JPH11158697A - 連続電気化学処理装置 - Google Patents

連続電気化学処理装置

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JPH11158697A
JPH11158697A JP33306297A JP33306297A JPH11158697A JP H11158697 A JPH11158697 A JP H11158697A JP 33306297 A JP33306297 A JP 33306297A JP 33306297 A JP33306297 A JP 33306297A JP H11158697 A JPH11158697 A JP H11158697A
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JP
Japan
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electrolytic
gas
electrode
baffle plate
processed
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Withdrawn
Application number
JP33306297A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Kikuchi
義治 菊池
Tatsuhiro Okamoto
達裕 岡本
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Yuken Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Yuken Kogyo Co Ltd
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 連続電気化学処理において、電気化学処理品
質(加工品質)にバラツキが発生しがたい連続電気化学
処理装置を提供すること。 【解決手段】 下方に配設された電解電極14に対面す
るように、導電性の被処理物16を連続的に給電搬送さ
せて、連続的に電気化学処理をする装置。電解電極14
から発生するガスの被処理物16への到達を阻害するよ
うに、電解電極14と被処理物16の間に、絶縁性多孔
板からなる邪魔板24が電解電極に対面させて配設され
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、下方に配設された
電解電極に対面するように、導電性の被処理物を連続的
に給電搬送させて、連続的に電気化学処理をする装置に
関する。
【0002】ここで電気化学処理とは、電解加工(電解
研摩、電解エッチング、電解ばりとり)、電解酸化膜除
去、電解メッキ、陽極酸化処理等の電解作用を利用して
行う処理を言う。
【0003】
【背景技術】従来の連続電気化学処理装置の一例におけ
るモデル図を図1に示す。
【0004】電解液槽12の下方に配設された電解電極
14に、被研摩面が対面するように帯状鉄板等の導電性
の被処理物(被加工物)16が上方を連続的に給電搬送
される。図例では、被処理物16は搬送ローラ18、1
9により搬送され、送り込み側の搬送ローラ18が給電
ローラとされている。
【0005】また、電解液槽12には、上方の被処理物
16が浸漬されるに十分な電解液Eが充填されている。
図例では底部に電解液入口20と電解液出口21が形成
され、電解液が、被処理物16の下面と電解電極14と
の間を循環流動するようになっている。また、電解電極
14は、通常、絶縁性容器15に収納されて電解液槽1
2の底部に配設される。
【0006】なお、図例中、13は、被処理物16の搬
送開口部12a,12bからの溢流電解液を受けるため
の樋部である。
【0007】上記において、電解研摩等の場合、被処理
物16を陽極とし電解電極14を陰極とするため、電解
電極から水素が発生する。また、電解メッキ等におい
て、陽極としての電解電極14として白金、カーボン等
の不溶性電極を使用すると、電解電極から、電解液組成
により酸素、塩素等が発生する。
【0008】電解電極12で発生した水素等のガスは、
電解液中を上昇し、即ち、被処理物16に向かい、被処
理物16の被加工面(下面)16aに付着堆積してガス
堆積層17が生成する。このガス堆積層17は、電流流
れを阻害するとともに、電解液Eの接触が不十分な箇所
が発生し、所望の電気化学処理を行い難くなる。
【0009】このため、従来は、被処理物と電解電極と
の間に流動させている電解液の流動速度を間欠的にまた
は連続的に増大させて、前記付着堆積したガスを除去し
ていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記各方法の
場合、下記のような問題点があった。
【0011】間欠的に電解液の流動速度を増大させてガ
ス除去を行い場合は、ガス除去時には、電解液の接触が
やはり不十分となり易く、電気化学処理能が低下して、
所望の研摩加工等の電気化学処理ができないおそれがあ
り、電気化学処理品質(加工品質)のバラツキが発生し
易い。
【0012】また、連続的に電解液の流動速度を増大さ
せる場合は、電解液に乱流が発生し易い。電解研摩や電
解めっきにおいては、電解液の乱流が、被処理物の外観
に大きな影響を与える。即ち、電気化学処理品質(加工
品質)にバラツキが発生し易い。このため、電解研摩や
電解めっきにおいては、電解液の流動速度を乱流が発生
しない限度で、かつ、ガス除去が可能な流動速度に厳格
に制御する必要があり、実際的ではなかった。
【0013】本発明は、上記にかんがみて、連続電気化
学処理において、電気化学処理品質(加工品質)にバラ
ツキが発生しがたい連続電気化学処理装置を提供するこ
とを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明に係る連続電気化
学処理装置は、上記課題を、下記構成により解決するも
のである。
【0015】下方に配設された電解電極に対面するよう
に、導電性の被処理物を連続的に給電搬送させて、連続
的に電気化学処理をする装置において、電解電極から発
生するガスの被処理物への到達を阻害するように、電解
電極と被処理物の間に、絶縁性多孔板からなる邪魔板が
電解電極に対面させて配設されていることを特徴とす
る。
【0016】上記邪魔板は、被処理物に対して搬送方向
側が近接するように斜設すること、または、幅方向の一
方側が近接するように斜設することが望ましい。
【0017】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施形態につい
て、説明をする。既述例と同一部分については、同一図
符号を付して、それらの説明の全部または一部を省略す
る。
【0018】(1) 電解液槽12の下方に配設された電解
電極14に、研摩面(加工面)が対面するように帯状鉄
板等の導電性の被処理物16が上方を連続的に給電搬送
される。
【0019】ここで、被処理物としては、通常、鉄・ア
ルミニウム・銅系材料等の金属帯板であるが、メッキ等
の場合は、表面を導電性処理した、高分子材料製シート
等であってもよい。
【0020】電解液槽12は、図例では閉鎖形である
が、上方が開いている開放形であってもよい。また、電
解液槽12は、水平配置が原則であるが、搬送方向で傾
斜配置させてもよい。
【0021】(2) 上記構成において、電解電極14から
発生するガスの被処理物16への到達を阻害するよう
に、電解電極14と被処理物16の間に、絶縁性多孔板
からなる邪魔板(ガス逃がし板)24が電解電極14に
対面させて配設されている。具体的には、邪魔板24
は、その中央部で、電解電極14の絶縁性容器15の両
側壁に軸支されている。
【0022】邪魔板24が絶縁性でないと、電気が邪魔
板24が流れ、電気化学処理が困難となる。
【0023】邪魔板24を形成する絶縁性材料として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
系の無極性材料が、電解研摩や電気メッキで発生する不
溶解物が付着しがたく望ましい。
【0024】なお、邪魔板24は、導電性材料からなる
金網、パンチングプレートを、セラミックス、プラスチ
ックス、ゴム等の絶縁性被膜等で絶縁性処理したもので
あってもよい。
【0025】また、邪魔板24の開口率は、40〜70
%、望ましくは50〜60%とする。開口率が低過ぎる
場合は、電流(電子)ないしイオン(金属イオンないし
電解液中のイオン)の移動(通過)が阻害され、電気化
学処理効率が低下する。また、開口率が高すぎる場合
は、電解液の通過は阻害されないが、ガスの処理面への
阻害作用を十分に果たしがたくなる。具体的には、メッ
シュ(1cm当たりの目の数)で示すと、通常、100〜
250/cm、望ましくは150〜200/cmとする。
【0026】この邪魔板24の配設の態様は、被処理物
16に対して平行でもよいが、図2〜3に示す如く、斜
設することが望ましい。このときの被処理物の搬送面に
対する傾斜角度(交差角度)αは、5°〜45°、望ま
しくは、10°〜20°とする。5°未満ではガス案内
作用が低く、45°を超えると、被処理物16と電解電
極14との間隙が大きくなり、高い電圧が必要となる。
【0027】ここで、邪魔板24の斜設形態は、長手方
向の加工距離(電解電極の長手方向距離)が相対的に長
くない場合、図2に示す如く、邪魔板24を被処理物1
6に対して搬送方向側が近接するように斜設する。ガス
を被処理物16の搬送方向に逸散させて、必要により回
収ができる。この邪魔板24の斜設形態においては、被
処理物16に対して幅方向全面に均一な電流の供給が容
易であるが、加工距離が相対的に長い場合は、邪魔板2
4の傾斜角度が相対的に小さくなって、上記傾斜角度の
下限値を望ましい範囲に確保し難くなり、邪魔板24の
斜設によるガス逸散効果を得難くなる。
【0028】また、長手方向の加工距離が相対的に短い
場合、図3に示す如く、邪魔板24Aを被処理物16に
対して幅方向の一方側が近接するように斜設する。ガス
を被処理物16の一側に逸散させて、必要により回収が
できる。この邪魔板24の斜設形態においては、長手方
向の加工距離に関係なく、上記傾斜角度を望ましい範囲
に確保し易いが、邪魔板24の近接側において、ガスが
たまり易く、幅方向全面に均一な電流の供給ができない
おそれがあり、ガスの抜け効率を相対的に高くする必要
がある。即ち、電解液流速を相対的に増大させる必要が
あり、電解液に乱流が発生して、被処理物16に所要の
加工外観が得られないおそれがある。
【0029】なお、図3において、図2と同一部分につ
いては同一図符号を付して、それらの説明は省略する。
【0030】図例では、電解電極14は1個としたが、
必要により、搬送方向に沿って複数個配設してもよい。
【0031】また、電解電極14の絶縁性容器15は、
図例では邪魔板24の取り付け枠も兼ねるため、被処理
物16の搬送方向側でガスが逃げ易いように搬送方向側
の側壁15aが低く形成されている。また、電解電極を
直列に配した場合、ガスが被処理物16の下面にガイド
されないように、被処理物16の搬送方向と対向する側
の側壁15bは高く形成されている。
【0032】該容器15を絶縁性とするのは、被処理物
16への電流の均一な供給を担保するためである。当該
容器15は、電極14及び邪魔板24を支持するため形
状が複雑である。従って、導電体であると、被加工物1
6に対する電流密度が不均一となり易い。
【0033】なお、邪魔板24は角度調整可能とした
り、振動可能としてもよい。
【0034】(3) 次に、上記連続電気化学処理装置の使
用態様を説明する。ここでは、電解電極を陰極とする電
解研摩を主として例にとり説明するが、電解電極を陽極
とするメッキ等においても同様である。
【0035】まず、電解液Eを電解液槽12中に充満さ
せる。該電解液は、図示しない循環ポンプを介して、被
研摩物(被処理物)16と電解電極14との間を循環流
動させてもよいが、循環させずに静止状態としてもよ
い。
【0036】次に、給電ローラ(搬送ローラ)18を介
して、例えば、被研摩物16が陽極側となるように給電
する。このとき、電解電極14は陰極となり、電解電極
14からは水素が発生する。
【0037】該水素は上方へ上昇、即ち、被処理物16
の加工面16aへ向かおうとするが、邪魔板24に阻害
されて被処理物の被加工面には到達しない。従って、被
処理物16の加工面(下面)16aに付着堆積してガス
堆積層が生成することはない。従って、電流流れが阻害
されたり、電解液の接触が不十分な箇所が発生すること
はなく、所望の電気化学処理である電解研摩を行うこと
ができる。
【0038】そして、ガス(水素)は邪魔板24でガイ
ドされて、被処理物16の搬送方向に逃げ、電解液槽1
2の終端側に設けられた、ガス抜き孔26及び被処理物
出口12aから逸散またはガス抜き孔26に連通するガ
ス回収容器(図示しない)に回収される。
【0039】このとき、ガスは被加工物16の加工面1
6aにある程度付着するが、該部位は電解加工(電気化
学処理)終了後の部位で、付着しても電気化学処理に問
題が発生することはない。
【0040】なお、上記の如く邪魔板24を振動可能に
保持されている場合は、ガスが邪魔板に付着してきて堆
積したときは、振動させることにより、ガスを離脱させ
電子、イオンの流れを回復させることができる。振動さ
せても、邪魔板24と被加工物16の加工面16aとの
間には、最低5mm、平均15mmの距離があるため、加工
面16aに接している電解液の流動にほとんど影響が発
生せず、電解研摩能(電解作用能)がほとんど影響を受
けない。
【0041】また、図3に示す実施形態でも、使用態様
は、基本的には同じである。異なる点は、ガスの逃がし
方向が、被処理物16の幅方向一側に逃げると同時に電
解液の流動により、前述の同様にして、電解液槽12の
被処理物16の搬送方向に逃げ、電解液槽12の終端側
に設けられた、ガス抜き孔及び被処理物出口から逸散ま
たはガス抜き孔に連通するガス回収容器に回収される。
【0042】
【発明の作用・効果】本発明の連続電気化学処理装置
は、電解電極から発生するガスの前記被処理物への到達
を阻害するように、前記電解電極と被処理物の間に、絶
縁性多孔板からなる邪魔板が前記電解電極に対面させて
配設されている構成により、下記のような作用・効果を
奏するものである。
【0043】電解電極で発生するガスは上方へ上昇、即
ち、被処理物の加工面へ向かおうとするが、邪魔板に阻
害されて被処理物の被加工面には到達しない。即ち、被
処理物の被加工面(下面)に付着堆積してガス堆積層が
生成することはない。従って、電流流れが阻害された
り、電解液の接触が不十分な箇所が発生することはな
く、所望の電気化学処理を行うことができる。
【0044】よって、本発明の連続電気化学処理装置
は、連続電気化学処理において、加工品質にバラツキが
発生しがたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の連続電気化学処理装置の一例における縦
断面モデル図
【図2】本発明の連続電気化学処理装置の一実施形態に
おける縦断面モデル図
【図3】本発明の連続電気化学処理装置の他の実施形態
における横断面モデル図
【符号の説明】
12 電解液槽 14 電解電極 16 被処理物(被加工物) 16a 処理面(加工面) 24、24A 邪魔板(ガス逃がし板) E 電解液

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下方に配設された電解電極に対面するよ
    うに、導電性の被処理物を連続的に給電搬送させて、連
    続的に電気化学処理をする装置において、 前記電解電極から発生するガスの前記被処理物への到達
    を阻害するように、前記電解電極と被処理物の間に、絶
    縁性多孔板からなる邪魔板が前記電解電極に対面させて
    配設されていることを特徴とする連続電気化学処理装
    置。
  2. 【請求項2】 前記邪魔板が前記被処理物に対して搬送
    方向側が近接するように斜設されていることを特徴とす
    る請求項1記載の連続電気化学処理装置。
  3. 【請求項3】 前記邪魔板が前記被処理物に対して幅方
    向の一方側が近接するように斜設されていることを特徴
    とする請求項1記載の連続電気化学処理装置。
JP33306297A 1997-12-03 1997-12-03 連続電気化学処理装置 Withdrawn JPH11158697A (ja)

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JP33306297A JPH11158697A (ja) 1997-12-03 1997-12-03 連続電気化学処理装置

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JP33306297A Withdrawn JPH11158697A (ja) 1997-12-03 1997-12-03 連続電気化学処理装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103071873A (zh) * 2012-12-27 2013-05-01 张永平 数控电火花成型机主轴机罩结构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103071873A (zh) * 2012-12-27 2013-05-01 张永平 数控电火花成型机主轴机罩结构

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A300 Withdrawal of application because of no request for examination

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Effective date: 20050301