JPH1116875A - Spin treatment device - Google Patents

Spin treatment device

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JPH1116875A
JPH1116875A JP30100797A JP30100797A JPH1116875A JP H1116875 A JPH1116875 A JP H1116875A JP 30100797 A JP30100797 A JP 30100797A JP 30100797 A JP30100797 A JP 30100797A JP H1116875 A JPH1116875 A JP H1116875A
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substrate
cup
cup body
rotary table
drying
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Katsunori Kaneko
勝則 金子
Takahiro Yamazaki
貴弘 山崎
Harumichi Hirose
治道 広瀬
Masayuki Komatsu
正幸 小松
Akinori Iso
明典 磯
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Shibaura Mechatronics Corp
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Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To surely dry a board in a short time by flow of the air introduced from an introduction hole to an opposition surface between a board and a current plate by arranging a current plate wherein an introduction hole is formed in a central part in opposition to a rotary table and rotating and driving a rotary table for drying a substrate. SOLUTION: A supporting member 38 supports a current plate 34 at a specified height in an inner bottom part of a lower cup 22a and guides an air flow C flowed into an introduction opening 35 along a circumferential direction of a lower side of the current plate 34. The air A introduced into a cup body 21 flows outward radially from a central part of an upper surface of the substrate 20, and flows from a discharge opening 39 to a tank 43 being guided to an inner surface of an inner cup 22c together with the air flow C generated by a rotary table 27. Since the air A introduced from the introduction hole 52 into the cap body 21 functions as drying gas which dries the substrate 20, the substrate 20 can be dried effectively together with centrifugal force by rotation of the board 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は基板を回転テ−ブ
ルに保持して回転させながら乾燥処理するスピン処理装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin processing apparatus for drying a substrate while rotating the substrate while holding the substrate on a rotary table.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば液晶表示装置の製造工程では、
液晶用ガラス基板(以下、基板と省略する。)に回路パ
タ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセス
がある。これらのプロセスでは上記基板の処理と洗浄と
が繰り返して行われる。
2. Description of the Related Art For example, in a manufacturing process of a liquid crystal display device,
There are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a liquid crystal glass substrate (hereinafter abbreviated as a substrate). In these processes, the processing of the substrate and the cleaning are repeatedly performed.

【0003】たとえば、基板に露光処理を行ったなら、
この基板をエッチング処理し、ついでその基板からレジ
ストを剥離するアッシング処理を行う。つぎに、アッシ
ング処理された基板を洗浄処理してから乾燥処理すると
いう作業が繰り返して行われる。
For example, if an exposure process is performed on a substrate,
This substrate is subjected to an etching process, and then an ashing process for removing the resist from the substrate is performed. Next, the operation of cleaning the ashed substrate and then performing the drying process is repeatedly performed.

【0004】上記洗浄処理と乾燥処理とはスピン処理装
置によって連続して行われる。すなわち、スピン処理装
置は上面が開口したカップ体を有する。このカップ体内
には上記基板を保持して回転駆動される回転テ−ブルが
設けられ、この回転テ−ブルによって基板を回転させな
がら洗浄液を吹き付けることで洗浄処理が行われ、洗浄
処理後に洗浄液に代わり清浄空気や窒素などの乾燥ガス
を吹き付けることで乾燥処理が行われる。
[0004] The above-mentioned cleaning and drying are continuously performed by a spin processing apparatus. That is, the spin processing device has a cup body whose upper surface is open. A rotating table that holds and rotates the substrate is provided in the cup body, and a cleaning process is performed by spraying a cleaning liquid while rotating the substrate by the rotary table. Instead, the drying process is performed by blowing a dry gas such as clean air or nitrogen.

【0005】生産性の向上を計るために、各処理工程に
おける処理時間を短縮することが要求され、乾燥処理工
程においても処理時間を短縮することが要求されてい
る。乾燥処理工程の処理時間を短縮するためには、基板
に向けて吹き付ける乾燥ガスの流量(速度)を増大させ
ることが考えられる。
In order to improve the productivity, it is required to reduce the processing time in each processing step, and it is also required to reduce the processing time in the drying processing step. In order to shorten the processing time of the drying process, it is conceivable to increase the flow rate (speed) of the drying gas blown toward the substrate.

【0006】しかしながら、基板に吹き付ける乾燥ガス
の流量を増大させると、基板の上面やカップ体内におけ
る乾燥ガスの流れに乱れが生じ易くなる。そのため、基
板を短時間で均一に乾燥させることができなくなった
り、乾燥処理時に発生するミストや塵埃がカップ体内か
ら確実に排出されず、基板に付着するという虞もある。
However, when the flow rate of the dry gas blown to the substrate is increased, the flow of the dry gas on the upper surface of the substrate or in the cup body tends to be disturbed. For this reason, there is a risk that the substrate cannot be dried uniformly in a short time, or mist or dust generated during the drying process is not reliably discharged from the inside of the cup and adheres to the substrate.

【0007】さらに、乾燥ガスの使用量が増大すると、
それに比例してランニングコストが増大するということ
があるばかりか、カップ体から排出される乾燥ガスの排
出能力が一定の工場などにおいては乾燥ガスがカップ体
内から円滑に排気できなくなるため、そのことによって
もカップ体内で乱流が発生してミストや塵埃が基板に付
着する虞がある。
Further, when the amount of dry gas used increases,
In addition to the fact that the running cost increases in proportion to that, the dry gas exhausted from the cup body can not be exhausted smoothly from the cup body in factories etc. where the exhaust capacity of the dry gas is constant, so that Also, turbulence may occur in the cup body and mist and dust may adhere to the substrate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように、洗浄され
た基板を乾燥処理する場合、その処理時間を短縮するた
めに乾燥ガスの吹き付け量を単に増大させると、カップ
体内における乾燥ガスの流れに乱れが生じ、基板を短時
間で均一に乾燥させることができなかったり、乾燥処理
時に発生するミストや塵埃がカップ体内から確実に排出
されず、基板に付着するということもある。
As described above, when drying the cleaned substrate, simply increasing the amount of the blown dry gas in order to shorten the processing time causes an increase in the flow of the dry gas in the cup body. Disturbance may occur, and the substrate may not be dried uniformly in a short period of time, or mist and dust generated during the drying process may not be reliably discharged from the cup and may adhere to the substrate.

【0009】この発明の目的は、基板を乾燥させるため
に、乾燥専用の乾燥ガスを用いることなく、乾燥処理を
短時間で行え、しかもその乾燥処理時に基板にミストや
塵埃が付着するようなことがないようにしたスピン処理
装置を提供することにある。
An object of the present invention is to perform a drying process in a short time without using a drying gas exclusively for drying a substrate, and to prevent mist or dust from adhering to the substrate during the drying process. It is an object of the present invention to provide a spin processing device which is free from the problem.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、基板
を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処
理装置において、上面が開口したカップ体と、このカッ
プ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回
転駆動される駆動軸と、この駆動軸に設けられ上記基板
を保持して上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブル
と、上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設
されるとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回
転駆動されることで発生する気流によって上記カップ体
の外部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導
入する導入孔を有する板状の整流部材とを具備したこと
を特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a spin processing apparatus for drying a substrate by rotating the substrate, wherein a cup having an open upper surface and a central portion of the bottom of the cup are provided. A drive shaft that is inserted into the inside and is rotationally driven by a drive source, a rotary table provided on the drive shaft and holding the substrate and rotating with the drive shaft, and a substrate held by the rotary table. At the center thereof, gas outside the cup body is introduced at a predetermined speed between the surfaces facing the substrate at a predetermined speed by an air flow generated by the rotation of the rotary table. And a plate-shaped rectifying member having an introduction hole.

【0011】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、上記整流部材は、上記カップ体にこの上面開口を閉
塞する状態で着脱自在に設けられることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1の発明において、上記整流
部材は、上下駆動機構によって上記回転体に保持された
基板との対向間隔の調整自在に設けられていることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the rectifying member is detachably provided on the cup body so as to close the upper opening.
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the rectifying member is provided so as to be capable of adjusting an interval between the rectifying member and a substrate held by the rotating body by a vertical drive mechanism.

【0012】請求項4の発明は、請求項1ないし請求項
3のいずれかに記載の発明において、上記カップ体の内
部には、上記回転テ−ブルが回転駆動されることで、こ
のカップ体内で発生する気流をカップ体の底部に向けて
ガイドする内カップが設けられ、カップ体の底部にはそ
の気流を排出する排出口が形成されていることを特徴と
する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the rotating table is rotatably driven inside the cup body so that the inside of the cup body is rotated. An inner cup is provided for guiding the airflow generated at the bottom toward the bottom of the cup body, and a discharge port for discharging the airflow is formed at the bottom of the cup body.

【0013】請求項1ないし請求項3の発明によれば、
基板を乾燥処理するために回転テ−ブルを回転駆動する
と、その回転によって発生する気流で整流部材に形成さ
れた導入孔から基板と整流部材との対向面間に外気が導
入されるから、その外気の流れによって基板を短時間で
確実に乾燥させることが可能となる。
According to the first to third aspects of the present invention,
When the rotary table is driven to rotate to dry the substrate, the airflow generated by the rotation causes outside air to be introduced between the opposing surfaces of the substrate and the rectifying member from the introduction hole formed in the rectifying member. The substrate can be reliably dried in a short time by the flow of the outside air.

【0014】請求項3の発明によれば、整流部材を上下
駆動機構によって上下動させることで、この整流部材と
基板との対向間隔を調整できるから、これらの対向面間
に導入される外気の流量を設定することができる。
According to the third aspect of the present invention, the distance between the rectifying member and the substrate can be adjusted by moving the rectifying member up and down by the vertical driving mechanism, so that the outside air introduced between these opposing surfaces can be adjusted. The flow rate can be set.

【0015】請求項4の発明によれば、回転テ−ブルの
回転によって上記カップ体内で発生する気流は、カップ
体内に設けられた内カップによって底部の方向へガイド
されて排出口から排出されるから、上記内カップにより
形成される気流で整流部材の導入孔からカップ体内に導
入される外気を円滑に流すことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the airflow generated in the cup body by the rotation of the rotary table is guided toward the bottom by the inner cup provided in the cup body, and is discharged from the discharge port. Therefore, the outside air introduced into the cup body from the introduction hole of the rectifying member can flow smoothly by the airflow formed by the inner cup.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の第1の実施の形
態を図1と図2を参照して説明する。図1に示すスピン
処理装置は、たとえば液晶用ガラス基板や半導体ウエハ
などの基板20を洗浄処理および乾燥処理するためにク
リ−ンル−ムに設置されていて、その装置はカップ体2
1を備えている。このカップ体21は下カップ22a、
上カップ22bおよび内カップ22cから構成されてい
る。下カップ22aは上面が開放したお椀状をなしてい
て、その上端縁にはシ−ルパッキング23が取着され、
底壁中心部には通孔24が形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The spin processing apparatus shown in FIG. 1 is installed in a clean room for cleaning and drying a substrate 20 such as a glass substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer.
1 is provided. This cup body 21 is a lower cup 22a,
It is composed of an upper cup 22b and an inner cup 22c. The lower cup 22a has a bowl shape with an open upper surface, and a seal packing 23 is attached to the upper edge thereof.
A through hole 24 is formed in the center of the bottom wall.

【0017】上記通孔24には、モ−タ25の駆動軸2
6が挿通され、カップ体21内に突出した上記駆動軸2
6の上端は回転テ−ブル27の下面に設けられた円盤状
の連結部材28に連結されている。この連結部材28の
下面周辺部には円周溝29が形成され、この円周溝29
には上記通孔24の周縁部を形成する周壁24aの上端
部が挿入されている。
The drive shaft 2 of the motor 25 is
6 is inserted and the drive shaft 2 protrudes into the cup body 21.
The upper end of 6 is connected to a disk-shaped connecting member 28 provided on the lower surface of the rotary table 27. A circumferential groove 29 is formed around the lower surface of the connecting member 28.
The upper end of the peripheral wall 24a forming the peripheral edge of the through hole 24 is inserted into the hole.

【0018】上記下カップ22aの底壁の上記通孔24
の周辺部には遮蔽リング31が上記連結部材28の外周
面を覆う状態で設けられている。それによって、基板2
0を後述するごとく乾燥させる際にカップ体21内に飛
散する液体が上記通孔24を通ってモ−タ25を濡らす
のを防止するラビリンス構造となっている。
The through hole 24 in the bottom wall of the lower cup 22a
A shielding ring 31 is provided at the periphery of the connecting member 28 so as to cover the outer peripheral surface of the connecting member 28. Thereby, the substrate 2
As will be described later, the labyrinth structure prevents liquid scattered in the cup body 21 from drying the motor 25 through the through-hole 24 when the 0 is dried.

【0019】上記回転テ−ブル27の上面には複数の支
持ピン32と、その支持ピン32よりも径方向外方に位
置する複数のガイドピン33とが周方向に所定間隔で突
設されている。支持ピン32は回転テ−ブル27の上面
に供給される上記基板20の下面を支持し、上記ガイド
ピン33は上記基板20の外周面に係合し、その基板2
0が回転テ−ブル27上でずれ動くのを阻止するように
なっている。
A plurality of support pins 32 and a plurality of guide pins 33 located radially outward from the support pins 32 are provided on the upper surface of the rotary table 27 at predetermined intervals in the circumferential direction. I have. The support pins 32 support the lower surface of the substrate 20 supplied to the upper surface of the rotary table 27, and the guide pins 33 engage with the outer peripheral surface of the substrate 20,
0 is prevented from moving on the rotating table 27.

【0020】上記下カップ22aの内底部には帯電する
ことがないよう、導電性の材料によってリング状に形成
された整流板34が配設されている。この整流板34に
は複数の導入口35が周方向に所定の間隔で形成されて
いる。上記整流板34の上面の上記導入口35の部分に
はガイド板36が設けられている。このガイド板36
は、導入口35の上面側に位置する部分が所定の角度で
曲げ起こされている。
A rectifying plate 34 formed of a conductive material in a ring shape is disposed on the inner bottom of the lower cup 22a so as not to be charged. A plurality of inlets 35 are formed in the current plate 34 at predetermined intervals in the circumferential direction. A guide plate 36 is provided at a portion of the inlet 35 on the upper surface of the current plate 34. This guide plate 36
Is formed by bending a portion located on the upper surface side of the inlet 35 at a predetermined angle.

【0021】つまり、ガイド板36は、回転テ−ブル2
7が所定方向に回転駆動されることで、この回転方向と
同じ方向に生じる空気流Cが上記導入口35に流入し易
いように曲成されている。言い換えれば、上記導入口3
5とガイド板36とで、上記回転テ−ブル27の回転に
よって生じる空気流Cを導入する方向に向かって開口し
た導入部37を形成している。
That is, the guide plate 36 is connected to the rotary table 2.
7 is rotated so as to rotate in a predetermined direction, so that the airflow C generated in the same direction as the rotation direction is bent so as to easily flow into the introduction port 35. In other words, the inlet 3
The guide plate 36 and the guide plate 36 form an introduction portion 37 that opens in a direction in which the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is introduced.

【0022】上記整流板34の下面には、周方向に1つ
おきの導入口35と対応する部分に、それぞれ帯状板を
平面形状がくの字状となるように曲成した支持部材38
(詳細な形状は図示せず)が設けられている。この支持
部材38は上記整流板34を下カップ22aの内底部で
所定の高さで支持するとともに、上記導入口35に流入
した空気流Cを整流板34の下面側の周方向に沿ってガ
イドするようになっている。
On the lower surface of the rectifying plate 34, supporting members 38 each formed by bending a band-like plate into a V-shape in a portion corresponding to every other inlet 35 in the circumferential direction.
(Detailed shapes are not shown). The support member 38 supports the straightening plate 34 at a predetermined height at the inner bottom of the lower cup 22a, and guides the air flow C flowing into the introduction port 35 along the circumferential direction on the lower surface side of the straightening plate 34. It is supposed to.

【0023】上記下カップ22aの底部には、支持部材
38が設けられていない部分の導入口35と対応する箇
所に、それぞれ排出口39が形成されている。各排出口
39には排出口体40が接続されている。排出口体40
には排出管41が接続され、各排出管41はタンク43
に連通している。このタンク43は上記カップ体21か
らの気体と液体を分離し、所定の箇所に排出するように
なっている。なお、タンク43には気体をクリ−ンル−
ムの外部に放散するための図示しない排気ポンプが接続
される。
A discharge port 39 is formed at the bottom of the lower cup 22a at a position corresponding to the introduction port 35 where the support member 38 is not provided. An outlet body 40 is connected to each outlet 39. Discharge body 40
Is connected to a discharge pipe 41, and each discharge pipe 41 is connected to a tank 43.
Is in communication with The tank 43 separates gas and liquid from the cup body 21 and discharges them to a predetermined location. The tank 43 is filled with gas cleanly.
An exhaust pump (not shown) for dissipating the heat to the outside of the system is connected.

【0024】上記下カップ22aの上端部には上記上カ
ップ22bが着脱自在に取着されている。この上カップ
22bは上記回転テ−ブル27と対応する部分が開放し
たリング状をなしていて、その下端部には上記下カップ
22aの上端縁に設けられたパッキング23の部分に液
密かつ着脱自在に係合取着される係合部44が形成され
ている。
The upper cup 22b is detachably attached to the upper end of the lower cup 22a. The upper cup 22b has a ring shape in which a portion corresponding to the rotary table 27 is open, and a lower end thereof is liquid-tight and detachably attached to a packing 23 provided on an upper edge of the lower cup 22a. An engaging portion 44 is formed to be freely engaged.

【0025】上記内カップ22cは外周面が凸曲面に形
成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カ
ップ22bの内面周辺部に取着された断面クランク状の
保持リング45に係合保持されている。つまり、上記内
カップ22cは上記回転テ−ブル27の周辺部分を覆う
状態で設けられている。それによって、上記回転テ−ブ
ル27の回転によって生じる空気流Cは上記内カップ2
2cの内面にガイドされて下カップ22aの底部方向へ
流れるようになっている。
The inner cup 22c has a ring shape in which the outer peripheral surface is formed into a convex curved surface, and the lower end thereof is connected to a holding ring 45 having a crank-shaped cross section attached to the inner peripheral portion of the upper cup 22b. Are held together. That is, the inner cup 22c is provided so as to cover the peripheral portion of the rotary table 27. Accordingly, the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is transferred to the inner cup 2.
It is guided by the inner surface of 2c and flows toward the bottom of the lower cup 22a.

【0026】上記上カップ22bの開口した上面には、
周縁部に上記上カップ22bの外周面に係合するフラン
ジ51aが形成された整流部材としての蓋体51が着脱
自在に設けられる。この蓋体51の径方向中心部分には
所定の直径の導入孔52が穿設されている。
On the open upper surface of the upper cup 22b,
A lid 51 as a rectifying member having a flange formed on its peripheral edge to engage with the outer peripheral surface of the upper cup 22b is detachably provided. An introduction hole 52 having a predetermined diameter is formed in a radially central portion of the lid 51.

【0027】上記カップ体21内で上記回転テ−ブル2
7が回転することで空気流Cが生じ、その空気流Cが排
出口39からタンク43へと流れると、その流れによっ
てカップ体21内が負圧になる。それによって、上記蓋
体51の導入孔52からカップ体21内へは外気Aが導
入される。この外気Aは基板20の上面の中心部分に流
入し、回転テ−ブル27の遠心力によって発生する上記
空気流Cによって基板20の上面に沿って径方向外方へ
流れ、排出口39から排出されることになる。
In the cup 21, the rotary table 2
The rotation of 7 generates an air flow C. When the air flow C flows from the outlet 39 to the tank 43, the flow causes a negative pressure in the cup 21. Thereby, outside air A is introduced into the cup body 21 from the introduction hole 52 of the lid body 51. The outside air A flows into the central portion of the upper surface of the substrate 20, flows radially outward along the upper surface of the substrate 20 by the air flow C generated by the centrifugal force of the rotating table 27, and is discharged from the outlet 39. Will be done.

【0028】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て回転テ−ブル27に供給された基板20を乾燥処理す
る場合について説明する。上カップ22bから蓋体51
を除去し、上記回転テ−ブル27に洗浄液によって洗浄
されて濡れた状態にある基板20を供給したならば、上
記蓋体51によって上カップ22bの開口を閉塞する。
なお、上カップ22bに対する蓋体51の着脱は手動あ
るいは自動のどちらで行うようにしてもよい。
Next, a description will be given of a case where the substrate 20 supplied to the rotary table 27 is dried by the spin processing apparatus having the above configuration. From the upper cup 22b to the lid 51
Is removed and the wettable substrate 20 which has been cleaned by the cleaning liquid is supplied to the rotary table 27. The lid 51 closes the opening of the upper cup 22b.
The attachment and detachment of the lid 51 to and from the upper cup 22b may be performed manually or automatically.

【0029】ついで、モ−タ25に通電して上記回転テ
−ブル27を回転駆動する。それによって、基板20に
付着した洗浄液に遠心力が作用するから、その遠心力で
洗浄液が基板20の上面から径方向外方へ飛散し、基板
20が乾燥処理される。基板20から除去された洗浄液
は、内カップ22cの内面に当たって滴下し、下カップ
22aの内底部に設けられた整流板34の導入口35か
ら排出口39および排出管41を通ってタンク43へ排
出される。
Then, the motor 25 is energized to rotate the rotary table 27. As a result, a centrifugal force acts on the cleaning liquid attached to the substrate 20, and the cleaning liquid is scattered radially outward from the upper surface of the substrate 20 by the centrifugal force, and the substrate 20 is dried. The cleaning liquid removed from the substrate 20 is dropped on the inner surface of the inner cup 22c and discharged from the inlet 35 of the rectifying plate 34 provided on the inner bottom of the lower cup 22a to the tank 43 through the outlet 39 and the outlet pipe 41. Is done.

【0030】一方、回転テ−ブル27が回転駆動されれ
ば、そのときの遠心力によって上記回転テ−ブル27の
回転方向と同方向で、基板20の中心部から径方向外方
に沿う空気流Cが発生する。回転テ−ブル27の回転に
よって生じた空気流Cは、図1に矢印で示すように内カ
ップ22cの内周面にガイドされて下方へ向かい、その
流れ方向に向いて開口した導入部37へ流入する。つま
り、空気流Cは、その流れ方向に対して所定の角度で曲
げ起こされたガイド板36にガイドされて整流板34に
形成された導入口35へ流入する。
On the other hand, if the rotary table 27 is driven to rotate, the centrifugal force at that time causes the air to flow radially outward from the center of the substrate 20 in the same direction as the rotation direction of the rotary table 27. A stream C is generated. The air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is guided downward by the inner peripheral surface of the inner cup 22c as shown by an arrow in FIG. 1, and flows downward to the introduction portion 37 opened in the flow direction. Inflow. That is, the air flow C is guided by the guide plate 36 bent and raised at a predetermined angle with respect to the flow direction, and flows into the introduction port 35 formed in the rectifying plate 34.

【0031】導入口35へ流入した空気流Cは整流板3
4の下面の支持部材38に沿って流れ、排出口39から
流出して排出管41を通り、タンク43を経て図示しな
い排気ポンプを介してクリ−ンル−ムの外部に放散され
る。
The air flow C that has flowed into the inlet 35 is
4 flows along the supporting member 38 on the lower surface, flows out from the discharge port 39, passes through the discharge pipe 41, and is radiated to the outside of the clean room through the tank 43 via the exhaust pump (not shown).

【0032】回転テ−ブル27の回転によって空気流C
が生じると、その空気流によってカップ体21内の少な
くとも基板20の上面側の部分が負圧になる。それによ
って、上カップ22bの開口を閉塞した蓋体51の導入
孔52からは外気Aが導入される。
The rotation of the rotary table 27 causes the air flow C
Is generated, at least a portion on the upper surface side of the substrate 20 in the cup body 21 becomes negative pressure due to the air flow. Thereby, the outside air A is introduced from the introduction hole 52 of the lid 51 that closes the opening of the upper cup 22b.

【0033】カップ体21内に導入された外気Aは基板
20の上面の中心部から径方向外方へ向かって流れ、回
転テ−ブル27の回転によって生じた空気流Cとともに
内カップ22cの内面にガイドされて排出口39からタ
ンク43へと流れる。
The outside air A introduced into the cup 21 flows radially outward from the center of the upper surface of the substrate 20, and together with the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27, the inner surface of the inner cup 22c. And flows from the discharge port 39 to the tank 43.

【0034】したがって、上記導入孔52からカップ体
21内へ導入される外気Aが基板20を乾燥させる乾燥
ガスとして作用するから、上記基板20を回転による遠
心力と相俟って効率よく乾燥させることになる。
Accordingly, since the outside air A introduced into the cup body 21 from the introduction hole 52 acts as a drying gas for drying the substrate 20, the substrate 20 is efficiently dried in combination with the centrifugal force caused by rotation. Will be.

【0035】しかも、回転テ−ブル27の回転によって
生じる空気流Cと、導入孔52から導入される外気Aと
は内カップ22cの内面に沿って下カップ22aへ円滑
にガイドされて排気される。
Further, the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 and the outside air A introduced from the introduction hole 52 are smoothly guided along the inner surface of the inner cup 22c to the lower cup 22a and exhausted. .

【0036】そのため、カップ体21内で乱流が発生し
にくいから、カップ体21内で発生したミストが基板2
0に付着したり、乾燥処理の前工程の洗浄工程でカップ
体21の内面に洗浄液に含まれた微粒子などの塵埃が付
着していても、その塵埃が舞い上がって上記基板20に
再付着することが防止される。
Therefore, turbulence does not easily occur in the cup 21, and the mist generated in the cup 21
Even if dust such as fine particles contained in the cleaning liquid adheres to the inner surface of the cup body 21 in the cleaning step before the drying process, the dust soars and re-adheres to the substrate 20. Is prevented.

【0037】上記カップ体21内に導入される外気Aの
流速は、回転テ−ブル27の回転速度が一定であれば、
導入孔52の大きさによって設定することができる。し
たがって、導入孔52の内径寸法を変えたり、導入孔5
2の数を変えるなどのことにより、外気の流速やカップ
体21内への導入位置など、基板20の乾燥速度に影響
を及ぼす条件を種々設定することができる。
The flow rate of the outside air A introduced into the cup body 21 is determined if the rotation speed of the rotary table 27 is constant.
It can be set according to the size of the introduction hole 52. Therefore, the inner diameter of the introduction hole 52 is changed,
By changing the number of 2 or the like, various conditions that affect the drying speed of the substrate 20, such as the flow rate of the outside air and the position of introduction into the cup 21, can be set.

【0038】なお、スピン処理装置はクリ−ンル−ムに
設置されているから、蓋体51の導入孔52からカップ
体21内へ導入される外気に塵埃が含まれることはほと
んどない。
Since the spin processing device is installed in a clean room, the outside air introduced into the cup 21 from the introduction hole 52 of the lid 51 hardly contains dust.

【0039】下記の表1は、回転テ−ブル27の回転数
を1600rpm に設定し、上カップ22bの上面開口を内径
50mmの導入孔52が穿設された蓋体51で閉塞した状態
と、蓋体51で閉塞せずに、開放した状態とで基板20
の乾燥処理を行ったときの乾燥状態を比較したものであ
る。なお、回転テ−ブル27の外形寸法は500mm で、上
カップ22bの開口端における内径寸法は700mm であ
る。
Table 1 below shows that the rotational speed of the rotary table 27 is set to 1600 rpm, and the upper opening of the upper cup 22b is
The substrate 20 is closed in a state in which the cover 51 is provided with a 50 mm introduction hole 52 and in an open state without being closed by the cover 51.
The comparison of the drying state when the drying process was performed. The outer dimensions of the rotary table 27 are 500 mm, and the inner diameter at the open end of the upper cup 22b is 700 mm.

【0040】表1における保持時間は、回転テ−ブル2
7の回転数が1600rpm に到達してからその回転数で回転
させた時間である。なお、乾燥状態は目視によって確認
した結果である。
The holding time in Table 1 is based on the rotation table 2
This is the time when the motor 7 was rotated at the rotation speed after the rotation speed reached 1600 rpm. In addition, the dry state is a result confirmed by visual observation.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】表1から分かるように、蓋体51を設けた
場合には、保持時間が5sec であっても基板20は確実
に乾燥されていた。これに対して蓋体51を設けない場
合には、保持時間が10sec までは基板20が確実に乾燥
せず、保持時間を15sec とすることで、基板20を確実
に乾燥させることができた。
As can be seen from Table 1, when the lid 51 was provided, the substrate 20 was surely dried even if the holding time was 5 seconds. On the other hand, when the lid 51 was not provided, the substrate 20 was not reliably dried until the holding time was 10 seconds, and the substrate 20 was surely dried by setting the holding time to 15 seconds.

【0043】以上のことから、蓋体51を設けること
で、設けない場合に比べて基板20の乾燥処理時間を大
幅に短縮できることが確認された。しかも、乾燥専用の
乾燥ガスを用いることなく乾燥させることができるた
め、ランニングコストがほとんどかからず、経済的であ
る。
From the above, it has been confirmed that the provision of the lid 51 can significantly reduce the drying time of the substrate 20 as compared with the case where the lid 51 is not provided. In addition, since the drying can be performed without using a drying gas exclusively for drying, the running cost is hardly required, and it is economical.

【0044】図3はこの発明の第2の実施の形態を示
す。なお、図1に示すスピン処理装置と同一部分には同
一記号を付して説明を省略する。つまり、この実施の形
態のスピン処理装置に設けられる整流部材は、上記第1
の実施の形態の蓋体51に代わり、基板20の対角寸法
と同等あるいはそれ以上の直径寸法を有する円盤状の整
流板61からなり、この整流板61の中心部分には所定
の内径寸法の導入孔62が穿設されている。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. The same parts as those of the spin processing apparatus shown in FIG. That is, the rectifying member provided in the spin processing device of the present embodiment is
Instead of the lid 51 of the embodiment, a disc-shaped rectifying plate 61 having a diameter equal to or larger than the diagonal size of the substrate 20 is provided, and a central portion of the rectifying plate 61 has a predetermined inner diameter. An introduction hole 62 is provided.

【0045】上記整流板61は回転テ−ブル27に保持
される基板20と対向して配置され、上下駆動機構63
によって図3に矢印で示す上下方向に駆動されるように
なっている。
The rectifying plate 61 is disposed so as to face the substrate 20 held by the rotary table 27, and has a vertical drive mechanism 63.
Thus, the motor is driven in a vertical direction indicated by an arrow in FIG.

【0046】つまり、上下駆動機構63は所定個所に固
定して設けられたベ−ス板64を有する。このベ−ス板
64の上面には架台65が立設されている。この架台6
5には上下端部がそれぞれ軸受66によって回転自在に
支持されたねじ軸67と、上下端部が固定されたガイド
軸68とが軸線を平行にして設けられている。
That is, the vertical drive mechanism 63 has a base plate 64 fixedly provided at a predetermined position. On the upper surface of the base plate 64, a gantry 65 is erected. This stand 6
5, a screw shaft 67 whose upper and lower ends are rotatably supported by bearings 66 and a guide shaft 68 to which the upper and lower ends are fixed are provided in parallel with each other.

【0047】上記ねじ軸67の下端部は軸受66から突
出し、その端部には継手69を介してモ−タ71の回転
軸72に連結されている。このモ−タ71は上記ベ−ス
板64の下面に設けられたブラケット73に保持され、
図示しない制御装置によって正転方向と逆転方向とに駆
動されるようになっている。
The lower end of the screw shaft 67 projects from the bearing 66, and the end is connected to the rotating shaft 72 of the motor 71 via a joint 69. The motor 71 is held by a bracket 73 provided on the lower surface of the base plate 64,
The control unit (not shown) is driven in the normal rotation direction and the reverse rotation direction.

【0048】上記ねじ軸67にはナット体74が螺合さ
れ、上記ガイド軸68にはスライダ75がスライド自在
に設けられ、これらナット体74とスライダ75とは連
結されている。したがって、上記モ−タ71が作動して
ねじ軸67が回転駆動されれば、その回転方向に応じて
上記ナット体74がねじ軸67に沿って上下動するか
ら、その動きにスライダ75が連動するようになってい
る。
A nut 74 is screwed onto the screw shaft 67, and a slider 75 is slidably provided on the guide shaft 68. The nut 74 and the slider 75 are connected. Therefore, when the motor 71 is operated and the screw shaft 67 is driven to rotate, the nut body 74 moves up and down along the screw shaft 67 in accordance with the rotation direction. It is supposed to.

【0049】上記スライダ75にはL字状のア−ム体7
6の基端部が連結されている。このア−ム体76の先端
部は上記整流板61の上面の一端部に連結されている。
したがって、ア−ム体76が上記スライダ75と一体的
に上下動し、その動きに上記整流板61が連動すること
で、この整流板61と基板20との対向間隔を調整でき
るようになっている。
The slider 75 has an L-shaped arm 7.
6 are connected to each other. The tip of the arm 76 is connected to one end of the upper surface of the current plate 61.
Accordingly, the arm body 76 moves up and down integrally with the slider 75, and the rectifying plate 61 interlocks with the movement, whereby the facing distance between the rectifying plate 61 and the substrate 20 can be adjusted. I have.

【0050】上記構成のスピン処理装置において、基板
20を乾燥処理する場合には、まず、上下駆動機構63
によって整流板61と基板20との対向間隔を設定す
る。ついで、モ−タ25を作動させて基板20とともに
回転テ−ブル27を回転させる。基板20を回転させる
ことで、その基板20に付着した洗浄液が遠心力で飛散
されるから、基板20が乾燥処理される。
In the spin processing apparatus having the above configuration, when the substrate 20 is subjected to the drying process, first, the vertical drive mechanism 63 is used.
The opposing distance between the rectifying plate 61 and the substrate 20 is set by the setting. Then, the motor 25 is operated to rotate the rotary table 27 together with the substrate 20. When the substrate 20 is rotated, the cleaning liquid attached to the substrate 20 is scattered by centrifugal force, so that the substrate 20 is dried.

【0051】一方、回転テ−ブル27を回転させれば、
そのときの遠心力によって図3に矢印Cで示すように、
基板20の回転方向と同方向で、基板20の中心部から
周辺部に向かう空気流が生じる。この空気流Cが生じる
ことで、基板20と整流板61との対向面間が負圧にな
るから、この対向面間には整流板61に形成された導入
孔62から同図に矢印Dで示すように外気が導入され
る。外気Dは基板20の上面中心部から径方向外方へ向
かって流れ、回転テ−ブル27の回転によって生じた空
気流Cとともに内カップ22cの内面にガイドされて排
出口39からタンク43へと流れる。
On the other hand, if the rotating table 27 is rotated,
Due to the centrifugal force at that time, as shown by arrow C in FIG.
In the same direction as the rotation direction of the substrate 20, an airflow is generated from the central portion of the substrate 20 to the peripheral portion. Since the air flow C causes a negative pressure between the opposing surfaces of the substrate 20 and the rectifying plate 61, the space between the opposing surfaces is introduced by an arrow D in FIG. Outside air is introduced as shown. The outside air D flows radially outward from the center of the upper surface of the substrate 20, and is guided by the inner surface of the inner cup 22 c together with the airflow C generated by the rotation of the rotary table 27, from the outlet 39 to the tank 43. Flows.

【0052】したがって、この実施の形態によれば、上
記第1の実施の形態と同様、外気Dが基板20を乾燥さ
せる乾燥ガスとして作用するから、基板20をそれに作
用する遠心力とで効率よく乾燥処理することができる。
Therefore, according to this embodiment, since the outside air D acts as a drying gas for drying the substrate 20, similarly to the first embodiment, the substrate 20 can be efficiently moved by the centrifugal force acting thereon. It can be dried.

【0053】上記整流板61は上下駆動機構63によっ
て上下方向の位置決め、つまり基板20との対向間隔を
設定することができる。したがって、基板20のサイズ
が変更され、その基板20が回転することで発生する遠
心力が変化しても、基板20と整流板61との対向間隔
を調整することで、基板20と整流板61との対向面間
に流入する外気Dの流量を一定に維持することができ
る。
The rectifying plate 61 can be positioned vertically by the vertical driving mechanism 63, that is, the distance between the rectifying plate 61 and the substrate 20 can be set. Therefore, even if the size of the substrate 20 is changed and the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 20 is changed, by adjusting the facing distance between the substrate 20 and the rectifying plate 61, the substrate 20 and the rectifying plate 61 are adjusted. Can be maintained at a constant flow rate of the outside air D flowing between the opposed surfaces.

【0054】たとえば、基板20のサイズが大きくなる
と、この基板20が回転テ−ブル27によって回転され
たときに発生する遠心力が大きくなる。遠心力が大きく
なると、空気流Cの流量が増大するから、カップ体21
内への外気Dの流入量も増大する。それによって、排出
管41から排出される排気量も増大することになるが、
通常、排気能力は一定であるから、外気Dの流入量が増
大すると円滑に排気されなくなり、カップ体21内での
空気流が乱流となり、乾燥時に発生する塵埃やミストが
舞い上がり、基板20に付着する虞がある。
For example, as the size of the substrate 20 increases, the centrifugal force generated when the substrate 20 is rotated by the rotating table 27 increases. When the centrifugal force increases, the flow rate of the air flow C increases.
The amount of outside air D flowing into the inside also increases. As a result, the amount of exhaust gas discharged from the discharge pipe 41 also increases,
Normally, since the exhaust capacity is constant, if the inflow of the outside air D increases, the exhaust is not smoothly exhausted, the air flow in the cup body 21 becomes turbulent, and dust and mist generated at the time of drying fly up, and There is a risk of adhesion.

【0055】そこで、基板20のサイズが変更になった
場合には、上述したように基板20と整流板61との対
向間隔を調整して外気Dの流入量が一定になるようにす
る。たとえば、基板20のサイズが大きくなった場合に
は、基板20と整流板61との対向間隔を大きくして外
気Dの流入量を少なくする。それによって、カップ体2
1からの排気が円滑に維持され、そのカップ体21内で
乱流が発生するのを防止できるから、塵埃やミストが舞
い上がって基板20に付着するのを阻止することができ
る。
Therefore, when the size of the substrate 20 is changed, as described above, the facing distance between the substrate 20 and the rectifying plate 61 is adjusted so that the inflow amount of the outside air D becomes constant. For example, when the size of the substrate 20 is increased, the facing distance between the substrate 20 and the rectifying plate 61 is increased to reduce the inflow of the outside air D. Thereby, the cup body 2
Since the exhaust air from the nozzle 1 is maintained smoothly and turbulence is prevented from being generated in the cup body 21, dust and mist can be prevented from rising and adhering to the substrate 20.

【0056】なお、基板20のサイズが 600mm× 800mm
で、回転テ−ブル27の回転数が1400r.p.m の場合、基
板20と整流板61との対向間隔は15〜50mm、導入孔6
2の内径寸法は50〜150mm 程度に設定することで、基板
20に塵埃やミストが付着することなく乾燥処理できる
ことが確認された。
The size of the substrate 20 is 600 mm × 800 mm.
When the rotation speed of the rotary table 27 is 1400 rpm, the facing distance between the substrate 20 and the rectifying plate 61 is 15 to 50 mm,
It was confirmed that by setting the inner diameter of the substrate 2 to about 50 to 150 mm, the substrate 20 could be dried without adhering dust or mist.

【0057】基板20と整流板61との対向面間に流れ
る外気Dの流速は、これらの対向間隔だけによって決定
されるものでなく、整流板61に形成される導入孔62
の内径寸法によっても変化する。つまり、導入孔62の
内径寸法を小さくすれば、外気Dの流速が大きくなり、
逆に導入孔62を大きくすれば流速が小さくなる。
The flow rate of the outside air D flowing between the opposing surfaces of the substrate 20 and the rectifying plate 61 is not determined only by the distance between these surfaces, but the introduction holes 62 formed in the rectifying plate 61.
Also varies depending on the inner diameter of the. That is, if the inner diameter of the introduction hole 62 is reduced, the flow rate of the outside air D increases,
Conversely, increasing the size of the introduction hole 62 decreases the flow velocity.

【0058】そのため、導入孔62の内径寸法を小さく
して基板20と整流板61との対向面間に流れる外気D
の流速量を速くすれば、基板20の乾燥時間を短縮する
ことができる。
Therefore, the inside diameter of the introduction hole 62 is reduced so that the outside air D flowing between the opposing surfaces of the substrate 20 and the rectifying plate 61 is reduced.
If the flow rate is increased, the drying time of the substrate 20 can be shortened.

【0059】したがって、上記整流板61をア−ム体7
6に対して着脱できる構成とし、基板20の所定の内径
寸法の導入孔52が形成された整流板61に交換できる
ようにすれば、乾燥時間を制御することができる。
Therefore, the rectifying plate 61 is connected to the arm 7
6, the drying time can be controlled if it can be replaced with a rectifying plate 61 in which an introduction hole 52 having a predetermined inner diameter of the substrate 20 is formed.

【0060】なお、回転テ−ブル27に基板20を着脱
する場合には、整流板61を図3に鎖線で示すようにカ
ップ体21の上方へ退避させ、図示しないロボットのハ
ンドをカップ体21内へ出し入れして行うようにすれば
よい。
When the substrate 20 is to be attached to or detached from the rotary table 27, the current plate 61 is retracted above the cup 21 as shown by a chain line in FIG. What is necessary is just to take in and out.

【0061】[0061]

【発明の効果】請求項1ないし請求項3の発明によれ
ば、回転テ−ブルと対向して中心部分に導入孔が形成さ
れた整流部材を配置し、基板を乾燥処理するために回転
テ−ブルを回転駆動すると、その回転によって発生する
気流で上記導入孔から基板と整流部材との対向面間に外
気が導入されるようにした。
According to the first to third aspects of the present invention, the rectifying member having the introduction hole formed in the center portion is disposed opposite to the rotary table, and the rotary table is used for drying the substrate. When the table is driven to rotate, external air is introduced into the space between the substrate and the rectifying member from the introduction hole by an airflow generated by the rotation of the table.

【0062】そのため、上記導入孔から基板と整流板と
の対向面間に導入される外気の流れによって基板を短時
間で確実に乾燥させることが可能となるばかりか、乾燥
専用の乾燥ガスを必要としないから、ランニングコスト
の低減を計ることができる。
Therefore, not only can the substrate be reliably dried in a short time by the flow of the outside air introduced between the opposing surfaces of the substrate and the rectifying plate from the introduction hole, but also a drying gas dedicated to drying is required. Therefore, it is possible to reduce the running cost.

【0063】しかも、請求項3の発明によれば、整流部
材を上下駆動機構によって上下動させることで、この整
流部材と基板との対向間隔を調整できるようにしたか
ら、たとえば基板のサイズが変更になった場合などに整
流部材と基板との対向間隔を調整することで、カップ体
内に導入される外気の量が排気能力以上になるのを抑制
できる。
Further, according to the third aspect of the present invention, the rectifying member is moved up and down by the vertical drive mechanism so that the facing distance between the rectifying member and the substrate can be adjusted. By adjusting the facing distance between the rectifying member and the substrate in the case where the airflow is reduced, it is possible to suppress the amount of outside air introduced into the cup from exceeding the exhaust capacity.

【0064】そのため、カップ体内からの排気が円滑に
行われるため、カップ体内で乱流が生じてミストや塵埃
が舞い上がり、基板に付着するの防止することができ
る。請求項4の発明によれば、回転テ−ブルの回転によ
って上記カップ体内で発生する気流は、カップ体内に設
けられた内カップによって底部の方向へガイドされて排
出口から排出される。
As a result, since the exhaust from the cup body is performed smoothly, turbulence occurs in the cup body, so that mist and dust soar up and can be prevented from adhering to the substrate. According to the fourth aspect of the present invention, the air flow generated in the cup body by the rotation of the rotary table is guided toward the bottom by the inner cup provided in the cup body, and is discharged from the discharge port.

【0065】そのため、カップ体内へ外気を導入して
も、このカップ体内で乱流が生じるのが防止されるか
ら、そのことによっても基板の乾燥効率を向上させるこ
とができ、さらにはカップ体の内面に塵埃が付着した
り、乾燥処理時にミストが発生しても、それらが舞い上
がって基板に付着するのが防止される。
As a result, even if outside air is introduced into the cup, turbulence is prevented from being generated in the cup, thereby improving the drying efficiency of the substrate. Even if dust adheres to the inner surface or mist is generated during the drying process, they are prevented from rising and adhering to the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施の形態のスピン処理装置
を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a spin processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同じく蓋体の平面図。FIG. 2 is a plan view of the lid.

【図3】この発明の第2の実施の形態のスピン処理装置
を示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a spin processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…基板 21…カップ体 22c…内カップ 25…駆動源 26…駆動軸 27…回転テ−ブル 39…排出口 51…蓋体(整流部材) 52、62…導入孔 61…整流板(整流部材) 63…上下駆動機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Board 21 ... Cup 22c ... Inner cup 25 ... Driving source 26 ... Drive shaft 27 ... Rotary table 39 ... Discharge port 51 ... Lid (rectifying member) 52, 62 ... Introducing hole 61 ... Rectifying plate (rectifying member) 63) Vertical drive mechanism

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小松 正幸 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 磯 明典 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masayuki Komatsu 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Ofuna Plant of Shibaura Works (72) Inventor Akinori Iso, 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 1 share Shibaura Plant Ofuna Factory

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を回転させることで、この基板を乾
燥処理するスピン処理装置において、 上面が開口したカップ体と、 このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源に
よって回転駆動される駆動軸と、 この駆動軸に設けられ上記基板を保持して上記駆動軸と
ともに回転する回転テ−ブルと、 上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設され
るとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆
動されることで発生する気流によって上記カップ体の外
部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導入す
る導入孔を有する板状の整流部材とを具備したことを特
徴とするスピン処理装置。
In a spin processing apparatus for drying a substrate by rotating the substrate, a cup body having an open upper surface, and a cup body inserted through a bottom center portion of the cup body and driven to rotate by a drive source. A drive shaft, a rotary table provided on the drive shaft for holding the substrate and rotating together with the drive shaft, and a central portion disposed opposite to the substrate held on the rotary table and facing the substrate. A plate-shaped rectifying member having an introduction hole for introducing a gas outside the cup body at a predetermined speed between the surfaces facing the substrate by an air current generated by rotating the rotation table. A spin processing device comprising:
【請求項2】 上記整流部材は、上記カップ体にこの上
面開口を閉塞する状態で着脱自在に設けられることを特
徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
2. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein the rectifying member is detachably provided on the cup body so as to close the upper opening.
【請求項3】 上記整流部材は、上下駆動機構によって
上記回転体に保持された基板との対向間隔の調整自在に
設けられていることを特徴とする請求項1記載のスピン
処理装置。
3. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein the rectifying member is provided so as to be capable of adjusting an interval between the rectifying member and a substrate held by the rotating body by a vertical driving mechanism.
【請求項4】 上記カップ体の内部には、上記回転テ−
ブルが回転駆動されることで、このカップ体内で発生す
る気流をカップ体の底部に向けてガイドする内カップが
設けられ、カップ体の底部にはその気流を排出する排出
口が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載のスピン処理装置。
4. The rotating tape is provided inside the cup body.
When the bull is driven to rotate, an inner cup that guides the airflow generated in the cup body toward the bottom of the cup body is provided, and a discharge port that discharges the airflow is formed at the bottom of the cup body. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein
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