JPH07185445A - Rotary coating device - Google Patents

Rotary coating device

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JPH07185445A
JPH07185445A JP35022793A JP35022793A JPH07185445A JP H07185445 A JPH07185445 A JP H07185445A JP 35022793 A JP35022793 A JP 35022793A JP 35022793 A JP35022793 A JP 35022793A JP H07185445 A JPH07185445 A JP H07185445A
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cup
substrate
cleaning liquid
mist
rotary
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Koji Kizaki
幸治 木▲崎▼
Kenichi Terauchi
健一 寺内
Masahiro Mimasaka
昌宏 美作
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent contamination from generating due to a coating liquid mist near the exhaust port of a cup. CONSTITUTION:An annular current rectifying member consisting of a current rectifying plate 55 and a bottom plate 35 is installed inside a cup 22, with an opening part 32 running along the inner circumference of the cup 22. One end of an exhaust pipe 30 is conneced to the bottom plate 35. As the air in the cup 22 is exhausted from the opening part 32, the current of the air following the exhaust is hardly allowed to spread as far as the lower surface of a rotary table 6. For this reason, it is possible to inhibit the attachment of the mist to the lower surface of the rotary table 6. Further, a cleaning liquid 53 is discharged toward the upper surface of the current rectifying plate 55 from a cleaning Liquid discharge nozzle 52 provided in the current rectifying plate. Consequently, the mist can be prevented from accumulating on the inner wall of the current rectifying plate 55 which is always exposed to an exhaust gas containing the mist. Thus the normal functioning of the current rectifying member contributes to the constant inhibition of a contamination near the exhaust port of the cup.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えば液晶表示パネ
ル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造用のマス
ク基板などの基板(以下、単に「基板」という)の表面
に、例えばフォトレジスト液などの塗布液を塗布するた
めの回転式塗布装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface of a substrate (hereinafter simply referred to as "substrate") such as a glass substrate for a liquid crystal display panel, a semiconductor wafer, a mask substrate for semiconductor production, etc. The present invention relates to a rotary type coating device for coating the coating liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、この種の回転式塗布装置とし
ては、例えば特開平4−61955号公報に記載された
ものがある。図9は、その公報に記載された回転式塗布
装置を示す断面図である。図10は、図9の回転式塗布
装置の部分拡大図である。この回転式塗布装置では、基
板60を水平に支持しつつ回転させる回転台62が設け
られている。この回転台62には、基板支持ピン64が
立設されるとともに、基板60の四隅に係合する係合ピ
ン66が設けられており、基板支持ピン64で基板60
を水平支持した状態で基板60を回転台62と一体に回
転することができるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a rotary coating apparatus of this type, there is one described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-61955. FIG. 9 is a sectional view showing the rotary coating device described in that publication. FIG. 10 is a partially enlarged view of the rotary coating apparatus of FIG. This rotary coating apparatus is provided with a rotary table 62 that rotates the substrate 60 while supporting it horizontally. Substrate support pins 64 are provided upright on the turntable 62, and engagement pins 66 that engage with the four corners of the substrate 60 are provided.
The substrate 60 can be rotated integrally with the turntable 62 in a state where the substrate is horizontally supported.

【0003】また、回転台62に支持された基板60の
上方位置に上部回転板68が配置され、さらに上部支持
板70,リングプレート72及びスペーサ74を介して
回転台62と連結されている。そして、図10に示すよ
うに、リングプレート72とスペーサ74との間及びス
ペーサ74と回転台62との間に、座金76が介挿され
て、隙間78が形成されている。そして、回転台62上
に基板60を載置し、さらにその基板60の上面中央部
に塗布液を滴下した後、上部回転板68を降下させて基
板60上面と近接した状態とし、その基板60を搭載し
た状態のままで回転台62を回転させることによって塗
布液を拡張離散させて、均一な薄膜を基板60の上面に
形成することができる。
An upper rotary plate 68 is arranged above the substrate 60 supported by the rotary base 62, and is further connected to the rotary base 62 via an upper support plate 70, a ring plate 72 and a spacer 74. Then, as shown in FIG. 10, a washer 76 is inserted between the ring plate 72 and the spacer 74 and between the spacer 74 and the turntable 62 to form a gap 78. Then, the substrate 60 is placed on the turntable 62, the coating liquid is dropped on the central portion of the upper surface of the substrate 60, and then the upper rotary plate 68 is lowered to bring it into a state of being close to the upper surface of the substrate 60. By rotating the rotary table 62 while the substrate is mounted, the coating liquid can be expanded and dispersed, and a uniform thin film can be formed on the upper surface of the substrate 60.

【0004】このとき、基板60を水平支持した状態で
回転台62を回転させると、同図の点線に示すごとく、
この隙間78を介して余剰の塗布液が外部に流出されて
飛散する。
At this time, when the turntable 62 is rotated while the substrate 60 is horizontally supported, as shown by the dotted line in FIG.
Excess coating liquid flows out and scatters through this gap 78.

【0005】なお、図9の回転式塗布装置では、回転台
62の周囲を囲うカップとして廃液回収ケース80を設
け、上記のようにして隙間78から飛散した塗布液が廃
液回収ケース80にて回収されるように構成されてい
る。この廃液回収ケース80の底部には、回収された塗
布液を外部へ排出するための廃液排出口が開口してい
る。また、廃液回収ケース80が囲む空間には排気口が
連通しており、装置内部の空気がこの排気口を通じて外
部へ排気される。その結果、塗布液から蒸発した溶剤ガ
スや塗布液ミストが装置の内部に長期間漂うことなく外
部へ排気されるので、これらのミスト等が装置の各部に
付着して乾燥固化した後、塵埃となって基板60を汚染
することを抑制することができる。
In the rotary coating apparatus of FIG. 9, a waste liquid collecting case 80 is provided as a cup surrounding the rotary table 62, and the coating liquid scattered from the gap 78 as described above is collected in the waste liquid collecting case 80. It is configured to be. At the bottom of the waste liquid collection case 80, a waste liquid discharge port for discharging the collected coating liquid to the outside is opened. Further, an exhaust port communicates with the space surrounded by the waste liquid recovery case 80, and the air inside the device is exhausted to the outside through this exhaust port. As a result, the solvent gas evaporated from the coating liquid and the coating liquid mist are exhausted to the outside without drifting inside the device for a long period of time, and after these mists adhere to each part of the device and dry and solidify, they become dusty. Therefore, the contamination of the substrate 60 can be suppressed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では以下のような問題点があった。すなわち、廃液
回収ケースに連通する排気口から内部の空気とともに溶
剤ガスや塗布液ミストが装置の外部へ排気される過程
で、空気の流れに乗って運ばれたこれらのミストが排気
口近傍に付着してしまうことがある。排気口近傍に付着
したこれらのミストは、廃液回収ケース80内が排気さ
れるにつれて溶剤成分が揮発して粘度が高まり、除去す
るのが困難になる。その結果、排気口からの排気の妨げ
となったり、付着したミストなどが乾燥固化した後に塵
埃となって、排気を停止した際等に空気中に漂うなどの
ため、基板60に付着し基板60を汚染する要因となっ
ていた。
However, the conventional device has the following problems. In other words, in the process of exhausting solvent gas and coating liquid mist along with the internal air from the exhaust port communicating with the waste liquid recovery case to the outside of the device, these mists carried by the air flow adhere to the vicinity of the exhaust port. I may end up doing it. These mists adhering to the vicinity of the exhaust port are difficult to remove because the solvent component volatilizes and the viscosity increases as the inside of the waste liquid recovery case 80 is exhausted. As a result, the exhaust from the exhaust port is obstructed, or the attached mist or the like becomes dust after drying and solidifying and drifts in the air when the exhaust is stopped. Had become a factor that pollutes.

【0007】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、排気口近傍に処理液のミストが付着、固
化してしまうのを防止し、基板の汚染を防止でき、か
つ、回転台の周囲を囲うカップ内を清浄な状態に保つこ
とができる回転式塗布装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made to solve the above problems, and prevents the mist of the processing liquid from adhering to and solidifying in the vicinity of the exhaust port, preventing the substrate from being contaminated, and rotating the turntable. An object of the present invention is to provide a rotary coating device capable of keeping the inside of the cup surrounding the container clean.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明にかかる回転式
塗布装置は、基板を回転させつつ当該基板の表面に塗布
液を塗布する装置であって、基板を水平支持した状態で
回転させる回転台と、回転台の外周側方を取り囲む外周
部と、回転台の回転中心近傍において回転台下面を取り
囲む内周部とを有し、基板表面に供給された塗布液の外
部への飛散を防止するカップと、カップの内周部に開口
する排気口を有し、カップ内の排気を行う排気手段と、
カップの内周部に形成された排気口を覆うようにカップ
の内周部に近接して配置され、かつカップ内に開口する
開口部が形成された整流板と、整流板とカップの内周部
とによって囲まれる領域に配置され、整流板の内壁に向
けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、を備える。
A rotary coating apparatus according to the present invention is an apparatus for coating a coating liquid on the surface of a substrate while rotating the substrate, which is a rotary table for rotating the substrate while horizontally supporting it. And an outer peripheral portion that surrounds the outer peripheral side of the rotary table and an inner peripheral portion that surrounds the lower surface of the rotary table near the center of rotation of the rotary table, and prevents the coating liquid supplied to the substrate surface from scattering to the outside. An exhaust means for exhausting the inside of the cup, having an exhaust port opening to the cup and the inner peripheral portion of the cup;
A straightening vane that is arranged close to the inner circumferential portion of the cup so as to cover the exhaust port formed on the inner circumferential portion of the cup and that has an opening that opens into the cup; and the inner circumferential surface of the straightening vane and the cup. And a cleaning liquid nozzle that discharges the cleaning liquid toward the inner wall of the straightening vane.

【0009】[0009]

【作用】この発明の回転式塗布装置では、カップの内周
部に形成された排気口を介し、整流板の近傍からカップ
内の空気が排気される。整流板の内壁は、塗布液ミスト
を含んだ排気に常時曝されるので、この内壁に塗布液ミ
ストが付着し易くなっているが、洗浄液ノズルが整流板
の内壁に向けて洗浄液を吐出するので、整流板の内壁に
付着した処理液ミストは洗浄除去される。このため、こ
の発明の装置では、整流板の内壁におけるミストの固化
を防止し得るとともに、整流板、排気手段の正常な機能
が常時保証される。その結果、整流板の汚染が抑制さ
れ、また整流板の内壁に付着・固化したミストによる基
板の汚染が防止されるとともに、装置各部の塗布液ミス
トによる汚染が常時抑制される。
In the rotary coating apparatus of the present invention, the air in the cup is exhausted from the vicinity of the current plate through the exhaust port formed in the inner peripheral portion of the cup. Since the inner wall of the straightening vane is constantly exposed to the exhaust gas containing the coating liquid mist, the coating liquid mist easily adheres to this inner wall, but since the cleaning liquid nozzle discharges the washing liquid toward the inner wall of the straightening plate. The treatment liquid mist attached to the inner wall of the straightening vane is washed away. Therefore, in the device of the present invention, the mist can be prevented from solidifying on the inner wall of the straightening vane, and the normal functions of the straightening vane and the exhaust means are always guaranteed. As a result, the contamination of the rectifying plate is suppressed, the substrate is prevented from being contaminated by the mist adhered and solidified on the inner wall of the rectifying plate, and the contamination by the coating liquid mist of each part of the apparatus is always suppressed.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

<1.第1実施例> <1. First embodiment>

【0011】はじめに、この発明の第1実施例の装置に
ついて説明する。
First, the apparatus of the first embodiment of the present invention will be described.

【0012】<1-1 .装置の全体構成><1-1. Overall configuration of device>

【0013】図1は、第1実施例における回転式塗布装
置の断面図である。この回転式塗布装置では、例えば角
形の基板2を搭載でき、しかも回転軸4回りに回転自在
な回転台6が設けられている。すなわち、回転軸4に沿
って回転シャフト8が垂設されており、その上端に連結
ボス10を介して回転台6が水平に取り付けられる一
方、その下端に図示を省略するモータが連結されてい
る。また、この回転台6の上面側に基板支持用のピン1
4が複数本突設されて基板2裏面を支持するとともに、
回転台6に立設された4組の係合ピン16が基板2の四
隅と係合されて基板2を水平固定する。このように、回
転台6では、基板2を水平に支持しながら回転軸4回り
に水平回転させることができるようになっている。
FIG. 1 is a sectional view of a rotary type coating apparatus according to the first embodiment. In this rotary coating apparatus, for example, a rectangular substrate 2 can be mounted, and a rotary table 6 that is rotatable around a rotary shaft 4 is provided. That is, a rotary shaft 8 is vertically provided along the rotary shaft 4, and a rotary base 6 is horizontally attached to an upper end of the rotary shaft 8 via a connecting boss 10, and a motor (not shown) is connected to a lower end thereof. . Further, the pin 1 for supporting the substrate is provided on the upper surface side of the turntable 6.
A plurality of 4 are projected to support the back surface of the substrate 2 and
Four sets of engagement pins 16 erected on the rotary table 6 are engaged with the four corners of the board 2 to horizontally fix the board 2. Thus, the turntable 6 can horizontally rotate the substrate 2 while supporting the substrate 2 horizontally.

【0014】また、回転台6の上方側では、上部回転板
18が回転台6に支持された基板2と所定間隔を隔てた
上方位置に平行配置されている。なお、この上部回転板
18は、図示しない昇降手段により上下方向に移動自在
であり、下降時には後述するスペーサ20と嵌合して、
回転台6,スペーサ20と一体化した状態で回転軸4回
りに回転するようになっている。
On the upper side of the rotary table 6, an upper rotary plate 18 is arranged in parallel with the substrate 2 supported by the rotary table 6 at a predetermined distance above the substrate 2. It should be noted that the upper rotary plate 18 can be moved in the vertical direction by an elevating means (not shown).
It is adapted to rotate around the rotary shaft 4 while being integrated with the rotary table 6 and the spacer 20.

【0015】また、回転台6のまわりには、環状のカッ
プ22が配置されている。このカップ22は、回転台6
の外周下方位置に配置された内カップ24と、回転台6
の外周側方に配置された外カップ26とで構成されてい
る。カップ22の底部には、廃液を排出するための廃液
排出口28が設けられている。
An annular cup 22 is arranged around the rotary table 6. This cup 22 is a turntable 6
The inner cup 24 arranged at a position below the outer periphery of the rotary table 6
And an outer cup 26 disposed on the outer peripheral side of the. The bottom of the cup 22 is provided with a waste liquid discharge port 28 for discharging the waste liquid.

【0016】さらに、内カップ24の内側には、その内
周に沿って整流板55と底板35で構成される整流部材
が環状に配設されている。この整流部材は、その内部に
環状の排気通路45を規定する。また整流部材は内カッ
プ24の内周に沿って開口する開口部32を有してお
り、排気通路45はこの開口部32を介してカップ22
内の空間と連通している。さらに、底板35には4箇所
に排気口34が開口しており、この排気口34には排気
管30の一端が接続されている。排気管30の内部に規
定される空間は、この排気口34を介して排気通路45
に連通している。排気管30の他の一端は開閉バルブ3
9を介して吸引ポンプ38へ接続されている。なお、底
板35の内側には底板31が一体に接続されており、こ
の底板31と整流板55とはともに一定の空隙をもって
回転台6の下面を覆っている。
Further, inside the inner cup 24, a rectifying member composed of a rectifying plate 55 and a bottom plate 35 is annularly arranged along the inner periphery thereof. The straightening member defines an annular exhaust passage 45 therein. Further, the rectifying member has an opening 32 that opens along the inner circumference of the inner cup 24, and the exhaust passage 45 has the opening 22 through which the cup 22 passes.
It communicates with the inner space. Further, the bottom plate 35 is provided with exhaust ports 34 at four locations, and one end of the exhaust pipe 30 is connected to the exhaust ports 34. The space defined inside the exhaust pipe 30 has an exhaust passage 45 through the exhaust port 34.
Is in communication with. The other end of the exhaust pipe 30 has an opening / closing valve 3
It is connected to the suction pump 38 via 9. A bottom plate 31 is integrally connected to the inside of the bottom plate 35, and the bottom plate 31 and the flow straightening plate 55 both cover the lower surface of the rotary table 6 with a certain gap.

【0017】図2は、図1の回転式塗布装置の部分拡大
図である。同図に示すように、回転台6の上面の外周部
に環状のスペーサ20が配置されている。そして、スペ
ーサ20は回転台6と図示を省略する連結部材によって
連結して取り付けられ、回転台6とスペーサ20との間
に余剰の塗布液を外部に流出するための流出経路48が
形成されている。一方、上部回転板18はピンPのはめ
合いによってスペーサ20に対して着脱自在となってお
り、上部回転板18が下降してスペーサ20に装着され
ると、これら回転台6,上部回転板18及びスペーサ2
0とで基板2への塗布処理を行う半密閉空間Sが形成さ
れる。
FIG. 2 is a partially enlarged view of the rotary coating apparatus of FIG. As shown in the figure, an annular spacer 20 is arranged on the outer peripheral portion of the upper surface of the turntable 6. The spacer 20 is attached by being connected to the rotary table 6 by a connecting member (not shown), and an outflow path 48 is formed between the rotary table 6 and the spacer 20 for outflowing the excess coating liquid to the outside. There is. On the other hand, the upper rotary plate 18 is attachable / detachable to / from the spacer 20 by fitting the pins P. When the upper rotary plate 18 descends and is mounted on the spacer 20, the rotary base 6 and the upper rotary plate 18 are attached. And spacer 2
With 0, a semi-enclosed space S for applying the substrate 2 is formed.

【0018】<1-2 .整流板洗浄機構の構成><1-2. Configuration of baffle plate cleaning mechanism>

【0019】この装置は、整流板洗浄機構を備えてい
る。すなわち、図1および図2に示されるように、整流
部材を構成する底板35には、洗浄液吐出ノズル52が
設置されている。この洗浄液吐出ノズル52は、排気口
34の上方を覆うように設けられる整流部材の内壁、す
なわち整流板55の内壁に向かって、洗浄液53を噴出
口52aの先端から吐出する。洗浄液吐出ノズル52に
は連結管51の一端が接続されており、この連結管51
の他の一端は開閉バルブ50を介して洗浄液供給源48
へ接続されている。洗浄液供給源48が送出する洗浄液
53は、開閉バルブ50および連結管51を通過して洗
浄液吐出ノズル52へと供給される。
This apparatus is equipped with a straightening plate cleaning mechanism. That is, as shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning liquid discharge nozzle 52 is installed on the bottom plate 35 that constitutes the flow regulating member. The cleaning liquid ejection nozzle 52 ejects the cleaning liquid 53 from the tip of the ejection port 52a toward the inner wall of the rectifying member provided so as to cover the upper portion of the exhaust port 34, that is, the inner wall of the rectifying plate 55. One end of a connecting pipe 51 is connected to the cleaning liquid discharge nozzle 52.
The other end of the cleaning liquid supply source 48 is connected via an opening / closing valve 50.
Connected to. The cleaning liquid 53 delivered from the cleaning liquid supply source 48 passes through the opening / closing valve 50 and the connecting pipe 51 and is supplied to the cleaning liquid discharge nozzle 52.

【0020】図3は、洗浄液吐出ノズル52の斜視図で
ある。洗浄液吐出ノズル52は環状の本体部とその上面
に配列する噴出口52aとを有する。連結管51の一端
はこの本体部の底面に開口しており、連結管51から供
給される洗浄液53は、本体部の内部に規定される環状
経路を通過した後、噴出口52aの先端部から吐出され
る。なお、図3に示す洗浄液吐出ノズル52は、排気口
34の内側に配設されている。
FIG. 3 is a perspective view of the cleaning liquid discharge nozzle 52. The cleaning liquid discharge nozzle 52 has an annular main body and an ejection port 52a arranged on the upper surface thereof. One end of the connecting pipe 51 is opened at the bottom surface of the main body portion, and the cleaning liquid 53 supplied from the connecting pipe 51 passes through the annular path defined inside the main body portion and then from the tip end portion of the ejection port 52a. Is ejected. The cleaning liquid discharge nozzle 52 shown in FIG. 3 is arranged inside the exhaust port 34.

【0021】<1-3 .装置の動作><1-3. Device operation>

【0022】次に、上記のように構成された回転式塗布
装置の動作について説明する。まず、図1の1点鎖線に
示すように、上部回転板18を持ち上げて、中央開口を
大きく開放し、基板2を基板支持用ピン14上に水平に
搭載して、回転台6への基板セットを完了する。
Next, the operation of the rotary coating apparatus having the above-mentioned structure will be described. First, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. 1, the upper rotary plate 18 is lifted to open the central opening greatly, and the substrate 2 is horizontally mounted on the substrate supporting pins 14, and the substrate for the turntable 6 is mounted. Complete the set.

【0023】それに続いて、塗布液供給用ノズル46
を、図1の1点鎖線に示すように、中央開口の中央に移
動させるとともに、基板2上の適当な高さまで下降させ
る。そして、所定量の塗布液を基板2の上面中央部に滴
下する。こうして、基板2への塗布液の供給が行われ
る。
Subsequently, the coating liquid supply nozzle 46
Is moved to the center of the central opening and is lowered to an appropriate height on the substrate 2, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. Then, a predetermined amount of the coating liquid is dropped on the central portion of the upper surface of the substrate 2. In this way, the coating liquid is supplied to the substrate 2.

【0024】その後、塗布液供給用ノズル46を適当な
場所に退避させた上で、上部回転板18をスペーサ20
に装着固定して、回転塗布の準備を完了する。そして、
図示を省略するモータを駆動して、基板2を水平支持し
た状態のままで、回転台6,スペーサ20及び上部回転
板18を一体的に高速回転させる(回転数N=N3 )。
この回転によって、基板2上の塗布液が外方に拡散して
基板2上面に薄く塗布される。このとき、図2の点線に
示すように、遠心力Fにより塗布液の一部が余剰塗布液
として回転台6とスペーサ20の隙間、つまり流出経路
48を通過して、回転台6から周囲へ飛散する。飛散し
た余剰塗布液は、カップ22によって捕捉されるので、
装置の外部へ飛散することはない。
After that, the coating liquid supply nozzle 46 is retracted to an appropriate place, and the upper rotary plate 18 is attached to the spacer 20.
Attach and fix to and complete the preparation for spin coating. And
A motor (not shown) is driven to rotate the rotary table 6, the spacer 20 and the upper rotary plate 18 at a high speed integrally while keeping the substrate 2 horizontally supported (rotation speed N = N3).
By this rotation, the coating liquid on the substrate 2 is diffused outward and is applied thinly on the upper surface of the substrate 2. At this time, as shown by the dotted line in FIG. 2, a part of the coating liquid as a surplus coating liquid passes through the gap between the rotary table 6 and the spacer 20, that is, the outflow path 48 by the centrifugal force F, and then from the rotary table 6 to the surroundings. Scatter. Since the excess coating liquid that has been scattered is captured by the cup 22,
It does not scatter to the outside of the device.

【0025】基板2への回転塗布が完了すると、回転台
6の回転を停止させる。その後、上部回転板18を上方
向に移動させた後(図1の1点鎖線)、塗布処理を完了
した基板2を回転台6から取り出す。
When the spin coating on the substrate 2 is completed, the rotation of the turntable 6 is stopped. After that, the upper rotary plate 18 is moved upward (one-dot chain line in FIG. 1), and then the substrate 2 on which the coating process is completed is taken out from the rotary table 6.

【0026】基板2への処理が行われる間は、吸引ポン
プ38が動作し、開閉バルブ39が開状態に設定され
る。このため、カップ22内の空気が、開口部32、排
気通路45、排気口34、および排気管30を順に通過
することによって排気される。カップ22内の空気が排
気されるのにともなって、塗布液から蒸発した溶剤ガス
や塗布液ミストが排気除去される。このため、ミスト等
が装置の各部に付着し、乾燥・固化した後、これが塵埃
となって基板2を汚染することを抑制することができ
る。特に、整流部材が設けられているために、カップ2
2の内部の空気の排気がカップ22の内周に開口する開
口部32を介して行われるので、排気にともなう空気の
流れが回転台6の下面に回り込み難い。このため、ミス
ト等が回転台6の下面に付着することを抑えることがで
きるという利点がある。
While the substrate 2 is being processed, the suction pump 38 operates and the open / close valve 39 is set to the open state. Therefore, the air in the cup 22 is exhausted by sequentially passing through the opening 32, the exhaust passage 45, the exhaust port 34, and the exhaust pipe 30. As the air in the cup 22 is exhausted, the solvent gas evaporated from the coating liquid and the coating liquid mist are exhausted and removed. Therefore, it is possible to prevent the mist or the like from adhering to each part of the apparatus, drying and solidifying, and then becoming dust and contaminating the substrate 2. Especially, since the rectifying member is provided, the cup 2
Since the air in the inside of 2 is exhausted through the opening 32 that opens to the inner circumference of the cup 22, the air flow accompanying the exhaust is unlikely to go around to the lower surface of the turntable 6. Therefore, there is an advantage that mist and the like can be prevented from adhering to the lower surface of the rotary table 6.

【0027】一方、排気通路45を規定する整流板55
の内壁は、ミスト等を含んだ排気に常時曝されるので、
この内壁にミスト等が付着し易い。先述の整流板洗浄機
構は、基板2の汚染をもたらす整流板55の内壁への付
着物の除去を行うために設けられている。すなわち、1
枚ないし一定数量の基板2の処理が終了する毎に、ある
いは一連の基板2の処理が終了する毎に、整流板洗浄機
構を用いて整流板55の内壁の洗浄が行われる。すなわ
ち、開閉バルブ50を開放することにより、洗浄液53
が洗浄液吐出ノズル52へ供給する。その結果、洗浄液
53が整流板55の内壁へ吐出される。この洗浄液53
は、整流板55の内壁に浸潤し、この内壁に付着した塗
布液ミストなどの付着物54を溶解する。洗浄液53お
よび溶解した付着物54は、開口部32を通ってカップ
22へと排出される。これによって、整流板55の内壁
から付着物54が洗浄・除去される。洗浄液53および
付着物54が、開口部32へと容易に排出されるよう
に、整流板55の上面は開口部32に近いほど低くなる
ように傾斜している。
On the other hand, a straightening plate 55 that defines the exhaust passage 45.
Since the inner wall of is constantly exposed to exhaust gas containing mist,
Mist or the like is easily attached to the inner wall. The rectifying plate cleaning mechanism described above is provided to remove the deposits on the inner wall of the rectifying plate 55 that causes contamination of the substrate 2. Ie 1
The inner wall of the straightening vane 55 is cleaned using the straightening vane cleaning mechanism every time the processing of one or a certain number of substrates 2 is completed, or every time the series of processing of the substrates 2 is completed. That is, by opening the opening / closing valve 50, the cleaning liquid 53
Is supplied to the cleaning liquid discharge nozzle 52. As a result, the cleaning liquid 53 is discharged to the inner wall of the straightening vane 55. This cleaning liquid 53
Infiltrates the inner wall of the straightening vane 55 and dissolves the deposit 54 such as the coating liquid mist attached to the inner wall. The cleaning liquid 53 and the dissolved deposit 54 are discharged to the cup 22 through the opening 32. As a result, the deposit 54 is washed and removed from the inner wall of the straightening vane 55. The upper surface of the straightening vane 55 is inclined so that it becomes lower toward the opening 32 so that the cleaning liquid 53 and the deposit 54 can be easily discharged to the opening 32.

【0028】また、図4のタイミング・チャートに示す
ように、開閉バルブ50を開いて洗浄液53を洗浄液吐
出ノズル52へ供給するときには、開閉バルブ39を閉
塞してカップ22内の空気の排気を停止するのが望まし
い。このことによって、整流板55の内壁を濡らす洗浄
液53および溶解した付着物54の開口部32への排出
が、排気される空気の流れによって妨げられることを防
止し得る。
Further, as shown in the timing chart of FIG. 4, when the opening / closing valve 50 is opened to supply the cleaning liquid 53 to the cleaning liquid discharge nozzle 52, the opening / closing valve 39 is closed to stop the exhaust of the air in the cup 22. It is desirable to do. This can prevent the cleaning liquid 53 that wets the inner wall of the current plate 55 and the discharge of the dissolved deposit 54 to the opening 32 from being hindered by the flow of the exhausted air.

【0029】このように、整流板55の内壁の洗浄を適
宜実行することにより、整流板55の内壁に付着した付
着物54が乾燥固化する前に、この付着物54を除去す
ることができる。このため、固化した付着物が、塵埃と
なって基板2を汚染するのを防止することができるのに
加えて、ミスト等が固化した付着物54が排気通路45
を狭めたりすることもないので、ミスト等をカップ22
から排除する機能を常に正常に維持することができる。
By appropriately cleaning the inner wall of the straightening vane 55 in this manner, the extraneous deposit 54 can be removed before the solidified deposit 54 attached to the inner wall of the straightening vane 55 is dried and solidified. Therefore, it is possible to prevent the solidified deposit from becoming dust and contaminating the substrate 2, and the solidified deposit 54 of the mist or the like causes the solidified deposit 54 to be exhausted.
Since it does not narrow the mist, mist etc.
The function to exclude from can always be maintained normally.

【0030】<2.第2実施例><2. Second embodiment>

【0031】図5は、洗浄液吐出ノズル52における別
の構成例を示す平面図である。この例では、洗浄液吐出
ノズル52は4個に分割されており、それぞれが排気口
34の間に設置されている。また、連結管51もそれぞ
れの底面に個別に接続されている。この構成では、洗浄
液吐出ノズル52が排気口34の間に設置されるので、
底板35の幅を、排気口34の直径と同程度に狭く設定
することができる。すなわち、整流部材を小型化し得る
という利点がある。一方、整流板55の内壁の中で、排
気口34の上方に相当する部分には洗浄液53を十分に
供給することが困難になることが考えられるので、噴出
口52aの形状を、洗浄液を散布するようなものとする
のが望ましい。
FIG. 5 is a plan view showing another structural example of the cleaning liquid discharge nozzle 52. In this example, the cleaning liquid discharge nozzle 52 is divided into four, and each is installed between the exhaust ports 34. In addition, the connecting pipes 51 are also individually connected to their bottom surfaces. In this configuration, since the cleaning liquid discharge nozzle 52 is installed between the exhaust ports 34,
The width of the bottom plate 35 can be set as narrow as the diameter of the exhaust port 34. That is, there is an advantage that the rectifying member can be downsized. On the other hand, it may be difficult to sufficiently supply the cleaning liquid 53 to the portion of the inner wall of the straightening vane 55 above the exhaust port 34. Therefore, the shape of the jet outlet 52a is sprayed with the cleaning liquid. It is desirable that

【0032】<3.第3実施例><3. Third embodiment>

【0033】図6は洗浄液吐出ノズル52における更に
別の構成例を示す正面断面図である。この洗浄液吐出ノ
ズル52は、排気口34の外周部に設置されている点が
第1実施例の洗浄液吐出ノズル52とは異なっている。
ミスト等の付着は、整流板55の内壁の中で、開口部3
2に近い部分に最も多く発生する。このため、この実施
例のように、開口部32に近い部分を集中的に洗浄する
ように洗浄液吐出ノズル52を構成することによって、
洗浄の効率を高めることができる。ただし、開口部32
から離れた領域の洗浄が不十分になり易いことが考えら
れるので、洗浄液53が届かない領域については、別途
洗浄機構を設け、図6に示した洗浄液吐出ノズル52に
よる洗浄よりは低い頻度で適宜洗浄を行うのが望まし
い。この目的のために、第1実施例の洗浄液吐出ノズル
52と、この実施例の洗浄液吐出ノズル52とを有する
2系統の洗浄機構を、開閉バルブ50を互いに共有する
ことなく同時に設置しても良い。
FIG. 6 is a front sectional view showing still another example of the structure of the cleaning liquid discharge nozzle 52. The cleaning liquid discharge nozzle 52 is different from the cleaning liquid discharge nozzle 52 of the first embodiment in that it is installed on the outer peripheral portion of the exhaust port 34.
Adhesion of mist or the like is prevented from occurring in the opening 3 inside the inner wall of the straightening vane 55.
It occurs most frequently in the area close to 2. Therefore, by configuring the cleaning liquid discharge nozzle 52 so as to intensively clean the portion near the opening 32 as in this embodiment,
The cleaning efficiency can be increased. However, the opening 32
It is conceivable that cleaning of a region away from the cleaning liquid may be insufficient, so that a cleaning mechanism is separately provided for a region that the cleaning liquid 53 does not reach, and the cleaning liquid is appropriately discharged at a lower frequency than the cleaning by the cleaning liquid discharge nozzle 52 shown in FIG. It is desirable to perform washing. For this purpose, two systems of cleaning mechanism having the cleaning liquid discharge nozzle 52 of the first embodiment and the cleaning liquid discharge nozzle 52 of this embodiment may be installed at the same time without sharing the opening / closing valve 50. .

【0034】<4.第4実施例><4. Fourth Embodiment>

【0035】図7は、洗浄液吐出ノズルの別の構成例を
示す部分断面斜視図である。この例における洗浄液吐出
ノズル56は、洗浄液吐出ノズル52と同様の環状の本
体部に、いわゆる扇状ノズル56aが配列されている。
扇状ノズル56aは、洗浄液53を扇状に噴出する。こ
のため、この実施例では、洗浄液53が整流板55の内
壁の全周にわたって均等に吐出されるので、整流板55
の全周にわたる均一な洗浄を比較的容易に行い得るとい
う利点がある。
FIG. 7 is a partial sectional perspective view showing another structural example of the cleaning liquid discharge nozzle. In the cleaning liquid discharge nozzle 56 in this example, a so-called fan-shaped nozzle 56a is arranged in an annular main body similar to the cleaning liquid discharge nozzle 52.
The fan-shaped nozzle 56a ejects the cleaning liquid 53 in a fan shape. For this reason, in this embodiment, the cleaning liquid 53 is uniformly discharged over the entire circumference of the inner wall of the straightening vane 55, so that the straightening vane 55 is discharged.
The advantage is that uniform cleaning over the entire circumference can be performed relatively easily.

【0036】<5.第5実施例><5. Fifth Example>

【0037】図8は、洗浄液吐出ノズルのさらに別の構
成例を示す部分断面斜視図である。この例における洗浄
液吐出ノズル57は、入手し易い円管に曲げ加工を施
し、両端部を互いに接続することによって形成される円
環状の形状をなす。この円環の下方に接続された連結管
51から供給された洗浄液53は、円環の中を通過した
後、上方に列状に形成された貫通孔57aから整流板5
5の内壁に向かって噴出する。
FIG. 8 is a partial cross-sectional perspective view showing still another configuration example of the cleaning liquid discharge nozzle. The cleaning liquid discharge nozzle 57 in this example has an annular shape formed by bending a readily available circular pipe and connecting both ends to each other. The cleaning liquid 53 supplied from the connecting pipe 51 connected to the lower side of the circular ring passes through the circular ring, and then passes through the through holes 57a formed in a row in the upper direction to form the straightening plate 5.
It spouts toward the inner wall of No. 5.

【0038】<6.変形例><6. Modification>

【0039】上述した回転式塗布装置は密閉型の装置で
あり、上部回転板18備え、基板2の上方をこの上部回
転板18で覆うことにより、半密閉空間Sの中で基板2
への塗布液の塗布を実行する。しかしながら、整流板5
5などの整流部材および洗浄液吐出ノズル52などの整
流板洗浄機構は、上部回転板18およびスペーサ20に
よって空間Sを完全な密閉空間とする密閉型の装置、あ
るいはそれら上部回転板18等を備えない上部開放型の
装置に対しても設置することが可能である。これらのと
きにも上述の実施例の装置と同様に、整流板55の内壁
に付着するミスト等の付着物を溶解除去し、基板2の汚
染を防止するという効果を奏する。
The above-mentioned rotary coating apparatus is a hermetically sealed apparatus, and is provided with an upper rotary plate 18, and by covering the upper side of the substrate 2 with this upper rotary plate 18, the substrate 2 in the semi-closed space S is covered.
The application of the coating liquid is performed. However, the current plate 5
The rectifying member such as 5 and the rectifying plate cleaning mechanism such as the cleaning liquid discharge nozzle 52 do not include a closed-type device that makes the space S a completely enclosed space by the upper rotating plate 18 and the spacer 20, or the upper rotating plate 18 and the like. It can also be installed on an open top device. In these cases as well, similar to the apparatus of the above-described embodiment, the effect of dissolving and removing the adhering matter such as mist adhering to the inner wall of the flow regulating plate 55 and preventing the substrate 2 from being contaminated is obtained.

【0040】[0040]

【発明の効果】この発明の回転式塗布装置では、カップ
の内周部に形成された排気口を介し、整流板の近傍から
カップ内の空気が排気され、洗浄液ノズルによって、整
流板の内壁に付着したミストを洗浄し除去することがで
きる。このため、整流板の内壁におけるミストの固化を
防止し得るとともに、整流板、排気手段の正常な機能が
常時保証される。その結果、この発明の装置は、整流板
自体の汚染が抑制でき、整流板の内壁に付着・固化した
ミストによる基板の汚染を防止できるとともに、整流板
の汚染で排気が妨げられることもないので、装置各部の
塗布液ミストによる汚染を常時抑制できるという効果を
奏する。
In the rotary coating apparatus of the present invention, the air in the cup is exhausted from the vicinity of the straightening vane through the exhaust port formed in the inner peripheral portion of the cup, and the cleaning liquid nozzle causes the air to flow to the inner wall of the straightening vane. The attached mist can be washed and removed. Therefore, it is possible to prevent the mist from solidifying on the inner wall of the straightening vane, and at the same time, the normal functions of the straightening vane and the exhaust means are always guaranteed. As a result, the device of the present invention can suppress the pollution of the straightening vane itself, prevent the pollution of the substrate by the mist adhering and solidified on the inner wall of the straightening vane, and prevent the exhaust gas from being obstructed by the pollution of the straightening vane. Thus, it is possible to constantly suppress the contamination of the various parts of the apparatus with the coating liquid mist.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明にかかる回転式塗布装置の一実施例を
示す正面断面図である。
FIG. 1 is a front sectional view showing an embodiment of a rotary coating apparatus according to the present invention.

【図2】図1の回転式塗布装置の部分拡大断面図であ
る。
FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of the rotary coating device in FIG.

【図3】図1の回転式塗布装置の洗浄液吐出ノズルの斜
視図である。
3 is a perspective view of a cleaning liquid discharge nozzle of the rotary coating apparatus of FIG.

【図4】図1の回転式塗布装置の2つの開閉バルブの動
作を示すタイミング・チャートである。
4 is a timing chart showing the operation of two on-off valves of the rotary coating apparatus of FIG.

【図5】別の実施例における洗浄液吐出ノズルの平面図
である。
FIG. 5 is a plan view of a cleaning liquid discharge nozzle according to another embodiment.

【図6】さらに別の実施例にける回転式塗布装置の部分
拡大断面図である。
FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of a rotary coating device according to still another embodiment.

【図7】さらに別の実施例における洗浄液吐出ノズルの
平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a cleaning liquid discharge nozzle according to still another embodiment.

【図8】さらに別の実施例における洗浄液吐出ノズルの
平面図である。
FIG. 8 is a plan view of a cleaning liquid discharge nozzle according to still another embodiment.

【図9】従来の回転式塗布装置の正面断面図である。FIG. 9 is a front sectional view of a conventional rotary coating device.

【図10】図10の従来の回転式塗布装置の部分拡大断
面図である。
10 is a partially enlarged cross-sectional view of the conventional rotary coating device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基板 6 回転台 22 カップ 30 排気管 32 開口部 34 排気口 35 底板 45 排気通路 52 洗浄液吐出ノズル 53 洗浄液 55 整流板 2 substrate 6 turntable 22 cup 30 exhaust pipe 32 opening 34 exhaust port 35 bottom plate 45 exhaust passage 52 cleaning liquid discharge nozzle 53 cleaning liquid 55 straightening plate

フロントページの続き (72)発明者 美作 昌宏 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Masahiro Mimahiro 1-chome, No. 1 Tenjin Kitamachi, 4-chome Tenjin Kitamachi, Teranouchi, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を回転させつつ当該基板の表面に塗
布液を塗布する回転式塗布装置であって、 基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、 回転台の外周側方を取り囲む外周部と、回転台の回転中
心近傍において回転台下面を取り囲む内周部とを有し、
基板表面に供給された塗布液の外部への飛散を防止する
カップと、 カップの内周部に開口する排気口を有し、カップ内の排
気を行う排気手段と、 カップの内周部に形成された排気口を覆うようにカップ
の内周部に近接して配置され、かつカップ内に開口する
開口部が形成された整流板と、 整流板とカップの内周部とによって囲まれる領域に配置
され、整流板の内壁に向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノ
ズルと、を備える回転式塗布装置。
1. A rotary coating apparatus for coating a coating liquid on the surface of a substrate while rotating the substrate, the rotary table rotating the substrate while horizontally supporting it, and the outer periphery surrounding the outer periphery of the rotary table. And an inner peripheral portion that surrounds the lower surface of the turntable in the vicinity of the center of rotation of the turntable,
A cup that prevents the coating liquid supplied to the surface of the substrate from splashing to the outside, an exhaust port that opens to the inner circumference of the cup, and an exhaust means that exhausts the inside of the cup, and a cup formed on the inner circumference of the cup. A straightening vane that is arranged close to the inner circumference of the cup so as to cover the exhaust port and has an opening that opens into the cup, and an area surrounded by the straightening vane and the inner circumference of the cup. A cleaning liquid nozzle that is disposed and that discharges the cleaning liquid toward the inner wall of the current plate.
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