JPH06291397A - Gas laser oscillation equipment - Google Patents

Gas laser oscillation equipment

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JPH06291397A
JPH06291397A JP7930393A JP7930393A JPH06291397A JP H06291397 A JPH06291397 A JP H06291397A JP 7930393 A JP7930393 A JP 7930393A JP 7930393 A JP7930393 A JP 7930393A JP H06291397 A JPH06291397 A JP H06291397A
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JP
Japan
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laser
microwave
gas
discharge
output
Prior art date
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JP7930393A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Yamane
茂樹 山根
Yasushi Iwasaki
泰 岩崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To increase the oscillation efficiency and the output power of a laser, in a microwave pumping type gas laser oscillation equipment. CONSTITUTION:Microwaves are supplied from magnetrons 13 to a discharge part 15, and a laser beam is obtained from an optical resonator by exciting laser gas in a discharge part 15. The magnetrons 13 supply the microwaves by a microwave power supply 25. The microwave power supply 25 is intermittently operated by a driving signal from a control part 26, and the frequency of the driving signal is set to be 20KHz or higher.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はマイクロ波でレーザガス
を励起させてレーザビームを得るガスレーザ発振装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas laser oscillator for obtaining a laser beam by exciting a laser gas with microwaves.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロ波でレーザガスを励起させるガ
スレーザ発振装置の一例として、APPLIED PH
YSICS LETTER,37[8](1980)
P.673に示す構成のものがある。上記構成を図5に
より説明する。
2. Description of the Related Art As an example of a gas laser oscillator for exciting a laser gas with microwaves, an APPLIED PH
YSICS LETTER, 37 [8] (1980)
P. There is a configuration shown in 673. The above configuration will be described with reference to FIG.

【0003】図5において、1はレーザ管で、レーザ管
1の上部にはレーザガス2を流し込む入り口3が形成さ
れている。レーザ管1の一端にはマイクロ波4をレーザ
管1内に供給する導波管5が取り付けられ、導波管5の
端部に取り付けた圧力隔壁6により導波管5とレーザ管
1とは仕切られている。レーザ管1の入り口3から供給
される高圧のレーザガス2はレーザ管1の途中に形成し
たノズル部7により流速が速められ、真空ポンプにより
矢印8の方向に排出される。9はノズル部7より下流側
に配設した光共振器である。
In FIG. 5, reference numeral 1 is a laser tube, and an inlet 3 for injecting a laser gas 2 is formed in an upper portion of the laser tube 1. A waveguide 5 for supplying the microwave 4 into the laser tube 1 is attached to one end of the laser tube 1, and the waveguide 5 and the laser tube 1 are separated by a pressure partition wall 6 attached to the end of the waveguide 5. It is partitioned. The high-pressure laser gas 2 supplied from the inlet 3 of the laser tube 1 has its flow velocity increased by a nozzle portion 7 formed in the middle of the laser tube 1, and is discharged in the direction of arrow 8 by a vacuum pump. Reference numeral 9 is an optical resonator arranged downstream of the nozzle portion 7.

【0004】次に、以上のように構成されたガスレーザ
発振装置の動作について説明する。まず、レーザガス2
は高圧で入口3からレーザ管1内に供給され、無放電空
間11からノズル部3を通る。レーザガス2がノズル部
7を通ることで断熱膨張作用するので、ノズル部7より
下流の放電部11ではガス圧は低くなり、ガス速度が速
くなる。マイクロ波4はマイクロ波を透過する圧力隔壁
19を通じてレーザ管1内に供給される。レーザ管1内
の無放電空間10は高圧力であるからここでは放電は発
生せず、ガス圧力の低い放電部11で放電が発生する。
レーザ出力は、放電部11の下流側に構成された光り共
振器9により、マイクロ波で励起されたレーザガスのほ
う電により取り出される。排出ガスは真空ポンプにより
矢印8方向に排出される。
Next, the operation of the gas laser oscillator constructed as above will be described. First, laser gas 2
Is supplied at high pressure into the laser tube 1 through the inlet 3 and passes through the nozzle portion 3 from the non-discharge space 11. Since the laser gas 2 passes through the nozzle portion 7 and adiabatically expands, the gas pressure in the discharge portion 11 downstream of the nozzle portion 7 becomes low and the gas velocity becomes high. The microwave 4 is supplied into the laser tube 1 through a pressure partition wall 19 that transmits the microwave. Since the discharge-free space 10 in the laser tube 1 has a high pressure, no discharge is generated here, and a discharge is generated in the discharge part 11 having a low gas pressure.
The laser output is extracted by the electrostatic charge of the laser gas excited by the microwave by the optical resonator 9 arranged on the downstream side of the discharge section 11. The exhaust gas is exhausted in the direction of arrow 8 by a vacuum pump.

【0005】上記のようにマイクロ波でレーザビームを
取り出すことは電源装置のコスト面から非常に大きな期
待がなされているが、現実のところ、一般産業用として
のマイクロ波励起のガスレーザ発振装置は実用化されて
いない。
As described above, it is highly expected to extract the laser beam by microwaves from the viewpoint of the cost of the power supply device, but in reality, the microwave-excited gas laser oscillator device for general industrial use is practically used. It has not been converted.

【0006】上記のガスレーザ発振装置にもとづき、我
々が検討したマイクロ波励起の炭酸ガスレーザ発振装置
の構成概略図を図6に示す。
FIG. 6 shows a schematic diagram of the configuration of a microwave-excited carbon dioxide gas laser oscillation device which we have studied based on the above-mentioned gas laser oscillation device.

【0007】図において、12はガラス等の誘電体で形
成される放電管、13はマイクロ波を発生させるマイク
ロ波発生装置であるマグネトロン、14はマグネトロン
13のマイクロ波を放電管12内に供給する導波管であ
る。放電管12は導波管14を貫通しているので、放電
管12内のレーザガスガスマイクロ波で励起される。こ
のレーザガスが励起される部分が放電部15である。放
電管12の端には全反射鏡16が、他端には部分反射鏡
17が配置され光共振器を形成している。部分反射鏡1
7からはレーザビーム18が出射される。放電管12の
両端には送気管19が接続され、さらに放電管1の中央
部には吸気管0が接続されている。吸気管20と送気管
19との間には、熱交換器21,22と送風機23が接
続され、レーザガスを循環させるようにしている。熱交
換器21,22は放電部15の放電および送風機23に
より温度上昇したレーザガスを冷却させるために設けて
いる。矢印24はレーザガスの流れる方向を示してお
り、図に示すガスレーザ発振装置の中をレーザガスが循
環している。
In the figure, 12 is a discharge tube formed of a dielectric material such as glass, 13 is a magnetron which is a microwave generator for generating microwaves, and 14 is the microwave of the magnetron 13 supplied into the discharge tube 12. It is a waveguide. Since the discharge tube 12 penetrates the waveguide 14, it is excited by the laser gas gas microwave in the discharge tube 12. The part where this laser gas is excited is the discharge part 15. A total reflection mirror 16 is arranged at the end of the discharge tube 12 and a partial reflection mirror 17 is arranged at the other end to form an optical resonator. Partial mirror 1
A laser beam 18 is emitted from 7. An air supply pipe 19 is connected to both ends of the discharge tube 12, and an intake pipe 0 is connected to the central portion of the discharge tube 1. Heat exchangers 21, 22 and a blower 23 are connected between the intake pipe 20 and the air supply pipe 19 to circulate the laser gas. The heat exchangers 21 and 22 are provided to discharge the discharge part 15 and cool the laser gas whose temperature has been raised by the blower 23. An arrow 24 indicates the direction in which the laser gas flows, and the laser gas circulates in the gas laser oscillator shown in the figure.

【0008】以上のように構成された炭酸ガスレーザ発
振装置の動作について説明する。まず、放電管12内の
放電部15にマグネトロン13からマイクロ波を導波管
14を通じて印加し、放電部15にグロー放電を発生さ
せる。マグネトロン13は連続して動作しているので図
7に示すマイクロ波出力となる。放電部15を通過する
レーザガスは、この放電エネルギーを得て励起され、そ
の励起されたレーザガスは全反射鏡16と部分反射鏡1
7により形成された光共振器で共振状態となり、部分反
射鏡17を透過してレーザビーム18が出射される。
The operation of the carbon dioxide gas laser oscillating device constructed as above will be described. First, a microwave is applied from the magnetron 13 to the discharge part 15 in the discharge tube 12 through the waveguide 14 to generate glow discharge in the discharge part 15. Since the magnetron 13 operates continuously, the microwave output shown in FIG. 7 is obtained. The laser gas passing through the discharge section 15 is excited by obtaining this discharge energy, and the excited laser gas is reflected by the total reflection mirror 16 and the partial reflection mirror 1.
The optical resonator formed by 7 is brought into a resonance state, and the laser beam 18 is emitted through the partial reflection mirror 17.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、我々が検討し
た方式では、図8に示すように、レーザ出力Aはマイク
ロ波注入電力が400wを越すと低下し、またレーザ発
振効率Bは最大で5%と著しく低く、マイクロ波注入電
力が400wを越すと著しく低下した。なお、マイクロ
波注入電力とは、マグネトロンから放電管に注入する電
力のことで、マグネトロンに印加する電圧を可変するこ
とで可変できる。
However, in the method studied by us, as shown in FIG. 8, the laser output A decreases when the microwave injection power exceeds 400 w, and the laser oscillation efficiency B reaches 5 at maximum. %, Which was remarkably low, and when the microwave injection power exceeded 400 w, it remarkably decreased. The microwave injection power is the power injected from the magnetron into the discharge tube, and can be varied by varying the voltage applied to the magnetron.

【0010】上記理由につき考察する。上記装置をマイ
クロ波励起方式でなく高周波磁界印加方式に変更して実
験をしてみる。具体的には装置の基本構成を同一にし、
13.56MHzの高周波電源で高周波磁界を印加してレ
ーザ出力の特性を測定すれば図9に示すようになる。す
なわち、発振効率Bは注入電力が400wを越すと16
%と高く、また、レーザ出力Aは直線的に増加し注入電
力1Kwで出力160wが得られる。このようにマイク
ロ励起方式波放電を用いると特性が劣化するが、この原
因につき以下述べる。高周波放電に於いては周波数が高
くなるにつれ放電している空間体積が狭くなる、いわゆ
る表皮効果が知られているが、13.56MHzに比べマ
グネトロンからのマイクロ波は2.45GHzと200倍
の周波数であることから表皮効果が発生していると推測
できる。特に注入電力が増加すると表皮効果は著しくな
り、上述の様に注入電力は増加してもレーザ出力が低下
する場合が発生したと考える。
Consider the above reason. Experiments will be performed by changing the above device to a high-frequency magnetic field application system instead of the microwave excitation system. Specifically, the basic configuration of the device is the same,
When a high frequency magnetic field is applied with a high frequency power source of 13.56 MHz and the characteristics of the laser output are measured, it becomes as shown in FIG. That is, the oscillation efficiency B is 16 when the injection power exceeds 400w.
%, The laser output A increases linearly, and an output of 160 w is obtained with an injection power of 1 Kw. The characteristics deteriorate when the micro-excitation wave discharge is used as described above, and the cause will be described below. In high-frequency discharge, it is known that the so-called skin effect in which the spatial volume of the discharge becomes narrower as the frequency becomes higher, but the microwave from the magnetron is 2.45 GHz and 200 times the frequency as compared to 13.56 MHz. Therefore, it can be inferred that the skin effect occurs. In particular, it is considered that the skin effect becomes remarkable when the injection power increases, and as described above, the laser output may decrease even if the injection power increases.

【0011】以上のように、マイクロ波励起方式のガス
レーザ発振装置では、発振効率の低下が発生し、かつ注
入電力を増大してもレーザ出力が増加しないという問題
点があった。
As described above, the microwave excitation type gas laser oscillator has a problem in that the oscillation efficiency is lowered and the laser output does not increase even if the injection power is increased.

【0012】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、発振効率の高く、かつレーザ大出力の大
きいマイクロ波励起方式のガスレーザ発振装置を提供す
ることを目的とするものである。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a microwave excitation type gas laser oscillator having high oscillation efficiency and large laser output. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装
置と、前記マイクロ波発生装置からのマイクロ波をレー
ザガスに供給し、レーザガスを励起させる放電部と、前
記放電部内で励起されたレーザガスを共振させてレーザ
ビームを発生させる光共振器と、前記マイクロ波発生装
置の動作を制御する制御部とを備え、前記制御部は前記
マイクロ波発生装置を断続運転する駆動信号を出力し、
この駆動信号の周波数を20KHz以上に設定したもので
ある。
In order to achieve the above object, the present invention provides a microwave generator for generating a microwave, and the microwave from the microwave generator is supplied to a laser gas to excite the laser gas. The discharge unit, an optical resonator that resonates the laser gas excited in the discharge unit to generate a laser beam, and a control unit that controls the operation of the microwave generator, the control unit including the microwave generation unit. Outputs a drive signal for intermittent operation of the device,
The frequency of this drive signal is set to 20 KHz or higher.

【0014】[0014]

【作用】上記構成によれば、放電部にマイクロ波を断続
して供給するので、マイクロ波を供給し始めてから表皮
効果が確認されるまでにマイクロ波の供給を停止するこ
とができ、上記のようにマイクロ波の供給,停止を繰り
返すことで表皮効果を発生させずに均一な放電が得られ
る。また、マイクロ波を断続して供給するのでレーザビ
ームが振動するが、20KHzの駆動信号としているので
振動も小さくすることができる。
According to the above construction, since the microwave is intermittently supplied to the discharge part, it is possible to stop the microwave supply from the start of supplying the microwave until the skin effect is confirmed. By repeatedly supplying and stopping microwaves in this way, a uniform discharge can be obtained without the skin effect. Further, since the microwave is intermittently supplied, the laser beam vibrates, but since the drive signal is 20 KHz, the vibration can be reduced.

【0015】[0015]

【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。なお図1において図6と同一の構成
部品には同一の符号を付しその説明を省略する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, the same components as those in FIG. 6 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0016】図1において、25はマイクロ波電源で、
マイクロ波発生装置であるマグネトロン13に電力供給
する。26はマイクロ波電源25の動作を制御し、マグ
ネトロン13を断続運転させるための駆動信号を供給す
る。マグネトロン13を駆動する信号はパルス化された
信号で、その周波数を20KHz以上としている。
In FIG. 1, 25 is a microwave power source,
Electric power is supplied to the magnetron 13 which is a microwave generator. Reference numeral 26 controls the operation of the microwave power supply 25 and supplies a drive signal for intermittently operating the magnetron 13. The signal for driving the magnetron 13 is a pulsed signal, and its frequency is set to 20 KHz or more.

【0017】図2(A)に注入電力を一定とし、駆動信
号の周波数を可変とし、マグネトロンの出力を連続(c
w)からパルス状に周波数を変化させた場合のマグネト
ロン出力パルス周波数と発振効率との関係を示す。
(B)はマグネトロン出力パルス周波数がゼロの時のマ
イクロ波出力を示す図、(C)はマグネトロン出力パル
ス周波数20KHz時のマイクロ波出力を示す図である。
In FIG. 2A, the injection power is constant, the frequency of the drive signal is variable, and the output of the magnetron is continuous (c).
The relationship between the magnetron output pulse frequency and the oscillation efficiency when the frequency is changed in a pulse form from w) is shown.
(B) is a diagram showing a microwave output when the magnetron output pulse frequency is zero, and (C) is a diagram showing a microwave output when the magnetron output pulse frequency is 20 KHz.

【0018】図2から明らかなように駆動信号の同波数
を高めてマグネトロン出力パルス同周波数が高まれば発
振効率が向上する。また、マグネトロン出力周波数は高
ければ高いほど発振効率は向上することが判明した。特
に、マグネトロン出力パルス周波数を15KHz時におけ
るマイクロ波注入電力とレーザ出力、発振効率との関係
を示す。発振効率Bは最大で16%、マイクロ波注入電
力1Kw時に15%である。またレーザ出力Aはマイク
ロ波注入電力1Kw時に150wと著しく改善された。
なお、マイクロ波注入電力を可変する方法として、駆動
信号のオン期間とオフ期間との比を可変する方法があ
る。この場合、同波数を一定としていてもオンとオフ期
間は可変できる。
As is apparent from FIG. 2, if the same frequency of the drive signal is increased and the same frequency of the magnetron output pulse is increased, the oscillation efficiency is improved. It was also found that the higher the magnetron output frequency, the higher the oscillation efficiency. In particular, the relationship between the microwave injection power, the laser output, and the oscillation efficiency when the magnetron output pulse frequency is 15 KHz is shown. The oscillation efficiency B is 16% at maximum and 15% when the microwave injection power is 1 Kw. Further, the laser output A was remarkably improved to 150 w when the microwave injection power was 1 Kw.
As a method of varying the microwave injection power, there is a method of varying the ratio of the ON period and the OFF period of the drive signal. In this case, the ON and OFF periods can be varied even if the same wave number is fixed.

【0019】上記改善された理由につき考案する。ま
ず、マイクロ波での放電挙動を過渡的に考案する。当初
放電は均一に広がり、ある時間を経過した後、放電はピ
ンチし表皮効果として確認される。従来のように連続し
てマイクロ波を供給すれば放電は最初広がるが、短時間
後に表皮効果により放電空間は狭められる。そこで今回
のように放電がピンチするより早くマイクロ波の供給を
停止するような、パルス状のマイクロ波を供給する事に
より連続して均一な放電が得られたと推測できる。
The reason for the above improvement will be devised. First, the discharge behavior under microwave is transiently devised. Initially, the discharge spreads uniformly, and after a certain period of time, the discharge is pinched and confirmed as a skin effect. If microwaves are continuously supplied as in the conventional case, the discharge will first spread, but after a short time, the discharge space will be narrowed due to the skin effect. Therefore, it can be inferred that a uniform discharge was continuously obtained by supplying the pulsed microwave so that the supply of the microwave was stopped earlier than the discharge was pinched.

【0020】また、レーザ出力は出力の時間安定性(振
動率(m))が切断面精度に大きく影響及ぼすことが判
明しており、電力をパルス状で供給する際にはレーザビ
ームの振動率の検討が必要である。
Further, it has been found that the time stability of the laser output (vibration factor (m)) has a great influence on the cutting surface accuracy, and when the electric power is supplied in pulses, the vibration factor of the laser beam is determined. It is necessary to consider.

【0021】図4(A)は測定したマグネトロン出力パ
ルス周波数とレーザ出力振動率との関係を示す図、
(B)はマグネトロン出力パルス周波数が3KHzのとき
のレーザ出力状態を示す図、(C)はマグネトロン出力
パルス周波数が6KHzのときのレーザ出力状態を示す
図、(D)はマグネトロン出力パルス周波数が20KHz
の時のレーザ出力状態を示す図である。この図からマグ
ネトロン出力パルス周波数を大きくすることによりレー
ザビームの振動を抑制することができることが分かる。
特に20KHz以上とすることでレーザビーム振動を無視
できることが判明した。
FIG. 4A shows the relationship between the measured magnetron output pulse frequency and the laser output oscillation rate,
(B) shows the laser output state when the magnetron output pulse frequency is 3 KHz, (C) shows the laser output state when the magnetron output pulse frequency is 6 KHz, and (D) shows the magnetron output pulse frequency of 20 KHz.
It is a figure which shows the laser output state at the time of. From this figure, it is understood that the oscillation of the laser beam can be suppressed by increasing the magnetron output pulse frequency.
In particular, it was found that the laser beam vibration can be ignored by setting the frequency to 20 KHz or higher.

【0022】上記のように、本実施例によれば、マイク
ロ波電源を駆動する信号の周波数を20KHz以上のパル
ス状としているので、発振効率を高め、レーザ出力の増
大を図ることができる。また20KHz以上としているの
で、レーザ出力の振動も無視することができる。
As described above, according to this embodiment, since the frequency of the signal for driving the microwave power source is pulsed at 20 KHz or higher, the oscillation efficiency can be increased and the laser output can be increased. Further, since it is set to 20 KHz or more, the vibration of the laser output can be ignored.

【0023】なお、本実施例では軸流型のガスレーザ発
振装置を用いたが、他の形式のガスレーザ発振装置であ
っても効果が得られる。
Although the axial flow type gas laser oscillator is used in this embodiment, the effect can be obtained by using other types of gas laser oscillators.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明は、マイクロ波発生
装置を20KHz以上の周波数の駆動信号で断続運転して
いるので、発振効率を向上でき、レーザ出力の増大を図
ることができる。
As described above, according to the present invention, since the microwave generator is intermittently operated by the drive signal having the frequency of 20 KHz or more, the oscillation efficiency can be improved and the laser output can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の高速軸流形炭酸ガスレーザ
発振装置の構成概略図
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a high-speed axial-flow carbon dioxide laser oscillator according to an embodiment of the present invention.

【図2】(A)マグネトロン出力パルス周波数と発振効
率との関係を示す図 (B)マグネトロン出力パルス周波数ゼロ時のマイクロ
波出力を示す図 (C)マグネトロン出力パルス周波数20KHz時のマイ
クロ波出力を示す図
FIG. 2A is a diagram showing a relationship between a magnetron output pulse frequency and oscillation efficiency. FIG. 2B is a diagram showing a microwave output when the magnetron output pulse frequency is zero. C is a diagram showing a microwave output when the magnetron output pulse frequency is 20 KHz. Figure

【図3】マグネトロン出力パルス周波数15KHz時のマ
イクロ波注入電力とレーザ出力ならびに発振効率との関
係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between microwave injection power, laser output, and oscillation efficiency when the magnetron output pulse frequency is 15 KHz.

【図4】(A)マグネトロン出力パルス周波数とレーザ
出力振動との関係を示す図 (B)マグネトロン出力パルス周波数3KHz時の出力挙
動を示す図 (C)マグネトロン出力パルス周波数6KHz時の出力挙
動を示す図 (D)マグネトロン出力パルス周波数20KHz時の出力
挙動を示す図
FIG. 4A is a diagram showing a relationship between a magnetron output pulse frequency and laser output oscillation. FIG. 4B is a diagram showing an output behavior when the magnetron output pulse frequency is 3 KHz. FIG. 4C is a diagram showing an output behavior when the magnetron output pulse frequency is 6 KHz. Figure (D) Diagram showing output behavior when magnetron output pulse frequency is 20 KHz

【図5】従来のマイクロ波励起ガスレーザ発振装置の構
成図
FIG. 5 is a block diagram of a conventional microwave-excited gas laser oscillator.

【図6】発明者らが検討したマイクロ波励起の炭酸ガス
レーザ発振装置の構成概略図
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a microwave-excited carbon dioxide gas laser oscillation device studied by the inventors.

【図7】同ガスレーザ発振装置のマイクロ波の出力状態
を示す図
FIG. 7 is a diagram showing a microwave output state of the gas laser oscillator.

【図8】同ガスレーザ発振装置のマイクロ波注入電力と
レーザ出力ならびに発振効率との関係を示す図
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between microwave injection power, laser output, and oscillation efficiency of the gas laser oscillator.

【図9】13.56MHzでの高波放電における注入電力
とレーザ出力ならびに発振効率との関係を示す図
FIG. 9 is a diagram showing the relationship between injection power, laser output, and oscillation efficiency in high-wave discharge at 13.56 MHz.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

13 マグネトロン 15 放電部 25 マイクロ波電源 26 制御部 13 magnetron 15 discharge unit 25 microwave power supply 26 control unit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マイクロ波を発生させるマイクロ波発生
装置と、前記マイクロ波発生装置からのマイクロ波をレ
ーザガスに供給し、レーザガスを励起させる放電部と、
前記放電部内で励起されたレーザガスを共振させてレー
ザビームを発生させる光共振器と、前記マイクロ波発生
装置の動作を制御する制御部とを備え、前記制御部は前
記マイクロ波発生装置を継続運転する駆動信号を出力
し、この駆動信号の周波数を20KHz以上に設定したガ
スレーザ発振装置。
1. A microwave generator for generating a microwave, and a discharge unit for exciting the laser gas by supplying the microwave from the microwave generator to the laser gas.
An optical resonator that resonates the laser gas excited in the discharge unit to generate a laser beam, and a control unit that controls the operation of the microwave generation device, the control unit continuously operating the microwave generation device. A gas laser oscillator device which outputs a driving signal to set the frequency of the driving signal to 20 KHz or more.
JP7930393A 1993-04-06 1993-04-06 Gas laser oscillation equipment Pending JPH06291397A (en)

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JP7930393A JPH06291397A (en) 1993-04-06 1993-04-06 Gas laser oscillation equipment

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19625603A1 (en) * 1995-06-27 1997-01-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Microwave pumped gas, e.g. carbon di:oxide, laser oscillator for industrial use

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