JPH1117247A - Microwave-excited gas laser oscillator and control method therefor - Google Patents

Microwave-excited gas laser oscillator and control method therefor

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JPH1117247A
JPH1117247A JP16983597A JP16983597A JPH1117247A JP H1117247 A JPH1117247 A JP H1117247A JP 16983597 A JP16983597 A JP 16983597A JP 16983597 A JP16983597 A JP 16983597A JP H1117247 A JPH1117247 A JP H1117247A
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magnetron
pulse
current
microwave
laser
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Masahiko Kubo
昌彦 久保
Yasushi Iwasaki
泰 岩崎
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prolong the life of a magnetron and raise the rise time of a pulse in a pulse operation mode by specifying the value of the quotient of the division of the mean current by the peak current given by a magnetron current at least at a max. magnetron power. SOLUTION: A magnetron drive circuit 25 constructs a microwave generator 12 with a magnetron 6 to drive a magnetron in a pulse mode according to a signal from a controller 13. The applied voltage is varied with a const. duty of the magnetron current so that D=(mean current/peak current)×10 of the magnetron current is always over 40. The drive circuit 25 may be composed of a PEM or resonance type drive circuit which always provides the D value of the magnetron current over 40 at a max. power while the magnetron current duty ratio varies according to a signal from the controller 13.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマイクロ波でレーザ
ガスを励起させてレーザビームを得るガスレーザ発振装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas laser oscillating device for obtaining a laser beam by exciting a laser gas with a microwave.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロ波励起ガスレーザ発振装置の例
としては、文献 APPLIED PHYSICS L
ETTER,37(8),P673(1980)等が知
られている。
2. Description of the Related Art An example of a microwave-excited gas laser oscillation device is disclosed in the document APPLIED PHYSICS L.
ETTER, 37 (8), P673 (1980) and the like are known.

【0003】上記のガスレーザ発振装置に基づき、本発
明者がこれまで検討してきたマイクロ波励起の炭酸ガス
レーザ発振装置の構成概略図を図5に示す。
FIG. 5 shows a schematic diagram of the configuration of a microwave-excited carbon dioxide laser oscillation device which the present inventors have studied so far based on the above-described gas laser oscillation device.

【0004】図5において、12はマイクロ波を発生さ
せるマグネトロンを含むマイクロ波発生装置、13はマ
イクロ波発生装置を制御する制御部、11はガラス等の
誘電体で形成される放電管、14はマイクロ波を放電管
11内に供給する導波管である。放電管11は導波管1
4を貫通しているので、放電管11内のレーザガスは、
マイクロ波で励起される。このレーザガスが励起される
部分が放電部15である。放電管11の端には全反射鏡
16が、他端には部分反射鏡17が配置され光共振器を
形成している。部分反射鏡17からはレーザビーム18
が出射される。放電管11の両端には送気管19が接続
され、さらに放電管11の中央部には吸気管20が接続
されている。吸気管20と送気管19との間には、熱交
換器21、22と送風機23が接続され、レーザガスを
循環させるようにしている。熱交換器21、22は放電
部15の放電および送風機23により温度上昇したレー
ザガスを冷却させるために設けている。矢印24はレー
ザガスの流れる方向を示しており、図に示すガスレーザ
発振装置の中をレーザガスが循環している。
In FIG. 5, reference numeral 12 denotes a microwave generator including a magnetron for generating microwaves, 13 denotes a control unit for controlling the microwave generator, 11 denotes a discharge tube formed of a dielectric such as glass, and 14 denotes a discharge tube. This is a waveguide that supplies microwaves into the discharge tube 11. The discharge tube 11 is the waveguide 1
4, the laser gas in the discharge tube 11
Excited by microwaves. The discharge section 15 is where the laser gas is excited. A total reflection mirror 16 is disposed at one end of the discharge tube 11 and a partial reflection mirror 17 is disposed at the other end to form an optical resonator. The laser beam 18 from the partial reflecting mirror 17
Is emitted. An air supply pipe 19 is connected to both ends of the discharge tube 11, and an intake pipe 20 is connected to the center of the discharge tube 11. Heat exchangers 21 and 22 and a blower 23 are connected between the intake pipe 20 and the air supply pipe 19 to circulate the laser gas. The heat exchangers 21 and 22 are provided to cool the laser gas whose temperature has been increased by the discharge of the discharge unit 15 and the blower 23. The arrow 24 indicates the direction in which the laser gas flows, and the laser gas circulates in the gas laser oscillation device shown in the figure.

【0005】以上のように構成された炭酸ガスレーザ発
振装置の動作について説明する。まず、制御部13でマ
イクロ波発生装置12を制御し、マイクロ波を発生させ
る。この時の、マイクロ波発生装置12のマグネトロン
電流波形を図6に示す。導波管14を通じて放電管11
内の放電部15にマイクロ波を印加し、放電部15にグ
ロー放電を発生させる。放電部15を通過するレーザガ
スは、この放電エネルギーを得て励起され、その励起さ
れたレーザガスは全反射鏡16と部分反射鏡17により
形成された光共振器間で共振状態となり、部分反射鏡1
7を透過してレーザビーム18が出射される。
[0005] The operation of the carbon dioxide laser oscillation device configured as described above will be described. First, the control unit 13 controls the microwave generator 12 to generate a microwave. FIG. 6 shows a magnetron current waveform of the microwave generator 12 at this time. Discharge tube 11 through waveguide 14
A microwave is applied to the discharge unit 15 in the inside to generate a glow discharge in the discharge unit 15. The laser gas passing through the discharge unit 15 is excited by obtaining this discharge energy, and the excited laser gas is brought into a resonance state between the optical resonator formed by the total reflection mirror 16 and the partial reflection mirror 17, and the partial reflection mirror 1 is turned on.
7 and a laser beam 18 is emitted.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このマイクロ波励起ガ
スレーザ発振装置では、マイクロ波発生装置12のマグ
ネトロンの劣化に従ってモーディングと呼ばれる現象が
発生しやすくなり、マイクロ波の出力が低下し、所定の
レーザ出力が得られなくなる。従って、モーディングが
発生したことによりマグネトロンの寿命が来たと判断
し、その際にはマグネトロンを交換する必要がある。し
かも図5に示す炭酸ガスレーザ発振装置では、通常複数
のマグネトロンを使用するため、マグネトロン寿命の短
さがレーザ発振装置全体のメンテナンス費用を増大する
結果となる。
In this microwave-excited gas laser oscillator, a phenomenon called "moding" tends to occur as the magnetron of the microwave generator 12 deteriorates, the microwave output decreases, and the predetermined laser No output can be obtained. Therefore, it is determined that the life of the magnetron has expired due to the occurrence of the moding, and in that case, the magnetron needs to be replaced. Moreover, in the carbon dioxide laser oscillation device shown in FIG. 5, since a plurality of magnetrons are usually used, a short magnetron life results in an increase in maintenance cost of the entire laser oscillation device.

【0007】又、連続したパルス状のマイクロ波の発生
を繰り返し断続させ、パルス状のレーザ出力を発生させ
るパルス運転を行う場合、一定のマイクロ波の断続によ
るレーザ出力では、パルスの立ち上がり速度が遅く、加
工に悪影響を及ぼす。
Further, in the case of performing a pulse operation for generating a pulse-like laser output by repeatedly interrupting the generation of a continuous pulse-like microwave, the rising speed of the pulse is slow with the laser output due to the constant interruption of the microwave. Adversely affects processing.

【0008】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、マグネトロンを長寿命化し、パルス運転時
のパルス立ち上がり速度を速くできるマイクロ波励起ガ
スレーザ発振装置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a microwave-excited gas laser oscillating device capable of extending the life of a magnetron and increasing the pulse rising speed during pulse operation.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の第1の手段は、マグネトロンによりマイクロ
波を発生させるマイクロ波発生装置と、前記マイクロ波
発生装置からのマイクロ波をレーザガスに供給してレー
ザガスを励起させる放電部と、前記放電部内で励起され
たレーザガスを共振させてレーザビームを発生させる光
共振器と、前記マイクロ波発生装置の動作を制御する制
御部を備え、前記制御部はマグネトロン電流によりあら
わされるD=(平均電流/ピーク電流)×100 の値
を少なくともマグネトロン出力の最大時で、Dを40以
上に設定したものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, a first means of the present invention is to provide a microwave generator for generating a microwave by a magnetron, and to convert a microwave from the microwave generator into a laser gas. A discharge unit that supplies and excites the laser gas, an optical resonator that resonates the laser gas excited in the discharge unit to generate a laser beam, and a control unit that controls an operation of the microwave generation device; In the section, the value of D = (average current / peak current) × 100 expressed by the magnetron current is set at least at the maximum of the magnetron output, and D is set to 40 or more.

【0010】本発明の第2の手段は、連続したパルス状
のマイクロ波の発生を繰り返し断続させパルス状のレー
ザ出力を発生させるパルス運転を行う場合、各パルスの
立ち上がり部分のマグネトロン電流をパルスの平坦部分
よりも大きくし、ほぼ立ち上がり区間の間、前記電流に
て制御するものである。
A second means of the present invention is to perform a pulse operation for generating a pulsed laser output by repeatedly intermittently generating a pulsed microwave, and to generate a magnetron current at the rising portion of each pulse. The current is controlled to be larger than the flat portion and to be controlled substantially during the rising section.

【0011】本発明の第3の手段は、上記第2の手段に
おいて、パルス運転時、パルスの立ち上がり部分のマグ
ネトロン電流をパルスの平坦部分の1.5倍以上とし、
150μs以上前記電流にて制御するものである。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the magnetron current at the rising portion of the pulse is 1.5 times or more the flat portion of the pulse during the pulse operation,
It is controlled by the current for 150 μs or more.

【0012】本発明の第4の手段は、パルス運転時、パ
ルス立ち上がり部分のマグネトロン電流をパルス平坦部
より大きくしたエンハンス部分と、パルス平坦部分とを
独立に制御するものである。
A fourth means of the present invention is to independently control an enhanced portion in which a magnetron current at a pulse rising portion is larger than a pulse flat portion and a pulse flat portion during a pulse operation.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の第1の手段によれば、所
定のレーザ出力を確保しながら、マグネトロン電流のピ
ーク値を下げ、モーディングの発生を低減し、マグネト
ロン寿命を伸ばすことができる。
According to the first aspect of the present invention, the peak value of the magnetron current can be reduced, the occurrence of moding can be reduced, and the life of the magnetron can be extended while securing a predetermined laser output. .

【0014】上記理由について考察する。マグネトロン
劣化(使用時間)に対する、モーディング発生マグネト
ロン電流(瞬時値)の関係は、図3(A)示すようにマ
グネトロンの劣化に伴って低下する。一方、マグネトロ
ン電流の平均値とレーザ出力との関係は、図3(B)に
示すようにほぼ比例関係にある。又、望まれるマグネト
ロン寿命に達した使用時間での前記Dの値と、レーザ出
力との関係は、図3(C)の通りとなり、Dの値が40
以下の領域ではマグネトロンのモーディングが発生し、
レーザ出力が低下しているが、Dの値がほぼ40以上で
モーディングが解消され、所定のレーザ出力が得られ
る。従って、所定のレーザ出力を確保しながら、モーデ
ィングを抑制するためには、マグネトロンを駆動するパ
ルス信号のdutyを大きくし、マグネトロン電流の平
均値を保ちながら、ピーク値を下げれば良いこととな
り、望まれるマグネトロンの寿命で、マイクロ波出力を
得るためには、Dの値を40以上とすることにより可能
となる。
The above reason will be considered. The relationship between the magnetron current (instantaneous value) generated by the moding and the magnetron deterioration (use time) decreases with the deterioration of the magnetron as shown in FIG. On the other hand, the relationship between the average value of the magnetron current and the laser output is almost proportional as shown in FIG. FIG. 3C shows the relationship between the value of D and the laser output during the use time when the desired magnetron life has been reached.
Magnetron moding occurs in the following areas,
Although the laser output is reduced, the moding is eliminated when the value of D is approximately 40 or more, and a predetermined laser output is obtained. Therefore, in order to suppress the moding while securing a predetermined laser output, the duty of the pulse signal for driving the magnetron should be increased, and the peak value should be reduced while maintaining the average value of the magnetron current. In order to obtain a microwave output with a desired magnetron life, it becomes possible by setting the value of D to 40 or more.

【0015】本発明の第2の手段によれば、パルス運転
時、高速にパルスを立ち上げることができる。
According to the second means of the present invention, the pulse can be started up at a high speed during the pulse operation.

【0016】本発明の第3の手段によれば、パルス立ち
上がり時間を50μs以下にすることができる。
According to the third means of the present invention, the pulse rise time can be reduced to 50 μs or less.

【0017】本発明の第4の手段によれば、パルス立ち
上がり速度の改善をマイクロ波発生装置のばらつきや変
動等があっても、安定して行うことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the pulse rising speed can be stably improved even if there is a variation or fluctuation of the microwave generator.

【0018】上記理由について考察する。一定のマグネ
トロン電流を断続させた時のレーザ出力波形のパルス立
ち上がり時間は、図4(A)に示すようにレーザ出力設
定を変えてもほぼ同一となる。従ってほぼパルス立ち上
がり時間の間、パルス平坦部分でのマグネトロン電流よ
りも大きな電流を流すことにより、図4(B)に示すよ
うに、立ち上がり速度を速くすることが可能となる。
Consider the above reason. The pulse rise time of the laser output waveform when a constant magnetron current is intermittently becomes substantially the same even if the laser output setting is changed as shown in FIG. Therefore, by supplying a current larger than the magnetron current in the pulse flat portion during the pulse rising time, the rising speed can be increased as shown in FIG. 4B.

【0019】なお、図5に示す我々が検討したマイクロ
波励起の炭酸ガスレーザ発振装置では、図4(A)に示
すパルス立ち上がり時間が約150μsであり、目標と
する立ち上がり時間を50μsとすれば、図4(A)に
示す通り、設定値の約1.5倍のマグネトロン電流を流
せば、tr’≒tr/3≒50μsとなる。従って、パ
ルスの立ち上がり部分のマグネトロン電流をパルスの平
坦部分の1.5倍以上とし、150μs以上の間前記電
流で制御すれば、目標である50μsの立ち上がり時間
を得ることが可能となる。
In the microwave-excited carbon dioxide laser oscillation device shown in FIG. 5 which we have studied, if the pulse rise time shown in FIG. 4A is about 150 μs and the target rise time is 50 μs, As shown in FIG. 4A, when a magnetron current of about 1.5 times the set value is passed, tr ′ ≒ tr / 3 ≒ 50 μs. Therefore, if the magnetron current at the rising portion of the pulse is 1.5 times or more the flat portion of the pulse and the current is controlled for 150 μs or more, the target rising time of 50 μs can be obtained.

【0020】以下、本発明の実施の形態について、図1
および図2を用いて説明する。 (実施の形態1)図1において、25はマグネトロン駆
動回路で、マグネトロン26と共にマイクロ波発生装置
12を構成する。制御部13からの信号により、マグネ
トロン駆動回路25は、パルス状にマグネトロンを駆動
するものである。マグネトロン電流のdutyを一定と
し、印加する電圧を変化させ、マグネトロン電流の D
=(平均電流/ピーク電流)×100 の値を常に40
以上になるよう構成したものである。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. (Embodiment 1) In FIG. 1, reference numeral 25 denotes a magnetron driving circuit, which constitutes the microwave generator 12 together with the magnetron 26. The magnetron drive circuit 25 drives the magnetron in a pulsed manner by a signal from the control unit 13. The duty of the magnetron current is kept constant, the applied voltage is changed, and the D of the magnetron current is changed.
= (Average current / peak current) × 100 is always 40
The configuration is as described above.

【0021】(実施の形態2)図1において、前記マグ
ネトロン駆動回路25をPWM 又は、共振タイプ等の
駆動回路により構成し、制御部13からの信号により、
マグネトロン電流のdutyは、変化するが、最大出力
時には、マグネトロン電流のD=(平均電流/ピーク電
流)×100 の値を40以上になるよう構成したもの
である。
(Embodiment 2) In FIG. 1, the magnetron drive circuit 25 is constituted by a drive circuit such as a PWM type or a resonance type.
The duty of the magnetron current changes, but at the maximum output, the value of D = (average current / peak current) × 100 of the magnetron current becomes 40 or more.

【0022】(実施の形態3)図2(A)において、制
御部13は、パルス運転時マグネトロン電流のパルス立
ち上がり部分のパルス平坦部より大きくしたエンハンス
部分の制御を行う制御回路27と、前記マグネトロン電
流のパルス平坦部分の制御を行う制御回路28、および
電流検出信号と制御信号を同期して切り替える切り替え
回路29を構成要素として持っている。切り替え回路2
9は、図2(B)に示すマグネトロン電流を 図2
(C)に示す前記パルスのエンハンス部分と、図2
(D)に示す平坦部分で、電流検出信号と制御信号を同
期して切り替え、前記エンハンス部分と平坦部分を独立
に制御が可能となる構成としたものである。
(Embodiment 3) In FIG. 2A, the control unit 13 includes a control circuit 27 for controlling an enhanced portion which is larger than a pulse flat portion of a pulse rising portion of a magnetron current during pulse operation, and the magnetron. It has a control circuit 28 for controlling the flat portion of the current pulse, and a switching circuit 29 for switching between the current detection signal and the control signal in synchronization. Switching circuit 2
9 shows the magnetron current shown in FIG.
The enhanced portion of the pulse shown in FIG.
The current detection signal and the control signal are synchronously switched in the flat portion shown in FIG. 1D, so that the enhanced portion and the flat portion can be controlled independently.

【0023】なお、以上の説明では、軸流型のガスレー
ザ発振装置を用いたが、他の形式のガスレーザ発振装置
であっても効果が得られる。
In the above description, the axial-flow type gas laser oscillation device is used, but the effects can be obtained with other types of gas laser oscillation devices.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明は、マグネトロン電
流のピーク値を下げ、モーディングの発生を低減し、マ
グネトロンの長寿命化が図れる。又、パルス運転時のパ
ルス立ち上がり速度を改善し、加工性能の向上に効果が
得られる。
As described above, according to the present invention, the peak value of the magnetron current is reduced, the occurrence of moding is reduced, and the life of the magnetron can be extended. Further, the pulse rising speed during the pulse operation is improved, and the effect of improving the processing performance is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態におけるマイクロ波励起
ガスレーザ発振装置の概略構成図
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a microwave-excited gas laser oscillation device according to an embodiment of the present invention.

【図2】(A)は本発明の一実施の形態におけるマイク
ロ波励起ガスレーザ発振装置の概略構成図 (B)はパルス運転時のマグネトロン電流波形を示す図 (C)はエンハンス部分のマグネトロン電流のみを選択
した電流波形を示す図 (D)はパルスの平坦部分のマグネトロン電流のみを選
択した電流波形を示す図
2A is a schematic configuration diagram of a microwave-excited gas laser oscillation device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2B is a diagram showing a magnetron current waveform during pulse operation. FIG. 2C is only a magnetron current in an enhanced portion. (D) is a diagram showing a current waveform in which only the magnetron current in the flat portion of the pulse is selected.

【図3】(A)はマグネトロン劣化とモーディング発生
マグネトロン電流との関係を示す図 (B)はマグネトロン電流の平均値とレーザ出力との関
係を示す図 (C)は目標とするマグネトロン使用時間におけるDの
値とレーザ出力との関係を示す図
3A is a diagram showing a relationship between magnetron degradation and a magnetron current generated by moding. FIG. 3B is a diagram showing a relationship between an average value of the magnetron current and laser output. FIG. 3C is a target magnetron use time. Showing the relationship between the value of D and the laser output in FIG.

【図4】(A)はパルス運転時のレーザ出力波形を示す
図 (B)はエンハンス時のマグネトロン電流波形およびレ
ーザ出力波形を示す図
4A is a diagram showing a laser output waveform at the time of pulse operation; FIG. 4B is a diagram showing a magnetron current waveform and a laser output waveform at the time of enhancement;

【図5】従来のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置の概
略構成図
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional microwave-excited gas laser oscillation device.

【図6】マグネトロン電流波形を示す図FIG. 6 is a diagram showing a magnetron current waveform;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 マイクロ波発生装置 13 制御部 15 放電部 25 マグネトロン駆動回路 26 マグネトロン 27 パルスエンハンス部分用制御回路 28 パルス平坦部分用制御回路 29 切り替え回路 REFERENCE SIGNS LIST 12 Microwave generator 13 Control unit 15 Discharge unit 25 Magnetron drive circuit 26 Magnetron 27 Control circuit for pulse enhancement part 28 Control circuit for pulse flat part 29 Switching circuit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マグネトロンによりマイクロ波を発生さ
せるマイクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置か
らのマイクロ波をレーザガスに供給してレーザガスを励
起させる放電部と、前記放電部内で励起されたレーザガ
スを共振させてレーザビームを発生させる光共振器と、
前記マイクロ波発生装置の動作を制御する制御部を備
え、前記制御部はマグネトロン電流によりあらわされる
D=(平均電流/ピーク電流)×100 の値を少なく
ともマグネトロン出力の最大時で、Dを40以上に設定
したマイクロ波励起ガスレーザ発振装置。
1. A microwave generator for generating microwaves by a magnetron, a discharge unit for supplying microwaves from the microwave generator to a laser gas to excite the laser gas, and a laser unit for exciting the laser gas in the discharge unit. An optical resonator that resonates to generate a laser beam;
A control unit for controlling the operation of the microwave generating apparatus, wherein the control unit sets a value of D = (average current / peak current) × 100 expressed by magnetron current at least at the maximum of the magnetron output, and sets D to 40 or more. Microwave-excited gas laser oscillator set to.
【請求項2】 マグネトロンにより連続したパルス状の
マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置と、前記マ
イクロ波発生装置からのマイクロ波をレーザガスに供給
してレーザガスを励起させる放電部と、前記放電部内で
励起されたレーザガスを共振させてレーザビームを発生
させる光共振器と、前記マイクロ波発生装置の動作を制
御する制御部を備え、前記制御部は、連続したパルス状
のマイクロ波の発生を繰り返し断続させ、パルス状のレ
ーザ出力を発生させるパルス運転を行う場合、各パルス
の立ち上がり部分のマグネトロン電流をパルスの平坦部
分よりも大きくし、ほぼ立ち上がり区間の間、前記電流
にて制御するマイクロ波励起ガスレーザ発振装置。
2. A microwave generator for generating continuous pulsed microwaves by a magnetron, a discharge unit for supplying microwaves from the microwave generator to a laser gas to excite the laser gas, and An optical resonator that resonates the excited laser gas to generate a laser beam, and a control unit that controls the operation of the microwave generation device, wherein the control unit repeatedly and intermittently generates continuous pulsed microwaves. When performing a pulse operation for generating a pulse-like laser output, the magnetron current at the rising portion of each pulse is set to be larger than the flat portion of the pulse, and the microwave-excited gas laser controlled by the current during the almost rising section. Oscillator.
【請求項3】 パルス運転時、パルスの立ち上がり部分
のマグネトロン電流をパルスの平坦部分の1.5倍以上
とし、150μs以上前記電流にて制御する請求項2に
記載のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置。
3. The microwave-excited gas laser oscillation device according to claim 2, wherein, during the pulse operation, the magnetron current at the rising portion of the pulse is set to 1.5 times or more of the flat portion of the pulse, and is controlled by the current for 150 μs or more.
【請求項4】 連続したパルス状のマイクロ波を発生さ
せるマイクロ波発生装置の動作を制御する制御部を有
し、前記制御部にて、パルス運転時、パルス立ち上がり
部分のマグネトロン電流をパルス平坦部より大きくした
エンハンス部分と、パルス平坦部分とを独立に制御する
マイクロ波励起ガスレーザ発振装置の制御方法。
4. A control unit for controlling the operation of a microwave generator for generating a continuous pulsed microwave, wherein the control unit controls a magnetron current at a pulse rising portion during a pulse operation to generate a pulse flat portion. A method for controlling a microwave-excited gas laser oscillation device that independently controls a larger enhancement portion and a pulse flat portion.
JP16983597A 1997-06-26 1997-06-26 Microwave-excited gas laser oscillator and control method therefor Pending JPH1117247A (en)

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