum degree of 1.0 × 10
-4 Torr, a layer of TiO 2 with a thickness of 370 ° (0.1
6λ). The fourth layer has a degree of vacuum of 1.0 × 10 −5.
Returning to the following, the layer of SiO 2 is 920 ° thick (0.26 °).
λ).

【0094】これにより、実施例3の光学部材が得られ
る。
As a result, the optical member of the third embodiment is obtained.

【0095】この光学部材の分光反射特性を図3に示
す。図3によれば、約420nmから約670nmの波
長範囲における反射率を1%以内に抑えることができ
る。480nmの波長の付近でひとつのピークが見ら
れ、このピーク部分はおよそ1%強の反射率を示してい
る。これにより、実施例3で得られた反射防止膜は眼鏡
レンズとして用いて好ましい反射防止特性を有している
ことが確認できる。
FIG. 3 shows the spectral reflection characteristics of this optical member. According to FIG. 3, the reflectance in the wavelength range from about 420 nm to about 670 nm can be suppressed to within 1%. One peak is observed near the wavelength of 480 nm, and this peak portion indicates a reflectance of about 1% or more. Thereby, it can be confirmed that the antireflection film obtained in Example 3 has preferable antireflection characteristics when used as an eyeglass lens.

【0096】また、目視にて確認した実施例3の光学部
材の反射色は緑色であった。
Further, the reflection color of the optical member of Example 3 visually confirmed was green.

【0097】4.実施例4 実施例4では、実施例2で用いたプラスチックレンズ基
材である、屈折率が1.50であるCR39(商品名・
PPG社製)の上面に光学部材の耐衝撃性を向上させる
プライマー層が形成され、このプライマー層の上に光学
部材の耐擦傷性を向上させるハードコート層が形成され
た構造体に反射防止膜を設けて得られる光学部材を、例
に挙げて説明する。
4. Example 4 In Example 4, the plastic lens substrate used in Example 2, CR39 having a refractive index of 1.50 (trade name)
An anti-reflection film is formed on a structure in which a primer layer for improving the impact resistance of the optical member is formed on the upper surface of the optical member, and a hard coat layer for improving the scratch resistance of the optical member is formed on the primer layer. An optical member obtained by providing is described as an example.

【0098】まず、レンズ基材(CR39)の表面にプ
ライマー層をディッピングにより形成した後、プライマ
ー層上に有機シリコン系のハードコート層をディッピン
グにより形成する。この後、この構造体に対して、11
0℃の温度条件下で4時間加熱処理を行って、構造体を
硬化させる。
First, after a primer layer is formed on the surface of the lens substrate (CR39) by dipping, an organic silicon-based hard coat layer is formed on the primer layer by dipping. After this, 11
Heat treatment is performed for 4 hours at a temperature of 0 ° C. to cure the structure.

【0099】この後、真空チャンバ内にこの構造体をセ
ットして、チャンバ内の真空度が1.0×10ー5Torrに
なるまで排気する。
Thereafter, the structure is set in a vacuum chamber and the chamber is evacuated until the degree of vacuum in the chamber reaches 1.0 × 10 −5 Torr.

【0100】次に、構造体の上面に、カウフマン型イオ
ンビームによって、Arガスを用い、300V、20m
Aで60秒イオンビーム照射する。これにより、構造体
の表面のハードコート層と次工程で設ける反射防止膜と
の密着性を向上させることができる。
Next, the upper surface of the structure was irradiated with Ar gas using a Kauffman-type ion beam at 300 V for 20 m.
A ion beam irradiation is performed at A for 60 seconds. Thereby, the adhesion between the hard coat layer on the surface of the structure and the antireflection film provided in the next step can be improved.

【0101】チャンバ内の真空度を1.0×10-5Torr
にして、ハードコート層上にSiO2 を電子ビームによ
り、3270Åの厚さ(設計中心波長λを480nmと
し、設定する層の厚さを1.00λとしている。)に堆
積して第1層を形成する。
The degree of vacuum in the chamber is set to 1.0 × 10 −5 Torr
Then, SiO 2 is deposited on the hard coat layer with an electron beam to a thickness of 3270 ° (the design center wavelength λ is 480 nm, and the thickness of the set layer is 1.00λ) to form the first layer. Form.

【0102】次にチャンバ内に酸素を導入して、真空度
を5.0×10-5Torrにして、第1層上にZrO2 を電
子ビームにより、770Åの厚さ(0.32λ)に堆積
して第2層を形成する。
Next, oxygen is introduced into the chamber, the degree of vacuum is adjusted to 5.0 × 10 −5 Torr, and ZrO 2 is formed on the first layer by an electron beam to a thickness of 770 ° (0.32λ). Deposit to form a second layer.

【0103】さらに酸素をチャンバ内に導入して、真空
度を1.0×10-4TorrにしてTi35 を電子ビーム
を用いて、酸化させて堆積することにより、厚さ385
Å(0.18λ)のTiO2 からなる第3層を形成す
る。
Further, oxygen is introduced into the chamber, the degree of vacuum is set to 1.0 × 10 −4 Torr, and Ti 3 O 5 is oxidized and deposited by using an electron beam, whereby a thickness of 385 is obtained.
Forming a third layer of TiO 2 in Å (0.18λ).

【0104】チャンバ内への酸素の導入を止め、真空度
を1.0×10-5以下になるまで排気する。この後、第
3層上に、電子ビームを用いて880Åの厚さ(0.2
7λ)になるように蒸着して第4層を形成する。
The introduction of oxygen into the chamber is stopped, and the chamber is evacuated until the degree of vacuum becomes 1.0 × 10 −5 or less. Thereafter, a thickness of 880 ° (0.2 mm) is formed on the third layer by using an electron beam.
7λ) to form a fourth layer.

【0105】これにより、4層からなる反射防止膜を形
成することができる。この反射防止膜上に、抵抗加熱蒸
着法を用いて、水やけ防止層を形成する。
Thus, a four-layer antireflection film can be formed. On the antireflection film, a drainage prevention layer is formed by using a resistance heating evaporation method.

【0106】これにより、実施例4の光学部材が得られ
る。
Thus, the optical member of the fourth embodiment is obtained.

【0107】この光学部材の分光反射特性を図4に示
す。図4によれば、約420nmから約680nmの波
長範囲における反射率を1%以内に抑えることができ
る。
FIG. 4 shows the spectral reflection characteristics of this optical member. According to FIG. 4, the reflectance in the wavelength range from about 420 nm to about 680 nm can be suppressed to within 1%.

【0108】500nmの波長の付近で一つのピークが
見られ、このピーク部分はおよそ1%の反射率を示して
いる。よって、実施例4で得られた反射防止膜は眼鏡レ
ンズとして用いて好ましい反射防止特性を有しているこ
とが確認できる。
One peak is observed near the wavelength of 500 nm, and this peak portion indicates a reflectance of about 1%. Therefore, it can be confirmed that the antireflection film obtained in Example 4 has preferable antireflection characteristics when used as a spectacle lens.

【0109】また、目視で確認した実施例4の光学部材
の反射色は緑色であった。
Further, the reflection color of the optical member of Example 4 visually confirmed was green.

【0110】また、実施例4においては、レンズ基材と
反射防止膜の他に、プライマー層、ハードコート層およ
び水やけ防止層を備えているため、さらに耐衝撃性、耐
擦傷性および耐水性に優れた光学部材が得られる。
Further, in Example 4, since a primer layer, a hard coat layer and a drainage preventing layer were provided in addition to the lens substrate and the antireflection film, the impact resistance, the scratch resistance and the water resistance were further improved. An optical member excellent in quality can be obtained.

【0111】また、実施例4の光学部材に対して、光学
部材のいくつかの耐久性試験を行った。
Further, several durability tests were performed on the optical member of Example 4 for the optical member.

【0112】まず、耐擦傷性は、#0000のスチール
ウールで反射防止膜の表面を10回往復させて擦った後
の表面の状態を目視により観察して、以下のような基準
で判断する。ほとんど傷が付いていない状態をAランク
とし、わずかに傷が付いている状態をBランクとし、傷
が目立っている状態をCランクとした。
First, the abrasion resistance is determined by observing the surface of the anti-reflection film by reciprocating the surface of the anti-reflection film 10 times with # 0000 steel wool and visually rubbing the surface according to the following criteria. A state with almost no damage was designated as A rank, a state with slight damage as B rank, and a state with noticeable damage as C rank.

【0113】次に、密着性は、JIS−Z−1522に
準じてクロスカットテープ試験によって評価する。ナイ
フを用いて、反射防止膜の表面に碁盤状のマス目を10
0個作成し、このマス目の上にセロファン粘着テープを
強く押しつけた後、テープを急に引っ張って剥離する。
テープを押しつけて剥離する動作を5回行って、反射防
止膜が完全に残っているマス目の数を数える。
Next, the adhesion is evaluated by a cross-cut tape test according to JIS-Z-1522. Use a knife to cut 10 grids on the surface of the anti-reflection coating.
After making zero pieces and strongly pressing a cellophane adhesive tape on this square, the tape is suddenly pulled and peeled off.
The operation of pressing and peeling the tape is performed five times, and the number of squares in which the antireflection film is completely left is counted.

【0114】また、耐熱性は、80℃のオーブンに構造
体を入れて、5分間放置した後取り出して、クラックの
有無や状態、また、膜の剥離状態を目視にて観察する。
The heat resistance was evaluated by placing the structure in an oven at 80 ° C., allowing the structure to stand for 5 minutes, removing the structure, and visually observing the presence or absence of cracks and the state of peeling of the film.

【0115】また、耐温水性は、80℃の温水中に構造
体を入れて、5分間放置した後取り出して、クラックの
有無や状態、また、膜の剥離状態を目視にて観察する。
The structure was placed in warm water at 80 ° C., left for 5 minutes, taken out, and the presence or absence of cracks and the state of peeling of the film were visually observed.

【0116】この結果、実施例4の光学部材は、耐擦傷
性はAランクであり、優れた特性を有していることが確
認できた。
As a result, it was confirmed that the optical member of Example 4 had an abrasion resistance of rank A, and had excellent characteristics.

【0117】また、クロスカットテープ試験の結果、1
00個のマス目のうち100個全部残存していたので密
着性に優れていることが確認できた。
Further, as a result of the cross cut tape test, 1
Since all 100 of the 00 cells remained, it was confirmed that the adhesion was excellent.

【0118】また、耐熱性試験および耐温水性試験を行
った後の反射防止膜の状態の変化は見られなかったこと
から、耐熱性および耐温水性にも優れていた。
Further, since no change in the state of the antireflection film was observed after the heat resistance test and the hot water resistance test, the heat resistance and the hot water resistance were also excellent.

【0119】ここで、実施例4に対する比較例として、
3つの例を挙げる。これらの例は反射色が緑になるよう
に設計された反射防止膜で、膜構成をこの発明の反射防
止膜の構成とは変えてある。
Here, as a comparative example with respect to Example 4,
Three examples are given. These examples are antireflection films designed to have a reflection color of green, and the film configuration is changed from that of the antireflection film of the present invention.

【0120】5.比較例1 比較例1として、実施例4と同じように屈折率が1.5
0であるプラスチックレンズ基材であるCR39の表面
に有機シリコン系のハードコート層を設けたプラスチッ
クレンズに、実施例4と同様の蒸着条件で、かつ同じ材
料を用いて4層構造の反射防止膜を形成する。なお、4
層構造のうち第1層から第3層のそれぞれの光学膜厚
を、この発明の光学膜厚の範囲外の値としてある。
[0120] 5. Comparative Example 1 As Comparative Example 1, the refractive index was 1.5 as in Example 4.
An anti-reflection film having a four-layer structure is formed on a plastic lens having a hard lens layer of an organic silicon system provided on the surface of CR39, which is a plastic lens substrate having a thickness of 0, under the same vapor deposition conditions and using the same material as in Example 4. To form In addition, 4
The optical thickness of each of the first to third layers in the layer structure is a value outside the range of the optical thickness of the present invention.

【0121】ここでは、設計の中心波長λを500nm
として、ハードコート層上に順次、屈折率が1.47の
SiO2 からなり、層の厚さが1840Å(0.54
λ)である第1層と、屈折率が2.00のZrO2 から
なり、層の厚さが530Å(0.21λ)である第2層
と、屈折率が2.25のTiO2 からなり、層の厚さが
800Å(0.36λ)である第3層と、屈折率が1.
47のSiO2 からなり、層の厚さが920Å(0.2
7λ)である第4層とを積層して、4層からなる反射防
止膜を形成する。
Here, the center wavelength λ of the design is set to 500 nm.
The refractive index of the hard coat layer is made of SiO 2 having a refractive index of 1.47, and the thickness of the layer is 1840 ° (0.54
a first layer is a lambda), the refractive index is composed of ZrO 2 of 2.00, a second layer thickness of the layer is 530Å (0.21λ), the refractive index is composed of TiO 2 of 2.25 A third layer having a thickness of 800 ° (0.36λ) and a refractive index of 1.
47 SiO 2 with a layer thickness of 920 ° (0.2
7λ) to form a four-layer antireflection film.

【0122】得られた比較例1の反射防止膜の特性(耐
擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性)は、実施例4と同
様にして測定した。
The characteristics (scratch resistance, adhesion, heat resistance, hot water resistance) of the obtained antireflection film of Comparative Example 1 were measured in the same manner as in Example 4.

【0123】まず、比較例1の耐擦傷性のランクはBで
あり、耐擦傷性が実施例4より劣っていることが分かっ
た。
First, the scratch resistance rank of Comparative Example 1 was B, and it was found that the scratch resistance was inferior to that of Example 4.

【0124】また、密着性、耐熱性および耐温水性には
実施例4の光学部材と同様の結果であった。
The results of adhesion, heat resistance and hot water resistance were the same as those of the optical member of Example 4.

【0125】これにより、反射防止膜を構成する層の厚
さを変えることにより、耐擦傷性が変化してしまうこと
が確認できた。
As a result, it was confirmed that the abrasion resistance was changed by changing the thickness of the layer constituting the antireflection film.

【0126】6.比較例2 比較例2としては、実施例4と同様のプラスチックレン
ズ(屈折率1.50のCR39の表面にハードコート層
を設ける。)上に、従来から用いられている5層構造の
反射防止膜を形成する。なお、蒸着条件は実施例4と同
様であり、設計の中心波長λを510nmとする。
6. Comparative Example 2 In Comparative Example 2, a five-layer antireflection conventionally used on a plastic lens similar to that of Example 4 (a hard coat layer is provided on the surface of CR39 having a refractive index of 1.50). Form a film. The vapor deposition conditions are the same as in Example 4, and the central wavelength λ of the design is 510 nm.

【0127】この例では、ハードコート層上に順次、S
iO2 からなり、層の厚さが1750Å(光学膜厚を
0.50λとする。)である第1層と、ZrO2 からな
り、層の厚さが380Å(0.15λ)である第2層
と、SiO2 からなり、層の厚さが175Å(0.05
λ)である第3層と、ZrO2 からなり、層の厚さが6
40Å(0.25λ)である第4層と、SiO2 からな
り、層の厚さが870Å(0.25λ)である第5層と
を積層する。
In this example, S was sequentially formed on the hard coat layer.
a first layer made of iO 2 and having a layer thickness of 1750 ° (optical thickness is set to 0.50λ); and a second layer made of ZrO 2 and having a layer thickness of 380 ° (0.15λ). Layer and SiO 2 , and the thickness of the layer is 175 ° (0.05%).
λ) and ZrO 2 having a thickness of 6
A fourth layer having a thickness of 40 ° (0.25λ) and a fifth layer made of SiO 2 and having a thickness of 870 ° (0.25λ) are laminated.

【0128】得られた比較例2の反射防止膜の特性(耐
擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性)は、実施例4と同
様にして測定した。
The properties (scratch resistance, adhesion, heat resistance, hot water resistance) of the obtained antireflection film of Comparative Example 2 were measured in the same manner as in Example 4.

【0129】この結果、耐擦傷性のランクはBであり、
実施例4より少し劣っている。また、密着性、耐熱性及
び耐温水性には実施例4と同様の結果が得られた。
As a result, the scratch resistance rank was B,
It is slightly inferior to Example 4. The same results as in Example 4 were obtained for the adhesiveness, heat resistance and hot water resistance.

【0130】比較例2の反射防止膜は、反射防止特性に
は優れている。しかしながら、実施例4と同程度の耐擦
傷性は得られない。また、この反射防止膜を形成するに
あたり、特に第3層は光学膜厚が0.05λであるため
に膜厚の制御が困難であった。したがって実施例4の光
学部材より、生産性に劣っている。
The antireflection film of Comparative Example 2 has excellent antireflection characteristics. However, the same degree of scratch resistance as in Example 4 cannot be obtained. In forming the antireflection film, it was difficult to control the thickness of the third layer in particular because the optical thickness was 0.05λ. Therefore, the productivity is lower than that of the optical member of the fourth embodiment.

【0131】7.比較例3 比較例3としては、実施例4と同様のプラスチックレン
ズ上に、5層構造の反射防止膜を形成する。この例で
は、5層構造のうちの第1層から第3層で以て低屈折率
物質からなる層と高屈折率物質からなる層との積層構造
を形成することにより、中屈折率物質の層の等価層とし
ている。そして、この第1層から第3層のそれぞれの膜
厚を合計した膜厚がλ/4となるようにしてある。よっ
て、最外層(第5層)を低屈折率物質からなり、光学膜
厚をλ/4の層とし、この第5層の一つ内側の層(第4
層)を高屈折率物質からなり、光学膜厚がλ/4の層と
し、この第4層の内側にある3つの層(第1層から第3
層)が実質的に中屈折率物質からなり、光学膜厚がλ/
4の層となることから、従来からよく知られている理想
的な反射防止効果が得られる膜構成となっている。
7. Comparative Example 3 In Comparative Example 3, an antireflection film having a five-layer structure was formed on the same plastic lens as in Example 4. In this example, the first to third layers of the five-layer structure form a laminated structure of a layer made of a low-refractive-index material and a layer made of a high-refractive-index material, so that a medium- The layers are equivalent layers. The total thickness of the first to third layers is λ / 4. Therefore, the outermost layer (fifth layer) is made of a material having a low refractive index, and has an optical film thickness of λ / 4.
Layer) made of a high-refractive-index substance and having an optical thickness of λ / 4, and three layers (first to third layers) inside the fourth layer.
Layer) is substantially composed of a medium refractive index material, and has an optical thickness of λ /
Since this is the fourth layer, the film configuration has an ideal anti-reflection effect that is well known in the art.

【0132】この例では、ハードコート層上に順次、S
iO2 からなり、光学膜厚が0.05λである第1層
と、屈折率が2.00のZrO2 からなり、光学膜厚が
0.15λである第2層と、屈折率が1.47のSiO
2 からなり、光学膜厚が0.05λである第3層と、屈
折率が2.00のZrO2 からなり、光学膜厚が0.2
5λである第4層と、屈折率が1.47のSiO2 から
なり、光学膜厚が0.25λである第5層とを積層す
る。
In this example, S was sequentially formed on the hard coat layer.
a first layer made of iO 2 and having an optical film thickness of 0.05λ; a second layer made of ZrO 2 having a refractive index of 2.00 and having an optical film thickness of 0.15λ; 47 SiO
2 , a third layer having an optical film thickness of 0.05λ and ZrO 2 having a refractive index of 2.00 and an optical film thickness of 0.2
A fourth layer having a wavelength of 5λ and a fifth layer made of SiO 2 having a refractive index of 1.47 and having an optical thickness of 0.25λ are laminated.

【0133】得られた比較例3の反射防止膜の特性(耐
擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性)を、実施例4と同
様にして測定した。
The characteristics (scratch resistance, adhesion, heat resistance, hot water resistance) of the obtained antireflection film of Comparative Example 3 were measured in the same manner as in Example 4.

【0134】この結果、耐擦傷性を示すランクはCであ
り、この反射防止膜は耐擦傷性に劣った膜であることが
分かった。また、密着性、耐熱性および耐温水性には実
施例4の光学部材と同様の結果が得られた。
As a result, the rank indicating the scratch resistance was C, and it was found that this antireflection film was a film having poor scratch resistance. In addition, the same results as those of the optical member of Example 4 were obtained in terms of adhesion, heat resistance, and hot water resistance.

【0135】これにより、比較例3の反射防止膜は反射
防止特性には優れているが、耐擦傷性には劣っている。
また、この反射防止膜を形成するにあたり、特に第1層
および第3層は光学膜厚が0.05λであるために膜厚
の制御が困難であった。したがって、比較例3の光学部
材は、実施例4の光学部材よりも生産性に劣った部材と
なることが確認された。
As a result, the antireflection film of Comparative Example 3 was excellent in antireflection properties, but was inferior in scratch resistance.
In forming this antireflection film, it was difficult to control the film thickness of the first layer and the third layer, particularly, since the optical thickness was 0.05λ. Therefore, it was confirmed that the optical member of Comparative Example 3 was inferior in productivity to the optical member of Example 4.

【0136】なお、実施例1〜3の光学部材の耐久性に
ついては、実施例4と同様、耐擦傷性に優れていた。こ
れらの光学部材に実施例4のようにプライマー層やハー
ドコート層等を備えることにより、さらに密着性などの
耐久性に優れた部材が得られる。
The durability of the optical members of Examples 1 to 3 was excellent in abrasion resistance as in Example 4. By providing these optical members with a primer layer, a hard coat layer, and the like as in Example 4, a member having more excellent durability such as adhesion can be obtained.

【0137】[0137]

【発明の効果】上述した説明から明らかなように、この
発明の光学部材によれば、合成樹脂からなる基材上に反
射防止膜を4層構造の膜として設けてある。そして、こ
の反射防止膜を構成する第1層から第4層までの各層の
うち光学膜厚が一番薄くなる層の厚さを0.15λ以上
の厚さにすることができる。
As is apparent from the above description, according to the optical member of the present invention, an antireflection film is provided as a four-layer structure film on a synthetic resin base material. The thickness of the layer having the smallest optical thickness among the first to fourth layers constituting the antireflection film can be set to 0.15λ or more.

【0138】このため、合成樹脂からなる基材上に膜を
形成するときの膜厚の制御を容易に行うことができる。
このため光学部材の生産性を向上させることができる。
For this reason, it is possible to easily control the film thickness when forming a film on a substrate made of a synthetic resin.
Therefore, the productivity of the optical member can be improved.

【0139】また、この反射防止膜は、反射防止特性に
優れていて、かつ耐擦傷性などの耐久性にも優れてい
る。
Further, the antireflection film has excellent antireflection characteristics and also has excellent durability such as scratch resistance.

【0140】さらに、反射色は緑となるため、この反射
防止膜を有する光学部材を眼鏡レンズやカメラのレンズ
に用いれば、好ましい外観が得られる。よって、このレ
ンズを用いた製品のファッション性を高めることがで
き、高級感を出すことができる。
Further, since the reflection color is green, a favorable appearance can be obtained by using the optical member having the antireflection film for an eyeglass lens or a camera lens. Therefore, the fashionability of a product using this lens can be enhanced, and a sense of quality can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の光学部材の分光反射特性図である。FIG. 1 is a spectral reflection characteristic diagram of an optical member according to a first embodiment.

【図2】実施例2の光学部材の分光反射特性図である。FIG. 2 is a spectral reflection characteristic diagram of an optical member according to a second embodiment.

【図3】実施例3の光学部材の分光反射特性図である。FIG. 3 is a spectral reflection characteristic diagram of an optical member according to a third embodiment.

【図4】実施例4の光学部材の分光反射特性図である。FIG. 4 is a spectral reflection characteristic diagram of the optical member of Example 4.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックからなる基材と、該基材上
に形成された反射防止膜とを備えた光学部材であって、 前記基材の屈折率の値が1.45以上1.58未満の範
囲内にあり、 前記反射防止膜は、前記基材の側から順に積層された、
第1層、第2層、第3層および第4層を含み、 前記第1層は、屈折率の値が1.37〜1.48の範囲
内にあり、かつ光学的膜厚が0.60λ〜1.25λ
(但し、λは設計中心波長とし、400nm〜650n
mの範囲内の値とする。)の範囲内にある層とし、 前記第2層は、屈折率の値が1.90〜2.10の範囲
内にあり、かつ光学的膜厚が0.20λ〜0.40λの
範囲内にある層とし、 前記第3層は、屈折率の値が2.15〜2.30の範囲
内にあり、かつ光学的膜厚が0.15λ〜0.35λの
範囲内にある層とし、および前記第4層は、屈折率の値
が1.37〜1.48の範囲内にあり、かつ光学的膜厚
が0.20λ〜0.35λの範囲内にある層とすること
を特徴とする光学部材。
1. An optical member comprising a base material made of plastic and an antireflection film formed on the base material, wherein the base material has a refractive index value of 1.45 or more and less than 1.58. Wherein the antireflection film is sequentially laminated from the side of the substrate,
The first layer includes a first layer, a second layer, a third layer, and a fourth layer, wherein the first layer has a refractive index value in a range of 1.37 to 1.48 and an optical thickness of 0.3. 60λ to 1.25λ
(However, λ is a design center wavelength, 400 nm to 650 n
The value is within the range of m. ), Wherein the second layer has a refractive index value in the range of 1.90 to 2.10 and an optical film thickness in the range of 0.20λ to 0.40λ. A third layer having a refractive index value in the range of 2.15 to 2.30 and an optical film thickness in the range of 0.15λ to 0.35λ; and The fourth layer is a layer having a refractive index value in a range of 1.37 to 1.48 and an optical film thickness in a range of 0.20λ to 0.35λ. Optical members.
【請求項2】 請求項1に記載の光学部材において、 前記基材と前記反射防止膜との間に、ハードコート層、
もしくは、プライマー層およびハードコート層が設けら
れていることを特徴とする光学部材。
2. The optical member according to claim 1, wherein a hard coat layer is provided between the base material and the antireflection film.
Alternatively, an optical member provided with a primer layer and a hard coat layer.
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