JPH11167462A - 座標位置検出装置 - Google Patents

座標位置検出装置

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JPH11167462A
JPH11167462A JP33406397A JP33406397A JPH11167462A JP H11167462 A JPH11167462 A JP H11167462A JP 33406397 A JP33406397 A JP 33406397A JP 33406397 A JP33406397 A JP 33406397A JP H11167462 A JPH11167462 A JP H11167462A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistive
sheet
coordinate position
detecting device
resistive film
Prior art date
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Pending
Application number
JP33406397A
Other languages
English (en)
Inventor
Michiko Endou
みち子 遠藤
Shigemi Kurashima
茂美 倉島
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Nagano Fujitsu Component Ltd
Original Assignee
Nagano Fujitsu Component Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 抵抗膜方式の座標位置検出装置における入力
位置の精度を改善すること。 【解決手段】 一方の面に抵抗膜12a、14aを形成
した上下一対の抵抗膜シート12、14を、その抵抗膜
12a、14aが対面するように所定間隔で対設した座
標位置検出装置10において、一対の抵抗膜シート1
2、14を所定間隔に離間させるために、下側の抵抗膜
シート14の抵抗膜14a表面にドットスペーサ16が
配設し、下側の抵抗膜シート14を上側の抵抗膜シート
12よりも高い柔軟性の材料から形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、押圧された位置を
検出する抵抗膜を用いた感圧型の座標位置検出装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】コンピュータの表示装置に表示されるカ
ーソルの位置、移動方向、移動量を入力するするため
に、オペレータの指やペン形入力具により抵抗膜シート
の表面を押圧して、この押圧された位置座標を検出する
座標位置検出装置いわゆるポインティングデバイスが知
られている。この種の装置には、静電容量式、電磁誘導
式または抵抗膜方式など、その座標検出のための基本構
成により種々の形式が知られているが、近年、その操作
性、コストメリット等の理由により抵抗膜方式の採用が
多くなっている。抵抗膜方式の座標位置検出装置は、対
設された抵抗膜の各々に均一に電位を形成して、この抵
抗膜の一方の抵抗膜シート状表面にオペレータにより印
加された押圧力により、対設された抵抗膜が互いに接触
したときの電位変化から接触位置座標を検出し、間接的
にオペレータの意図する表示装置上の位置を知ろうとす
るものである。
【0003】この種の座標位置検出装置の一例が特開昭
64−36323号公報に開示されている。図5を参照
すると、上記公報に開示された座標位置検出装置40
は、対設された上下抵抗膜シート42、44を具備して
いる。上下抵抗膜シート42、44は、PET(ポリエ
チレン・テレフタレート)シートから成る基体層42
b、44bと、各々の対面する内側表面に印刷により形
成された抵抗膜42a、44aから成る。上下抵抗膜シ
ート42、44の短絡を防止するために、下抵抗膜シー
トの抵抗膜44aの表面には絶縁、硬質材料から成る多
数のドットスペーサ46が概ね均一に分散、配置されて
いる。また、上下抵抗膜シート42、44の抵抗膜42
a、44aには、互いに直行する2方向に電位が形成さ
れている。以下、説明の便宜から上抵抗膜シート42の
抵抗膜42aに印加される電位方向をX方向、下抵抗膜
シート44の抵抗膜44aに印加される電位方向をY方
向とする。
【0004】この座標位置検出装置40において、オペ
レータが、指またはペン形入力具の先端により上抵抗膜
シート42の表面を押圧すると、図5(b)に示すよう
に上抵抗膜シート42が変形して抵抗膜42a、44a
が互いに接触して、ブリッジ回路を形成し各々に形成さ
れていた電位が変化し、その電位変化を検出し演算によ
り押圧位置座標が求められる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、図5に示
す構成の座標位置検出装置40では、上下抵抗膜シート
42、44の基体層42b、44bが柔軟性に乏しいP
ETフィルムを用いているために、図5(b)に示すよ
うにドットスペーサ46の近傍を押圧すると、ドットス
ペーサ46の周囲に接触しない領域が形成され、オペレ
ータが意図した位置と比較すると誤差を含む位置座標が
検出されることとなる。
【0006】本発明は、こうした従来技術の問題点を解
決することを技術課題としており、抵抗膜方式の座標位
置検出装置における入力位置の制度を改善することを目
的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、一方の面に抵
抗膜を形成した上下一対の抵抗膜シートを、その抵抗膜
が対面するように所定間隔で対設し、該抵抗膜シート面
の所望位置の圧力に応じて前記抵抗膜の一方に電位を発
生させ、対設された他方の抵抗膜で所定位置に相当する
電位を検出する座標位置検出装置において、一対の抵抗
膜シートを所定間隔に離間させるために、下側の抵抗膜
シートの抵抗膜表面にドットスペーサが配設されてお
り、下側の抵抗膜シートが上側の抵抗膜シートよりも高
い柔軟性を有していることを特徴とする座標位置検出装
置を要旨とする。
【0008】
【作用】オペレータが指またはペン形入力具などにより
上側の抵抗膜シートを押圧すると、押圧位置において上
下の抵抗膜シートの抵抗膜が接触する。このときドット
スペーサの上を押圧すると、ドットスペーサが下側の抵
抗膜シートに沈み込む。これにより、ドットスペーサに
邪魔されずに正確な位置座標を検出することが可能とな
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態を説明する。先ず、図1、2を参照して本発
明の第1の実施形態を説明する。本発明の第1の実施形
態による座標位置検出装置10は、対設された上下抵抗
膜シート12、14を具備している。図2は上下抵抗膜
シート12、14を線対称に開いて対面する内面を示す
平面図である。上抵抗膜シート12は、基体層12b
と、該基体層12bにおいて下抵抗膜シート14に対面
する表面に形成された抵抗膜12aとを有している。抵
抗膜12aのY方向に延びる両縁部に電極12c、12
dが設けられており、抵抗膜12aにはX方向に電位が
形成される。
【0010】下抵抗膜シート14は、基体層14bと該
基体層14bにおいて上抵抗膜シート12に対面する表
面に形成された抵抗膜14aとを有している。抵抗膜1
4aのX方向に延びる両縁部に電極14c、14dが設
けられており、抵抗膜14aにはY軸方向に電位が形成
される。また、抵抗膜14aの表面には、絶縁、硬質材
料から成る多数のドットスペーサ16が概ね均一に分散
するように設けられている。
【0011】抵抗膜12a、14aはカーボン粉末を導
電材料として混入した印刷インキを用いて印刷され、ま
た、ドットスペーサ16は絶縁性インキによるスクリー
ン印刷により直径50〜150μm、高さ10〜40μ
mに形成することができる。基体層12bは、50〜1
00μmの厚さを有するPETフィルム等の比較的硬質
の絶縁性合成樹脂材料から形成することができる。基体
層14bは、電気的絶縁性を有し上抵抗膜シート12よ
りも高い柔軟性を有する材料、例えば、0.2〜1.0
mm程度の厚さと、ゴム硬度90度以下の硬度を有する
シリコンゴムやポリウレタン等から形成することができ
る。このようにして構成された座標位置検出装置10
は、下抵抗膜シート14をアルミニウム等の金属製基板
に貼り付けることにより、例えばノート形パーソナルコ
ンピュータの操作部位に取り付けられる。
【0012】本実施形態によれば、オペレータが、指や
ペン形入力具により上抵抗膜シート12の表面を押圧す
る、特にドットスペーサ16の上を押圧すると、下抵抗
膜シート14が柔軟な材料から形成されているので、図
1(b)に示すようにドットスペーサ16は下抵抗膜シ
ート14の基体層14b内に沈み込むことができる。こ
れにより、上下抵抗膜シート12、14の抵抗膜12
a、14aが互いに接触する。このとき、下抵抗膜シー
ト14の電極14c、14d間に定電圧を印加すると、
上下抵抗膜シート12、14の接触部を介してY方向の
座標に相当する電位が上抵抗膜シート12で検出するこ
とができる。同様に、上抵抗膜シート12の電極12
c、12d間に定電圧を印加すると、上下抵抗膜シート
12、14の接触部を介してX方向の座標に相当する電
位が下抵抗膜シート14において検出される。図1
(b)から理解されるように、本実施形態では、オペレ
ータがドットスペーサ16の上を押圧したときに、ドッ
トスペーサ16が下抵抗膜シート14内に沈み込むため
に、従来技術のように、ドットスペーサ16の周囲の比
較的広い領域で接触せずに、オペレータの意図する位置
とは異なる位置座標を検出することがなくなる。
【0013】次に図3を参照して本発明の第2の実施形
態を説明する。本発明の第2の実施形態による座標位置
検出装置20は、上下抵抗膜シート22、24を具備し
ている。上抵抗膜シート22は、第1実施形態の上抵抗
膜シート12と同様に形成されており、基体層22b
と、該基体層22bにおいて下抵抗膜シート24に対面
する表面に形成された抵抗膜22aとを有している。下
抵抗膜シート24は、基体層24bと、該基体層24b
において上抵抗膜シート22に対面する表面に形成され
た抵抗膜24aと、基体層24bにおいて抵抗膜24a
と反対側の表面に貼り付けられた変形層24cとを有し
ている。また、抵抗膜24aの表面には、絶縁、硬質材
料から成る多数のドットスペーサ16が概ね均一に分散
するように設けられている。
【0014】上下抵抗膜シート22、24の基体層22
b、24bは50〜100μmの厚さを有するPETフ
ィルムから形成することができ、下抵抗膜シート24の
変形層24cは、上抵抗膜シート22よりも高い柔軟性
を有する材料、例えば、0.2〜1.0mm程度の厚さ
と、ゴム硬度90度以下の硬度を有するシリコンゴムや
ポリウレタン等から形成することができる。
【0015】本実施形態によれば、オペレータが、指や
ペン形入力具により上抵抗膜シート22の表面を押圧す
る、特にドットスペーサ26の上を押圧すると、下抵抗
膜シート24が柔軟な材料から形成された変形層24c
を有しているので、図3(b)に示すようにドットスペ
ーサ26は下抵抗膜シート24内に沈み込むことができ
る。変形層24cの上に比較的硬質な基体層24bが設
けられているために、抵抗膜22a、24aの接触点
は、図1に示す実施形態と比較すると、ドットスペーサ
26から少し離れるが、従来技術よりは、ドットスペー
サ26に近い領域で接触するさせることができる。他
方、図3に示す実施形態は、下抵抗膜シート24の変形
層24cを除いて上下抵抗膜シート22、24が同じ構
成を有しているので、1枚のPET抵抗膜シート上に印
刷技術を用いて抵抗膜22a、24aを印刷した後に折
り畳み、次いで変形層24cを貼り付けることにより上
下抵抗膜シート22、24を形成することができるの
で、製造工程を簡略化することができる。
【0016】次に図4を参照して本発明の第3の実施形
態を説明する。本発明の第3の実施形態による座標位置
検出装置30は、対設された上下抵抗膜シート32、3
4を具備している。上抵抗膜シート32は、既述の実施
形態と同様に、基体層32bと、該基体層32bにおい
て下抵抗膜シート34に対面する表面に形成された抵抗
膜32aとを有している。下抵抗膜シート34は、第1
と第2の実施形態のような独立のした部分或いは明確に
材料が異なる部分としての抵抗膜は特に形成されていな
いが、下抵抗膜シート34全体が上抵抗膜シート32よ
りも高い柔軟性を有する導電性のエラストマ材料から形
成されており、その表面が抵抗膜として作用する。そこ
で、こうした構成も本明細書では「抵抗膜シート」と称
する。該抵抗膜34において上抵抗膜シート24に対面
する表面に直接ドットスペーサ36が配設されている。
【0017】本実施形態によれば、下抵抗膜シートの変
形基体層34が柔軟な材料から形成されているので、第
1の実施形態と同様に、ドットスペーサ36が基体層3
4内に沈み込むことができる。また、実施形態は、抵抗
膜は上抵抗膜シート32にのみ印刷、形成すればよいの
で、座標位置検出装置の製造が単純になる。
【0018】既述の実施形態ではドットスペーサ16、
26、36は絶縁性インキにより印刷技術を用いて形成
されると説明したが、本発明はこれに限定されない。例
えば、絶縁性の感光樹脂材料を用いてフォトリソ技術に
より形成したり、絶縁性のガラスまたは樹脂から成る球
状のビーズを均一に分散して下側の抵抗膜に接着しても
よい。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、座標位置検出装置にお
いて、離間、対設された一対の抵抗膜シートの一方を押
圧して抵抗膜シートを互いに接触させるとき、ドットス
ペーサの上を押圧しても、ドットスペーサが抵抗膜シー
トの一方、特に下抵抗膜シートに沈み込むので、押圧さ
れた座標位置を正確に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態による座標位置検出装
置の断面図である。
【図2】上下抵抗膜シートを線対称に開いて対面する内
面を示す平面図である。
【図3】本発明の第2の実施形態による座標位置検出装
置の断面図である。
【図4】本発明の第3の実施形態による座標位置検出装
置の断面図である。
【図5】従来技術による座標位置検出装置の断面図であ
る。
【符号の説明】
10…座標位置検出装置 12…上抵抗膜シート 12a…抵抗膜 12b…基体層 14…下抵抗膜シート 14a…抵抗膜 14b…基体層 16…ドットスペーサ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一方の面に抵抗膜を形成した上下一対の
    抵抗膜シートを、その抵抗膜が対面するように所定間隔
    で対設し、該抵抗膜シート面の所望位置の圧力に応じて
    前記抵抗膜の一方に電位を発生させ、対設された他方の
    抵抗膜で所定位置に相当する電位を検出する座標位置検
    出装置において、 一対の抵抗膜シートを所定間隔に離間させるために、下
    側の抵抗膜シートの抵抗膜表面にドットスペーサが配設
    されており、かつ、下側の抵抗膜シートが上側の抵抗膜
    シートよりも高い柔軟性を有していることを特徴とする
    座標位置検出装置。
  2. 【請求項2】 前記抵抗膜は導電性を有するインキによ
    り印刷され、前記ドットスペーサは絶縁性インキにより
    印刷、形成されていることを特徴とする請求項1に記載
    の座標位置検出装置。
  3. 【請求項3】 前記抵抗膜は導電性を有するインキによ
    り印刷され、前記ドットスペーサは絶縁性感光樹脂によ
    りフォトリソ工程により形成されていることを特徴とす
    る請求項1に記載の座標位置検出装置。
  4. 【請求項4】 前記抵抗膜は導電性を有するインキによ
    り印刷され、前記ドットスペーサは絶縁性のガラスまた
    は樹脂から成るビーズを抵抗膜表面に接着することによ
    り設けられていることを特徴とする請求項1に記載の座
    標位置検出装置。
  5. 【請求項5】 前記一対の抵抗膜シートのうち上側の抵
    抗膜シートがPETシートから成る基体層を具備し、下
    側の抵抗膜シートがポリウレタンシートから成る基体層
    を具備することを特徴とする請求項1から4の何れか1
    項に記載の座標位置検出装置。
  6. 【請求項6】 前記一対の抵抗膜シートのうち上側の抵
    抗膜シートがPETシートから成る基体層を具備し、下
    側の抵抗膜シートがシリコンゴムシートから成る基体層
    を具備することを特徴とする請求項1から4の何れか1
    項に記載の座標位置検出装置。
  7. 【請求項7】 前記一対の抵抗膜シートのうち上側の抵
    抗膜シートがPETシートから成る基体層を具備し、下
    側の抵抗膜シートが導電性エラストマシートから成るこ
    とを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の座
    標位置検出装置。
JP33406397A 1997-12-04 1997-12-04 座標位置検出装置 Pending JPH11167462A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010224902A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Fujitsu Component Ltd タッチパネル

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010224902A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Fujitsu Component Ltd タッチパネル

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