JPH11171980A - Epoxy resin composition for laminate and prepreg and laminate using the same - Google Patents

Epoxy resin composition for laminate and prepreg and laminate using the same

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JPH11171980A
JPH11171980A JP34012597A JP34012597A JPH11171980A JP H11171980 A JPH11171980 A JP H11171980A JP 34012597 A JP34012597 A JP 34012597A JP 34012597 A JP34012597 A JP 34012597A JP H11171980 A JPH11171980 A JP H11171980A
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稔 小林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition that swiftly hardens, when it is hot-formed, and can provide molded products of high quality by homogeneously dissolving an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, and a specific quaternary phosphonium borate in an organic solvent. SOLUTION: This composition is a homogeneous solution in an organic solvent including the following components: (A) an epoxy resin, (B) one epoxy resin-curing agent selected from polyamine, polyphenol of acid anhydride and (C) a quaternary phosphonium borate of the formula (R1 -R4 are each an organic group having the aromatic ring or the heterocyclic ring and the P-atoms and individual substituents form the P-C bonds, respectively; at least on of X1 -X4 is a group that is formed when a proton donor releases a proton therefrom and the other groups are monovalent organic group bearing an aromatic ring or a heterocyclic ring). The amount of the component (C) is 0.01-10 pts.wt. per 100 pts.wt. of the component A. Thus, this composition can be expected to have good moldability and long-term storage stability at room temperature.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、速硬化可能な積層
板用エポキシ樹脂組成物に関するものである。さらに詳
しくは、成形時に加熱したときに速やかに硬化し、良好
な成形性及び高品質の成形品を与えることができ、さら
に常温付近においては長期にわたって安定に保存するこ
とが可能な、特にプリント配線板用として有用な積層板
用樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグおよび積
層板に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an epoxy resin composition for a laminate which can be rapidly cured. More specifically, printed wiring, which quickly cures when heated during molding, can provide a molded article of good moldability and high quality, and can be stably stored at about room temperature for a long period of time. The present invention relates to a resin composition for a laminate useful for a board, and a prepreg and a laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エポキシ樹脂多層プリント配線板
は、加工設備の自動化や省エネルギ−、生産性のさらな
る向上のため、短時間の加熱成形により所期の性能を発
現することが求められている。ワニスに多量に触媒を添
加することにより、短時間の加熱成形を可能にすること
も出来るが、加熱成形時の硬化性は向上する反面、成形
時の溶融粘度の上昇が著しくなり、回路パターンへの樹
脂の埋め込み性等の成形性の面で制御が困難となる。ま
た、触媒量を増加させることにより、室温付近での保存
中に樹脂の硬化反応が進行してしまい、特性が低下す
る。このように高温での速硬化性と成形性、常温保存性
を両立させることは困難であった。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to automate processing equipment, save energy, and further improve productivity, epoxy resin multilayer printed wiring boards have been required to exhibit desired performance by heat molding in a short time. I have. By adding a large amount of catalyst to the varnish, heat molding can be performed in a short time.However, although the curability at the time of heat molding is improved, the melt viscosity at the time of molding is significantly increased, and the circuit pattern is reduced. It is difficult to control in terms of moldability such as resin embedding. Further, by increasing the amount of the catalyst, the curing reaction of the resin proceeds during storage at around room temperature, and the characteristics are reduced. Thus, it has been difficult to achieve both fast curing at high temperatures, moldability, and room temperature storage stability.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、積層板用エ
ポキシ樹脂組成物のこのような問題点を解決すべく、鋭
意検討した結果なされたもので、加熱成形時には速やか
に硬化して高品質の成形品を与え、また良好な成形性を
有すると共に、常温付近においては長期にわたって安定
に保存することが可能な、積層板用エポキシ樹脂組成
物、並びにこれを用いたプリプレグおよび積層板を提供
することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made as a result of intensive studies to solve such problems of the epoxy resin composition for a laminated board. The present invention provides an epoxy resin composition for a laminate, and a prepreg and a laminate using the same, which have excellent moldability and can be stably stored at around normal temperature for a long period of time. The purpose is to:

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、エポキシ
樹脂(A)、ポリアミン、ポリフェノールまたは酸無水
物の中から選ばれた1つであるエポキシ樹脂硬化剤
(B)、及び硬化促進効果を有する4級ホスホニウムボ
レート(C)を、有機溶剤中に均一に溶解してなる積層
板用エポキシ樹脂組成物であり、該4級ホスホニウムボ
レート(C)が、下記一般式[1]、一般式[2]、も
しくは一般式[3]で表されるものであることを特徴と
する。またさらには、この積層板用エポキシ樹脂組成物
を用いたプリプレグ、および積層板である。
That is, the present invention provides an epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B) which is one selected from polyamines, polyphenols or acid anhydrides, and a curing acceleration effect. It is an epoxy resin composition for a laminate obtained by uniformly dissolving a quaternary phosphonium borate (C) in an organic solvent, wherein the quaternary phosphonium borate (C) is represented by the following general formula [1] or general formula [ 2] or represented by the general formula [3]. Furthermore, a prepreg using the epoxy resin composition for a laminate and a laminate.

【0005】[0005]

【化1】 式中、R1,R2,R3及びR4は、芳香環もしくは複素環
を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、かつリ
ン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、
1,X2,X3及びX4の内の少なくとも1つは、分子外
に放出し得るプロトンを少なくとも1個有するプロトン
供与体が、プロトンを少なくとも1個放出してなる基で
あり、その他は芳香環もしくは複素環を有する1価の有
機基、または1価の脂肪族基で、それらは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。
Embedded image In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and a phosphorus atom and each substituent form a PC bond. And they may be the same or different from each other. Also,
At least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 is a group in which a proton donor having at least one proton that can be released outside the molecule releases at least one proton, and Is a monovalent organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different.

【0006】[0006]

【化2】 式中、R5,R6,R7及びR8は、芳香環もしくは複素環
を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、かつリ
ン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、
1は、置換基Y1,Y2を有する有機基である。Y1,Y
2は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出し
てなる基であり、同一分子内の置換基Y1,Y2がホウ素
原子と結合してキレート構造を形成するものである。Z
2は、置換基Y3,Y4を有する有機基である。Y3,Y4
は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出して
なる基であり、同一分子内の置換基Y3,Y4がホウ素原
子と結合してキレート構造を形成するものである。
1,Z2は互いに同一でも異なっていてもよく、Y1
2,Y3,Y4も互いに同一でも異なっていてもよい。
Embedded image In the formula, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and a phosphorus atom and each substituent form a PC bond. And they may be the same or different from each other. Also,
Z 1 is an organic group having substituents Y 1 and Y 2 . Y 1 , Y
Reference numeral 2 denotes a group in which a monovalent proton-donating substituent emits a proton, and the substituents Y 1 and Y 2 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure. Z
2 is an organic group having substituents Y 3 and Y 4 . Y 3 , Y 4
Is a group in which a monovalent proton donating substituent emits a proton, and the substituents Y 3 and Y 4 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure.
Z 1, Z 2 may be the same or different, Y 1,
Y 2 , Y 3 , and Y 4 may be the same or different from each other.

【0007】[0007]

【化3】 式中、R9,R10,R11及びR12は、芳香環もしくは複
素環を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、か
つリン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、
それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。ま
た、Z3は、置換基Y5,Y6を有する有機基である。
5,Y6は1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放
出してなる基であり、同一分子内の置換基Y5,Y6がホ
ウ素原子と結合してキレート構造を形成するものであ
る。X5,X6は、分子外に放出しうるプロトンを少なく
とも1個有するプロトン供与体がプロトンを少なくとも
1個放出してなる基、または芳香環もしくは複素環を有
する1価の有機基、または1価の脂肪族基で、それらは
互いに同一であっても異なっていてもよい。
Embedded image In the formula, R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and each substituent forms a PC bond with a phosphorus atom. To do
They may be the same or different from each other. Z 3 is an organic group having substituents Y 5 and Y 6 .
Y 5 and Y 6 are groups in which a monovalent proton donating substituent emits a proton, and the substituents Y 5 and Y 6 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure. is there. X 5 and X 6 each represent a group in which a proton donor having at least one proton capable of being released outside the molecule releases at least one proton, a monovalent organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or 1 Are aliphatic groups, which may be the same or different from each other.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】前述のように、エポキシ樹脂積層
板の加熱成形時間を短縮するため、硬化促進効果を持っ
た触媒を添加することは、一般的に行なわれているが、
硬化速度が向上する反面、成形時の溶融粘度の上昇が著
しくなり、回路パターンへの樹脂の埋め込み等の成形性
の面で制御が困難となる。また、室温付近での保存中に
樹脂の硬化反応が進行してしまい、樹脂組成物やプリプ
レグが常温においても長期間保存できないと言う欠点が
生ずる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, in order to shorten the time required for heat molding an epoxy resin laminate, it is common practice to add a catalyst having a curing promoting effect.
While the curing speed is improved, the melt viscosity at the time of molding is significantly increased, making it difficult to control the moldability such as embedding a resin in a circuit pattern. In addition, a curing reaction of the resin proceeds during storage at around room temperature, and there is a disadvantage that the resin composition and the prepreg cannot be stored at room temperature for a long period of time.

【0009】本発明においてはこのような問題を解決す
るため、硬化促進効果を持った触媒について検討を行な
い、一般式[1]、一般式[2]、もしくは一般式
[3]で表される4級ホスホニウムボレート(C)を用
いることにより、加熱成形時間の短縮と、樹脂組成物や
プリプレグの長期間保存の両立を可能にした。特に、プ
リプレグの使用状態であるBステージ状態において、成
形性や常温保存性を犠牲にすることなしに、成形温度で
は最終硬化にいたる硬化速度が速く、硬化性、成形性、
保存安定性を高度かつ同時に満たす、潜伏性触媒を技術
骨子とするものである。
In the present invention, in order to solve such a problem, a catalyst having a curing promoting effect is studied and is represented by the general formula [1], the general formula [2], or the general formula [3]. By using the quaternary phosphonium borate (C), it has become possible to achieve both a reduction in the time for heat molding and a long-term storage of the resin composition and the prepreg. In particular, in the B stage state, which is the use state of the prepreg, the curing speed up to the final curing is high at the molding temperature without sacrificing the moldability and the storability at room temperature, and the curability, moldability,
The technical feature is a latent catalyst that satisfies storage stability to a high degree and at the same time.

【0010】本発明において使用するエポキシ樹脂
(A)としては、従来より電気絶縁用途に使用されてき
た、エポキシ基を2個以上有する任意のものが使用でき
る。その例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、グリシジル
アミン型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格を持ったエポキ
シ樹脂、ナフタレン骨格を持ったエポキシ樹脂、ジシク
ロペンタジエン骨格を持ったエポキシ樹脂、リモネン骨
格を持ったエポキシ樹脂、あるいは3官能、4官能のグ
リシジルアミン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸のポリ
グリシジルエステル、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のポ
リグリシジルエステル等の多官能のエポキシ樹脂、シリ
コーン変性エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂等が挙
げられる。更には、難燃性を付与するために、上述のエ
ポキシ樹脂をハロゲン化した難燃化エポキシ樹脂、ある
いは上述のエポキシ樹脂とテトラブロモビスフェノール
A、ビスフェノールAとの共縮合物、上述のエポキシ樹
脂にテトラブロモビスフェノールA、ビスフェノールA
をブレンドしたもの、前述のエポキシ樹脂にジグリシジ
ルエーテルテトラブロモビスフェノールAをブレンドし
たもの等も使用することができる。
As the epoxy resin (A) used in the present invention, any resin having two or more epoxy groups which has been conventionally used for electric insulation can be used. As an example, bisphenol A type epoxy resin,
Bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, isocyanurate epoxy resin, glycidylamine epoxy resin, epoxy resin with biphenyl skeleton, epoxy resin with naphthalene skeleton, epoxy resin with dicyclopentadiene skeleton, limonene Epoxy resin having a skeleton, or polyfunctional epoxy resin such as trifunctional or tetrafunctional glycidylamine type epoxy resin, polyglycidyl ester of polycarboxylic acid, polyglycidyl ester of aliphatic polyhydroxy compound, silicone-modified epoxy resin, Rubber-modified epoxy resins and the like can be mentioned. Furthermore, in order to impart flame retardancy, a flame-retardant epoxy resin obtained by halogenating the above-described epoxy resin, or a co-condensate of the above-described epoxy resin with tetrabromobisphenol A, bisphenol A, or the above-described epoxy resin Tetrabromobisphenol A, bisphenol A
And a mixture of the above-described epoxy resin and diglycidyl ether tetrabromobisphenol A.

【0011】また、エポキシ樹脂硬化剤(B)として
は、エポキシ基と反応し得る官能基を有する化合物が使
用され、ポリアミン、ポリフェノール、または酸無水物
が好適に使用される。ポリアミン類としては、例えば、
4,4'-ジアミノジフェニルメタン、4,4'-ジジアミノジフ
ェニルスルホン、メタフェニレンジアミン、4,4'-ジア
ミノ-3,3'-ジジエチル-5,5'-ジ4,4'-ジジメチルジフェ
ニルメタン、3,3'-ジジメトキシ-4,4'-ジジアミノジフ
ェニル、3,3'-ジジメチル-4,4'-ジ-4,4'-ジジアミノジ
フェニル、2,2'-ジジクロロ-4,4'-ジジアミノ-5,5'-ジ
ジメトキシジメチル、2,2',5,5'-テトラクロロ-4,4'-ジ
ジアミノジフェニル、4,4'-ジメチレンビス(2−クロ
ロアニリン)、2,2',3,3'-テトラクロロ-4,4'-ジジアミ
ノジフェニルメタン、4,4'-ジジアミノジフェニルエ−
テル、4,4'-ジジアミノベンズアニリド、3,3'-ジジヒド
ロキシ-4,4'-ジジアミノビフェニル、9,9'-ジビス(4-
アミノフェニル)フルオレン、9,9'-ジビス(4-アミノ
フェニル)アントラセン、エチレンジアミン、ジエチル
アミノプロピルアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ビス(4-アミノ-3-メチルシクロヘキ
シル)メタン等が例示される。
As the epoxy resin curing agent (B), a compound having a functional group capable of reacting with an epoxy group is used, and polyamine, polyphenol, or acid anhydride is preferably used. As polyamines, for example,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-didiaminodiphenylsulfone, metaphenylenediamine, 4,4'-diamino-3,3'-didiethyl-5,5'-di4,4'-didimethyldiphenylmethane , 3,3'-didimethoxy-4,4'-didiaminodiphenyl, 3,3'-didimethyl-4,4'-di-4,4'-didiaminodiphenyl, 2,2'-didichloro-4,4 '-Didiamino-5,5'-didimethoxydimethyl, 2,2', 5,5'-tetrachloro-4,4'-didiaminodiphenyl, 4,4'-dimethylenebis (2-chloroaniline), 2, 2 ', 3,3'-tetrachloro-4,4'-didiaminodiphenylmethane, 4,4'-didiaminodiphenyle-
Ter, 4,4'-didiaminobenzanilide, 3,3'-dihydroxy-4,4'-didiaminobiphenyl, 9,9'-dibis (4-
Examples thereof include (aminophenyl) fluorene, 9,9′-dibis (4-aminophenyl) anthracene, ethylenediamine, diethylaminopropylamine, hexamethylenediamine, isophoronediamine, and bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane.

【0012】また、ポリアミンとしてグアニジン誘導体
を併用すると、保存安定性、硬化性などの特性向上に有
効である。そのようなグアニジン誘導体の例としては、
ジシアンジアミド、ジシアンジアミドアニリンアダク
ト、ジシアンジアミド芳香族アミン付加物、1-オルソト
リルジグアニド、α-2,5-ジメチルグアニド、α,ω-ジ
フェニルジグアニジド、α,α'-ビスグアニルグアニジ
ノジフェニルエ−テル、p-クロロフェニルジグアニ
ド、α,α'-ヘキサメチレンビス[ω-(p-クロロフェ
ノ−ル)]ジグアニド、フェニルジグアニドオキサレ−
ト、1置換あるいは2置換のアルキル変性フェニルジグ
アニド、アセチルグアニジン、ジエチルシアノアセチル
グアニジン等が例示される。
When a guanidine derivative is used in combination as a polyamine, it is effective in improving properties such as storage stability and curability. Examples of such guanidine derivatives include:
Dicyandiamide, dicyandiamide aniline adduct, dicyandiamide aromatic amine adduct, 1-ortho tolyl diguanide, α-2,5-dimethyl guanide, α, ω-diphenyl diguanidide, α, α'-bisguanyl guanidino diphenyl ether , P-chlorophenyldiguanide, α, α'-hexamethylenebis [ω- (p-chlorophenol)] diguanide, phenyldiguanide oxale
And mono- or disubstituted alkyl-modified phenyldiguanide, acetylguanidine, diethylcyanoacetylguanidine and the like.

【0013】ポリフェノール類としては、例えば、フェ
ノールノボラック、o-クレゾールノボラック、p-クレ
ゾールノボラック、p-t-ブチルフェノールノボラッ
ク、ヒドロキシナフタレンノボラック、ビスフェノール
Aノボラック、ビスフェノールFノボラック、テルペン
変性ノボラック、ジシクロペンタジエン変性ノボラッ
ク、パラキシレン変性ノボラック、ポリブタジエン変性
フェノール等が例示される。
Examples of the polyphenols include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, pt-butylphenol novolak, hydroxynaphthalene novolak, bisphenol A novolak, bisphenol F novolak, terpene-modified novolak, and dicyclopentadiene-modified Novolak, paraxylene-modified novolak, polybutadiene-modified phenol and the like are exemplified.

【0014】また、酸無水物の例としては、テトラヒド
ロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘ
キサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、無水コハク酸、無水ナジック酸、無水クロレンデ
ィック酸等が一例として挙げられる。
Examples of acid anhydrides include tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, nadic anhydride, chlorendic anhydride and the like. Is an example.

【0015】潜伏性の硬化促進触媒となる4級ホスホニ
ウムボレート(C)は、前記のように一般式[1]、一
般式[2]、および一般式[3]で表される。式中、ホ
スホニウム側の置換基R1〜R4、R5〜R8、およびR9
〜R12は、芳香環もしくは複素環を有する有機基、又は
1価の脂肪族基であり、かつリン原子と各置換基がP−
C結合を形成するもので、それらは互いに同一であって
も異なっていてもよい。このような基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、アリル基、フェニ
ル基、トリル基、ベンジル基、エチルフェニル基、フェ
ノキシ基、ナフチル基等を挙げることが出来る。
The quaternary phosphonium borate (C) as a latent curing promoting catalyst is represented by the general formulas [1], [2] and [3] as described above. In the formula, substituents R 1 to R 4 , R 5 to R 8 , and R 9 on the phosphonium side
To R 12 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and the phosphorus atom and each substituent are P-
They form C bonds, and they may be the same or different from each other. Examples of such a group include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an allyl group, a phenyl group, a tolyl group, a benzyl group, an ethylphenyl group, a phenoxy group, and a naphthyl group.

【0016】また、各一般式を構成するホスホニウム基
としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム基、テ
トラトリルホスホニウム基、テトラエチルホスホニウム
基、テトラメトキシホスホニウム基、テトラナフチルホ
スホニウム基、テトラベンジルホスホニウム基、エチル
トリフェニルホスホニウム基、n-ブチルトリフェニル
ホスホニウム基、2-ヒドロキシエチルトリフェニルホス
ホニウム基、トリメチルフェニルホスホニウム基、メチ
ルジエチルフェニルホスホニウム基、メチルジアリルフ
ェニルホスホニウム基、テトラ-n-ブチルホスホニウム
基等を挙げることができる。
Examples of the phosphonium group constituting each of the general formulas include, for example, tetraphenylphosphonium group, tetratolylphosphonium group, tetraethylphosphonium group, tetramethoxyphosphonium group, tetranaphthylphosphonium group, tetrabenzylphosphonium group, ethyltriphenyl Examples include a phosphonium group, an n-butyltriphenylphosphonium group, a 2-hydroxyethyltriphenylphosphonium group, a trimethylphenylphosphonium group, a methyldiethylphenylphosphonium group, a methyldiallylphenylphosphonium group, and a tetra-n-butylphosphonium group. .

【0017】一般式[1]において、ボレート基側の置
換基X1,X2,X3及びX4の内の少なくとも1つは、分
子外に放出し得るプロトンを少なくとも1個有するプロ
トン供与体が、プロトンを少なくとも1個放出してなる
基であり、その他は芳香環もしくは複素環を有する1価
の有機基、または1価の脂肪族基で、それらは互いに同
一であっても異なっていてもよい。
In the general formula [1], at least one of the substituents X 1 , X 2 , X 3 and X 4 on the borate group side is a proton donor having at least one proton which can be released outside the molecule. Is a group that releases at least one proton, and the other is a monovalent organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group. Is also good.

【0018】このような置換基を与えるプロトン供与体
の例としては、カルボン酸やフェノール化合物、イソシ
アヌル酸、ベンゾトリアゾールのほか、アルコール類も
含まれる。これらプロトン供与体の中でも特に、芳香族
カルボン酸およびフェノール化合物が好ましい。芳香族
カルボン酸の例としては、例えば、安息香酸、ナフトエ
酸、ビフェニルカルボン酸、o-フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、サリチル酸、ヒドロキシ安息香酸、
ナフタレンジカルボン酸、ヒドロキシナフトエ酸、4,4'
-ジジカルボキシジフェニルメタン、トリメリト酸、ピ
ロメリト酸等が挙げられる。また、フェノール化合物の
例としては、例えば、フェノール、o-クレゾール、 m
-クレゾール、 p-クレゾール、p-フェニルフェノー
ル、p-ヒドロキシ安息香酸メチル、ヒドロキノン、カ
テコール、レゾルシン、ジヒドロキシナフタレン、4,4'
-ジビフェノール、4,4'-ジジヒドロキシジフェニルメタ
ン、2,2'-ジビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、
4,4'-ジジヒドロキシジフェニル-2,2'-ヘキサフルオロ
プロパン、ビス(3,5-ジメチル-4-ジヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(3,5-ジメチル-4-ジヒドロキシフェ
ニル)スルホン、4,4'-ジジヒドロキシスチルベン、4,
4'-ジジヒドロキシ-α-メチルスチルベン、ビスフェノ
ールフルオレン等が挙げられる。上記の化合物が一例と
して挙げられるが、もちろんこれらに限定されるもので
はない。
Examples of the proton donor providing such a substituent include carboxylic acids, phenol compounds, isocyanuric acid, benzotriazole, and alcohols. Among these proton donors, aromatic carboxylic acids and phenol compounds are particularly preferred. Examples of aromatic carboxylic acids include, for example, benzoic acid, naphthoic acid, biphenylcarboxylic acid, o-phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, salicylic acid, hydroxybenzoic acid,
Naphthalenedicarboxylic acid, hydroxynaphthoic acid, 4,4 '
-Didicarboxydiphenylmethane, trimellitic acid, pyromellitic acid and the like. Examples of the phenol compound include, for example, phenol, o-cresol, m
-Cresol, p-cresol, p-phenylphenol, methyl p-hydroxybenzoate, hydroquinone, catechol, resorcin, dihydroxynaphthalene, 4,4 '
-Dibiphenol, 4,4'-didihydroxydiphenylmethane, 2,2'-dibis (4-hydroxyphenyl) propane,
4,4'-didihydroxydiphenyl-2,2'-hexafluoropropane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) sulfone, 4'-didihydroxystilbene, 4,
4'-didihydroxy-α-methylstilbene, bisphenolfluorene and the like. The above compounds are mentioned as an example, but are not limited to them.

【0019】一般式[2]において、ボレート基側の有
機基Z1は、置換基Y1,Y2を有する有機基であり、
1,Y2は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを
放出してなる基である。また、有機基Z2は、置換基
3,Y4を有する有機基であり、Y3,Y4は、1価のプ
ロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基であ
る。これらから構成される有機基Y1−Z1−Y2および
3−Z2−Y4は、2価以上のプロトン供与体がプロト
ンを2個放出してなる基であり、同一分子内の置換基Y
1,Y2およびY3,Y4は、ホウ素原子と結合してキレー
ト構造を形成する。Z1およびZ2は、互いに同一でも異
なっていてもよく、またY1,Y2,Y3,Y4も互いに同
一でも異なっていてもよい。
In the general formula [2], the organic group Z 1 on the borate group side is an organic group having substituents Y 1 and Y 2 ,
Y 1 and Y 2 are groups formed by a monovalent proton donating substituent releasing a proton. The organic group Z 2 is an organic group having substituents Y 3 and Y 4 , and Y 3 and Y 4 are groups formed by a monovalent proton donating substituent releasing a proton. The organic groups Y 1 -Z 1 -Y 2 and Y 3 -Z 2 -Y 4 composed of these are groups formed by two or more proton donors releasing two protons. Substituent Y
1 , Y 2 and Y 3 and Y 4 combine with a boron atom to form a chelate structure. Z 1 and Z 2 may be the same or different from each other, and Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 may be the same or different from each other.

【0020】このような置換基Y1−Z1−Y2およびY3
−Z2−Y4を与える、プロトン供与体HY1−Z1−Y2
HおよびHY3−Z2−Y4Hの例としては、カルボン酸
やフェノール化合物、または多価アルコール類が含まれ
る。これらプロトン供与体の中でも特に、分子内にカル
ボキシル基を少なくとも2個有する芳香族カルボン酸、
分子内にカルボキシル基を少なくとも1個と水酸基を少
なくとも1個有する芳香族カルボン酸、または、分子内
に少なくとも2個の水酸基を有し、カルボキシル基を有
さないフェノール化合物が好ましい。分子内にカルボキ
シル基を少なくとも2個有する芳香族カルボン酸の例と
しては、例えば、o-フタル酸、イソフタル酸、1,8-ナ
フタル酸、2,3-ピリジンカルボン酸、トリメリト酸、ピ
ロメリト酸、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸が挙
げられる。分子内にカルボキシル基を少なくとも1個と
水酸基を少なくとも1個有する芳香族カルボン酸の例と
しては、サリチル酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-
ヒドロキシビフェニル-3-カルボン酸、4-ヒドロキシビ
フェニル-3-カルボン酸、2,2'-ビフェノール-4-カルボ
ン酸が挙げられる。また、分子内に少なくとも2個の水
酸基を有し、カルボキシル基を有さないフェノール化合
物の例としては、カテコール、レゾルシノール、2,3-ジ
ヒドロキシナフタレン、2,2'-ビフェノール等を挙げる
ことができる。上記の化合物が一例として挙げられる
が、もちろんこれらに限定されるものではない。
Such substituents Y 1 -Z 1 -Y 2 and Y 3
A proton donor HY 1 -Z 1 -Y 2 to give -Z 2 -Y 4
Examples of H and HY 3 -Z 2 -Y 4 H, contains a carboxylic acid or a phenol compound, or polyhydric alcohols. Among these proton donors, aromatic carboxylic acids having at least two carboxyl groups in the molecule,
An aromatic carboxylic acid having at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group in the molecule, or a phenol compound having at least two hydroxyl groups in the molecule and having no carboxyl group is preferable. Examples of aromatic carboxylic acids having at least two carboxyl groups in the molecule include, for example, o-phthalic acid, isophthalic acid, 1,8-naphthalic acid, 2,3-pyridinecarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid is exemplified. Examples of aromatic carboxylic acids having at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group in the molecule include salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, and 2-hydroxy-2-naphthoic acid.
Examples include hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, 4-hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, and 2,2′-biphenol-4-carboxylic acid. Examples of the phenol compound having at least two hydroxyl groups in the molecule and not having a carboxyl group include catechol, resorcinol, 2,3-dihydroxynaphthalene, and 2,2′-biphenol. . The above compounds are mentioned as an example, but are not limited to them.

【0021】また、一般式[3]において、ボレート基
側の有機基Z3は、置換基Y5,Y6を有する有機基であ
り、Y5,Y6は1価のプロトン供与性置換基がプロトン
を放出してなる基である。これらから構成される有機基
5−Z3−Y6は、2価以上のプロトン供与体がプロト
ンを2個放出してなる基であり、同一分子内の置換基Y
5,Y6は、ホウ素原子と結合してキレート構造を形成す
る。Y5,Y6は互いに同一でも異なっていてもよい。
In the general formula [3], the organic group Z 3 on the borate group side is an organic group having substituents Y 5 and Y 6 , and Y 5 and Y 6 are monovalent proton donating substituents. Is a group that emits a proton. The organic group Y 5 -Z 3 -Y 6 composed of these is a group formed by a divalent or higher proton donor releasing two protons.
5 and Y 6 combine with a boron atom to form a chelate structure. Y 5 and Y 6 may be the same or different from each other.

【0022】このような置換基Y5−Z3−Y6を与え
る、プロトン供与体HY5−Z3−Y6Hの例としては、
カルボン酸やフェノール化合物、または多価アルコール
類が含まれる。これらプロトン供与体の中でも特に、分
子内にカルボキシル基を少なくとも2個有する芳香族カ
ルボン酸、分子内にカルボキシル基を少なくとも1個と
水酸基を少なくとも1個有する芳香族カルボン酸、また
は、分子内に少なくとも2個の水酸基を有し、カルボキ
シル基を有さないフェノール化合物が好ましい。分子内
にカルボキシル基を少なくとも2個有する芳香族カルボ
ン酸の例としては、例えば、o-フタル酸、イソフタル
酸、1,8-ナフタル酸、2,3-ピリジンカルボン酸、トリメ
リト酸、ピロメリト酸、1,4,5,8-ナフタレンテトラカル
ボン酸が挙げられる。分子内にカルボキシル基を少なく
とも1個と水酸基を少なくとも1個有する芳香族カルボ
ン酸の例としては、サリチル酸、3-ヒドロキシ-2-ナフ
トエ酸、2-ヒドロキシビフェニル-3-カルボン酸、4-ヒ
ドロキシビフェニル-3-カルボン酸、2,2'-ビフェノール
-4-カルボン酸が挙げられる。また、分子内に少なくと
も2個の水酸基を有し、カルボキシル基を有さないフェ
ノール化合物の例としては、カテコール、レゾルシノー
ル、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,2'-ビフェノール
等を挙げることができる。上記の化合物が一例として挙
げられるが、もちろんこれらに限定されるものではな
い。
Examples of proton donors HY 5 -Z 3 -Y 6 H which provide such substituents Y 5 -Z 3 -Y 6 include:
Includes carboxylic acids, phenolic compounds, or polyhydric alcohols. Among these proton donors, aromatic carboxylic acids having at least two carboxyl groups in the molecule, aromatic carboxylic acids having at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group in the molecule, or at least one in the molecule Phenolic compounds having two hydroxyl groups and no carboxyl group are preferred. Examples of aromatic carboxylic acids having at least two carboxyl groups in the molecule include, for example, o-phthalic acid, isophthalic acid, 1,8-naphthalic acid, 2,3-pyridinecarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid is exemplified. Examples of aromatic carboxylic acids having at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group in the molecule include salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, and 4-hydroxybiphenyl -3-carboxylic acid, 2,2'-biphenol
-4-carboxylic acid. Examples of the phenol compound having at least two hydroxyl groups in the molecule and not having a carboxyl group include catechol, resorcinol, 2,3-dihydroxynaphthalene, and 2,2′-biphenol. . The above compounds are mentioned as an example, but are not limited to them.

【0023】置換基X5,X6の内の少なくとも1つは、
分子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個有するプ
ロトン供与体が、プロトンを少なくとも1個放出してな
る基であり、その他は芳香環もしくは複素環を有する1
価の有機基、または1価の脂肪族基であり、それらは互
いに同一であっても異なっていてもよい。このような置
換基を与えるプロトン供与体の例としては、カルボン酸
やフェノール化合物、イソシアヌル酸、ベンゾトリアゾ
ールのほか、アルコール類も含まれる。これらプロトン
供与体の中でも特に、芳香族カルボン酸およびフェノー
ル化合物が好ましい。芳香族カルボン酸の例としては、
例えば、安息香酸、ナフトエ酸、ビフェニルカルボン
酸、o-フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、サリ
チル酸、ヒドロキシ安息香酸、ナフタレンジカルボン
酸、ヒドロキシナフトエ酸、4,4'-ジジカルボキシジフ
ェニルメタン、トリメリト酸、ピロメリト酸等が挙げら
れる。また、フェノール化合物の例としては、例えば、
フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、 p-クレ
ゾール、p-フェニルフェノール、p-ヒドロキシ安息香
酸メチル、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシン、ジ
ヒドロキシナフタレン、4,4'-ジビフェノール、4,4'-ジ
ジヒドロキシジフェニルメタン、2,2'-ジビス(4-ヒド
ロキシフェニル)プロパン、4,4'-ジジヒドロキシジフ
ェニル-2,2'-ヘキサフルオロプロパン、ビス(3,5-ジメ
チル-4-ジヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5-ジ
メチル-4-ジヒドロキシフェニル)スルホン、4,4'-ジジ
ヒドロキシスチルベン、4,4'-ジジヒドロキシ-α-メチ
ルスチルベン、ビスフェノールフルオレン等が挙げられ
る。上記の化合物が一例として挙げられるが、もちろん
これらに限定されるものではない。
At least one of the substituents X 5 and X 6 is
A proton donor having at least one proton that can be released outside the molecule is a group that releases at least one proton, and the other is a group having an aromatic ring or a heterocyclic ring.
A monovalent organic group or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different from each other. Examples of the proton donor providing such a substituent include carboxylic acids, phenol compounds, isocyanuric acid, benzotriazole, and alcohols. Among these proton donors, aromatic carboxylic acids and phenol compounds are particularly preferred. Examples of aromatic carboxylic acids include:
For example, benzoic acid, naphthoic acid, biphenylcarboxylic acid, o-phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, salicylic acid, hydroxybenzoic acid, naphthalenedicarboxylic acid, hydroxynaphthoic acid, 4,4′-didicarboxydiphenylmethane, trimellitic acid, pyromellitic Acids and the like. Examples of the phenol compound include, for example,
Phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, p-phenylphenol, methyl p-hydroxybenzoate, hydroquinone, catechol, resorcin, dihydroxynaphthalene, 4,4'-dibiphenol, 4,4'-didihydroxy Diphenylmethane, 2,2'-dibis (4-hydroxyphenyl) propane, 4,4'-didihydroxydiphenyl-2,2'-hexafluoropropane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) sulfone, 4,4'-didihydroxystilbene, 4,4'-didihydroxy-α-methylstilbene, bisphenolfluorene and the like. The above compounds are mentioned as an example, but are not limited to them.

【0024】本発明において、一般式[1]、一般式
[2]、および一般式[3]で表される4級ホスホニウ
ムボレート(C)は、活性種であるホスホニウムカチオ
ンおよびボレートアニオンが、互いにイオン対を形成し
て保護されているために、常温では触媒活性が抑制され
るが、成形時の温度においてはイオン対はアニオンとカ
チオンに解離して、急激に触媒活性を発現するため、エ
ポキシ樹脂組成物の常温保存性と速硬化性の両立が可能
となる。また、これらのホスホニウムボレートの組合わ
せやエポキシ樹脂組成物への添加量により、樹脂組成物
の硬化速度を容易に調整することが可能になり、成形性
の面においても有利である。
In the present invention, the quaternary phosphonium borate (C) represented by the general formula [1], the general formula [2], or the general formula [3] is a compound in which a phosphonium cation and a borate anion, which are active species, are mutually bonded. The catalyst activity is suppressed at room temperature because it is protected by forming an ion pair.However, at the temperature during molding, the ion pair dissociates into anions and cations and rapidly develops the catalytic activity. It becomes possible to achieve both the room temperature storage property and the rapid curing property of the resin composition. The combination of these phosphonium borates and the amount added to the epoxy resin composition make it possible to easily adjust the curing rate of the resin composition, which is advantageous in terms of moldability.

【0025】また、一般式[2]および一般式[3]で
表される4級ホスホニウムボレートからなる潜伏性触媒
は、Y1−Z1−Y2,Y3−Z2−Y4、およびY5−Z3
6で表される有機基が、ホウ素原子と結合してキレー
ト環構造を形成して結合することにより、低温における
触媒活性の抑制が、環状キレート構造を形成しないプロ
トン供与体の場合より一層効果的となり、常温における
樹脂組成物の長期安定保存が特に優れる。
The latent catalysts composed of quaternary phosphonium borates represented by the general formulas [2] and [3] include Y 1 -Z 1 -Y 2 , Y 3 -Z 2 -Y 4 , and Y 5 −Z 3
The organic group represented by Y 6 is bonded to a boron atom to form a chelate ring structure, whereby the suppression of catalytic activity at a low temperature is more effective than in the case of a proton donor that does not form a cyclic chelate structure. The long-term stable storage of the resin composition at room temperature is particularly excellent.

【0026】尚、一般式[1]〜[3]で表される4級
ホスホニウムボレートは、生成時の温度、原料組成など
の条件によっては、前記一般式で表される4級ホスホニ
ウムボレートを繰り返し単位として、複数個が連結され
た多量体を生成する。即ち、一般式[1]で表される4
級ホスホニウムボレートでは、X1,X2,X3,及びX4
の中に少なくとも1個含まれる、プロトン供与体が2個
以上のプロトンを放出してなる基を介して、異なるホウ
素原子間で結合し、前記一般式[1]で表される4級ホ
スホニウムボレート(C)単位の複数個が連結される。
The quaternary phosphonium borates represented by the general formulas [1] to [3] may be obtained by repeating the quaternary phosphonium borates represented by the general formula depending on conditions such as the temperature at the time of production and the composition of the raw materials. As a unit, a multimer in which a plurality is linked is produced. That is, 4 represented by the general formula [1]
X 1 , X 2 , X 3 , and X 4
A quaternary phosphonium borate represented by the general formula [1], wherein at least one proton donor releases two or more protons and binds between different boron atoms. (C) A plurality of units are linked.

【0027】一般式[2]で表される4級ホスホニウム
ボレートでは、置換基Y1−Z1−Y2及びY3−Z2−Y4
で表される、プロトン供与体がプロトンを2個放出して
なる基の中の少なくとも一つを介して、異なるホウ素原
子間で結合し、前記一般式[2]で表される4級ホスホ
ニウムボレート(C)をベースとする単位の複数個が連
結される。また、一般式[3]で表される4級ホスホニ
ウムボレートでは、置換基Y5−Z3−Y6で表されるプ
ロトン供与体がプロトンを2個放出してなる基、もしく
は、X5及びX6の中に少なくとも1個含まれるプロトン
供与体が2個以上のプロトンを放出してなる基を介し
て、異なるホウ素原子間で結合し、前記一般式[3]で
表される4級ホスホニウムボレート(C)をベースとす
る単位の複数個が連結さる。
In the quaternary phosphonium borate represented by the general formula [2], the substituents Y 1 -Z 1 -Y 2 and Y 3 -Z 2 -Y 4
And a quaternary phosphonium borate represented by the general formula [2], wherein the proton donor binds between different boron atoms through at least one of the groups formed by releasing two protons. A plurality of units based on (C) are linked. In the quaternary phosphonium borate represented by the general formula [3], the proton donor represented by the substituent Y 5 -Z 3 -Y 6 releases two protons, or X 5 and A quaternary phosphonium represented by the general formula [3], wherein at least one proton donor contained in X 6 is bonded between different boron atoms via a group formed by releasing two or more protons; A plurality of units based on borate (C) are linked.

【0028】これらの多量体が、4級ホスホニウムボレ
ートの一部または全部を占める場合であっても、エポキ
シ樹脂組成物に添加する潜伏性触媒として使用可能であ
り、本発明の範疇に含まれることは勿論である。
Even when these multimers occupy a part or all of the quaternary phosphonium borate, they can be used as a latent catalyst to be added to the epoxy resin composition and are included in the scope of the present invention. Of course.

【0029】積層板用樹脂組成物において、4級ホスホ
ニウムボレート(C)のエポキシ樹脂に対する配合量
は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜10
重量部であることが望ましい。4級ホスホニウムボレー
ト(C)の配合量が10重量部より大きくなると、成形
時の粘度上昇が速くなり、成形性が低下する。また、ワ
ニスの保存性も低下し、速硬化性と成形性、ワニス保存
性の両立が困難になる。さらには、添加量の増加にとも
なう物性低下の影響も無視できなくなる。一方、4級ホ
スホニウムボレート(C)の配合量が0.01より小さ
くなると、満足な速硬化性が得られなくなる。
In the resin composition for a laminate, the quaternary phosphonium borate (C) is added to the epoxy resin in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
Desirably, parts by weight are used. When the blending amount of the quaternary phosphonium borate (C) is more than 10 parts by weight, the viscosity rise at the time of molding becomes faster, and the moldability decreases. Further, the preservability of the varnish also deteriorates, and it is difficult to achieve both fast curing property, moldability and varnish preservability. Further, the influence of the decrease in the physical properties accompanying the increase in the added amount cannot be ignored. On the other hand, if the amount of the quaternary phosphonium borate (C) is less than 0.01, satisfactory quick-curing properties cannot be obtained.

【0030】4級ホスホニウムボレート(C)はエポキ
シ樹脂の硬化促進剤として作用するが、この4級ホスホ
ニウムボレート(C)と、従来よりエポキシ樹脂積層板
用に硬化促進剤として用いられている、2-メチルイミダ
ゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-
4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾ−ル・イソシ
アヌル酸付加物、2-メチルイミダゾール・トリメリット
酸付加物等の、イミダゾール類を併用することも可能で
ある。
The quaternary phosphonium borate (C) acts as a curing accelerator for the epoxy resin. The quaternary phosphonium borate (C), which has been conventionally used as a curing accelerator for epoxy resin laminates, is used. -Methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-
It is also possible to use imidazoles such as 4-methylimidazole, 2-methylimidazole / isocyanuric acid adduct, and 2-methylimidazole / trimellitic acid adduct.

【0031】本発明の積層板用エポキシ樹脂組成物を調
製するための溶剤としては、アセトン、メチルエチルケ
チン、トルエン、キシレン、エチレングリコールモノエ
チルエーテル及びそのアセテート化合物、プロピレング
リコールモノエチルエーテル及びそのアセテート化物、
ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール等が使
用出来る。この他、反応性希釈剤も使用することが可能
で、反応性希釈剤の例としては、n−ブチルグリシジル
エ−テル、アリルグリシジルエ−テル、スチレンオキサ
イト、フェニルグリシジルエーテル、グリシジルメタク
リレート、ジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリ
ン、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
Solvents for preparing the epoxy resin composition for laminates of the present invention include acetone, methyl ethyl ketin, toluene, xylene, ethylene glycol monoethyl ether and its acetate compound, propylene glycol monoethyl ether and its acetate. monster,
Dimethylformamide, methanol, ethanol and the like can be used. In addition, a reactive diluent can also be used. Examples of the reactive diluent include n-butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, Glycidyl ether, diglycidyl aniline, trimethylolpropane triglycidyl ether,
Glycerin triglycidyl ether and the like can be mentioned.

【0032】本発明のエポキシ樹脂組成物溶液(ワニ
ス)を用いて積層板を製造するには、まずこのワニス
を、紙、ガラス織布、ガラス不織布、あるいはガラス以
外を成分とする布などの基材に、塗布、含浸させ、乾燥
炉中で80〜200℃の範囲で乾燥させることにより、
プリプレグを調製する。これを加熱・加圧して、積層板
あるいはプリント配線板用の金属張り積層板などを製造
する。塗布、含浸の方法によっては、必要に応じてワニ
スにチクソトロピー性を付与するため、無機充填材を配
合することも可能である。無機充填剤としては、例え
ば、酸化アルミニウム、水和シリカアルミナ、酸化アン
チモン、チタン酸バリウム、コロイダルシリカ、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、マイカ、シリカ、シリコン
カーバイド、タルク、酸化チタン、石英、酸化ジルコニ
ウム、珪酸ジルコニウム、窒化ボロン、炭素、グラファ
イト等の微粒子粉末が例示される。
In order to produce a laminate using the epoxy resin composition solution (varnish) of the present invention, the varnish is first prepared by using a base such as paper, glass woven fabric, glass nonwoven fabric, or a cloth containing a component other than glass. By applying, impregnating and drying the material in a drying oven at a temperature in the range of 80 to 200 ° C,
Prepare prepreg. This is heated and pressed to produce a laminate or a metal-clad laminate for a printed wiring board. Depending on the method of application and impregnation, an inorganic filler may be added as necessary to impart thixotropy to the varnish. Examples of the inorganic filler include aluminum oxide, hydrated silica alumina, antimony oxide, barium titanate, colloidal silica, calcium carbonate, calcium sulfate, mica, silica, silicon carbide, talc, titanium oxide, quartz, zirconium oxide, and silicate. Examples include fine particle powders of zirconium, boron nitride, carbon, graphite and the like.

【0033】また、銅などの金属箔との密着性、あるい
は無機充填剤との密着性の向上のため、カップリング剤
の添加も可能である。カップリング剤としては、シラン
カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミ
キレート系カップリング剤等が使用可能であり、例え
ば、クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリク
ロロシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N-
β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、イ
ソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロ
ピルトリメタクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジ
オクチルフィロフォスフェート)チタネート、イソプロ
ピルイソステアロイルジ(4−アミノベンゾイル)チタ
ネート等が例示される。
Further, a coupling agent can be added for improving the adhesion to a metal foil such as copper or the like and the inorganic filler. As the coupling agent, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum chelate coupling agent and the like can be used. For example, chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-
β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl trimethacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phyllophosphate) titanate, isopropyl isostearoyl di (4 -Aminobenzoyl) titanate and the like.

【0034】[0034]

【実施例】以下、実施例に基づき本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention.

【0035】(実施例1〜9、及び比較例1〜6)多層
プリント配線板を調製し、特性評価のため、加熱成形時
の成形性、得られた積層板の樹脂のガラス転移温度、吸
湿半田耐熱性、およびプリプレグの保存性の評価を行な
った。それぞれの評価方法は、下記の通りとした。
(Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6) A multilayer printed wiring board was prepared and, for property evaluation, moldability at the time of heat molding, glass transition temperature of resin of the obtained laminated board, moisture absorption The solder heat resistance and the storage stability of the prepreg were evaluated. Each evaluation method was as follows.

【0036】1.樹脂のガラス転移温度 加熱成形後の多層プリント配線板から、硬化したプリプ
レグ層のみを切り取り、自動粘弾性測定装置RHEOV
IBRON DDV−3−EP(オリエンテック(株)
製)を用いて、周波数11Hz、昇温速度5℃/分、引
張りモードで測定した。動的粘弾性曲線におけるtan
δピーク温度を、ガラス転移温度とした。
1. Glass transition temperature of resin Only the cured prepreg layer is cut from the multilayer printed wiring board after heat molding, and an automatic viscoelasticity measuring device RHEOV
IBRON DDV-3-EP (Orientec Co., Ltd.)
Was measured in a tensile mode at a frequency of 11 Hz and a temperature rising rate of 5 ° C./min. Tan in dynamic viscoelastic curves
The δ peak temperature was taken as the glass transition temperature.

【0037】2.成形性 加熱成形後の多層プリント配線板の、外層銅箔をエッチ
ング処理により除去した後、露出した硬化プリプレグ層
から見える内層回路パターンへの、樹脂の埋め込み状態
を比較評価した。
2. Moldability After the outer layer copper foil of the multilayer printed wiring board after the heat molding was removed by the etching treatment, the resin embedded state in the inner layer circuit pattern visible from the exposed cured prepreg layer was comparatively evaluated.

【0038】3.吸湿半田耐熱性 得られた多層プリント回路板を、125℃、2.3気
圧、30分の条件にて、PCT(プレッシャークッカー
テスト)吸湿処理を行ない、更に、260℃の半田槽に
2分間浮かべた時の、膨れ発生の有無を観察した。
3. Moisture Absorption Solder Heat Resistance The obtained multilayer printed circuit board is subjected to PCT (pressure cooker test) moisture absorption treatment at 125 ° C., 2.3 atm and 30 minutes, and further floated in a solder bath at 260 ° C. for 2 minutes. The presence or absence of swelling at the time was observed.

【0039】4.プリプレグの保存性 塗布乾燥直後のプリプレグを、40℃で7日間保存し、
保存後における流動性を比較した。
4. Preservability of Prepreg Prepreg immediately after coating and drying is stored at 40 ° C for 7 days,
The fluidity after storage was compared.

【0040】(実施例1〜9)まず、基材厚0.1m
m、銅箔厚35μmのガラスエポキシ両面銅張積層板を
表面研磨し、ソフトエッチングして防錆処理膜を除いた
後、エッチングにより回路を形成させた。これに一般的
に黒処理と呼ばれる酸化処理を施し、回路表面を粗化し
て、内層回路板を調製した。次に、表1に示すような組
成比で各成分を配合して、エポキシ樹脂組成物溶液を調
製し、これを定法により、厚さ180μmのガラス布に
含浸させ、乾燥処理してプリプレグ得た。尚、実施例1
〜9で用いた6種類の硬化促進剤(4級ホスホニウムボ
レート)の、化学構造式を式[4]〜式[9]に示し
た。
(Examples 1 to 9) First, the substrate thickness was 0.1 m.
The glass-epoxy double-sided copper-clad laminate with a thickness of 35 μm and a copper foil thickness of 35 μm was polished and soft-etched to remove the rust-proofing film, and then a circuit was formed by etching. This was subjected to an oxidation treatment generally called black treatment to roughen the circuit surface to prepare an inner circuit board. Next, an epoxy resin composition solution was prepared by blending each component at a composition ratio as shown in Table 1, and this was impregnated with a conventional method into a glass cloth having a thickness of 180 μm, and dried to obtain a prepreg. . Example 1
The chemical structural formulas of the six types of curing accelerators (quaternary phosphonium borates) used in Nos. To 9 are shown in Formulas [4] to [9].

【0041】このプリプレグを、内層回路板の両面にそ
れぞれ1枚ずつ重ね合わせ、さらにその両側に、厚さ1
8μmの銅箔を1枚ずつ重ねて、真空圧プレスにて加熱
成形し、多層プリント配線板を得た。加熱成形は室温か
ら始めて、材料の昇温スピードは8℃/分とした。材料
の最高到達温度は170℃で、昇温冷却を含めて成形に
要した時間は60分間であった。この時の成形性、得ら
れた積層板の樹脂のガラス転移温度、吸湿半田耐熱性、
およびプリプレグの保存性の評価結果を、表1にまとめ
て示した。
This prepreg is superimposed one by one on both sides of the inner circuit board, and a thickness of 1
8 μm copper foils were stacked one by one and heat-formed by a vacuum press to obtain a multilayer printed wiring board. The heat molding was started from room temperature, and the material was heated at a rate of 8 ° C./min. The maximum temperature of the material was 170 ° C., and the time required for molding including heating and cooling was 60 minutes. The moldability at this time, the glass transition temperature of the resin of the obtained laminate, the moisture absorption solder heat resistance,
Table 1 summarizes the evaluation results of the storage stability of the prepreg.

【0042】(比較例1〜6)まず、実施例と同様にし
て、回路表面を粗化した内層回路板を調製した。次に、
表2に示すような組成比で各成分を配合して、エポキシ
樹脂組成物溶液を調製し、実施例と同様に含浸、乾燥処
理して、比較例のプリプレグ得た。さらに、実施例と同
様にして多層プリント配線板を調製し、特性を評価し
た。評価結果は、表2にまとめて示した。
(Comparative Examples 1 to 6) First, an inner layer circuit board having a roughened circuit surface was prepared in the same manner as in the example. next,
Each component was blended at a composition ratio as shown in Table 2 to prepare an epoxy resin composition solution, which was impregnated and dried in the same manner as in the example to obtain a prepreg of a comparative example. Further, a multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in the examples, and the characteristics were evaluated. The evaluation results are summarized in Table 2.

【0043】[0043]

【化4】 Embedded image

【0044】[0044]

【化5】 Embedded image

【0045】[0045]

【化6】 Embedded image

【0046】[0046]

【化7】 Embedded image

【0047】[0047]

【化8】 Embedded image

【0048】[0048]

【化9】 Embedded image

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】各実施例における硬化後の樹脂のガラス転
移温度は、いずれも140℃以上で、比較例に比べて相
対的に高い値を示した。また、成形性、吸湿半田耐熱
性、40℃7日保存後のプリプレグの流動性は、全て良
好な結果であった。これに対して各比較例では、保存後
のプリプレグの流動性が全て、ゲル化ないし流動不良を
生じており、さらに、成形性と吸湿半田耐熱性について
は、そのいずれかがボイドや膨れを生じて不良の結果で
あり、いずれも満足出来るものではなかった。
The glass transition temperature of the cured resin in each of the examples was 140 ° C. or higher, which was higher than that of the comparative example. In addition, the moldability, the moisture absorption solder heat resistance, and the fluidity of the prepreg after storage at 40 ° C. for 7 days were all good results. On the other hand, in each of the comparative examples, the fluidity of the prepreg after storage was all gelling or poor fluidity, and any of the moldability and the heat resistance to moisture absorption solder caused voids and swelling. The results were poor and none were satisfactory.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明の積層板用エポキシ樹脂組成物
は、硬化性に優れていて、短い積層成形時間でも十分に
硬化させることが出来、また、常温付近での保存安定
性、さらには成形性にも優れ、積層板あるいはプリント
配線板の製造に好適に用いることができる。特に、速硬
化性に優れるいるので、従来1回のプレスで150分以
上かかっていた加熱成形時間を、60分程度まで短縮す
ることが可能となり、製造コストが大幅に削減され、品
質管理,在庫管理に費やす工数も大幅に削減されるよう
になる。また、成形性、ワニスの保存性、その他の物性
は、従来の品質を維持することができ、高温での速硬化
性と成形性、ワニスの常温保存性の両立に対して極めて
有効である。
The epoxy resin composition for laminates of the present invention is excellent in curability, can be sufficiently cured even in a short lamination molding time, and has a storage stability near room temperature, and furthermore has a good molding property. It is excellent in property and can be suitably used for manufacturing a laminated board or a printed wiring board. In particular, because of its excellent fast-curing properties, it is possible to reduce the time required for heat molding from 150 minutes or more in a single press to about 60 minutes, greatly reducing manufacturing costs, quality control and inventory. The man-hours spent on management will be greatly reduced. In addition, moldability, varnish preservability, and other physical properties can maintain the conventional quality, and are extremely effective in satisfying both fast curing properties at high temperatures, moldability, and varnish storability at room temperature.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08J 5/24 CFC C08J 5/24 CFC C08L 63/00 C08L 63/00 B (72)発明者 大久保 明子 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 小林 稔 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI C08J 5/24 CFC C08J 5/24 CFC C08L 63/00 C08L 63/00 B (72) Inventor Akiko Okubo Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo 2-5-8 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor Minoru Kobayashi 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂(A)、ポリアミン、ポリ
フェノールまたは酸無水物の中から選ばれた1つである
エポキシ樹脂硬化剤(B)、及び一般式[1]で表され
る4級ホスホニウムボレート(C)を、有機溶剤中に均
一に溶解してなる積層板用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 式中、R1,R2,R3及びR4は、芳香環もしくは複素環
を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、かつリ
ン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、
1,X2,X3及びX4の内の少なくとも1つは、分子外
に放出し得るプロトンを少なくとも1個有するプロトン
供与体が、プロトンを少なくとも1個放出してなる基で
あり、その他は芳香環もしくは複素環を有する1価の有
機基、または1価の脂肪族基で、それらは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。
1. An epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B) selected from polyamines, polyphenols or acid anhydrides, and a quaternary phosphonium borate represented by the general formula [1]: An epoxy resin composition for a laminate obtained by uniformly dissolving (C) in an organic solvent. Embedded image In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and a phosphorus atom and each substituent form a PC bond. And they may be the same or different from each other. Also,
At least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 is a group in which a proton donor having at least one proton that can be released outside the molecule releases at least one proton, and Is a monovalent organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different.
【請求項2】 一般式[1]で表される4級ホスホニウ
ムボレート(C)の、X1,X2,X3,及びX4の中に少
なくとも1個含まれる、プロトン供与体がプロトンを放
出してなる基が、分子内にカルボキシル基または水酸基
を1個以上有する芳香族カルボン酸またはフェノール化
合物が、プロトンを放出してなる基であることを特徴と
する、請求項1記載の積層板用エポキシ樹脂組成物。
2. A quaternary phosphonium borate (C) represented by the general formula [1], wherein at least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 contains a proton as a proton donor. The laminate according to claim 1, wherein the released group is a group obtained by releasing a proton from an aromatic carboxylic acid or a phenol compound having at least one carboxyl group or hydroxyl group in the molecule. Epoxy resin composition for use.
【請求項3】 一般式[1]で表される4級ホスホニウ
ムボレートの一部もしくは全部が、X1,X2,X3,及
びX4の中に少なくとも1個含まれる、プロトン供与体
が2個以上のプロトンを放出してなる基を介して、異な
るホウ素原子間で結合し、前記一般式[1]で表される
4級ホスホニウムボレート(C)単位の複数個が連結さ
れたものであることを特徴とする、請求項1もしくは請
求項2記載の積層板用エポキシ樹脂組成物。
3. A proton donor wherein at least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 contains at least one part or all of a quaternary phosphonium borate represented by the general formula [1]. Two or more quaternary phosphonium borate (C) units represented by the above general formula [1] linked through different boron atoms through a group that releases two or more protons. The epoxy resin composition for a laminate according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】 エポキシ樹脂(A)、ポリアミン、ポリ
フェノールまたは酸無水物の中から選ばれた1つである
エポキシ樹脂硬化剤(B)、及び一般式[2]で表され
る4級ホスホニウムボレート(C)を、有機溶剤中に均
一に溶解してなる積層板用エポキシ樹脂組成物。 【化2】 式中、R5,R6,R7及びR8は、芳香環もしくは複素環
を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、かつリ
ン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、
1は、置換基Y1,Y2を有する有機基である。Y1,Y
2は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出し
てなる基であり、同一分子内の置換基Y1,Y2がホウ素
原子と結合してキレート構造を形成するものである。Z
2は、置換基Y3,Y4を有する有機基である。Y3,Y4
は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出して
なる基であり、同一分子内の置換基Y3,Y4がホウ素原
子と結合してキレート構造を形成するものである。
1,Z2は互いに同一でも異なっていてもよく、Y1
2,Y3,Y4も互いに同一でも異なっていてもよい。
4. An epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B) selected from polyamines, polyphenols or acid anhydrides, and a quaternary phosphonium borate represented by the general formula [2]. An epoxy resin composition for a laminate obtained by uniformly dissolving (C) in an organic solvent. Embedded image In the formula, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and a phosphorus atom and each substituent form a PC bond. And they may be the same or different from each other. Also,
Z 1 is an organic group having substituents Y 1 and Y 2 . Y 1 , Y
Reference numeral 2 denotes a group in which a monovalent proton-donating substituent emits a proton, and the substituents Y 1 and Y 2 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure. Z
2 is an organic group having substituents Y 3 and Y 4 . Y 3 , Y 4
Is a group in which a monovalent proton donating substituent emits a proton, and the substituents Y 3 and Y 4 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure.
Z 1, Z 2 may be the same or different, Y 1,
Y 2 , Y 3 , and Y 4 may be the same or different from each other.
【請求項5】 一般式[2]で表される4級ホスホニウ
ムボレート(C)の、置換基Y1−Z1−Y2及びY3−Z
2−Y4で表される、プロトン供与体がプロトンを2個放
出してなる基が、分子内にカルボキシル基を少なくとも
2個有する芳香族カルボン酸、分子内にカルボキシル基
を少なくとも1個と水酸基を少なくとも1個有する芳香
族カルボン酸、または、分子内に少なくとも2個の水酸
基を有しカルボキシル基を持たないフェノール化合物
が、プロトンを放出してなる基であることを特徴とす
る、請求項3記載の積層板用エポキシ樹脂組成物。
5. The substituents Y 1 -Z 1 -Y 2 and Y 3 -Z of the quaternary phosphonium borate (C) represented by the general formula [2]
Represented by 2 -Y 4, group proton donor is by releasing two protons, aromatic carboxylic acids having at least two carboxyl groups in the molecule, at least one carboxyl group in the molecule and a hydroxyl group 4. An aromatic carboxylic acid having at least one phenol or a phenol compound having at least two hydroxyl groups in the molecule and having no carboxyl group is a group formed by releasing a proton. The epoxy resin composition for a laminate according to the above.
【請求項6】 一般式[2]で表される4級ホスホニウ
ムボレートの一部もしくは全部が、置換基Y1−Z1−Y
2及びY3−Z2−Y4で表される、プロトン供与体がプロ
トンを2個放出してなる基の中の少なくとも一つを介し
て、異なるホウ素原子間で結合し、前記一般式[2]で
表される4級ホスホニウムボレート(C)をベースとす
る単位の複数個が連結されたものであることを特徴とす
る、請求項4もしくは請求項5記載の積層板用エポキシ
樹脂組成物。
6. A quaternary phosphonium borate represented by the general formula [2] is partially or entirely substituted with a substituent Y 1 -Z 1 -Y.
2 and Y 3 -Z 2 -Y 4 , a proton donor is bonded between different boron atoms via at least one of groups that release two protons, and the above-mentioned general formula [ The epoxy resin composition for a laminate according to claim 4 or 5, wherein a plurality of units based on the quaternary phosphonium borate (C) represented by [2] are linked. .
【請求項7】 エポキシ樹脂(A)、ポリアミン、ポリ
フェノールまたは酸無水物の中から選ばれた1つである
エポキシ樹脂硬化剤(B)、及び一般式[3]で表され
る4級ホスホニウムボレート(C)を、有機溶剤中に均
一に溶解してなる積層板用エポキシ樹脂組成物。 【化3】 式中、R9,R10,R11及びR12は、芳香環もしくは複
素環を有する有機基、または1価の脂肪族基であり、か
つリン原子と各置換基がP−C結合を形成するもので、
それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。ま
た、Z3は、置換基Y5,Y6を有する有機基である。
5,Y6は1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放
出してなる基であり、同一分子内の置換基Y5,Y6がホ
ウ素原子と結合してキレート構造を形成するものであ
る。X5,X6は、分子外に放出しうるプロトンを少なく
とも1個有するプロトン供与体がプロトンを少なくとも
1個放出してなる基、または芳香環もしくは複素環を有
する1価の有機基、または1価の脂肪族基で、それらは
互いに同一であっても異なっていてもよい。
7. An epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B) selected from polyamines, polyphenols or acid anhydrides, and a quaternary phosphonium borate represented by the general formula [3]. An epoxy resin composition for a laminate obtained by uniformly dissolving (C) in an organic solvent. Embedded image In the formula, R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or a monovalent aliphatic group, and each substituent forms a PC bond with a phosphorus atom. To do
They may be the same or different from each other. Z 3 is an organic group having substituents Y 5 and Y 6 .
Y 5 and Y 6 are groups in which a monovalent proton donating substituent emits a proton, and the substituents Y 5 and Y 6 in the same molecule are bonded to a boron atom to form a chelate structure. is there. X 5 and X 6 each represent a group in which a proton donor having at least one proton capable of being released outside the molecule releases at least one proton, a monovalent organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or 1 Are aliphatic groups, which may be the same or different from each other.
【請求項8】 一般式[3]で表される4級ホスホニウ
ムボレート(C)の、置換基Y5−Z3−Y6で表され
る、プロトン供与体がプロトンを2個放出してなる基
が、分子内にカルボキシル基を少なくとも2個有する芳
香族カルボン酸、分子内にカルボキシル基を少なくとも
1個と水酸基を少なくとも1個有する芳香族カルボン
酸、または、分子内に少なくとも2個の水酸基を有しカ
ルボキシル基を持たないフェノール化合物が、プロトン
を放出してなる基であり、かつX5,X6中に少なくとも
1個含まれるプロトン供与体がプロトンを放出してなる
基が、分子内にカルボキシル基または水酸基を1個以上
有する芳香族カルボン酸またはフェノール化合物が、プ
ロトンを放出してなる基であることを特徴とする、請求
項5記載の積層板用エポキシ樹脂組成物。
8. A proton donor of a quaternary phosphonium borate (C) represented by the general formula [3], represented by a substituent Y 5 -Z 3 -Y 6, which emits two protons. The group is an aromatic carboxylic acid having at least two carboxyl groups in the molecule, an aromatic carboxylic acid having at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group in the molecule, or at least two hydroxyl groups in the molecule. A phenol compound having no carboxyl group is a group formed by releasing a proton, and a group formed by releasing a proton by at least one proton donor contained in X 5 and X 6 is formed in the molecule. 6. The laminated board according to claim 5, wherein the aromatic carboxylic acid or phenol compound having at least one carboxyl group or hydroxyl group is a group that releases protons. Carboxymethyl resin composition.
【請求項9】 一般式[3]で表される4級ホスホニウ
ムボレートの一部もしくは全部が、置換基Y5−Z3−Y
6で表されるプロトン供与体がプロトンを2個放出して
なる基、もしくは、X5及びX6の中に少なくとも1個含
まれるプロトン供与体が2個以上のプロトンを放出して
なる基を介して、異なるホウ素原子間で結合し、前記一
般式[3]で表される4級ホスホニウムボレート(C)
をベースとする単位の複数個が連結されたものであるこ
とを特徴とする、請求項7もしくは請求項8記載の積層
板用エポキシ樹脂組成物。
9. A quaternary phosphonium borate represented by the general formula [3] is partially or entirely substituted with a substituent Y 5 -Z 3 -Y.
A group in which the proton donor represented by 6 releases two protons, or a group in which at least one proton donor contained in X 5 and X 6 releases two or more protons. Quaternary phosphonium borate (C) represented by the general formula [3]
The epoxy resin composition for a laminate according to claim 7 or 8, wherein a plurality of units based on are connected.
【請求項10】 請求項1〜請求項9のいずれかに記載
された積層板用エポキシ樹脂組成物と基材とで、基本的
に構成されることを特徴とするプリプレグ。
10. A prepreg, which is basically composed of the epoxy resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 9 and a substrate.
【請求項11】 請求項1〜請求項9のいずれかに記載
された積層板用エポキシ樹脂組成物と基材とで、基本的
に構成されることを特徴とする積層板。
11. A laminate, which is basically composed of the epoxy resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 9 and a base material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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