JPH11169805A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 停電等により通電不能状態にあるときでも、
エアシリンダにより駆動される駆動部を安全位置に確実
に保持することができるようにする。 【解決手段】 エアシリンダ２２により駆動される開閉
弁２０、第１の配管５０を介してエアシリンダ２２にエ
アを供給するエア供給源４６、第１の配管５０から分岐
した第２の配管５８を介してエアシリンダ２２に液体窒
素を気化して得た窒素ガスを供給する窒素ガス供給源５
６、通電状態にあるときにはエア供給源４６からエアシ
リンダ２２にエアを供給し、通電不能状態にあるときに
は窒素ガス供給源５６からエアシリンダ２２に窒素ガス
を供給する供給気体切換手段６６を備える。供給気体切
換手段６６は、第１の配管５０における第２の配管５８
の分岐点よりも上流側に配設されたノーマルクローズ型
の電磁開閉弁５２と、第２の配管５８に配設されたノー
マルオープン型の電磁開閉弁６０により構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示器用基板等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基
板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板を処理する
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置として、例
えば、実開平２−７６８３７号公報に開示された構造の
ものが知られている。この基板処理装置は、基板洗浄槽
に貯留された使用済みの処理液を排出するための排液口
が配設され、この排液口にエアシリンダにより開閉駆動
される開閉弁が配設されている。なお、エアシリンダに
は、コンプレッサ等を備えたエア供給源から制御弁（方
向切換弁）を介して圧縮エアが供給され、エアシリンダ
の作動軸の進退動作に応じて開閉弁を開閉駆動するよう
になっている。

【０００３】このように構成された基板処理装置におい
て、停電等によりエア供給源への電力の供給が停止され
ると、エア供給源の動作が停止するためにエアシリンダ
へのエアの供給が停止される。このとき、開閉弁は、エ
アシリンダ内部等に残留している圧縮エアにより、エア
供給源の動作停止時の位置に保持されることになる。

【０００４】すなわち、開閉弁がエア供給源の動作停止
時に排液口を閉鎖した状態にあるときには、開閉弁はそ
の状態で保持されることになり、停電時等においても排
液口から処理液が不用意に流出するのが阻止され、基板
洗浄槽内に支持された基板が空気に曝されて酸化するの
が防止される。すなわち、停電等によりエアの供給が停
止された状態においても開閉弁は安全位置（排液口を閉
鎖する位置）に保持されることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、配管途中等
でエアが徐々にリークするため、エアの供給停止が長時
間に亘るとエアシリンダ内の空気圧が次第に低下し、開
閉弁による排液口の閉鎖状態が維持できなくなって開閉
弁と排液口との間に空隙が生じることになる。そのた
め、上記のような基板処理装置においては、その隙間か
ら基板洗浄槽内の処理液が流出し、基板洗浄槽内に支持
された基板が空気に曝されて表面が酸化するという問題
が発生する。

【０００６】従って、本発明は、停電等により通電不能
状態にあるときにおいても、エアシリンダにより駆動さ
れる駆動部を所定位置に確実に保持することができる基
板処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明は、エアシリンダにより駆動さ
れる駆動部を有する基板処理装置であって、エアシリン
ダにエアを供給するエア供給手段と、エアシリンダに液
体窒素を気化して得た窒素ガスを供給する窒素ガス供給
手段と、通電状態にあるときにはエア供給手段によりエ
アシリンダにエアを供給し、通電不能状態にあるときに
は窒素ガス供給手段によりエアシリンダに窒素ガスを供
給する供給気体切換手段とを有し、通電不能状態にある
ときには、窒素ガス供給手段により供給される窒素ガス
によって、エアシリンダが駆動部を所定位置に保持する
ように構成されていることを特徴としている。

【０００８】上記構成によれば、通電状態にあるときに
は、エア供給手段からエアが供給されてエアシリンダが
駆動され、停電等で通電不能状態にあるときには、窒素
ガス供給手段から供給される窒素ガスによりエアシリン
ダが駆動される。この結果、通電不能状態になっても駆
動部は所定位置に保持されることになる。

【０００９】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係るものにおいて、エアシリンダ、エア供給手段及び窒
素ガス供給手段とそれぞれ流路接続され、通電不能状態
にあるときには窒素ガスのエアシリンダ内における供給
方向を駆動部が所定位置に保持される側に維持する制御
弁を有することを特徴としている。

【００１０】上記構成によれば、停電等で通電不能状態
にあるときには、窒素ガス供給手段により供給される窒
素ガスによりエアシリンダが駆動される。このとき、窒
素ガスのエアシリンダ内における供給方向が、制御弁に
より駆動部を所定位置に保持する側に維持されることに
なる。この結果、通電不能状態になっても駆動部が所定
位置に確実に保持されることになる。

【００１１】また、請求項３に係る発明は、請求項２に
係るものにおいて、エア供給手段が制御弁に流路接続さ
れた第１の配管を有し、窒素ガス供給手段が第１の配管
から分岐した第２の配管を有するとともに、供給気体切
換手段が第１の配管の途中であって第２の配管との分岐
点よりも上流側に配設されたノーマルクローズ型の第１
の開閉弁と、第２の配管の途中に配設されたノーマルオ
ープン型の第２の開閉弁とを有することを特徴としてい
る。

【００１２】上記構成によれば、通電状態にあるとき、
ノーマルクローズ型の第１の開閉弁が開放状態になり、
ノーマルオープン型の第２の開閉弁が閉鎖状態になる結
果、エアシリンダにはエア供給手段によりエアが供給さ
れる。一方、停電等で通電不能状態にあるとき、ノーマ
ルクローズ型の第１の開閉弁が閉鎖状態になり、ノーマ
ルオープン型の第２の開閉弁が開放状態になる結果、エ
アシリンダには窒素ガス供給手段により窒素ガスが供給
される。

【００１３】また、請求項４に係る発明は、請求項２に
係るものにおいて、エア供給手段が制御弁に流路接続さ
れた第１の配管を有し、窒素ガス供給手段が第１の配管
から分岐した第２の配管を有するとともに、供給気体切
換手段が第１の配管の途中であって第２の配管との分岐
点よりも上流側に配設された逆止弁と、第２の配管の途
中に配設されたノーマルオープン型の開閉弁とを有する
ことを特徴としている。

【００１４】上記構成によれば、通電状態にあるとき、
ノーマルオープン型の開閉弁が閉鎖状態になる結果、エ
アシリンダには逆止弁を介してエア供給手段によりエア
が供給される。一方、通電不能状態にあるとき、ノーマ
ルオープン型の開閉弁が開放状態になる結果、エアシリ
ンダには窒素ガス供給手段により窒素ガスが供給され
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施形態に係る
基板処理装置の概略構成を示す側断面図である。この図
において、基板処理装置１０は、基板の洗浄処理を行う
もので、基板洗浄部１２と、基板洗浄部１２を収納する
排液処理部１４とを備えている。

【００１６】基板洗浄部１２は、処理液ＬＱを貯留する
とともに、底部に排液口１６を有する基板洗浄槽１８
と、排液口１６に開閉可能に配設された開閉弁２０と、
開閉弁２０を開閉駆動するエアシリンダ２２と、エアシ
リンダに気体を供給する気体供給部２４とを備えてい
る。

【００１７】基板洗浄槽１８は、複数の基板を収納した
カセットＣを載置するカセット載置台２６と、内部に処
理液を供給する処理液供給部２８とを備えている。カセ
ット載置台２６は、昇降可能に配設され、基板洗浄槽１
８の外部に上昇した状態で外部の搬送機構との間でカセ
ットＣの受け渡しを行う一方、カセットＣ内に収納され
た基板に対する洗浄処理時には基板洗浄槽１８の内底部
側に降下する。処理液供給部２８は、基板洗浄槽１８の
内底部に配設され、外部から処理液を供給する。なお、
排液口１６には、リング状のシール部材３０が配設され
たフランジ３２が取り付けられている。

【００１８】開閉弁２０は、背面（図中の右側）に弁軸
３４が突設され、ベローズ３６を介して円筒状の支持体
３８に取り付けられている。

【００１９】エアシリンダ２２は、排液処理部１４外面
の支持体４０にエアシリンダ２２の作動軸４２が排液処
理部１４内に位置するように取り付けられている。この
作動軸４２の先端には、圧縮ばね４４を介して上記開閉
弁２０が取り付けられている。この結果、作動軸４２の
進退動作に応じて開閉弁２０が進退し、排液口１６が開
閉制御される。

【００２０】気体供給部２４は、コンプレッサにより圧
縮されたエアを圧力調節弁やフィルタ等を介して供給す
るようにしたエア供給源４６からの圧縮エアを制御弁
（方向切換弁）４８を介してエアシリンダ２２に供給す
るための第１の配管５０と、第１の配管５０の途中であ
ってエア供給源４６と制御弁４８との間に配設されたノ
ーマルクローズ型の第１の電磁開閉弁５２と、第１の配
管５０の途中であって制御弁４８と第１の電磁開閉弁５
２との間に配設され、エア供給源４６への気体の逆流を
阻止する第１の逆止弁５４とを備えている。

【００２１】また、気体供給部２４は、第１の配管５０
の制御弁４８と第１の逆止弁５４との間で分岐され、液
体窒素を気化して得た窒素ガスを圧力調節弁やフィルタ
等を介して供給するようにした窒素ガス供給源５６から
の窒素ガスをエアシリンダ２２に供給するための第２の
配管５８と、第２の配管５８の途中に配設されたノーマ
ルオープン型の第２の電磁開閉弁６０と、第２の配管５
８の途中であって第２の電磁開閉弁６０の下流側に配設
され、窒素ガス供給源５６への気体の逆流を阻止する第
２の逆止弁６２とを備えている。

【００２２】なお、第１の配管５０の途中であって第２
の配管５８の分岐点よりも上流側に配設された第１の電
磁開閉弁５２と第１の逆止弁５４、及び、第２の配管５
８の途中に配設された第２の電磁開閉弁６０と第２の逆
止弁６２は、供給気体切換手段６６を構成する。

【００２３】このように構成された気体供給部２４は、
電力が通常どおり供給されて通電状態にあるときには、
励磁コイルが励磁されて第１の電磁開閉弁５２が開放状
態となり、エア供給源４６から制御弁４８を介してエア
シリンダ２２に圧縮エアが供給される。これに対し、第
２の電磁開閉弁６０は励磁コイルが励磁されることによ
り閉鎖状態となるため、窒素ガス供給源５６から窒素ガ
スがエアシリンダ２２に供給されることはない。この結
果、エアシリンダ２２は、エア供給源４６から供給され
るエアにより駆動され、エアシリンダ２２内におけるエ
アの供給方向が制御弁４８で切り換えられることにより
作動軸４２が進退し、この進退動作に応じて開閉弁２０
が開閉制御されることになる。なお、エア供給源４６か
ら供給されたエアは、第２の逆止弁６２と第２の電磁開
閉弁６０とにより窒素ガス供給源５６側への流出が阻止
される。

【００２４】一方、停電等により電力の供給が停止され
て通電不能状態になると、エア供給源４６の動作が停止
し、エア供給源４６からのエアの供給が停止される。こ
のとき、第１の電磁開閉弁５２の励磁コイルの励磁が解
除される結果、第１の電磁開閉弁５２は閉鎖状態にな
る。これに対して、第２の電磁開閉弁６０の励磁コイル
の励磁も解除されるため、第２の電磁開閉弁６０は開放
状態となって窒素ガス供給源５６で発生した窒素ガスが
制御弁４８を介してエアシリンダ２２に供給されること
になる。この結果、エアシリンダ２２は、窒素ガス供給
源５６から供給された窒素ガスにより駆動される。

【００２５】なお、通電不能状態になると、制御弁４８
の励磁コイルも励磁されないようになるが、このとき本
実施形態では、制御弁４８によりエアシリンダ２２の作
動軸４２が前進する方向に窒素ガスが供給されるように
なっている。このため、開閉弁２０は排液口１６を閉鎖
することになる。勿論、制御弁４８の励磁コイルが励磁
されないとき、制御弁４８によりエアシリンダ２２の作
動軸４２を後退させる方向に窒素ガスが供給されるよう
にし、開閉弁２０を後退させて排液口１６が開放される
ようにすることもできる。すなわち、開閉弁２０を前進
させた位置が基板処理装置１０における安全位置である
場合には、エアシリンダ２２の作動軸４２を前進させる
方向に窒素ガスが供給され、開閉弁２０を後退させた位
置が安全位置である場合には、作動軸４２を後退させる
方向に窒素ガスが供給されるように制御弁４８を配設す
ればよい。

【００２６】排液処理部１４は、底部にドレン６８を備
えている。これにより、基板洗浄槽１８の排液口１６か
ら排出された使用済みの処理液は、一旦排液処理部１４
内に排出された後にドレン６８を介して外部に排出され
ることになる。

【００２７】次に、上記のように構成された基板処理装
置１０の概略動作について説明する。いま、通電状態に
あって、エアシリンダ２２の作動軸４２がエア供給源４
６から供給されたエアにより前進し、排液口１６が開閉
弁２０により閉鎖されているものとする。このとき、処
理液供給部２８から基板洗浄槽１８内に処理液が供給さ
れて所定レベルに達すると、カセット載置台２６が上昇
して複数の基板が収納されたカセットＣが外部の搬送機
構によりカセット載置台２６上に移載される。

【００２８】その後、カセットＣの載置されたカセット
載置台２６が基板洗浄槽１８内に降下して複数の基板が
処理液内に浸漬され、基板に対して洗浄処理が行われ
る。洗浄処理が終了すると、カセット載置台２６は上昇
してカセットＣが外部の搬送機構により取り出される。

【００２９】そして、基板洗浄槽１８内の処理液を交換
するときには、制御弁４８の励磁コイルが励磁されるこ
とによりエアシリンダ２２内のエアの供給方向が切り換
えられて作動軸４２が後退し、排液口１６が開放状態に
される。これにより、基板洗浄槽１８内の処理液が排液
口１６から排液処理部１４内に排出され、この排出され
た処理液はドレン６８を介して外部に排出される。

【００３０】一方、基板に対する洗浄処理途中で停電等
により電力の供給が停止されて通電不能状態になると、
エアシリンダ２２へのエアの供給が停止されるが、すぐ
に窒素ガス供給源５６からエアシリンダ２２へ窒素ガス
が供給される結果、開閉弁２０は排液口１６を閉鎖した
状態に維持する。このため、基板洗浄槽１８内の処理液
は所定レベルに維持され、洗浄処理途中の基板が空気中
に曝される虞がなくなる。停電等が復旧して電力の供給
が再開されると、窒素ガスの供給が停止されるととも
に、エアの供給が再開され、エアシリンダ２２は通常通
りエアで駆動されることになる。なお、排液口１６から
の処理液の排出途中で通電不能状態になると、エアシリ
ンダ２２には作動軸４２が前進する方向に窒素ガスが供
給されて排液口１６は閉鎖されることになるが、電力の
供給が再開されるとエア供給源４６から供給されたエア
により排液口１６が開放され、処理液の排出が再開され
ることになる。

【００３１】本発明に係る基板処理装置１０は、上述の
ように構成されているので、停電等により通電不能状態
になってエア供給源４６からのエアの供給が停止された
とき、エアシリンダ２２には窒素ガス供給源５６から窒
素ガスが供給されるとともに、制御弁４８により窒素ガ
スのエアシリンダ２２内における供給方向が開閉弁２０
を安全位置に保持する側に維持される。その結果、開閉
弁２０は、安全位置に確実に保持されることになる。

【００３２】なお、上記実施形態では、エアシリンダ２
２に窒素ガスを供給するための第２の配管５８が第１の
配管５０から分岐した構成とされているが、図２に示す
ように、第２の配管５８を直接エアシリンダ２２に接続
するようにしてもよい。このように構成した場合、停電
等で通電不能状態になったとき、窒素ガスが制御弁４８
を介さずにエアシリンダ２２に直接供給されることにな
り、エアシリンダ２２が図１に示す実施形態の場合と同
様に窒素ガスにより駆動されることになる。

【００３３】また、図示は省略するが、制御弁４８とし
て、第１の配管５０を接続する入力ポートとは異なる別
の入力ポートを有するものを用いる一方、第２の配管５
８を第１の配管５０から分岐せずに制御弁４８の別の入
力ポートに接続し、通電不能状態になったときにこの別
の入力ポートに切り替えることによってエアシリンダ２
２に窒素ガスが供給されるようにしてもよい。このよう
にした場合でも、通電不能時に、図１に示す実施形態の
場合と同様にエアシリンダ２２を窒素ガスにより駆動す
ることができる。

【００３４】また、上記実施形態では、基板処理装置１
０は基板の洗浄処理を行うものであるが、エッチング処
理等の洗浄処理以外の他の処理を行うものであってもよ
い。また、上記実施形態では、供給気体切換手段６６
は、第１の配管途中に逆止弁５４を有し、第２の配管途
中に逆止弁６２を有しているが、これらの逆止弁５４，
６２をなくすようにすることもできる。また、供給気体
切換手段６６は、第１の配管途中の第１の電磁開閉弁５
２を除去して逆止弁５４のみを配設し、第２の配管途中
にノーマルオープン型の電磁開閉弁６０のみを配設して
構成することも可能である。

【００３５】また、上記実施形態では、エアシリンダ２
２は排液口１６を開閉する開閉弁２０を開閉動作させる
ものであるが、開閉弁以外の他の駆動部を動作させるも
のであってもよい。

【００３６】例えば、図３は、塩酸等の酸性の処理液の
貯留された処理槽７２と、アンモニア等のアルカリ性の
処理液の貯留された処理槽７４とを備えた基板処理装置
７０の要部を概略的に示す図で、処理槽７２と処理槽７
４との中間に両者の雰囲気を遮断するためのシャッタ部
７６が配設されたものである。このシャッタ部７６は、
ロッドレスシリンダ（ロッドレス型のエアシリンダ）７
８と、ロッドレスシリンダ７８により昇降可能とされた
シャッタ板８０とを備えており、基板を槽間で移動させ
るときにはシャッタ板８０が上昇されて基板の移動空間
を形成するが、基板の処理中にはシャッタ板８０が降下
されて槽間を遮断状態とする。

【００３７】このように構成された基板処理装置７０で
は、ロッドレスシリンダ７８が図１に示す基板処理装置
１０と同様の構成になる気体供給部２４により駆動制御
されるようになっており、シャッタ板８０が上昇した状
態のときに停電等により電力の供給が停止さるれると、
ロッドレスシリンダ７８にはエアに代わって窒素ガスが
供給され、制御弁４８は窒素ガスをシャッタ板８０を降
下させる方向に供給するべく制御する。これにより、シ
ャッタ板８０は上昇したままの状態ではなく、安全位置
である降下した位置でその状態が維持される。

【００３８】なお、シャッタ板８０を上昇させた状態が
安全位置となる場合は、電力の供給が停止されたとき、
ロッドレスシリンダ７８に対してシャッタ板８０を上昇
させる方向に窒素ガスが供給されるように制御弁４８を
配設すればよい。また、この基板処理装置７０の場合で
も、図２に示す場合と同様に第２の配管５８を直接ロッ
ドレスシリンダ７８に接続したり、制御弁４８として、
第１の配管５０を接続する入力ポートとは異なる別の入
力ポートを有するものを用いる一方、第２の配管５８を
制御弁４８の別の入力ポートに接続し、通電不能状態に
なったときにこの別の入力ポートに切り替えることによ
ってロッドレスシリンダ７８に窒素ガスが供給されるよ
うにしたりしてもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１及び２の
発明によれば、通電状態にあるときには、エア供給手段
によりエアシリンダにエアを供給し、通電不能状態にあ
るときには、窒素ガス供給手段によりエアシリンダに窒
素ガスを供給することによってエアシリンダが駆動部を
所定位置に保持するように構成されているので、停電等
により通電不能状態にあるときでも、エアシリンダによ
り駆動される駆動部を所定位置に確実に保持することが
可能となる。

【００４０】また、請求項３の発明によれば、エア供給
手段が制御弁に流路接続された第１の配管を有し、窒素
ガス供給手段が第１の配管から分岐した第２の配管を有
するとともに、供給気体切換手段が第１の配管の途中で
あって第２の配管との分岐点よりも上流側に配設された
ノーマルクローズ型の第１の開閉弁と、第２の配管の途
中に配設されたノーマルオープン型の第２の開閉弁とを
有しているので、停電等により通電不能状態にあるとき
には、第１の開閉弁が閉鎖され、第２の開閉弁が開放さ
れることになる結果、エアシリンダが窒素ガスで駆動制
御されるようになり、エアシリンダにより駆動される駆
動部を所定位置に確実に保持することが可能となる。

【００４１】また、請求項４の発明によれば、エア供給
手段が制御弁に流路接続された第１の配管を有し、窒素
ガス供給手段が第１の配管から分岐した第２の配管を有
するとともに、供給気体切換手段が第１の配管の途中で
あって第２の配管との分岐点よりも上流側に配設された
逆止弁と、第２の配管の途中に配設されたノーマルオー
プン型の開閉弁とを有しているので、停電等により通電
不能状態にあるときには、開閉弁が開放されることにな
る結果、エアシリンダが窒素ガスで駆動制御されるよう
になり、エアシリンダにより駆動される駆動部を所定位
置に確実に保持することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る基板処理装置の概略構
成を示す側断面図である。

【図２】図１に示す基板処理装置の気体供給部の変形例
を示す側断面図である。

【図３】本発明の別の実施形態に係る基板処理装置の要
部のみを示す側面図である。

【符号の説明】

１０，７０ 基板処理装置 １２ 基板洗浄部 １４ 排液処理部 １６ 排液口 １８ 基板洗浄槽 ２０ 開閉弁（駆動部） ２２ エアシリンダ ２４ 気体供給部 ２６ カセット載置台 ４６ エア供給源 ４８ 制御弁 ５０ 第１の配管 ５２ ノーマルクローズ型の電磁開閉弁 ５４，６２ 逆止弁 ５６ 窒素ガス供給源 ５８ 第２の配管 ６０ ノーマルオープン型の電磁開閉弁 ６６ 供給気体切換手段 ７６ シャッタ部 ７８ ロッドレスシリンダ ８０ シャッタ板（駆動部）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エアシリンダにより駆動される駆動部を
   有する基板処理装置であって、 前記エアシリンダにエアを供給するエア供給手段と、 前記エアシリンダに液体窒素を気化して得た窒素ガスを
   供給する窒素ガス供給手段と、 通電状態にあるときには前記エア供給手段により前記エ
   アシリンダにエアを供給し、通電不能状態にあるときに
   は前記窒素ガス供給手段によりエアシリンダに窒素ガス
   を供給する供給気体切換手段とを有し、 通電不能状態にあるときには、前記窒素ガス供給手段に
   より供給される窒素ガスによって、前記エアシリンダが
   前記駆動部を所定位置に保持するように構成されている
   ことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記エアシリンダ、エア供給手段及び窒
   素ガス供給手段とそれぞれ流路接続され、通電不能状態
   にあるときには窒素ガスのエアシリンダ内における供給
   方向を前記駆動部が所定位置に保持される側に維持する
   制御弁を有することを特徴とする請求項１記載の基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 前記エア供給手段が前記制御弁に流路接
   続された第１の配管を有し、前記窒素ガス供給手段が第
   １の配管から分岐した第２の配管を有するとともに、前
   記供給気体切換手段が第１の配管の途中であって第２の
   配管との分岐点よりも上流側に配設されたノーマルクロ
   ーズ型の第１の開閉弁と、第２の配管の途中に配設され
   たノーマルオープン型の第２の開閉弁とを有することを
   特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 前記エア供給手段が前記制御弁に流路接
   続された第１の配管を有し、前記窒素ガス供給手段が第
   １の配管から分岐した第２の配管を有するとともに、前
   記供給気体切換手段が第１の配管の途中であって第２の
   配管との分岐点よりも上流側に配設された逆止弁と、第
   ２の配管の途中に配設されたノーマルオープン型の開閉
   弁とを有することを特徴とする請求項２記載の基板処理
   装置。