JPH11164877A - Harmful material removing agent and photocatalyst carrier - Google Patents

Harmful material removing agent and photocatalyst carrier

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JPH11164877A
JPH11164877A JP9350171A JP35017197A JPH11164877A JP H11164877 A JPH11164877 A JP H11164877A JP 9350171 A JP9350171 A JP 9350171A JP 35017197 A JP35017197 A JP 35017197A JP H11164877 A JPH11164877 A JP H11164877A
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JP
Japan
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photocatalyst carrier
trioctahedral smectite
smectite
trioctahedral
sample
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9350171A
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Japanese (ja)
Inventor
Madoka Minagawa
円 皆川
Teiji Sato
悌治 佐藤
Eiji Nomura
英司 野村
Koichi Yamaguchi
浩市 山口
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Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Mizusawa Industrial Chemicals Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Mizusawa Industrial Chemicals Ltd
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Publication date
Application filed by Ishihara Sangyo Kaisha Ltd, Mizusawa Industrial Chemicals Ltd filed Critical Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a harmful material removing agent which has characters to prompt decomposition caused by reaction of light and to prolong its effect, and which well coats the substrate and is well formed into a grain material, and to provide a photocatalyst carrier made from the harmful material removing agent which has a carrier layer with higher coating ability, adhesion, and durability to substrate such as honeycomb, etc., and prompts decomposition caused by reaction of light and prolongs its effect. SOLUTION: This harmful material removing agent contains a water swellable trioctahedral type smectite, a light reactive semiconductor, or, additionally, aluminum-containing phyllosilicate zinc, and silicate compound of the same. This photocatalyst carrier is composed of a substrate, a binder of water- swellable trioctahedral type smectite supported on the substrate, and inorganic compound layers containing a light reactive semiconductor.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基体への塗布性や
成形性に優れ、光反応による分解促進性やその持続性に
優れた有害物質除去剤に関し、更にハニカム等の基体へ
の塗布性、密着性、耐久性に優れた担持層を備えた光触
媒担持体にも関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a harmful substance remover which is excellent in coating properties and moldability on a substrate, and has excellent decomposition promoting properties by photoreaction and excellent persistence. The present invention also relates to a photocatalyst carrier provided with a carrier layer having excellent adhesion and durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】二酸化チタン等の光反応性半導体が光
(紫外線)により励起され、優れた酸化力等の化学的作
用を呈することは、古くから知られており、この酸化力
を有害成分の分解除去に用いることもよく知られてい
る。
2. Description of the Related Art It has long been known that a photoreactive semiconductor such as titanium dioxide is excited by light (ultraviolet light) and exhibits an excellent chemical action such as oxidizing power. It is well known to use it for decomposition removal.

【0003】例えば、特開平1−234729号公報に
は、空気調和機内に設置される吸着剤の表面に光触媒層
を形成する例として、活性炭ハニカムにアナターゼ型二
酸化チタン系光触媒層を形成したものが記載されてい
る。
[0003] For example, JP-A-1-234729 discloses an example in which a photocatalyst layer is formed on the surface of an adsorbent installed in an air conditioner, in which an anatase-type titanium dioxide photocatalyst layer is formed on an activated carbon honeycomb. Are listed.

【0004】特開平3−157125号公報には、脱臭
方法として立体的多孔体(アルミナセラミック繊維多孔
質体)にチタニアゾルをディップして含浸し、乾燥後4
00〜700℃で熱処理して酸化チタンを担持した脱臭
剤が記載されている。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-157125 discloses a three-dimensional porous body (porous alumina ceramic fiber) impregnated with titania sol by dipping and drying.
It describes a deodorant which is heat-treated at 00 to 700 ° C. and carries titanium oxide.

【0005】特開平7−155598号公報には、タイ
ル等の表面が平滑な基板に酸化チタン粒子膜を焼結させ
るに際し、その粒子間に酸化チタンよりも蒸気圧が高い
物質を凝集させることによりクラックが生じず膜強度の
強い光触媒被膜が得られることが記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-155598 discloses that when a titanium oxide particle film is sintered on a substrate having a smooth surface such as a tile, a substance having a higher vapor pressure than titanium oxide is agglomerated between the particles. It is described that a photocatalytic film having high film strength without cracks can be obtained.

【0006】特開平9−10582号公報には二酸化チ
タンとベントナイト(モンモリロナイト)を含有した造
粒体乃至成形体から成る有害物質除去剤が記載され、特
公平7−87891号公報には0.5〜5eVの禁止帯
幅を有する半導体を添加した粘土成形体を用いた被酸化
性有害物質除去剤が記載されている。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 9-10582 discloses a harmful substance removing agent comprising a granulated or molded article containing titanium dioxide and bentonite (montmorillonite). An oxidizable harmful substance remover using a clay molded body to which a semiconductor having a band gap of 55 eV is added is described.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】二酸化チタン等の光反
応性半導体は、一般に粒子であり、ハニカム等の基体に
直接担持させることは困難であり、このため何らかのバ
インダーを用いる必要がある。従来、このバインダーと
しては、シリカゾル、アルミナゾル等の無機バインダー
や、有機高分子バインダーが一般に使用されているが、
これらのバインダーは、ハニカム基体表面への塗布性や
付着性に未だ問題があると共に、形成される光触媒層の
反応性においても未だ十分満足しうるものではなかっ
た。
A photoreactive semiconductor such as titanium dioxide is generally a particle, and it is difficult to directly support it on a substrate such as a honeycomb. Therefore, it is necessary to use some kind of binder. Conventionally, as this binder, an inorganic binder such as silica sol and alumina sol, and an organic polymer binder are generally used,
These binders still have problems in coatability and adhesion to the surface of the honeycomb substrate, and have not been sufficiently satisfactory in the reactivity of the formed photocatalyst layer.

【0008】先ず、ハニカム等の基体表面のコーティン
グ層中には、光反応性半導体が高い濃度で含有されてい
ることが、光反応性の点で重要であるが、このようにバ
インダー当たりの光反応性半導体の量比が大きくなる
と、塗布液の粘度を適切な範囲に調節することが困難と
なったり、塗布液を乾燥するときに凝集しやすいという
問題がある。
First, it is important from the viewpoint of photoreactivity that a photoreactive semiconductor is contained in a coating layer on the surface of a substrate such as a honeycomb at a high concentration. When the ratio of the reactive semiconductors becomes large, there is a problem that it is difficult to adjust the viscosity of the coating solution to an appropriate range, and that the coating solution is easily aggregated when dried.

【0009】即ち、塗布液の粘度が低い場合には、ハニ
カム等の基体に浸漬塗布を行う液中で光反応性半導体等
の固体成分が沈降したり、或いは乾燥時にハニカム表面
から固体成分が流れ落ちる傾向があり、一方粘度が高す
ぎると、浸漬塗布そのものが困難となったり、光反応層
の厚みの調節が困難となる傾向がある。
That is, when the viscosity of the coating solution is low, solid components such as photoreactive semiconductors settle in a solution for dip coating on a substrate such as a honeycomb, or solid components flow down from the honeycomb surface during drying. On the other hand, if the viscosity is too high, dip coating itself tends to be difficult, and adjustment of the thickness of the photoreactive layer tends to be difficult.

【0010】更に、塗布液を乾燥させる際の凝集傾向も
重要な問題点であり、バインダー同士あるいはバインダ
ーと光反応性半導体との間に凝集が生じるとハニカム等
の基体表面への均一なコーティングが困難になると共に
コーティングの密着性も著しく低下する。これらの傾向
は、シリカゾル等の無機バインダーを用いた場合に顕著
である。
Further, the tendency of aggregation when drying the coating liquid is also an important problem, and if aggregation occurs between the binders or between the binder and the photoreactive semiconductor, a uniform coating on the surface of the substrate such as a honeycomb is required. It becomes difficult and the adhesion of the coating is significantly reduced. These tendencies are remarkable when an inorganic binder such as silica sol is used.

【0011】また、光反応性半導体の活性低下も問題で
あり、光反応性半導体の表面がバインダーで覆われる場
合には光反応性が低下する傾向がある。この傾向は有機
バインダーを用いた場合に顕著であると共に、有機バイ
ンダーの場合にはバインダーそのものが光酸化作用によ
り劣化し、光反応層の寿命が短くなるという欠点もあ
る。
Another problem is the decrease in the activity of the photoreactive semiconductor. When the surface of the photoreactive semiconductor is covered with a binder, the photoreactivity tends to decrease. This tendency is remarkable when an organic binder is used, and in the case of an organic binder, the binder itself is deteriorated by a photo-oxidation action, so that the life of the photoreactive layer is shortened.

【0012】従って、本発明の目的は、光反応による分
解促進性やその持続性に優れ、しかも基体への塗布性や
粒状物等の成形体への成形性に優れた有害物質除去剤を
提供するにある。本発明の他の目的は、ハニカム等の基
体への塗布性、密着性、耐久性に優れた担持層を備えし
かも光反応性やその持続性に優れた光触媒担持体を提供
するにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a harmful substance remover which is excellent in promoting decomposition by a photoreaction and its persistence, and is also excellent in coatability to a substrate and moldability to a molded article such as a granular material. To be. Another object of the present invention is to provide a photocatalyst carrier having a carrier layer excellent in coatability, adhesion, and durability to a substrate such as a honeycomb, and excellent in photoreactivity and durability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、(A)
水膨潤性のトリオクタヘドラル型スメクタイトと、
(B)光反応性半導体と、或いは更に(C)含アルミニ
ウムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体とを含有
する無機組成物から成る有害物質除去剤が提供される。
本発明によればまた、基体と、上記無機組成物の層とか
らなることを特徴とする光触媒担持体が提供される。本
発明においては、 1)前記(A)水膨潤性のトリオクタヘドラル型スメク
タイトと前記(B)光反応性半導体とが(A):(B)
=1:4乃至19:1の重量比で存在すること、 2)(C)含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケ
イ酸質複合体が前記成分(A)及び(B)の合計量10
0重量部当たり1乃至40重量部の量で存在すること、 3)前記(B)光反応性半導体が二酸化チタンであるこ
と、 4)前記(A)トリオクタヘドラル型スメクタイトが、
下記式(1) Tx=η1 /η2 ‥‥(1) 式中、η1 は試料濃度2%の水性分散液について、B型
粘度計を用いて、回転数6rpmで測定した粘度(セン
チポイズ)であり、η2 は試料濃度2%の水性分散液に
ついて、B型粘度計を用いて、回転数60rpmで測定
した粘度(センチポイズ)である、で定義されるチクソ
トロピー指数(Tx)が3乃至10の範囲にあるもので
あること、 5)前記(A)トリオクタヘドラル型スメクタイトが5
0乃至700m2 /gのBET比表面積を有するもので
あること、 6)前記(A)トリオクタヘドラル型スメクタイトが波
長400乃至250nmで測定して、60%以下の紫外
線吸光度を有するものであること、 7)前記(A)トリオクタヘドラル型スメクタイトがス
チブンサイト、ヘクトライト、サポナイトであること、
が好ましい。また、本発明の光触媒担持体においては、 8)(A)、(B)及び/または(C)を含有する無機
組成物の層が基体表面積当たり2乃至50g/m2 の担
持量で設けられていること、 9)基体がハニカムであること、 10)さらに、上記1)〜7)からなる有害物質除去剤
を溶剤に分散させてなる分散液であること、 が好ましい。
According to the present invention, (A)
A water-swellable trioctahedral smectite;
A harmful substance remover comprising an inorganic composition containing (B) a photoreactive semiconductor or (C) a zinc-containing aluminum phyllosilicate or a siliceous complex thereof is further provided.
According to the present invention, there is also provided a photocatalyst carrier comprising a substrate and a layer of the inorganic composition. In the present invention, 1) the (A) water-swellable trioctahedral smectite and the (B) photoreactive semiconductor are (A) :( B)
2) (C) the aluminum-containing zinc phyllosilicate or the siliceous composite thereof (C) contains 10% by weight of the components (A) and (B);
3) The (B) photoreactive semiconductor is titanium dioxide, 4) The (A) trioctahedral smectite is present in an amount of 1 to 40 parts by weight per 0 parts by weight.
Formula (1) Tx = η 1 / η 2 ‥‥ (1) In the formula, η 1 is a viscosity (centipoise) of an aqueous dispersion having a sample concentration of 2% measured at a rotation speed of 6 rpm using a B-type viscometer. And η 2 is a viscosity (centipoise) measured at 60 rpm using a B-type viscometer with respect to an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%, and has a thixotropy index (Tx) of 3 to 3. 5) the trioctahedral smectite (A) is 5
Having a BET specific surface area of 0 to 700 m 2 / g; 6) the (A) trioctahedral type smectite having an ultraviolet absorbance of 60% or less as measured at a wavelength of 400 to 250 nm. 7) that the (A) trioctahedral smectite is stevensite, hectorite, and saponite;
Is preferred. Further, in the photocatalyst carrier of the present invention, 8) a layer of an inorganic composition containing (A), (B) and / or (C) is provided in a loading amount of 2 to 50 g / m 2 per substrate surface area. 9) The substrate is a honeycomb; 10) Further, it is a dispersion obtained by dispersing the harmful substance removing agent comprising the above 1) to 7) in a solvent.

【0014】[0014]

【発明の実施形態】[作用]本発明の有害物質除去剤
は、バインダーとして、水膨潤性のトリオクタヘドラル
型スメクタイトを選択し、これを光反応性半導体と組み
合わせたことが特徴である。
[Action] The harmful substance removing agent of the present invention is characterized in that a water-swellable trioctahedral-type smectite is selected as a binder, and this is combined with a photoreactive semiconductor.

【0015】トリオクタヘドラル(3−八面体)型スメ
クタイトは、水膨潤性を有すると共に、その分散液はチ
クソトロピーを示すという特徴がある。このため、トリ
オクタヘドラル型スメクタイトを光反応性半導体に対す
るバインダーとして使用すると、高い光反応性半導体/
バインダー比においても、塗布液における光反応性半導
体粒子の沈降や基体からの流失が防止されるような適切
な粘度に維持され、しかもその分散液が有するチクソト
ロピーにより、基体への塗布時には攪拌により比較的低
い粘度に維持されて優れた塗布作業性が奏されると共
に、乾燥時には塗布層が静置されることにより増粘し
て、塗布層の流失が防止されるという顕著な効果があ
る。
Trioctahedral (3-octahedral) type smectite is characterized in that it has water swelling properties and its dispersion exhibits thixotropic properties. Therefore, when trioctahedral type smectite is used as a binder for a photoreactive semiconductor, a high photoreactive semiconductor /
The binder ratio is also maintained at an appropriate viscosity to prevent sedimentation of the photoreactive semiconductor particles in the coating solution and run-off from the substrate.Moreover, due to the thixotropy of the dispersion, the viscosity is compared by stirring at the time of application to the substrate. It has a remarkable effect that the coating layer is kept at a very low viscosity to achieve excellent coating workability, and that the coating layer is allowed to stand still during drying, thereby increasing the viscosity and preventing the coating layer from flowing out.

【0016】更に後述する実施例・比較例からも明らか
な通り、スメクタイト粘土の中でもトリオクタヘドラル
型のスメクタイトが塗布性や付着性に優れ、ベントナイ
ト等のジオクタヘドラル型スメクタイトでは十分な効果
が得られない。
As will be apparent from Examples and Comparative Examples which will be described later, among the smectite clays, trioctahedral smectite has excellent coatability and adhesion, and a dioctahedral smectite such as bentonite has a sufficient effect. Absent.

【0017】加えて、トリオクタヘドラル型スメクタイ
トは、高い比表面積を有していて、吸着特性に優れてお
り、光反応の効率を高めるという付加的な利点を有す
る。即ち、反応体(有害物質)をトリオクタヘドラル型
スメクタイトに吸着させて、光反応性半導体の周囲に反
応体が濃縮した環境を作ることが可能となり、光反応を
能率良くしかも高い反応速度で行うことが可能となる。
In addition, trioctahedral smectite has a high specific surface area, is excellent in adsorption properties, and has the additional advantages of increasing the efficiency of photoreaction. In other words, the reactant (hazardous substance) can be adsorbed on the trioctahedral smectite to create an environment in which the reactant is concentrated around the photoreactive semiconductor, so that the photoreaction can be performed efficiently and at a high reaction rate. It is possible to do.

【0018】更に、トリオクタヘドラル型スメクタイト
は、紫外線に対する吸光度が、他の無機バインダーに比
して小さく、光反応性半導体の光による活性化を阻害し
にくいという利点を有する。
Furthermore, trioctahedral smectite has an advantage that the absorbance to ultraviolet rays is smaller than that of other inorganic binders, and it is difficult to inhibit the activation of the photoreactive semiconductor by light.

【0019】上記の作用は、多数の実験の結果、現象と
して見い出されたものであり、その理由は、必ずしも本
発明を何らかの意味で拘束するものではないが、次のよ
うなものと思われる。トリオクタヘドラル型スメクタイ
トは、MgO6 八面体層を二個のSiO4 シリカ四面体
層でサンドイッチされた三層構造を基本層とし、この基
本層が積層された構造を有するが、MgO6 八面体層の
一部がアルカリ金属イオンで同形置換され、あるいは空
位となったり、シリカSiO4 四面体層が、アルミニウ
ムで同形置換された構造となっている。この同形置換あ
るいは空位による電荷の不足を補う形で基本層層間にカ
チオンが存在している。
The above-mentioned effects have been found as phenomena as a result of a number of experiments. The reason is not necessarily limited to the present invention in some sense, but is considered as follows. Trioctahedral smectite is a sandwiched three-layer structure MgO 6 octahedra layer with two of SiO 4 silica tetrahedral layer and the base layer, the base layer has a laminated structure, MgO 6 eight A part of the face layer is isomorphically substituted with alkali metal ions or becomes vacant, or the silica SiO 4 tetrahedral layer is isomorphously substituted with aluminum. Cations exist between the base layer layers in such a manner as to compensate for the lack of charge due to the isomorphous substitution or vacancy.

【0020】このため、トリオクタヘドラル型スメクタ
イトを水に分散させると、基本層の層間に水が入り、膨
潤して増粘作用が生じると共に、攪拌状態では基本層が
バラバラとなって比較的低い粘度となり、静置状態で
は、所謂カードハウス構造となってチクソトロピーが発
現される訳である。
For this reason, when trioctahedral type smectite is dispersed in water, water enters between the layers of the basic layer and swells to cause a thickening action. The viscosity becomes low, and in a stationary state, a so-called card house structure is formed, and thixotropy is developed.

【0021】また、トリオクタヘドラル型スメクタイ
ト、特に合成のトリオクタヘドラル型スメクタイトで
は、基本三層構造の積層の程度が小さく、また、基本三
層構造の面方向の寸法が小さいこともあって、大きな比
表面積を示すものと認められる。さらに、光反応性半導
体が共存する分散液の乾燥では光反応性半導体との電荷
の相互作用により、基本三層構造の積層に乱れを生じや
すく、これも比表面積の増大に役立っているものと推定
される。
In trioctahedral smectite, especially synthetic trioctahedral smectite, the degree of stacking of the basic three-layer structure is small, and the dimension of the basic three-layer structure in the plane direction may be small. Therefore, it is recognized that a large specific surface area is exhibited. Furthermore, in the drying of the dispersion in which the photoreactive semiconductor coexists, the interaction of the electric charge with the photoreactive semiconductor tends to disturb the stacking of the basic three-layer structure, which also contributes to an increase in the specific surface area. Presumed.

【0022】本発明の有害物質除去剤は、含アルミニウ
ムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体を含有する
ことが好ましい。含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛は、
SiO4 及びAlO4 の四面体層とMO6 (MはZn及
びAlを表わす)の八面体層とが二層に結合した基本構
造を有し、この基本構造が場合により積層されたもので
あり、これらの層構成により、塩基性物質及び酸性物質
の両方に対して強い吸着性を示すことが特徴である。含
アルミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体
は、基本構造が微細であること及び多層構造の層間に基
づく物理吸着と、各層に基づく化学吸着により、各種物
質に対して優れた吸着性能を示すものであり、有害物質
の吸着及びその分解助長に優れた作用を呈する。
The harmful substance removing agent of the present invention preferably contains aluminum-containing zinc phyllosilicate or a siliceous complex thereof. Aluminum-containing zinc phyllosilicate is
Has the basic structure and the octahedral layer is bonded to two layers of tetrahedral layer and the MO 6 of SiO 4 and AlO 4 (M represents Zn and Al), are those the basic structure are laminated optionally The feature of these layers is that they exhibit strong adsorptivity to both basic substances and acidic substances. The aluminum-containing zinc phyllosilicate or its siliceous composite has excellent adsorption performance for various substances due to its fine basic structure and physical adsorption between layers of the multilayer structure and chemical adsorption based on each layer. It exhibits excellent action for adsorbing harmful substances and promoting its decomposition.

【0023】以上が総合されて、本発明によれば、光反
応による分解促進性やその持続性に優れ、しかも粒状物
等の成形体への成形性や基体への塗布性に優れた有害物
質除去剤が提供され、また、この組成物は、ハニカム等
の基体への塗布性、密着性、耐久性に優れており、この
担持層を備えたものは光反応性やその持続性に優れてい
るという利点を与える。
In summary, according to the present invention, there is provided a harmful substance which is excellent in promoting decomposition by a photoreaction and its persistence, and is excellent in moldability to a molded article such as a granular material and coating property to a substrate. A remover is provided, and the composition is excellent in applicability, adhesion, and durability to a substrate such as a honeycomb, and those having this support layer are excellent in photoreactivity and durability. Give you the advantage.

【0024】[トリオクタヘドラル型スメクタイト]本
発明に用いるトリオクタヘドラル型スメクタイトは、チ
クソトロピー性の点で、下記式(1) Tx=η1 /η2 ……(1) 式中、η1 は試料濃度2%の水性分散液について、B型
粘度計を用いて、回転数6rpmで測定した粘度(セン
チポイズ)であり、η2 は試料濃度2%の水性分散液に
ついて、B型粘度計を用いて、回転数60rpmで測定
した粘度(センチポイズ)である、で定義されるチクソ
トロピー指数(Tx)が3乃至10特に6乃至8の範囲
にあることが好ましい。チクソトロピー指数が上記範囲
よりも小さいと、有害物質の吸着性が劣り、乾燥時に塗
布液の流失が生じやすく、一方上記範囲よりも大きい
と、塗布作業性が悪くなり、膜厚の調節も困難となる。
[Trioctahedral smectite] The trioctahedral smectite used in the present invention has the following formula (1) Tx = η 1 / η 2 (1) in terms of thixotropy. 1 is a viscosity (centipoise) measured at a rotation speed of 6 rpm using a B-type viscometer for an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%, and η 2 is a B-type viscometer for an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%. The thixotropy index (Tx), defined as the viscosity (centipoise) measured at a rotation speed of 60 rpm using the above formula, is preferably in the range of 3 to 10, particularly 6 to 8. When the thixotropy index is smaller than the above range, the adsorptivity of harmful substances is inferior, and the coating solution is easily washed out during drying. Become.

【0025】更に、本発明に用いるトリオクタヘドラル
型スメクタイトは光反応性に関連して50乃至700、
特に200乃至700m2 /gのBET比表面積を有す
るものであることが好ましい。比表面積が上記範囲より
も小さいと、有害物質の吸着性が劣り、光分解の促進作
用が得られず、一方上記範囲よりも大きいものは、成形
性や塗布性に劣っている。
Further, the trioctahedral smectite used in the present invention has a photoreactivity of 50 to 700,
In particular, it is preferable to have a BET specific surface area of 200 to 700 m 2 / g. When the specific surface area is smaller than the above-mentioned range, the harmful substance adsorbing property is inferior, and the photodegradation promoting effect cannot be obtained.

【0026】トリオクタヘドラル型スメクタイトが波長
400乃至250nmで測定して、60%以下の紫外線
吸光度を有するものであることが光分解性の点で重要で
ある。
It is important from the viewpoint of photodegradability that the trioctahedral smectite has an ultraviolet absorbance of 60% or less as measured at a wavelength of 400 to 250 nm.

【0027】本発明に用いるトリオクタヘドラル型スメ
クタイトは、上記物性を有するものであれば特に限定さ
れないが、入手の容易さから、スチブンサイト、ヘクト
ライト、サポナイトであることが好ましい。
The trioctahedral smectite used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-mentioned physical properties, but is preferably stevensite, hectorite or saponite from the viewpoint of easy availability.

【0028】i)スチブンサイト スチブンサイトとしては、天然に産出するスチブンサイ
トも或いは合成のスチブンサイトも、前記条件を満足す
るものであれば何れをも使用することができる。本発明
の目的に好適なスチブンサイトは、金属成分が実質上マ
グネシウム、ナトリウム及びケイ素のみから成る合成ス
チブンサイトであり、このものは、エチレングリコール
処理した状態で面間隔16乃至26オングストロームに
X線回折ピークを有する。
I) Stevensite As the Stevensite, any naturally occurring Stevensite or synthetic Stevensite can be used as long as it satisfies the above conditions. Preferred stevensites for the purposes of the present invention are synthetic stevensites whose metal component consists essentially of only magnesium, sodium and silicon, which have an X-ray diffraction peak at an interplanar spacing of 16 to 26 Angstroms with ethylene glycol treatment. Have.

【0029】好適な合成スチブンサイトは、実質上下記
式(2) MgxNaySi4 10(OH)2 ・Naz ……(2) 式中、xとyはx+y<3という条件下でxは2以上の
数であり、yは0乃至0.1の数であり、zは0乃至
1.0の数である、で表わされる化学組成を有する。
A preferred synthetic stevensite is substantially the following formula (2) MgxNaySi 4 O 10 (OH) 2 .Naz (2) where x and y are x + y <3 and x is 2 or more. Is a number, y is a number from 0 to 0.1, and z is a number from 0 to 1.0.

【0030】上記合成スチブンサイトにおいては、層内
のMgとNaとの合計原子数が3よりも小さいという事
実は、MgO6 八面体層におけるMg原子の一部がNa
で置換されると共に、残りの一部が空位となっているこ
とを物語っている。更には、Mg原子の他の一部が水素
原子で置換されている場合もある。Mg原子の一部がN
aで置換されていること及びMg原子の残りの一部が空
位となっていることによる価電荷の不足を補う形で、M
g(Na)O6 八面体層−SiO4 四面体層−Mg(N
a)O6 八面体層から成る基本層構造の積層層間には、
Naイオンが存在している。
In the above-mentioned synthetic stevensite, the fact that the total number of atoms of Mg and Na in the layer is smaller than 3 is based on the fact that some of the Mg atoms in the MgO 6 octahedral layer
And that the rest is vacant. Further, another part of the Mg atom may be replaced with a hydrogen atom. Some of the Mg atoms are N
a to compensate for the lack of valence charge due to the substitution with a and the remaining part of the Mg atom being vacant.
g (Na) O 6 octahedron layer -SiO 4 tetrahedra layer -Mg (N
a) Between the laminated layers of the basic layer structure composed of O 6 octahedral layers,
Na ions are present.

【0031】上記合成スチブンサイトにおいては、x+
yは3よりも小さく、特に2以上の範囲が好ましい。x
は、この条件を満足する範囲内で2以上の値であり、
2.6乃至2.8の範囲が好適である。yも、前記条件
を満足する範囲内で0乃至0.1の値であり、特に0乃
至0.05の範囲が好適である。zの値は一般に0乃至
1.0の範囲である。理論上、陽イオン交換容量(z−
α)の値は、下記式 z−α=y+2(3−x−y) ……(3) ただし、αは単に付着しているNaの原子数を表わす。
で表わされる。
In the above synthetic stevensite, x +
y is smaller than 3, particularly preferably 2 or more. x
Is a value of 2 or more within a range satisfying this condition,
A range from 2.6 to 2.8 is preferred. y is also a value of 0 to 0.1 within a range satisfying the above condition, and particularly preferably a range of 0 to 0.05. The value of z generally ranges from 0 to 1.0. Theoretically, the cation exchange capacity (z-
The value of α) is represented by the following formula: z−α = y + 2 (3-xy) (3) where α simply represents the number of attached Na atoms.
Is represented by

【0032】この合成スチブンサイトのX線回折像を図
1に示す。図1から、この合成スチブンサイトは、スメ
クタイト粘土鉱物に特有のX線回折像を示すことが分か
る。また、スメクタイトおよび含スメクタイト混合層鉱
物にエチレングリコール処理したものはX線底面反射
が、16乃至26オングストロームに現われる。
FIG. 1 shows an X-ray diffraction image of the synthesized stevensite. From FIG. 1, it can be seen that this synthetic stevensite shows an X-ray diffraction image specific to the smectite clay mineral. In addition, smectite and smectite-containing mixed layer minerals treated with ethylene glycol show X-ray bottom reflection at 16 to 26 angstroms.

【0033】さらに、この合成スチブンサイトは示差熱
分析において750乃至820℃に最大の発熱ピークを
有する。また、この合成スチブンサイトは不純金属成分
を含まない形で得られ、一般にハンター白色度が80%
以上、特に90%以上の白色粉末である。更に、この合
成スチブンサイトの陽イオン交換容量は、一般に0.2
0乃至1.58ミリイクイバレント(meq/g )、特に
0.20乃至1.0meq/g の範囲内にある。
Further, this synthetic stevensite has a maximum exothermic peak at 750 to 820 ° C. in differential thermal analysis. Further, this synthetic stevensite is obtained in a form containing no impurity metal component, and generally has a Hunter whiteness of 80%.
Above, especially 90% or more of white powder. Furthermore, the cation exchange capacity of this synthetic stevensite is generally 0.2
It is in the range of 0 to 1.58 milliequivalents (meq / g), especially 0.20 to 1.0 meq / g.

【0034】また、この合成スチブンサイトは、微細な
層状化合物の特性として、トリオクタヘドラル型スメク
タイトの中でも特に大きな比表面積を有しており、BE
T比表面積は一般に300乃至600m2 /g、特に3
50乃至550m2 /gの範囲内にある。この合成スチ
ブンサイトの粒子集合体の表面の走査型電子顕微鏡写真
を添付の図2に示す。この図2から、合成スチブンサイ
トは、微細且つ大きな比表面積を有することがわかる。
このため、合成スチブンサイトを使用すると、有害物質
の吸着性を高めて、光分解性を助長させる効果が特に大
きい。更に、合成スチブンサイトの紫外線吸光度は、一
般に20%以下であって、トリオクタヘドラル型スメク
タイトの中でも紫外線吸光度が特に小さく、光反応を阻
害する程度が特に小さいという利点がある。
The synthetic stevensite has a particularly large specific surface area among trioctahedral smectites as a characteristic of a fine layered compound.
The T specific surface area is generally 300 to 600 m 2 / g, especially 3
It is in the range of 50 to 550 m 2 / g. FIG. 2 shows a scanning electron micrograph of the surface of the particle aggregate of the synthetic stevensite. From FIG. 2, it can be seen that the synthetic stevensite has a fine and large specific surface area.
For this reason, when synthetic stevensite is used, the effect of increasing the adsorptivity of harmful substances and promoting photodegradability is particularly large. Further, the UV absorbance of the synthetic stevensite is generally 20% or less, and among the trioctahedral smectites, the UV absorbance is particularly low, and the degree of inhibiting the photoreaction is particularly low.

【0035】更に、この合成スチブンサイトは、水によ
り膨潤し、透明な増粘液を与え、バインダーとしての作
用、チクソトロピー付与性能においても特に優れてい
る。
Further, the synthetic stevensite swells with water to give a transparent thickening liquid, and is particularly excellent in the action as a binder and in the thixotropy imparting performance.

【0036】上記の合成スチブサイトは、塩基性炭酸マ
グネシウムとケイ酸ナトリウム又は非晶質シリカ及び水
酸化ナトリウムの組合せとを含有する水性混合物を水熱
処理に賦することにより得られる。
The above-mentioned synthetic stibsite is obtained by subjecting an aqueous mixture containing basic magnesium carbonate and sodium silicate or a combination of amorphous silica and sodium hydroxide to hydrothermal treatment.

【0037】水熱反応に先立って、用いる原料を可及的
に均一に混合させて、均質化した水性スラリーを形成さ
せることが、収率及び純度向上の見地から望ましい。こ
の均質混合は強剪断攪拌下に行なうのがよく、この目的
に、高速剪断ミキサー、ボールミル、サンドミル、コロ
イドミル、超音波照射等を用いることができる。水性混
合物中の固形分濃度は、一般に1乃至30重量%、特に
5乃至15重量%の範囲内にあることが望ましい。
Prior to the hydrothermal reaction, it is desirable to mix the raw materials used as uniformly as possible to form a homogenized aqueous slurry from the viewpoint of improving yield and purity. This homogenous mixing is preferably performed under strong shear stirring, and for this purpose, a high-speed shear mixer, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, ultrasonic irradiation or the like can be used. The solids concentration in the aqueous mixture is generally in the range from 1 to 30% by weight, especially in the range from 5 to 15% by weight.

【0038】この混合物をオートクレーブに仕込み、水
熱処理を行なう。水熱処理条件は、従来法に比して比較
的温和な条件であってよく、例えば一般に100乃至3
00℃、特に150乃至200℃の温度で、0乃至10
0Kg/cm2G(ゲージ)、特に6乃至40Kg/cm2Gの圧力
下に行なうのがよい。反応時間は一般に0.5乃至20
時間のオーダーで十分である。反応により得られる合成
スチブンサイトは母液から固−液分離し、水洗し、乾燥
して製品とする。
This mixture is charged into an autoclave and subjected to hydrothermal treatment. Hydrothermal treatment conditions may be relatively mild compared to conventional methods, for example, generally 100 to 3 times.
0 to 10 at a temperature of 00 ° C, especially 150 to 200 ° C.
It is preferable to carry out under a pressure of 0 kg / cm 2 G (gauge), especially 6 to 40 kg / cm 2 G. The reaction time is generally 0.5 to 20
An order of time is sufficient. The synthetic stevensite obtained by the reaction is solid-liquid separated from the mother liquor, washed with water and dried to obtain a product.

【0039】ii)ヘクトライト ヘクトライトとしては、天然に産出するヘクトライトも
或いは合成のヘクトライトも、前記条件を満足するもの
であれば何れをも使用することができる。
Ii) Hectorite As hectorite, any of hectorite produced naturally or synthetic hectorite can be used as long as it satisfies the above conditions.

【0040】ヘクトライトは、基本的には下記式(4) Na2/3(Mg16/3 Li2/3)Si8 20(OH)4-xx ……(4) で表わされる基本骨格を有している。通常容易に得られ
るヘクトライトは、フッ素イオンを含むものである。
The hectorite is expressed by the following equation is basically (4) Na 2/3 (Mg 16/3 Li 2/3) Si 8 O 20 (OH) 4-x F x ...... (4) It has a basic skeleton. Hectorite, which is usually easily obtained, contains fluorine ions.

【0041】好適なヘクトライトは、金属成分が実質上
マグネシウム、ケイ素、ナトリウム及びリチウムから成
り、且つ実質上下記式(5) aNa2 O(bMgO・cLi2 O)[8SiO2 ]nH2 O ‥(5) 式中、a,b,c及びnは、式0<a<2、4<b<
6,0<c<1及びn≧2を満足する数である、で表わ
される組成を有する合成ヘクトライトである。
A preferred hectorite is one in which the metal component consists essentially of magnesium, silicon, sodium and lithium, and has substantially the following formula (5): aNa 2 O (bMgO.cLi 2 O) [8SiO 2 ] nH 2 O} (5) In the formula, a, b, c and n are represented by formulas 0 <a <2, 4 <b <
This is a synthetic hectorite having a composition represented by the following formula: 6,0 <c <1 and n ≧ 2.

【0042】本発明に用いるヘクトライトのX線回折像
を図6,8に示す。図6,8から、このヘクトライト
も、スメクタイト粘土鉱物に特有のX線回折像を示すこ
とが分かる。
X-ray diffraction images of hectorite used in the present invention are shown in FIGS. FIGS. 6 and 8 show that this hectorite also shows an X-ray diffraction image specific to the smectite clay mineral.

【0043】このヘクトライトも、上記金属成分のみか
ら形成されることに関連して、一般にハンター白色度が
80%以上、特に90%以上の白色粉末である。
This hectorite is also a white powder generally having a Hunter whiteness of 80% or more, particularly 90% or more, in relation to being formed only from the above-mentioned metal components.

【0044】また、このヘクトライトは、微細な層状化
合物の特性として、やはり比較的大きな比表面積を有し
ており、BET比表面積は一般に50乃至250m2
gの範囲内にある。このため、ヘクトライトを使用する
と、有害物質の吸着性を高めて、光分解性を助長させる
効果が特に大きい。更に、ヘクトライトの紫外線吸光度
は、一般に20%以下であって、紫外線吸光度が特に小
さく、光反応を阻害する程度が小さいという利点があ
る。
The hectorite also has a relatively large specific surface area as a characteristic of a fine layered compound, and the BET specific surface area is generally 50 to 250 m 2 /
g. For this reason, when hectorite is used, the effect of increasing the adsorptivity of harmful substances and promoting photodegradability is particularly large. Furthermore, hectorite generally has an ultraviolet absorbance of 20% or less, and has an advantage that the ultraviolet absorbance is particularly small and the degree of inhibiting the photoreaction is small.

【0045】上記ヘクトライトは、(a)塩基性炭酸マ
グネシウム(4MgCO3 ・Mg(OH)2 ・4H2O)と、(b)(i)
ケイ酸ナトリウム、 (ii) ケイ酸ナトリウム及び非晶質
シリカの組合せ、 (iii) 非晶質シリカ及び水酸化ナト
リウムの組合せから成る群より選ばれたシリカ−ナトリ
ウム成分と、(c)水酸化リチウム及び/又は炭酸リチ
ウムとを実質上前記式(5)で表わされる組成比で含有
する均質懸濁組成物を製造し、該組成物を水熱処理する
ことにより合成される。
The hectorite comprises (a) basic magnesium carbonate (4MgCO 3 .Mg (OH) 2 .4H 2 O), and (b) (i)
Sodium silicate, (ii) a combination of sodium silicate and amorphous silica, (iii) a silica-sodium component selected from the group consisting of a combination of amorphous silica and sodium hydroxide, and (c) lithium hydroxide. And / or lithium carbonate at a composition ratio substantially represented by the formula (5), and the composition is synthesized by subjecting the composition to a hydrothermal treatment.

【0046】合成に際して、反応混合物のpHは一般に
8乃至11、特に8.5乃至10の範囲内にあることが
望ましい。pHの調節は、必要に応じアルカリ金属の水
酸化物或いは炭酸塩を反応系に添加することにより行わ
れる。水熱反応は一般に水性スラリーの状態で行うが、
固形分濃度を1乃至30重量%、特に5乃至15重量%
の範囲とすることが操作性の点で有利である。水熱処理
は、上記原料をオートクレーブに仕込み、加熱すること
により行われる。反応条件は、一般に110乃至200
℃の温度で0.5乃至10時間の処理で十分である。こ
の際、反応系の圧力は0.5乃至15.5Kg/cm2Gに維
持される。
In the synthesis, it is desirable that the pH of the reaction mixture is generally in the range of 8 to 11, particularly 8.5 to 10. The pH is adjusted by adding a hydroxide or carbonate of an alkali metal to the reaction system as needed. The hydrothermal reaction is generally performed in the form of an aqueous slurry,
Solids concentration of 1 to 30% by weight, especially 5 to 15% by weight
Is advantageous in terms of operability. The hydrothermal treatment is performed by charging the above raw materials in an autoclave and heating. The reaction conditions are generally from 110 to 200
A treatment at a temperature of 0 C for 0.5 to 10 hours is sufficient. At this time, the pressure of the reaction system is maintained at 0.5 to 15.5 kg / cm 2 G.

【0047】iii )サポナイト サポナイトとしては、天然に産出するサポナイトも或い
は合成のサポナイトも、前記条件を満足するものであれ
ば何れをも使用することができる。
Iii) Saponite As the saponite, any of a naturally occurring saponite and a synthetic saponite can be used as long as the above conditions are satisfied.

【0048】サポナイトは、基本的には下記式(6) Na2/3(Mg6 )(Si2/3 Al2/3)O20(OH)4-xx ……(6) で表わされる基本骨格を有して成る。サポナイトには、
フッ素イオンを含まないものも知られているが、実用上
得られるものは殆んどフッ素イオンを含むものである。
The saponite is basically represented by the following formula (6): Na 2/3 (Mg 6 ) (Si 2/3 Al 2/3 ) O 20 (OH) 4-x F x (6) Having a basic skeleton. Saponite
Although those containing no fluorine ions are known, those obtained practically contain almost all fluorine ions.

【0049】本発明の目的に特に好適なサポナイトは、
金属成分が実質上マグネシウム、ケイ素、アルミニウ
ム、ナトリウム及びリチウムから成り、実質上下記式
(7) aNa2 O(6MgO)[bSiO2 ・cAl2 3 ]nH2 O‥(7) 式中のa,b,c及びnは、式0<a<2,6<b<
8,c=(b−6)/2及びn≧2を満足する数であ
る、で表わされる組成を有するサポナイトである。
Saponites particularly suitable for the purposes of the present invention are:
The metal component substantially consists of magnesium, silicon, aluminum, sodium and lithium, and is substantially represented by the following formula (7): aNa 2 O (6MgO) [bSiO 2 · cAl 2 O 3 ] nH 2 O ‥ (7) , B, c and n are represented by the expressions 0 <a <2, 6 <b <
8, a saponite having a composition represented by the following formula: c = (b-6) / 2 and n ≧ 2.

【0050】本発明に用いる天然サポナイトのX線回折
像を図11に示す。図11から、この天然サポナイト
も、スメクタイト粘土鉱物に特有のX線回折像を示すこ
とが分かる。
FIG. 11 shows an X-ray diffraction image of the natural saponite used in the present invention. FIG. 11 shows that this natural saponite also shows an X-ray diffraction image unique to the smectite clay mineral.

【0051】このサポナイトも、上記金属成分のみから
形成されることに関連して、一般にハンター白色度が8
0%以上、特に90%以上の白色粉末である。
The saponite also generally has a Hunter whiteness of 8 in relation to being formed only from the above-mentioned metal components.
0% or more, especially 90% or more of white powder.

【0052】また、このサポナイトは、微細な層状化合
物の特性として、やはり比較的大きな比表面積を有して
おり、BET比表面積は一般に30乃至250m2 /g
の範囲内にある。このため、サポナイトを使用すると、
有害物質の吸着性を高めて、光分解性を助長させる効果
が特に大きい。更に、サポナイトの紫外線吸光度は、一
般に20%以下であって、紫外線吸光度が特に小さく、
光反応を阻害する程度が小さいという利点がある。
This saponite also has a relatively large specific surface area as a characteristic of a fine layered compound, and the BET specific surface area is generally 30 to 250 m 2 / g.
Within the range. For this reason, when Saponite is used,
The effect of increasing the adsorptivity of harmful substances and promoting photodegradability is particularly large. Furthermore, the UV absorbance of saponite is generally 20% or less, and the UV absorbance is particularly small.
There is an advantage that the degree of inhibiting the photoreaction is small.

【0053】このサポナイトは、(a)塩基性炭酸マグ
ネシウムと、(b)(i)ケイ酸ナトリウム、(ii)ケ
イ酸ナトリウム及び非晶質シリカの組合せ、(iii)非晶
質シリカ及び水酸化ナトリウムの組合せから成る群より
選ばれたシリカ−ナトリウム成分と、(c)(i)アル
ミン酸ナトリウム、(ii)アルミン酸ナトリウム及び非
晶質アルミナ、から成る群より選ばれたアルミナ−ナト
リウム成分とを実質的に上記式(7)で表わされる組成
比で含有する均質懸濁組成物を製造し、該組成物を水熱
処理することにより合成される。
The saponite can be prepared by: (a) a combination of basic magnesium carbonate and (b) a combination of (i) sodium silicate, (ii) sodium silicate and amorphous silica, (iii) amorphous silica and hydroxide A silica-sodium component selected from the group consisting of sodium combinations; and (c) an alumina-sodium component selected from the group consisting of (i) sodium aluminate, (ii) sodium aluminate and amorphous alumina. Is substantially produced at a composition ratio represented by the above formula (7), and the composition is synthesized by hydrothermally treating the composition.

【0054】反応原料混合物のpHは一般に8乃至1
1、特に8.5乃至10の範囲内にあることが望まし
い。pHの調節は、必要に応じアルカリ金属の水酸化物
或いは炭酸塩を反応系に添加することにより行われる。
水熱反応に先立って、用いる原料を可及的に均一に混合
させて、均質化した水性スラリーを形成させることが、
収率及び純度向上の見地から望ましい。この均質混合は
強剪断攪拌下に行うのがよく、この目的に、高速剪断ミ
キサー、ボールミル、サンドミル、コロイドミル、超音
波照射等を用いることができる。
The pH of the reaction mixture is generally from 8 to 1
1, preferably in the range of 8.5 to 10. The pH is adjusted by adding a hydroxide or carbonate of an alkali metal to the reaction system as needed.
Prior to the hydrothermal reaction, mixing the raw materials to be used as uniformly as possible to form a homogenized aqueous slurry,
It is desirable from the viewpoint of improving yield and purity. This homogenous mixing is preferably performed under strong shear stirring, and for this purpose, a high-speed shear mixer, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, ultrasonic irradiation, or the like can be used.

【0055】また、少量のケイ酸ナトリウムは水溶液中
で塩基性炭酸マグネシウムを均一に分散させる効果があ
るので、原料としてケイ酸ナトリウムで分散させた分散
スラリーを調合してから残りの原料を加えても、均一混
合の目的を達成できる。この場合に用いるケイ酸ナトリ
ウムは水性スラリーに対して0.01乃至10重量%の
範囲で用いるのが望ましい。
Since a small amount of sodium silicate has an effect of uniformly dispersing basic magnesium carbonate in an aqueous solution, a dispersion slurry dispersed with sodium silicate is prepared as a raw material, and the remaining raw material is added. Can also achieve the purpose of uniform mixing. The sodium silicate used in this case is desirably used in the range of 0.01 to 10% by weight based on the aqueous slurry.

【0056】また、水性混合物中の固形分濃度は、一般
に1乃至30重量%、特に5乃至15重量%の範囲にあ
ることが望ましい。この混合物をオートクレーブに仕込
み、水熱処理を行なう。水熱処理条件は、従来法に比し
て比較的温和な条件であってよく、例えば一般に100
乃至300℃、特に150乃至200℃の温度で、0乃
至100Kg/cm2G、特に6乃至40Kg/cm2Gの圧力下に
行なうのがよい。反応時間は一般に0.5乃至20時間
のオーダーで十分である。
The solid content concentration in the aqueous mixture is desirably in the range of generally 1 to 30% by weight, particularly preferably 5 to 15% by weight. This mixture is charged into an autoclave and subjected to hydrothermal treatment. Hydrothermal treatment conditions may be relatively mild conditions as compared with the conventional method, for example, generally 100
It is preferably carried out at a temperature of from 0 to 300 ° C., especially from 150 to 200 ° C., under a pressure of from 0 to 100 kg / cm 2 G, especially from 6 to 40 kg / cm 2 G. Reaction times of the order of 0.5 to 20 hours are generally sufficient.

【0057】[光反応性半導体]本発明に用いる光反応
性半導体は、主に波長が400nm以下の紫外線の照射
により電子・正孔対が生成し、接触している臭気物質な
どを酸化還元反応で分解することができる物質であり、
例えば、酸化チタン、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸
化セリウム、チタン酸ストロンチウム、及びニオブ酸カ
リウム等が挙げられる。これらの内でも、特に酸化チタ
ン、更にアナターゼ型の酸化チタンが好ましく、この場
合正孔のもつ強い酸化力が脱臭能力に関係すると思われ
る。
[Photoreactive Semiconductor] In the photoreactive semiconductor used in the present invention, electron-hole pairs are generated mainly by irradiation of ultraviolet rays having a wavelength of 400 nm or less, and an odorant or the like in contact therewith is subjected to a redox reaction. Is a substance that can be decomposed by
For example, titanium oxide, tungsten oxide, zinc oxide, cerium oxide, strontium titanate, potassium niobate, and the like can be given. Among them, titanium oxide, particularly titanium oxide of the anatase type is preferred. In this case, it is considered that the strong oxidizing power of the holes is related to the deodorizing ability.

【0058】更に、酸化力をより一層高めるために、酸
化チタン、酸化タングステン、酸化亜鉛などの粒子の表
面又は内部に銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、鉄、コバ
ルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、
白金などの金属や金属酸化物の内少なくとも一種を存在
させても良い。
In order to further increase the oxidizing power, copper, silver, gold, zinc, vanadium, iron, cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, copper, silver, gold, zinc, vanadium, iron, cobalt, etc. palladium,
At least one of metals such as platinum and metal oxides may be present.

【0059】これらの光半導体は粉末またはゾルの形態
で用いられ、その一次粒径は5乃至50nmの範囲にあ
ることが好ましい。これらの光反応性半導体は、分散
性、非溶解性の改良のため、脱臭能力をあまり低下させ
ない程度に無機または有機物質で表面処理を行うことも
可能である。
These optical semiconductors are used in the form of a powder or a sol, and the primary particle diameter is preferably in the range of 5 to 50 nm. These photoreactive semiconductors can be subjected to a surface treatment with an inorganic or organic substance to such an extent that the deodorizing ability is not significantly reduced in order to improve dispersibility and insolubility.

【0060】表面を覆う無機物としては、シリカゾル、
エアロジル、疎水処理エアロジル等の微粒子シリカ、ケ
イ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム等のケイ酸塩、カ
ルシア、マグネシア、チタニア等の金属酸化物、水酸化
マグネシウム、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、
炭酸カルシウム等の金属炭酸塩、ハイドロタルサイト、
A型、X型、Y型、P型等の合成ゼオライト及びその酸
処理物又はその金属イオン交換物から成る定形粒子等が
あり、有機物としてはシラン系、アルミニウム系、チタ
ン系或いはジルコニウム系のカップリング剤、高級脂肪
酸、金属石鹸或いは樹脂酸石鹸、または界面活性剤等が
目的に応じて使用される。
As the inorganic material covering the surface, silica sol,
Aerosil, hydrophobic silica particles such as aerosil, calcium silicate, silicates such as magnesium silicate, calcia, magnesia, metal oxides such as titania, magnesium hydroxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide,
Metal carbonates such as calcium carbonate, hydrotalcite,
There are A-type, X-type, Y-type, P-type and other synthetic zeolites and fixed particles of acid-treated products or metal ion-exchanged products thereof. Organic materials include silane-based, aluminum-based, titanium-based and zirconium-based cups. A ring agent, a higher fatty acid, a metal soap or a resin acid soap, a surfactant or the like is used depending on the purpose.

【0061】[含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至そ
のケイ酸質複合体]本発明において、所望により使用さ
れる含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛は、シリカまたは
シリカ−アルミナの四面体層と、ZnO6 −AlO6
八面体層とが二層に積層されたものを基本骨格とし、こ
の基本骨格がc軸方向に積層された構造を有するもので
ある。
[Aluminum-containing zinc phyllosilicate or siliceous composite thereof] In the present invention, the aluminum-containing zinc phyllosilicate optionally used is a tetrahedral layer of silica or silica-alumina, ZnO 6 -AlO The octahedral layer of No. 6 is laminated in two layers as a basic skeleton, and this basic skeleton has a structure of being laminated in the c-axis direction.

【0062】典型的な含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛
は、下記式(8) (Zn3-xAlx)(Si2-xAl)O5(OH) ‥(8) 式中、xは0.1乃至1.75の数であるで表わされる
化学構造を有し、フライポンタイトと呼ばれる。含アル
ミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体は、
白色性に優れており、一般に90%以上のハンター白色
度を有する。
A typical aluminum-containing zinc phyllosilicate is represented by the following formula (8): (Zn 3-x Al x ) (Si 2-x Al) O 5 (OH) ‥ (8) It has a chemical structure represented by being a number from 1 to 1.75 and is called frypontite. Aluminum-containing zinc phyllosilicate or its siliceous composite,
It is excellent in whiteness and generally has a Hunter whiteness of 90% or more.

【0063】含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛は、塩化
アンモニウム等の水溶性塩類水溶液中に、ケイソウ土や
クリストバライト等のケイ酸分原料と、酸化亜鉛等の亜
鉛原料と、ベーマイトゲル等のアルミナ成分とを加え、
オートクレーブ容器中で110乃至160℃で水熱合成
反応を行なうことにより製造される。
The aluminum-containing zinc phyllosilicate is prepared by mixing a raw material for silicic acid such as diatomaceous earth and cristobalite, a zinc raw material such as zinc oxide, and an alumina component such as boehmite gel in an aqueous solution of a water-soluble salt such as ammonium chloride. In addition,
It is manufactured by performing a hydrothermal synthesis reaction at 110 to 160 ° C. in an autoclave container.

【0064】フライポンタイト型含アルミニウムフィロ
ケイ酸亜鉛の構造、物性及び製造方法の詳細は、特開昭
61−10021号、61−275128号、及び61
−275127号公報に記載されている。
For details of the structure, physical properties and production method of the fly-pontite type aluminum-containing zinc phyllosilicate, see JP-A-61-10021, 61-275128, and 61.
-275127.

【0065】本発明では、含アルミニウムフィロケイ酸
亜鉛のケイ酸質複合体を用いるのが特に好ましい。この
複合体は、より詳細には、非晶質で多孔質のシリカ又は
シリカアルミナとその一次粒子表面に形成された含アル
ミニウムフィロケイ酸亜鉛層とから成っている。
In the present invention, it is particularly preferable to use a siliceous composite of aluminum-containing zinc phyllosilicate. More specifically, the composite comprises amorphous and porous silica or silica-alumina and an aluminum-containing zinc phyllosilicate layer formed on the surface of the primary particles.

【0066】その化学的組成は、全体として、3成分組
成比でSiO2 5乃至80モル%、ZnO 5乃至65
モル%、及びAl23 1乃至60モル%である。
The chemical composition as a whole is 5 to 80 mol% of SiO 2 and 5 to 65 mol of ZnO in a three-component composition ratio.
It is the mole%, and Al 2 0 3 1 to 60 mol%.

【0067】このケイ酸質複合体は、X線回折で、面間
隔dX 8.40〜6.40オングストロームに実質上
ピークを有していなく、面間隔dX 2.71〜2.5
6オングストロームと、面間隔dX 1.56〜1.5
2オングストロームにピークを有し、比表面積が200
2 /g以上であり、細孔半径10乃至300オングス
トロームにおける細孔容積が0.25cc/g以上であ
る。
The siliceous composite had substantially no peak at a plane spacing dX of 8.40 to 6.40 angstroms in X-ray diffraction, and had a plane spacing dX of 2.71 to 2.5.
6 angstroms and surface spacing dX 1.56-1.5
It has a peak at 2 Å and a specific surface area of 200
m 2 / g or more, and the pore volume at a pore radius of 10 to 300 Å is 0.25 cc / g or more.

【0068】この複合型の含アルミニウムフィロケイ酸
亜鉛のX線回折像を添付図面の図17に、またその粒子
構造を図18の走査型電子顕微鏡写真に示す。
The X-ray diffraction image of this composite type aluminum-containing zinc phyllosilicate is shown in FIG. 17 of the accompanying drawings, and the particle structure thereof is shown in the scanning electron micrograph of FIG.

【0069】[有害物質除去剤組成物]本発明の有害物
質除去剤は、(A)水膨潤性のトリオクタヘドラル型ス
メクタイトと(B)光反応性半導体とを(A):(B)
=1:4乃至19:1の重量比で含有するのが好まし
く、特に好適には1:2乃至2:1の重量比で含有する
のが良い。水膨潤性のトリオクタヘドラル型スメクタイ
トの含有量が上記範囲を下回ると、バインダーとしての
作用が不十分となって、成形性や塗布性が低下し、また
吸着性も低下して、光分解促進作用も低下する傾向があ
る。一方、光反応性半導体の含有量が上記範囲を下回る
と、やはり光反応性が低下するようになる。
[Hazardous substance removing agent composition] The harmful substance removing agent of the present invention comprises (A) a water-swellable trioctahedral smectite and (B) a photoreactive semiconductor (A): (B)
= 1: 4 to 19: 1, preferably in a weight ratio of 1: 2 to 2: 1. When the content of the water-swellable trioctahedral type smectite is below the above range, the action as a binder becomes insufficient, the moldability and coatability are reduced, and the adsorptivity is also reduced, and the photodecomposition is reduced. The promoting effect also tends to decrease. On the other hand, when the content of the photoreactive semiconductor falls below the above range, the photoreactivity also decreases.

【0070】また、(C)含アルミニウムフィロケイ酸
亜鉛乃至そのケイ酸質複合体は、前記(A)トリオクタ
ヘドラル型スメクタイト及び(B)光反応性半導体の合
計量100重量部当たり1乃至40重量部、特に20乃
至34重量部の量で用いるのがよい。含アルミニウムフ
ィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体の量が上記範囲
よりも低い場合には、極性物質の吸着やそれによる光分
解促進作用が不十分となる傾向があり、一方上記の量よ
りも多い量で使用しても格別の効果はなく、かえって光
分解作用が低下する傾向がある。
Further, (C) the aluminum-containing zinc phyllosilicate or the siliceous complex thereof is used in an amount of from 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A) the trioctahedral smectite and (B) the photoreactive semiconductor. It is preferred to use 40 parts by weight, especially 20 to 34 parts by weight. When the amount of the aluminum-containing zinc phyllosilicate or the siliceous complex thereof is lower than the above range, the adsorption of the polar substance and the photodegradation promoting action thereby tend to be insufficient. Even if used in a large amount, there is no particular effect, and the photodegradation effect tends to be rather reduced.

【0071】本発明の有害物質除去剤組成物は、種々の
基体表面に塗布し、光触媒担持体としての用途に供する
こともできるし、またこの組成物を造粒して有害物質除
去剤としての用途に供することもできる。
The harmful substance remover composition of the present invention can be applied to various substrate surfaces and used for a photocatalyst carrier, or the composition can be granulated to form a harmful substance remover. It can also be used for applications.

【0072】基体塗布用分散液の場合、前記の有害物質
除去剤を溶媒に分散させて用いることができる。溶媒と
しては水又は有機溶媒を用いることができ、一般に固形
分濃度が0.25乃至1.5重量%、特に0.5乃至1
重量%となる水性分散体を調製するのがよい。
In the case of a dispersion for coating a substrate, the above-mentioned harmful substance removing agent can be used by dispersing it in a solvent. As the solvent, water or an organic solvent can be used, and generally has a solid content of 0.25 to 1.5% by weight, particularly 0.5 to 1% by weight.
It is preferable to prepare an aqueous dispersion to give a percentage by weight.

【0073】[有害物質除去剤及び光触媒担持体]本発
明の有害物質除去剤を施す基体としては、各種ハニカ
ム、シート、パイプ、リング、粒状物等の成形体を挙げ
ることができるが、この中でも表面積が大きく、圧力損
失が少ないという点で、ハニカムが優れている。
[Hazardous substance removing agent and photocatalyst carrier] Examples of the substrate on which the harmful substance removing agent of the present invention is applied include molded bodies such as various honeycombs, sheets, pipes, rings, and granular materials. Honeycombs are excellent in that they have a large surface area and low pressure loss.

【0074】ハニカム基体としては、耐酸化性を有する
素材であれば何れでもよく、例えばアルミニウム、アル
ミニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、スチール、ス
テンレススチール、チンフリースチール等の金属製ハニ
カムや、アルミナ、ジルコニア、シリカ、窒化アルミニ
ウム、窒化ホウ素、窒化珪素、窒化チタン、炭化珪素、
炭化ホウ素、炭化チタン、炭化タングステン、各種粘土
鉱物等のセラミックハニカム等を挙げることができる。
As the honeycomb substrate, any material having oxidation resistance may be used. For example, metal honeycombs such as aluminum, aluminum alloy, nickel, nickel alloy, steel, stainless steel and chin-free steel, alumina, zirconia , Silica, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, titanium nitride, silicon carbide,
Examples include ceramic honeycombs such as boron carbide, titanium carbide, tungsten carbide, and various clay minerals.

【0075】一般に金属製のハニカム構造体は、自動車
用の触媒や脱臭剤担体などの用途に大量に使用されてい
るため、容易にしかも安価に入手しうるという利点があ
る。金属製ハニカムは、成形加工がしやすく、セル壁を
極限まで薄くできるので、単位断面積中のセル数を多く
とることができ、経済性にも優れている。その中でも特
にアルミニウムを用いたハニカムは耐腐食性においても
優れるため、好ましい。
In general, metal honeycomb structures are used in large quantities for applications such as automobile catalysts and deodorant carriers, and therefore have the advantage of being easily and inexpensively available. Metal honeycombs are easy to form and can have as thin a cell wall as possible, so that the number of cells in a unit cross-sectional area can be increased and economic efficiency is excellent. Among them, a honeycomb using aluminum is particularly preferable because of its excellent corrosion resistance.

【0076】ハニカムのセル数は、ハニカム素材や用途
によっても相違するが、一般に単位面積(in2 )当た
り100乃至1000個の範囲、特に120乃至250
の範囲にあるのが好ましい。
The number of cells of the honeycomb varies depending on the honeycomb material and application, but is generally in the range of 100 to 1000 cells per unit area (in 2 ), particularly in the range of 120 to 250 cells.
Is preferably within the range.

【0077】本発明の有害物質除去剤を担持させる基体
としては、上記ハニカム類の他に、例えば、ガラス繊
維、アルミナ繊維、炭化珪素繊維、チタン酸カリウム繊
維、金属繊維、炭素繊維、ホルマイト族鉱物繊維等の無
機繊維から成るシートを挙げることができる。即ち、こ
れらの繊維のステープル繊維或いはフィラメントから成
る織布、編布或いは不織布等が何れも使用される。
As the substrate on which the harmful substance removing agent of the present invention is supported, besides the above honeycombs, for example, glass fiber, alumina fiber, silicon carbide fiber, potassium titanate fiber, metal fiber, carbon fiber, formite group mineral Examples include sheets made of inorganic fibers such as fibers. That is, a woven fabric, a knitted fabric, a nonwoven fabric, or the like made of staple fibers or filaments of these fibers is used.

【0078】基体の他の例としては、種々の無機粒状物
をも挙げることができる。無機粒状物の径は一般に0.
1乃至10mm、特に1乃至5mmの範囲にあることが
好ましく、無機粒状物としては、ガラスビーズ、発泡ガ
ラスビーズ、シラスバルーン、各種粒状ゼオライト乃至
その非晶質化物、クレー粒状体、粒状活性炭、シリカビ
ーズ、アルミナビーズ、シリカ−アルミナビーズ等を挙
げることができる。
Other examples of the substrate include various inorganic particles. In general, the diameter of the inorganic particulate material is about 0.1.
It is preferably in the range of 1 to 10 mm, particularly 1 to 5 mm. Examples of the inorganic particles include glass beads, foamed glass beads, shirasu balloons, various types of zeolites or amorphous materials thereof, clay particles, granular activated carbon, and silica. Examples include beads, alumina beads, and silica-alumina beads.

【0079】ハニカムやシートに担持させる有害物質除
去剤の塗布量は、その用途等によっても相違するが、一
般に単位表面積当たり2乃至50g/m2 、特に5乃至
10g/m2 の範囲にあるのが好ましい。塗布量が上記
範囲を下回ると、光分解作用の持続性の点で不満足であ
り、一方上記範囲よりも多い量で塗布しても、格別の利
点はなく、経済的に不利となる。
The amount of the harmful substance removing agent to be carried on the honeycomb or the sheet varies depending on the use or the like, but is generally in the range of 2 to 50 g / m 2 , particularly 5 to 10 g / m 2 per unit surface area. Is preferred. If the amount is less than the above range, the photodegradation effect is unsatisfactory in persistence. On the other hand, if the amount is more than the above range, there is no particular advantage and it is economically disadvantageous.

【0080】一方、無機粒状物に担持させる場合には、
粒状物の密度によっても相違するが、一般に粒状物10
0重量部当たり、0.1乃至100重量部、特に1乃至
10重量部の量で担持させることが、同様な理由で好ま
しい。
On the other hand, when it is carried on inorganic particulate matter,
Although it depends on the density of the granular material, generally, the granular material 10
It is preferable to support 0.1 to 100 parts by weight, particularly 1 to 10 parts by weight, per 0 parts by weight for the same reason.

【0081】塗布用の分散液は、次のように調製する。
即ち、水膨潤性のトリオクタヘドラル型スメクタイトを
水中に分散させ、次いでこの分散液に光反応性半導体及
び必要に応じ含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至その
ケイ酸質複合体を分散させる。
The dispersion for coating is prepared as follows.
That is, water-swellable trioctahedral smectite is dispersed in water, and then the photoreactive semiconductor and, if necessary, aluminum-containing zinc phyllosilicate or a siliceous composite thereof are dispersed in the dispersion.

【0082】基体への分散液の塗布は、それ自体公知の
手段、例えば浸漬塗布、スプレー塗布、ロールコート、
ドクターコート等で行うことができる。本発明の有害物
質除去剤は、優れたチクソトロピー的特性を有している
ため、簡単な浸漬塗布により、一定の膜厚のコート層を
確実に形成させ得るという利点がある。
The dispersion is applied to the substrate by any means known per se, such as dip coating, spray coating, roll coating,
It can be performed with a doctor coat or the like. Since the harmful substance removing agent of the present invention has excellent thixotropic properties, there is an advantage that a coat layer having a constant film thickness can be surely formed by simple dip coating.

【0083】形成される担持体は、乾燥及び焼成により
製品となる。好ましくは、最終焼成温度を250℃以
上、より好ましくは300℃乃至650℃、さらに好ま
しくは300℃乃至450℃とするのが耐水性の面でも
好ましい。
The formed support is turned into a product by drying and firing. Preferably, the final firing temperature is 250 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. to 650 ° C., and even more preferably 300 ° C. to 450 ° C. in terms of water resistance.

【0084】既に述べたとおり、本発明の有害物質除去
剤は、格別の基体に担持させることなく、粒状物の形で
有害物質除去剤として用いることができる。粒状物の製
造には、転動造粒、押出造粒、圧縮造粒、スプレー乾燥
造粒等のそれ自体公知の造粒法を用いることができる。
粒状物の形態は、球状、タブレット、円柱状、角柱状、
ダイス状等の任意の形状であってよく、その粒径は一般
に0.1乃至10mm、特に1乃至5mmの範囲にあっ
てよい。
As described above, the harmful substance removing agent of the present invention can be used as a harmful substance removing agent in the form of granules without being carried on a special substrate. For the production of the granular material, a granulation method known per se such as tumbling granulation, extrusion granulation, compression granulation, and spray drying granulation can be used.
Granular forms are spherical, tablet, cylindrical, prismatic,
It may be of any shape, such as a die, and its particle size may generally be in the range of 0.1 to 10 mm, especially 1 to 5 mm.

【0085】本発明の有害物質除去剤や光触媒担持体
は、大気中や水中の有害物質の除去に広く使用すること
ができる。このような有害成分としては、アルデヒド、
ケトン等の揮発性炭化水素、フェノール類等の芳香族系
酸、メルカプタン等の有機含硫黄化合物、有機リン化合
物、有機含窒素化合物、アンモニア、硫化水素、NOx
等が挙げられる。
The harmful substance removing agent and the photocatalyst carrier of the present invention can be widely used for removing harmful substances in the air and water. Such harmful components include aldehydes,
Volatile hydrocarbons such as ketones, aromatic acids such as phenols, organic sulfur-containing compounds such as mercaptan, organic phosphorus compounds, organic nitrogen-containing compounds, ammonia, hydrogen sulfide, NOx
And the like.

【0086】これらの有害物質を除去するためには、有
害物質除去剤や光触媒担持体とを、光反応性半導体が活
性化される光の照射下に、処理すべき気体或いは液体と
接触させればよく、その方法は特に限定されない。
In order to remove these harmful substances, a harmful substance remover or a photocatalyst carrier is brought into contact with a gas or liquid to be treated under irradiation of light for activating the photoreactive semiconductor. The method is not particularly limited.

【0087】照射する光としては、一般に波長が400
乃至200nmの紫外線が使用しやすく、光源として
は、ブラックライト、低圧水銀灯、高圧水銀灯等が使用
される。
The light to be applied generally has a wavelength of 400
Ultraviolet light having a wavelength of from about 200 nm to 200 nm is easily used, and a black light, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like is used as a light source.

【0088】[0088]

【実施例】本発明を次の例で説明する。本実施例で行わ
れた測定方法は、以下のとおりである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the following examples. The measuring method performed in the present example is as follows.

【0089】(1)BET比表面積 カルロエルバ社製Sorptomatic Serie
s 1900を使用し、BET法により測定した。 (2)チクソトロピー指数、粘度 東機産業(株)製B型粘度計を使用し、粘度を測定し
た。 (3)紫外線吸光度 日本分光(株)製可視紫外分光光度計UVIDEC−6
50型を用いて吸光度を測定した。 (4)X線回折測定 理学電機(株)製のRAD−IBシステムを用いて、C
u−Kαにて測定した。 ターゲット Cu フィルター 湾曲結晶グラファイトモノクロメーター 検出器 SC 電圧 40KV 電流 20mA カウントフルスケール 10000c/s スムージングポイント 25 走査速度 4°/min ステップサンプリング 0.033° スリット DS1° RS0.15mm SS1° 照角 6° (5)走査型電子顕微鏡観察 日立(株)製走査電子顕微鏡S−570を用いて観察、撮
影した。 (6)静的脱臭能力測定 ガス採取用シリコンゴム栓付き1.8リットル密閉ガラ
ス容器に試料を一定量秤取した。次に注射器にてアルデ
ヒドガス及びエチルメルカプタンガスをそれぞれ50
0、750ppm添加し1時間後容器中のガス濃度をガ
スクロマトグラフィーにより定量した。 (7)動的脱臭能力測定(吸着容量、分解速度) 各試料ハニカム(80×80mm、厚さ10mm、12
0セル/in2 )をプラスチック容器(5.5リット
ル)に入れた。次に注射器にてアルデヒドガスを120
0ppm添加し、一定時間毎に容器中のガス濃度をガス
クロマトグラフィーにより定量し、吸着容量を求めた。
1時間経過後ブラックライトを連続照射し、更に一定時
間毎に容器中のガス濃度をガスクロマトグラフィーによ
り定量し、吸着容量を求め、分解速度を算出した。 (8)展開性測定 アルミ箔に塗液を適当量滴らし60℃で乾燥した。乾燥
後の膜形成の状態を観察した。評価基準は下記の通りと
した。 ○:非常に展開しやすく、均一で密着性のよい膜ができ
る。 △:展開しやすく、密着性の良い膜ができる。 ×:展開しにくく、膜に剥離が見られる。 (9)塗膜強度測定 アルミ板上に塗液を適当量滴らし、バーコーター(22
ミル)により膜厚を一定にした後60℃で乾燥し試料を
調製した。得られた試料を本不二(株)製鉛筆引っ掻き
値試験機(荷重1Kg)により塗膜強度を測定した。評価
は次の通りとする。 硬い7H>6H>5H>4H>3H>2H>H>HB>B>2B>3B>4B>5B>6B>7B軟ら
かい
(1) BET specific surface area Sortomatic Series manufactured by Carlo Elba
s 1900 was used and measured by the BET method. (2) Thixotropic index and viscosity The viscosity was measured using a B-type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. (3) Ultraviolet absorbance Visible ultraviolet spectrophotometer UVIDEC-6 manufactured by JASCO Corporation
The absorbance was measured using a Model 50. (4) X-ray diffraction measurement Using a RAD-IB system manufactured by Rigaku Denki,
It was measured by u-Kα. Target Cu filter Curved crystal graphite monochromator Detector SC voltage 40KV Current 20mA Count full scale 10,000c / s Smoothing point 25 Scanning speed 4 ° / min Step sampling 0.033 ° Slit DS1 ° RS0.15mm SS1 ° Illumination angle 6 ° (5 ) Scanning electron microscope observation Observation and photographing were performed using a scanning electron microscope S-570 manufactured by Hitachi, Ltd. (6) Measurement of static deodorizing ability A fixed amount of a sample was weighed in a 1.8-liter closed glass container equipped with a silicon rubber stopper for gas sampling. Next, an aldehyde gas and an ethyl mercaptan gas were respectively injected with a syringe to 50 times.
One hour after adding 0,750 ppm, the gas concentration in the container was determined by gas chromatography. (7) Measurement of dynamic deodorizing ability (adsorption capacity, decomposition rate) Each sample honeycomb (80 × 80 mm, thickness 10 mm, 12
0 cells / in 2 ) were placed in a plastic container (5.5 liters). Next, aldehyde gas was injected with a syringe to 120
0 ppm was added, and the gas concentration in the container was quantified at regular intervals by gas chromatography to determine the adsorption capacity.
After one hour, black light was continuously irradiated, and the gas concentration in the container was quantified at regular intervals by gas chromatography, the adsorption capacity was determined, and the decomposition rate was calculated. (8) Measurement of expandability An appropriate amount of a coating solution was dropped on an aluminum foil and dried at 60 ° C. The state of film formation after drying was observed. The evaluation criteria were as follows. :: Very easy to develop, a uniform and good adhesion film is formed. Δ: A film which is easy to develop and has good adhesion is formed. X: Difficult to develop, peeling is seen in the film. (9) Measurement of coating film strength An appropriate amount of the coating liquid was dropped on an aluminum plate, and a bar coater (22
After the film thickness was made constant by a mill, the sample was dried at 60 ° C. to prepare a sample. The coating strength of the obtained sample was measured by a pencil scratch value tester (load 1 kg) manufactured by Fuji Corporation. The evaluation is as follows. Hard 7H>6H>5H>4H>3H>2H>H>HB>B>2B>3B>4B>5B>6B> 7B Soft

【0090】(実施例1)水400gに合成スチブンサ
イト(イオナイト:SiO2 60%,MgO30%:水
澤化学工業製)1gと光反応性半導体としてアナターゼ
型酸化チタンスラリー(TiO2 含有量40.5%)
(STS−21:石原産業製)2.47gを添加し、室
温で十分撹拌混合して分散液を得た。この分散液を11
0℃で24時間乾燥し白色粉末(試料1−1)を得た。
用いた合成スチブンサイトのチクソトロピー指数、粘
度、BET比表面積、紫外線吸光度を表1に示し、X線
回折像を図1に、走査型電子顕微鏡写真を図2に示す。
この試料1−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表
2に示す。更に、この分散液にセル数が250セル/in
2 、厚さ1cmの金属アルミニウム製ハニカムを浸漬
し、その表面に担持し60℃で24時間かけて乾燥した
後、150℃恒温乾燥機で乾燥し試料ハニカム(試料1
−2)を得た。得られたハニカム試料1−2の担持量、
吸着容量、分解速度を表3に示す。
Example 1 1 g of synthetic stevensite (ionite: 60% SiO 2 , 30% MgO: manufactured by Mizusawa Chemical Industry) in 400 g of water and an anatase type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor )
(STS-21: manufactured by Ishihara Sangyo) 2.47 g was added, and the mixture was sufficiently stirred and mixed at room temperature to obtain a dispersion. This dispersion is
After drying at 0 ° C. for 24 hours, a white powder (sample 1-1) was obtained.
The thixotropy index, viscosity, BET specific surface area, and ultraviolet absorbance of the used synthetic stevensite are shown in Table 1, an X-ray diffraction image is shown in FIG. 1, and a scanning electron micrograph is shown in FIG.
Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 1-1. Further, the dispersion has a cell number of 250 cells / in.
2. A 1-cm-thick metallic aluminum honeycomb is immersed, supported on the surface and dried at 60 ° C. for 24 hours, and then dried by a 150 ° C. constant-temperature dryer to obtain a sample honeycomb (sample 1).
-2) was obtained. Supported amount of the obtained honeycomb sample 1-2,
Table 3 shows the adsorption capacity and decomposition rate.

【0091】(実施例2)水400gに実施例1の合成
スチブンサイト2gと光反応性半導体としてアナターゼ
型酸化チタンスラリー(TiO2 含有量40.5%)
2.47gを添加し、室温で十分撹拌混合して分散液を
得た。この分散液を110℃で24時間乾燥し白色粉末
(試料2−1)を得た。この試料2−1の静的脱臭能
力、展開性、塗膜強度を表2に示す。更に、この分散液
にセル数が250セル/in2 、厚さ1cmの金属アルミ
ニウム製ハニカムを入れ、その表面に担持し60℃で2
4時間かけて乾燥した後、150℃恒温乾燥機で乾燥し
試料ハニカム(試料2−2)を得た。得られたハニカム
試料2−2の担持量、吸着容量、分解速度を表3に示
す。
(Example 2) 2 g of the synthetic stevensite of Example 1 and 400 ml of water and an anatase type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor
2.47 g was added, and the mixture was sufficiently stirred and mixed at room temperature to obtain a dispersion. This dispersion was dried at 110 ° C. for 24 hours to obtain a white powder (sample 2-1). Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 2-1. Further, a metal aluminum honeycomb having a cell number of 250 cells / in 2 and a thickness of 1 cm was put into the dispersion, and the honeycomb was supported on the surface and heated at 60 ° C. for 2 hours.
After drying for 4 hours, the sample was dried with a constant temperature dryer at 150 ° C. to obtain a sample honeycomb (sample 2-2). Table 3 shows the carried amount, adsorption capacity, and decomposition rate of the obtained honeycomb sample 2-2.

【0092】(実施例3)水400gに実施例1の合成
スチブンサイト1gと光反応性半導体としてアナターゼ
型酸化チタンスラリー(TiO2 含有量40.5%)
4.94gを添加し、十分撹拌混合して分散液を得た。
この分散液を110℃で24時間乾燥し白色粉末(試料
3−1)を得た。この試料3−1の静的脱臭能力、展開
性、塗膜強度を表2に示す。更に、この分散液にセル数
が250セル/in2 、厚さ1cmの金属アルミニウム
製ハニカムを入れ、その表面に担持し60℃で24時間
かけて乾燥した後、150℃恒温乾燥機で乾燥し試料ハ
ニカム(試料3−2)を得た。得られたハニカム試料3
−2の担持量、吸着容量、分解速度を表3に、動的消臭
能力を図3に示す。
Example 3 1 g of the synthetic stevensite of Example 1 and 400 ml of water as an anatase type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor
4.94 g was added and sufficiently stirred and mixed to obtain a dispersion.
This dispersion was dried at 110 ° C. for 24 hours to obtain a white powder (sample 3-1). Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 3-1. Further, a metal aluminum honeycomb having a cell number of 250 cells / in 2 and a thickness of 1 cm was put into this dispersion, and was carried on the surface thereof and dried at 60 ° C. for 24 hours, followed by drying at 150 ° C. constant temperature drier. A sample honeycomb (sample 3-2) was obtained. Obtained honeycomb sample 3
The supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate of No.-2 are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.

【0093】(実施例4)水400gに合成スチブンサ
イト1gと光反応性半導体としてアナターゼ型酸化チタ
ンスラリー(TiO2 含有量40.5%)2.74gと
含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合体(ミズ
カナイトHP:SiO2 50%、Al2316%、Zn
O34%:水澤化学工業製)0.5gを添加し、室温で
十分撹拌混合して分散液を得た。この分散液を110℃
で24時間乾燥し白色粉末(試料4−1)を得た。この
試料4−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に
示す。更に、この分散液にセル数が250セル/i
2 、厚さ1cmの金属アルミニウム製ハニカムを入
れ、その表面に合成スチブンサイトとアナターゼ型酸化
チタンと含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合
体を担持し60℃で24時間かけて乾燥した後、150
℃恒温乾燥機で乾燥し試料ハニカム(試料4−2)を得
た。得られたハニカム試料4−2の担持量、吸着容量、
分解速度を表3に示す。
Example 4 1 g of synthetic stevensite in 400 g of water, 2.74 g of anatase-type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor, and aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicate composite (Mizukanaito HP: SiO 2 50%, Al 2 O 3 16%, Zn
O34%: manufactured by Mizusawa Chemical Industry) (0.5 g) was added and sufficiently stirred and mixed at room temperature to obtain a dispersion. 110 ° C
For 24 hours to obtain a white powder (sample 4-1). Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 4-1. Further, the dispersion has a cell number of 250 cells / i.
n 2 , a 1-cm-thick honeycomb made of metallic aluminum was put, and a synthetic stevensite, anatase-type titanium oxide, and an aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicic acid complex were supported on the surface thereof and dried at 60 ° C. for 24 hours. 150
The sample was dried by a constant temperature drier to obtain a sample honeycomb (sample 4-2). The amount of supported honeycomb sample 4-2, the adsorption capacity,
Table 3 shows the decomposition rates.

【0094】(実施例5)水400gに合成スチブンサ
イト2gと光反応性半導体としてアナターゼ型酸化チタ
ンスラリー(TiO2 含有量40.5%)2.47gと
含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合体(ミズ
カナイトHP:水澤化学工業製)0.25gを添加し、
十分撹拌混合して分散液を得た。この分散液を110℃
で24時間乾燥し白色粉末(試料5−1)を得た。この
試料5−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に
示す。更に、この分散液にセル数が250セル/i
2 、厚さ1cmの金属アルミニウム製ハニカムを入
れ、その表面に合成スチブンサイトとアナターゼ型酸化
チタンと含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合
体を担持し60℃で24時間かけて乾燥した後、150
℃恒温乾燥機で乾燥し試料ハニカム(試料5−2)を得
た。得られたハニカム試料5−2の担持量、吸着容量、
分解速度を表3に示す。
Example 5 2 g of synthetic stevensite in 400 g of water, 2.47 g of an anatase-type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor, and an aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicate composite (Mizukanite HP: manufactured by Mizusawa Chemical Industry) 0.25 g was added,
The mixture was sufficiently stirred and mixed to obtain a dispersion. 110 ° C
For 24 hours to obtain a white powder (sample 5-1). Table 2 shows the static deodorizing ability, developability, and coating film strength of Sample 5-1. Further, the dispersion has a cell number of 250 cells / i.
n 2 , a 1-cm-thick honeycomb made of metallic aluminum was put, and a synthetic stevensite, anatase-type titanium oxide, and an aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicic acid complex were supported on the surface thereof and dried at 60 ° C. for 24 hours. 150
The sample was dried by a constant temperature drier to obtain a sample honeycomb (sample 5-2). The amount of supported honeycomb sample 5-2, the adsorption capacity,
Table 3 shows the decomposition rates.

【0095】(実施例6)水400gに合成スチブンサ
イト2gと光反応性半導体としてアナターゼ型酸化チタ
ンスラリー(TiO2 含有量40.5%)1.24gと
含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合体(ミズ
カナイトHP:水澤化学工業製)0.25gを添加し、
十分撹拌混合して分散液を得た。この分散液を110℃
で24時間乾燥し白色粉末(試料6−1)を得た。この
試料6−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に
示す。更に、この分散液にセル数が250セル/i
2 、厚さ1cmの金属アルミニウム製ハニカムを入
れ、その表面に合成スチブンサイトとアナターゼ型酸化
チタンと含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合
体を担持し60℃で24時間かけて乾燥した後、150
℃恒温乾燥機で乾燥し試料ハニカム(試料6−2)を得
た。得られたハニカム試料6−2の担持量、吸着容量、
分解速度を表3に、動的消臭能力を図4に示す。
Example 6 2 g of synthetic stevensite in 400 g of water, 1.24 g of anatase-type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor, and aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicate composite (Mizukanite HP: manufactured by Mizusawa Chemical Industry) 0.25 g was added,
The mixture was sufficiently stirred and mixed to obtain a dispersion. 110 ° C
For 24 hours to obtain a white powder (sample 6-1). Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 6-1. Further, the dispersion has a cell number of 250 cells / i.
n 2 , a 1-cm-thick honeycomb made of metallic aluminum was put, and a synthetic stevensite, anatase-type titanium oxide, and an aluminum-containing phyllosilicate-zinc silicic acid complex were supported on the surface thereof and dried at 60 ° C. for 24 hours. 150
The sample was dried by a constant temperature drier to obtain a sample honeycomb (sample 6-2). The amount of the obtained honeycomb sample 6-2 carried, the adsorption capacity,
The decomposition rate is shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.

【0096】(実施例7)水400gに合成スチブンサ
イト2gと光反応性半導体としてアナターゼ型酸化チタ
ンスラリー(TiO2 含有量40.5%)gと含アルミ
ニウムフィロケイ酸亜鉛ケイ酸質複合体(ミズカナイト
HP:水澤化学工業製)0.25gと微粉末活性炭0.
25gを添加し、十分撹拌混合して分散液を得た。この
分散液を110℃で24時間乾燥し粉末(試料7−1)
を得た。この粉末を実施例6同様に処理し、試料ハニカ
ム7−2を得た。試料7−1の静的脱臭能力、展開性、
塗膜強度を表2に示す。得られたハニカム試料7−2の
担持量、吸着容量、分解速度を表3に、動的消臭能力を
図5に示す。
(Example 7) In 400 g of water, 2 g of synthetic stevensite, g of anatase-type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor, and zinc silicate composite containing aluminum phyllosilicate (Mizukanite) (HP: manufactured by Mizusawa Chemical Industries) 0.25 g and fine powdered activated carbon
25 g was added, and the mixture was sufficiently stirred and mixed to obtain a dispersion. This dispersion was dried at 110 ° C. for 24 hours and powdered (Sample 7-1)
I got This powder was treated in the same manner as in Example 6 to obtain a sample honeycomb 7-2. The static deodorizing ability, deployability of Sample 7-1,
Table 2 shows the coating film strength. The supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate of the obtained honeycomb sample 7-2 are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.

【0097】(実施例8〜9)実施例3、6の合成スチ
ブンサイトを合成ヘクトライトに変更した以外は同様に
各粉末試料8−1〜9−1を得た。用いた合成ヘクトラ
イトのチクソトロピー指数、粘度、BET比表面積、紫
外線吸光度を表1に示し、X線回折像を図6に示す。こ
の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に示す。更に
実施例3,6と同様にして試料ハニカム8−2〜9−2
を得た。この担持量、吸着容量、分解速度を表3に、試
料ハニカム9−2の動的消臭能力を図7に示す。
(Examples 8 to 9) Powder samples 8-1 to 9-1 were obtained in the same manner as in Examples 3 and 6, except that the synthetic stevensite was changed to synthetic hectorite. The thixotropy index, viscosity, BET specific surface area, and ultraviolet absorbance of the used synthetic hectorite are shown in Table 1, and the X-ray diffraction image is shown in FIG. Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength. Further, in the same manner as in Examples 3 and 6, sample honeycombs 8-2 to 9-2 were used.
I got The supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability of the sample honeycomb 9-2 is shown in FIG.

【0098】(実施例10〜11)実施例3、6のイオ
ナイトを天然ヘクトライトに変更した以外は同様に各粉
末試料10−1〜11−1を得た。用いた天然ヘクトラ
イトのチクソトロピー指数、粘度、BET比表面積、紫
外線吸光度を表1に示し、X線回折像を図8に、走査型
電子顕微鏡写真を図9に示す。この静的脱臭能力、展開
性、塗膜強度を表2に示す。更に実施例3,6と同様に
して試料ハニカム10−2〜11−2を得た。この担持
量、吸着容量、分解速度を表3に、試料ハニカム11−
2の動的消臭能力を図10に示す。
(Examples 10 to 11) Powder samples 10-1 to 11-1 were obtained in the same manner as in Examples 3 and 6, except that the ionite was changed to natural hectorite. The thixotropy index, viscosity, BET specific surface area, and ultraviolet absorbance of the natural hectorite used are shown in Table 1, an X-ray diffraction image is shown in FIG. 8, and a scanning electron micrograph is shown in FIG. Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength. Further, sample honeycombs 10-2 to 11-2 were obtained in the same manner as in Examples 3 and 6. Table 3 shows the supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate.
FIG. 10 shows the dynamic deodorizing ability of No. 2.

【0099】(実施例12〜13)実施例3、6のイオ
ナイトを天然サポナイトに変更した以外は同様に各粉末
試料12−1〜13−1を得た。用いた天然サポナイト
のチクソトロピー指数、粘度、BET比表面積、紫外線
吸光度を表1に示し、X線回折像を図11に、走査型電
子顕微鏡写真を図12に示す。この静的脱臭能力、展開
性、塗膜強度を表2に示す。更に実施例3,6と同様に
して試料ハニカム12−2〜13−2を得た。この担持
量、吸着容量、分解速度を表3に、試料ハニカム13−
2の動的消臭能力を図13に示す。
(Examples 12 to 13) Powder samples 12-1 to 13-1 were obtained in the same manner as in Examples 3 and 6 except that the ionite was changed to natural saponite. The thixotropy index, viscosity, BET specific surface area, and ultraviolet absorbance of the natural saponite used are shown in Table 1, an X-ray diffraction image is shown in FIG. 11, and a scanning electron micrograph is shown in FIG. Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength. Further, sample honeycombs 12-2 to 13-2 were obtained in the same manner as in Examples 3 and 6. Table 3 shows the supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate.
FIG. 13 shows the dynamic deodorizing ability of No. 2.

【0100】(比較例1)水400gに合成スチブンサ
イト1gと天然ゼオライト(平均粒径5μm)1gを添
加し、十分撹拌混合して分散液を得た。この分散液を1
10℃で24時間乾燥し白色粉末(試料14−1)を得
た。この試料14−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強
度を表3に示す。更に、この分散液にセル数が250セ
ル/in2 、厚さ1cmの金属アルミニウム製ハニカム
を入れ、その表面に担持し60℃で24時間かけて乾燥
した後、150℃で乾燥し試料ハニカム(試料14−
2)を得た。得られたハニカム試料14−2の担持量、
吸着容量、分解速度を表3に示す。
Comparative Example 1 1 g of synthetic stevensite and 1 g of natural zeolite (average particle size: 5 μm) were added to 400 g of water, and sufficiently stirred and mixed to obtain a dispersion. This dispersion is
After drying at 10 ° C. for 24 hours, a white powder (sample 14-1) was obtained. Table 3 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 14-1. Further, a metallic aluminum honeycomb having a cell number of 250 cells / in 2 and a thickness of 1 cm was put into the dispersion, dried on the surface at 60 ° C. for 24 hours, dried at 150 ° C., and dried at 150 ° C. to obtain a sample honeycomb ( Sample 14-
2) was obtained. Carrying amount of the obtained honeycomb sample 14-2,
Table 3 shows the adsorption capacity and decomposition rate.

【0101】(比較例2)水400gに天然ベントナイ
ト(BET比表面積24m2 /g)1gと光反応性半導
体としてアナターゼ型酸化チタンスラリー(TiO2
有量40.5%)2.47gを添加し、室温で十分撹拌
混合して分散液を得た。この分散液を110℃で24時
間乾燥し白色粉末(試料15−1)を得た。この試料2
−1の静的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に示す。
更に、この分散液にセル数が250セル/in2 、厚さ
1cmの金属アルミニウム製ハニカムを入れ、その表面
に担持し60℃で24時間かけて乾燥した後、150℃
で乾燥し試料ハニカム(試料15−2)を得た。得られ
たハニカム試料15−2の担持量、吸着容量、分解速度
を表3に示す。
(Comparative Example 2) 1 g of natural bentonite (BET specific surface area: 24 m 2 / g) and 2.47 g of an anatase type titanium oxide slurry (TiO 2 content: 40.5%) as a photoreactive semiconductor were added to 400 g of water. The mixture was sufficiently stirred and mixed at room temperature to obtain a dispersion. This dispersion was dried at 110 ° C. for 24 hours to obtain a white powder (sample 15-1). This sample 2
Table 2 shows the static deodorizing ability, developability, and coating film strength of -1.
Further, a metallic aluminum honeycomb having a cell number of 250 cells / in 2 and a thickness of 1 cm was put into the dispersion, and was carried on the surface thereof and dried at 60 ° C. for 24 hours.
To obtain a sample honeycomb (sample 15-2). Table 3 shows the carried amount, adsorption capacity, and decomposition rate of the obtained honeycomb sample 15-2.

【0102】(比較例3)実施例6のアナターゼ型酸化
チタンスラリーを除いた以外は実施例6と同様にして粉
末試料(試料16−1)を得た。この試料16−1の静
的脱臭能力、展開性、塗膜強度を表2に示す。更に実施
例6と同様にし、試料ハニカム16−2を得た。この担
持量、吸着容量、分解速度を表3に、動的消臭能力を図
14に示す。
Comparative Example 3 A powder sample (sample 16-1) was obtained in the same manner as in Example 6, except that the anatase type titanium oxide slurry of Example 6 was omitted. Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 16-1. Further, a sample honeycomb 16-2 was obtained in the same manner as in Example 6. The supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.

【0103】(比較例4)実施例6の合成スチブンサイ
トをポリエチレングリコール(PEG20000:和光
純薬製)に変更した以外は実施例6と同様にして粉末試
料(試料17−1)を得た。この試料17−1の静的脱
臭能力、展開性、塗膜強度を表2に示す。更に実施例6
と同様にし、試料ハニカム17−2を得た。この担持
量、吸着容量、分解速度を表3に、動的消臭能力を図1
5に示す。
Comparative Example 4 A powder sample (sample 17-1) was obtained in the same manner as in Example 6, except that the synthetic stevensite of Example 6 was changed to polyethylene glycol (PEG20000: manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). Table 2 shows the static deodorizing ability, spreadability, and coating film strength of Sample 17-1. Example 6
In the same manner as in the above, a sample honeycomb 17-2 was obtained. The supported amount, adsorption capacity and decomposition rate are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.
It is shown in FIG.

【0104】(比較例5)実施例6の合成スチブンサイ
トを天然ベントナイト(BET比表面積24m2 /g)
に変更した以外は実施例6と同様にして粉末試料(試料
18−1)を得た。この試料18−1の静的脱臭能力、
展開性、塗膜強度を表2に示す。更に実施例1と同様に
し、試料ハニカム18−2を得た。この担持量、吸着容
量、分解速度を表3に、動的脱臭能力を図16に示す。
Comparative Example 5 The synthetic stevensite of Example 6 was replaced with natural bentonite (BET specific surface area: 24 m 2 / g)
Except that the powder sample (sample 18-1) was obtained in the same manner as in Example 6. The static deodorizing ability of this sample 18-1,
Table 2 shows the developability and coating film strength. Further, a sample honeycomb 18-2 was obtained in the same manner as in Example 1. The supported amount, adsorption capacity, and decomposition rate are shown in Table 3, and the dynamic deodorizing ability is shown in FIG.

【0105】[0105]

【表1】 [Table 1]

【0106】[0106]

【表2】 [Table 2]

【0107】[0107]

【表3】 [Table 3]

【0108】[0108]

【発明の効果】本発明によれば、水膨潤性のトリオクタ
ヘドラル型スメクタイトを光反応性半導体或いは更に含
アルミニウムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体
と組み合わせたことにより、光反応による分解促進性や
その持続性に優れ、しかも基体への塗布性や粒状物等の
成形体への成形性に優れた有害物質除去剤を提供するこ
とができた。この組成物は、ハニカム等の基体への塗布
性、密着性、耐久性に優れた担持層を形成することがで
き、更にこの担持層は、光反応性やその持続性に優れて
いる。
According to the present invention, a water-swellable trioctahedral smectite is combined with a photoreactive semiconductor or, further, zinc-containing aluminum phyllosilicate or a siliceous complex thereof to produce a photoreaction. It was possible to provide a harmful substance remover which was excellent in decomposition promoting property and its persistence, and excellent in coatability to a substrate and moldability to a molded article such as a granular material. This composition can form a carrier layer having excellent coatability, adhesion, and durability to a substrate such as a honeycomb, and the carrier layer has excellent photoreactivity and durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で用いた合成スチブンサイトのX線回
折を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing X-ray diffraction of synthetic stevensite used in Example 1.

【図2】実施例1で用いた合成スチブンサイトの走査型
電子顕微鏡写真である(倍率:5000倍)。
FIG. 2 is a scanning electron micrograph of a synthetic stevensite used in Example 1 (magnification: 5000 times).

【図3】実施例3で行った動的消臭能力試験結果を示す
図である。
FIG. 3 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 3.

【図4】実施例6で行った動的消臭能力試験結果を示す
図である。
FIG. 4 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 6.

【図5】実施例7で行った動的消臭能力試験結果を示す
図である。
FIG. 5 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 7.

【図6】実施例8で用いた合成ヘクトライトのX線回折
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an X-ray diffraction of a synthetic hectorite used in Example 8.

【図7】実施例9で行った動的消臭能力試験結果を示す
図である。
FIG. 7 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 9.

【図8】実施例10で用いた天然ヘクトライトのX線回
折を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an X-ray diffraction of natural hectorite used in Example 10.

【図9】実施例10で用いた天然ヘクトライトの走査型
電子顕微鏡写真である(倍率:5000倍)。
FIG. 9 is a scanning electron micrograph of a natural hectorite used in Example 10 (magnification: 5000 times).

【図10】実施例11で行った動的消臭能力試験結果を
示す図である。
10 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 11. FIG.

【図11】実施例12で用いた天然サポナイトのX線回
折を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an X-ray diffraction of a natural saponite used in Example 12.

【図12】実施例12で用いた天然サポナイトの走査型
電子顕微鏡写真である(倍率:5000倍)。
FIG. 12 is a scanning electron micrograph of a natural saponite used in Example 12 (magnification: 5000 times).

【図13】実施例13で行った動的消臭能力試験結果を
示す図である。
13 is a view showing a result of a dynamic deodorizing ability test performed in Example 13. FIG.

【図14】比較例3で行った動的消臭能力試験結果を示
す図である。
14 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Comparative Example 3. FIG.

【図15】比較例4で行った動的消臭能力試験結果を示
す図である。
FIG. 15 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Comparative Example 4.

【図16】比較例5で行った動的消臭能力試験結果を示
す図である。
16 is a view showing the results of a dynamic deodorizing ability test performed in Comparative Example 5. FIG.

【図17】実施例4で用いた含アルミニウムフィロケイ
酸亜鉛ケイ酸質複合体のX線回折を示す図である。
17 is a view showing an X-ray diffraction of the aluminum-containing zinc phyllosilicate siliceous composite used in Example 4. FIG.

【図18】実施例4で用いた含アルミニウムフィロケイ
酸亜鉛ケイ酸質複合体の走査型電子顕微鏡写真である
(倍率:5000倍)。
FIG. 18 is a scanning electron micrograph of the aluminum-containing zinc phyllosilicate siliceous composite used in Example 4 (magnification: 5000 times).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 英司 東京都千代田区富士見2丁目10番30号 石 原テクノ株式会社機能材料事業本部東京事 業部内 (72)発明者 山口 浩市 三重県四日市市石原町1番地 石原産業株 式会社四日市事業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Eiji Nomura 2-10-30 Fujimi, Chiyoda-ku, Tokyo Ishihara Techno Co., Ltd. Functional Materials Business Division Tokyo Business Division (72) Inventor Hiroshi Yamaguchi Ishihara, Yokkaichi-shi, Mie Prefecture No. 1 Ishihara Sangyo Co., Ltd. Yokkaichi Office

Claims (25)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)水膨潤性のトリオクタヘドラル型
スメクタイトと(B)光反応性半導体とを含有する無機
組成物からなることを特徴とする有害物質除去剤。
1. A harmful substance remover comprising an inorganic composition containing (A) a water-swellable trioctahedral smectite and (B) a photoreactive semiconductor.
【請求項2】 前記無機組成物が(C)含アルミニウム
フィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体を更に含有す
るものであることを特徴とする請求項1記載の有害物質
除去剤。
2. The harmful substance removing agent according to claim 1, wherein the inorganic composition further comprises (C) a zinc-containing aluminum phyllosilicate or a siliceous complex thereof.
【請求項3】 前記(A)水膨潤性のトリオクタヘドラ
ル型スメクタイトと前記(B)光反応性半導体とが
(A):(B)=1:4乃至19:1の重量比で存在す
る請求項1または2記載の有害物質除去剤。
3. The water-swellable trioctahedral smectite (A) and the photoreactive semiconductor (B) are present in a weight ratio of (A) :( B) = 1: 4 to 19: 1. The harmful substance remover according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 (C)含アルミニウムフィロケイ酸亜鉛
乃至そのケイ酸質複合体が前記成分(A)及び(B)の
合計量100重量部当たり1乃至40重量部の量で存在
する請求項2記載の有害物質除去剤。
4. The composition according to claim 1, wherein (C) the zinc-containing aluminum phyllosilicate or the siliceous complex thereof is present in an amount of 1 to 40 parts by weight per 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). 2. The harmful substance remover according to 2.
【請求項5】 前記(B)光反応性半導体が酸化チタン
である請求項1乃至4の何れかに記載の有害物質除去
剤。
5. The harmful substance removing agent according to claim 1, wherein the photoreactive semiconductor (B) is titanium oxide.
【請求項6】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメク
タイトが、下記式(1) Tx=η1 /η2 ・・・・(1) 式中、η1 は試料濃度2%の水性分散液について、B型
粘度計を用いて、回転数6rpmで測定した粘度(セン
チポイズ)であり、η2 は試料濃度2%の水性分散液に
ついて、B型粘度計を用いて、回転数60rpmで測定
した粘度(センチポイズ)である、で定義されるチクソ
トロピー指数(Tx)が3乃至10の範囲にあるもので
ある請求項1乃至5の何れかに記載の有害物質除去剤。
6. The (A) trioctahedral smectite is represented by the following formula (1): Tx = η 1 / η 2 (1) wherein η 1 is an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%. Is the viscosity (centipoise) measured at a rotation speed of 6 rpm using a B-type viscometer, and η 2 was measured at a rotation speed of 60 rpm using a B-type viscometer for an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%. The toxic substance removing agent according to any one of claims 1 to 5, wherein a thixotropy index (Tx) defined by a viscosity (centipoise) is in a range of 3 to 10.
【請求項7】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメク
タイトが50乃至700m2 /gのBET比表面積を有
するものである請求項1乃至6の何れかに記載の有害物
質除去剤。
7. The harmful substance-removing agent according to claim 1, wherein the trioctahedral smectite (A) has a BET specific surface area of 50 to 700 m 2 / g.
【請求項8】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメク
タイトが波長400乃至250nmで測定して、60%
以下の紫外線吸光度を有するものである請求項1乃至7
の何れかに記載の有害物質除去剤。
8. The (A) trioctahedral smectite has a 60%
8. It has the following ultraviolet absorbance:
The agent for removing harmful substances according to any one of the above.
【請求項9】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメク
タイトがスチブンサイトである請求項1乃至8の何れか
に記載の有害物質除去剤。
9. The agent for removing harmful substances according to claim 1, wherein the (A) trioctahedral smectite is stevensite.
【請求項10】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトがヘクトライトである請求項1乃至8の何れか
に記載の有害物質除去剤。
10. The agent for removing harmful substances according to claim 1, wherein the (A) trioctahedral smectite is hectorite.
【請求項11】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトがサポナイトである請求項1乃至8の何れかに
記載の有害物質除去剤。
11. The harmful substance remover according to claim 1, wherein the (A) trioctahedral smectite is saponite.
【請求項12】 基体と、該基体表面に担持された、
(A)水膨潤性のトリオクタヘドラル型スメクタイトか
ら成るバインダーと(B)光反応性半導体とを含有する
無機組成物の層とからなることを特徴とする光触媒担持
体。
12. A substrate and a substrate supported on the surface of the substrate.
A photocatalyst carrier comprising (A) a binder composed of water-swellable trioctahedral smectite and (B) a layer of an inorganic composition containing a photoreactive semiconductor.
【請求項13】 前記無機組成物が(C)含アルミニウ
ムフィロケイ酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体を更に含有
するものであることを特徴とする請求項12記載の光触
媒担持体。
13. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the inorganic composition further comprises (C) aluminum-containing zinc phyllosilicate or a siliceous complex thereof.
【請求項14】 前記基体がハニカムから成ることを特
徴とする請求項12又は13記載の光触媒担持体。
14. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the substrate is made of a honeycomb.
【請求項15】 前記(A)バインダーと(B)光反応
性半導体とが(A):(B)=1:4乃至19:1の重
量比で存在する請求項12乃至14の何れかに記載の光
触媒担持体。
15. The method according to claim 12, wherein the binder (A) and the photoreactive semiconductor (B) are present in a weight ratio of (A) :( B) = 1: 4 to 19: 1. The photocatalyst carrier according to the above.
【請求項16】 前記(C)含アルミニウムフィロケイ
酸亜鉛乃至そのケイ酸質複合体が前記成分(A)及び
(B)の合計量100重量部当たり1乃至40重量部の
量で存在する請求項13又は15記載の光触媒担持体。
16. The method according to claim 16, wherein (C) the aluminum-containing zinc phyllosilicate or the siliceous complex thereof is present in an amount of 1 to 40 parts by weight per 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). Item 16. The photocatalyst carrier according to item 13 or 15.
【請求項17】 前記無機組成物の層がハニカム表面積
当たり2乃至50g/m2の担持量で設けられている請
求項12乃至16の何れかに記載の光触媒担持体。
17. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the inorganic composition layer is provided in a loading amount of 2 to 50 g / m 2 per honeycomb surface area.
【請求項18】 前記(B)光反応性半導体が酸化チタ
ンである請求項12乃至17の何れかに記載の光触媒担
持体。
18. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the photoreactive semiconductor (B) is titanium oxide.
【請求項19】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトが、下記式(1) Tx=η1 /η2 ・・・・(1) 式中、η1 は試料濃度2%の水性分散液について、B型
粘度計を用いて、回転数6rpmで測定した粘度(セン
チポイズ)であり、η2 は試料濃度2%の水性分散液に
ついて、B型粘度計を用いて、回転数60rpmで測定
した粘度(センチポイズ)である、で定義されるチクソ
トロピー指数(Tx)が3乃至10の範囲にあるもので
ある請求項12乃至18の何れかに記載の光触媒担持
体。
19. The (A) trioctahedral smectite is represented by the following formula (1): Tx = η 1 / η 2 (1) wherein η 1 is an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%. Is the viscosity (centipoise) measured at a rotation speed of 6 rpm using a B-type viscometer, and η 2 was measured at a rotation speed of 60 rpm using a B-type viscometer for an aqueous dispersion having a sample concentration of 2%. The photocatalyst carrier according to any one of claims 12 to 18, wherein a thixotropy index (Tx) defined by viscosity (centipoise) is in a range of 3 to 10.
【請求項20】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトが50乃至700m2 /gのBET比表面積を
有するものである請求項12乃至19の何れかに記載の
光触媒担持体。
20. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the (A) trioctahedral smectite has a BET specific surface area of 50 to 700 m 2 / g.
【請求項21】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトが波長400乃至250nmで測定して、60
%以下の紫外線吸光度を有するものである請求項12乃
至20の何れかに記載の光触媒担持体。
21. The (A) trioctahedral smectite having a wavelength of 400 to 250 nm,
21. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the photocatalyst carrier has an ultraviolet absorbance of not more than 10%.
【請求項22】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトがスチブンサイトである請求項12乃至21の
何れかに記載の光触媒担持体。
22. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the (A) trioctahedral smectite is stevensite.
【請求項23】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトがヘクトライトである請求項12乃至21の何
れかに記載の光触媒担持体。
23. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the (A) trioctahedral smectite is hectorite.
【請求項24】 前記(A)トリオクタヘドラル型スメ
クタイトがサポナイトである請求項12乃至21の何れ
かに記載の光触媒担持体。
24. The photocatalyst carrier according to claim 12, wherein the (A) trioctahedral smectite is saponite.
【請求項25】 請求項1乃至11の何れかに記載の有
害物質除去剤を溶媒に分散させてなることを特徴とする
分散液。
25. A dispersion comprising the harmful substance removing agent according to claim 1 dispersed in a solvent.
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