JPH11158252A - Thermosetting resin composition, protective film comprising the same and its forming - Google Patents

Thermosetting resin composition, protective film comprising the same and its forming

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JPH11158252A
JPH11158252A JP24772498A JP24772498A JPH11158252A JP H11158252 A JPH11158252 A JP H11158252A JP 24772498 A JP24772498 A JP 24772498A JP 24772498 A JP24772498 A JP 24772498A JP H11158252 A JPH11158252 A JP H11158252A
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thermosetting resin
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protective film
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恵子 柿沼
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a thermosetting resin composition suitable for forming a flexible film which produces no warpage after thermosetting and shows excellence in flex resistance, bending resistance, flexibility, plating resistance, thermal resistance, PCT resistance, resistance to soldering heat, electric insulation and adhesion to a substrate, required for a solder resist used in manufacturing a flexible printed wiring board and a tape carrier package or a protective film used in manufacturing an electroluminescent panel or the like, a protective film comprising the hardened resin and its formation. SOLUTION: A thermosetting resin contains (A) a polycarboxylic acid having not less than 2 carboxylic acid groups, an acid number of 20-120 mgKOH/g, a glass transition temperature of -60 to 40 deg.C and weight average molecular weight of 5,000-100,000, (B) a resin having not less than 2 epoxy groups in a molecule, (C) an organic solvent and, in a preferable embodiment, (D) a mercapto compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
製造、特にフレキシブルプリント配線板の製造やテープ
キャリアパッケージの製造に用いられるソルダーレジス
トインキ、又は液晶ディスプレイのバックライトや情報
表示用のディスプレイ等に使用されるエレクトロルミネ
ッセントパネルの背面電極用保護膜や、携帯電話、時
計、カーステレオ等の表示パネルの保護膜などに有用な
熱硬化性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、熱硬化後
に反りを生ずることがなく、フレキシブルプリント配線
板やテープキャリアパッケージ用のソルダーレジストイ
ンキ又はエレクトロルミネッセントパネル用保護膜など
に要求される基材との密着性、耐屈曲性、耐折性、柔軟
性、耐めっき性、耐熱性、PCT耐性、はんだ耐熱性、
電気絶縁性に優れた可撓性の被膜形成に適した熱硬化性
樹脂組成物、並びにその硬化物からなる保護膜及びその
形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder resist ink used for manufacturing a printed wiring board, particularly for manufacturing a flexible printed wiring board or a tape carrier package, or a backlight for a liquid crystal display or a display for displaying information. For a protective film for a back electrode of an electroluminescent panel used for, and a thermosetting resin composition useful for a protective film of a display panel such as a mobile phone, a watch, and a car stereo, etc., more specifically, after thermosetting. No warpage, adhesion to substrate required for solder resist ink for flexible printed wiring boards and tape carrier packages or protective film for electroluminescent panels, bending resistance, folding resistance, flexibility Resistance, plating resistance, heat resistance, PCT resistance, solder heat resistance,
The present invention relates to a thermosetting resin composition suitable for forming a flexible film having excellent electrical insulation, a protective film made of the cured product, and a method for forming the same.

【0002】[0002]

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】フレキシ
ブルプリント配線板やテープキャリアパッケージの製造
に用いられるソルダーレジストとしては、カバーレイフ
ィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターンに合わ
せた金型で打ち抜いた後、接着剤を用いて貼り付けるタ
イプや、可撓性を有する被膜を形成する紫外線硬化型、
熱硬化型のソルダーレジストインキ又は液状ポリイミド
インキをスクリーン印刷により塗布するタイプや、可撓
性を有する被膜を形成する液状フォトソルダーレジスト
インキのタイプがある。
2. Description of the Related Art As a solder resist used in the manufacture of a flexible printed wiring board or a tape carrier package, a polyimide film called a coverlay film is punched out by a mold corresponding to a pattern. Adhesive type and ultraviolet curing type to form a flexible film,
There are a type of applying a thermosetting solder resist ink or a liquid polyimide ink by screen printing, and a type of a liquid photo solder resist ink for forming a flexible film.

【0003】しかしながら、カバーレイフィルムでは、
銅箔との追随性に問題があるため、高精度なパターンを
形成することが出来ない。一方、紫外線硬化型ソルダー
レジストインキ及び液状フォトソルダーレジストインキ
では、基材のポリイミドとの密着性が悪く、充分な可撓
性が得られない。また、ソルダーレジストインキの硬化
収縮及び硬化後の冷却収縮が大きいため反りが生じてし
まい、問題となっている。液状ポリイミドインキでは、
特開平1−121364号に開示されているような可溶
性芳香族ポリイミドが用いられるが、高価であること
と、印刷時に滲みが生じてしまい、充分な作業性が得ら
れず、問題である。
However, in coverlay film,
Since there is a problem in followability with the copper foil, a highly accurate pattern cannot be formed. On the other hand, the UV-curable solder resist ink and the liquid photo-solder resist ink have poor adhesion to the polyimide of the base material, so that sufficient flexibility cannot be obtained. Further, since the curing shrinkage of the solder resist ink and the cooling shrinkage after the curing are large, warpage occurs, which is a problem. In liquid polyimide ink,
A soluble aromatic polyimide as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-121364 is used, but it is expensive and bleeding occurs at the time of printing, so that sufficient workability cannot be obtained.

【0004】また、従来の熱硬化型ソルダーレジストイ
ンキとしては、特公平5−75032号に開示されてい
るようなエポキシ樹脂と二塩基酸無水物を必須成分とす
るエポキシ樹脂系レジストインキ組成物があるが、形成
される被膜に可撓性を付与するように調整した場合、基
材のポリイミドとの密着性が悪くなり、耐めっき性、P
CT耐性並びにはんだ耐熱性が低下するという問題があ
る。
Further, as a conventional thermosetting solder resist ink, an epoxy resin-based resist ink composition containing an epoxy resin and a dibasic anhydride as essential components as disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-75032 is used. However, when the film formed is adjusted so as to have flexibility, the adhesion to the polyimide of the substrate is deteriorated, and the plating resistance and P
There is a problem that CT resistance and solder heat resistance decrease.

【0005】一方、エレクトロルミネッセントパネル用
保護膜に用いられるインキとしては、グラビアインキと
呼ばれる塩化ビニル系の熱乾燥型インキや、メラミン樹
脂系の熱硬化型インキ、又は可撓性を有する被膜を形成
する紫外線硬化型インキを、スクリーン印刷により塗布
するタイプがある。しかしながら、グラビアインキで
は、絶縁性がないため電気容量を低下させてしまい、充
分な発光の輝度が得られず、実用上問題である。また、
紫外線硬化型インキでは、硬化後にエレクトロルミネッ
セントパネルに反りが生じてしまうため、蛍光体に電子
が衝突・励起して発光する際に音響ノイズが発生し、問
題である。
On the other hand, as an ink used for a protective film for an electroluminescent panel, a gravure ink, a vinyl chloride-based heat-drying ink, a melamine resin-based thermosetting ink, or a flexible coating film is used. Is applied by screen printing. However, the gravure ink has a problem in practical use because it does not have an insulating property, so that the electric capacity is reduced, and sufficient luminance of light emission cannot be obtained. Also,
In the case of the ultraviolet curable ink, since the electroluminescent panel is warped after curing, acoustic noise is generated when electrons collide with and excite the phosphor to emit light, which is a problem.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、可撓性被膜を
形成するためのソルダーレジストインキ又は保護膜につ
いての前述の課題を解決するためなされたものであり、
その第一の態様として、(A)1分子中に2個以上のカ
ルボキシル基を有し、酸価が20〜120mgKOH/
gで、ガラス転移温度が−60〜40℃で、かつ重量平
均分子量が5,000〜100,000であるポリカル
ボン酸樹脂、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を
有する樹脂、及び(C)有機溶剤を含有することを特徴
とする熱硬化性樹脂組成物が提供される。さらに、第二
の態様として、(A)1分子中に2個以上のカルボキシ
ル基を有し、酸価が20〜120mgKOH/gで、ガ
ラス転移温度が−60〜40℃で、かつ重量平均分子量
が5,000〜100,000であるポリカルボン酸樹
脂、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有する樹
脂、(C)有機溶剤、及び(D)メルカプト化合物を含
有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物が提供され
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of a solder resist ink or a protective film for forming a flexible film.
As a first embodiment, (A) one molecule has two or more carboxyl groups and an acid value of 20 to 120 mgKOH /
g, a polycarboxylic acid resin having a glass transition temperature of −60 to 40 ° C. and a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000, (B) a resin having two or more epoxy groups in one molecule, And (C) a thermosetting resin composition containing an organic solvent. Further, as a second embodiment, (A) one molecule has two or more carboxyl groups, an acid value of 20 to 120 mgKOH / g, a glass transition temperature of -60 to 40 ° C, and a weight average molecular weight. 5,000 to 100,000, (B) a resin having two or more epoxy groups in one molecule, (C) an organic solvent, and (D) a mercapto compound. Is provided.

【0007】さらに本発明によれば、製品もしくは部品
の被保護部表面に形成された前記熱硬化性樹脂組成物の
硬化物からなる保護膜が提供され、さらに、被保護部表
面に前記熱硬化性樹脂組成物を塗布した後、所定温度に
加熱して硬化させることを特徴とする保護膜形成方法も
提供される。上記保護膜の適用対象としては、プリント
配線板、テープキャリアパッケージ、エレクトロルミネ
ッセントパネルの背面電極、又は、携帯電話、時計もし
くはカーステレオの表示パネルなどの製品もしくは部品
が挙げられ、また、前記熱硬化性樹脂組成物の塗布方法
としては、スクリーン印刷法、スリットコーティング
法、ロールコート法、スプレイコート法、カーテンコー
ト法などが用いられる。
Further, according to the present invention, there is provided a protective film made of a cured product of the thermosetting resin composition formed on the surface of a protected portion of a product or a component. A method for forming a protective film, which comprises applying a conductive resin composition and then curing the composition by heating it to a predetermined temperature. Examples of the application of the protective film include a printed wiring board, a tape carrier package, a back electrode of an electroluminescent panel, or a product or component such as a mobile phone, a watch or a car stereo display panel. As a method for applying the thermosetting resin composition, a screen printing method, a slit coating method, a roll coating method, a spray coating method, a curtain coating method, or the like is used.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明は、フレキシブルプリント
配線板やテープキャリアパッケージの製造に用いられる
ソルダーレジスト、又はエレクトロルミネッセントパネ
ル等の製造に用いられる保護膜を形成する組成物とし
て、ポリカルボン酸樹脂と多官能のエポキシ樹脂からな
る熱硬化反応系を採用するが、これらの成分の架橋密度
を充分な可撓性を有する被膜が得られる程度の適度な範
囲に抑制すると共に、熱硬化後の反りを生じないように
するために、用いるポリカルボン酸樹脂の酸価及びガラ
ス転移温度を特定の範囲に規制するものである。反応生
成物の架橋密度が低くなる程、形成される被膜の可撓性
が増大し、また、架橋密度及びガラス転移温度が低くな
る程、熱硬化後の被膜の反りは少なくなる。しかしなが
ら、架橋密度が低くなると、得られる被膜の耐熱性、耐
めっき性、耐薬品性等の特性も低下し易くなる。従っ
て、架橋密度をこれらの相反する特性がバランスした適
度な範囲となるように組成系を設計する必要があるが、
本発明者らの研究によると、上記熱硬化性樹脂組成物を
加熱して硬化反応させた後に得られる生成物のガラス転
移温度は、計算値よりも測定値の方が高くなる。また、
用いるポリカルボン酸樹脂の酸価が高い程架橋密度が上
がり、ガラス転移温度が高くなり易いが、必ずしもこれ
らの間に比例関係はなく、ポリカルボン酸樹脂のガラス
転移温度が低すぎると、酸価が高くても架橋密度は上が
らなくなる。従って、用いるポリカルボン酸樹脂を酸価
とガラス転移温度の両方から規制することが必要にな
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a composition for forming a solder resist used for manufacturing a flexible printed wiring board or a tape carrier package or a protective film used for manufacturing an electroluminescent panel or the like. A thermosetting reaction system consisting of an acid resin and a polyfunctional epoxy resin is adopted, but the crosslink density of these components is suppressed to an appropriate range for obtaining a film having sufficient flexibility, and after thermosetting. The acid value and the glass transition temperature of the polycarboxylic acid resin used are regulated to specific ranges so as not to cause the warpage. The lower the crosslink density of the reaction product, the greater the flexibility of the formed film, and the lower the crosslink density and glass transition temperature, the less the warpage of the film after thermosetting. However, when the crosslink density is low, the properties of the obtained film, such as heat resistance, plating resistance, and chemical resistance, are also likely to deteriorate. Therefore, it is necessary to design the composition system such that the crosslink density is in an appropriate range in which these contradictory properties are balanced,
According to the study of the present inventors, the measured value of the glass transition temperature of the product obtained after heating and curing the thermosetting resin composition is higher than the calculated value. Also,
The higher the acid value of the polycarboxylic acid resin used, the higher the crosslink density and the higher the glass transition temperature. However, there is no necessarily a proportional relationship between these, and if the glass transition temperature of the polycarboxylic acid resin is too low, the acid value will increase. , The crosslink density does not increase. Therefore, it is necessary to regulate the polycarboxylic acid resin to be used from both the acid value and the glass transition temperature.

【0009】本発明者らは、これらの現象について鋭意
研究の結果、ポリカルボン酸樹脂と多官能のエポキシ樹
脂からなる熱硬化反応系を採用すると共に、ポリカルボ
ン酸樹脂の酸価を20〜120mgKOH/gの範囲
に、かつガラス転移温度を−60〜40℃の範囲に規制
することにより、熱硬化後の反りを生ずることなく、充
分な可撓性を有すると共に、耐屈曲性、耐折性、柔軟
性、耐めっき性、PCT耐性、はんだ耐熱性、耐薬品
性、下地への密着性等に優れた被膜が得られることを見
い出し、かつ、ポリカルボン酸樹脂の重量平均分子量を
5,000〜100,000の範囲にすることにより印
刷性が向上することを見い出し、本発明を完成するに至
ったものである。さらに本発明者らの研究によると、前
記成分の他にメルカプト化合物が存在することにより、
基材のポリイミドや銅との密着性が向上し、耐めっき性
をさらに向上させることができることを見い出した。以
下、本発明の熱硬化性樹脂組成物の各成分について詳細
に説明する。
The present inventors have conducted intensive studies on these phenomena, and as a result, have adopted a thermosetting reaction system composed of a polycarboxylic acid resin and a polyfunctional epoxy resin, and set the acid value of the polycarboxylic acid resin to 20 to 120 mg KOH. / G and the glass transition temperature within the range of -60 to 40 ° C, without causing warpage after thermosetting, having sufficient flexibility, bending resistance and folding resistance. That a film having excellent flexibility, plating resistance, PCT resistance, solder heat resistance, chemical resistance, adhesion to a base, etc. can be obtained, and the weight average molecular weight of the polycarboxylic acid resin is 5,000. It has been found that the printability is improved by setting the range to 100,000, and the present invention has been completed. Further, according to the study of the present inventors, the presence of a mercapto compound in addition to the above components,
It has been found that the adhesion of the substrate to polyimide or copper is improved, and the plating resistance can be further improved. Hereinafter, each component of the thermosetting resin composition of the present invention will be described in detail.

【0010】まず、本発明の組成物において用いる前記
(A)ポリカルボン酸樹脂としては、酸価、ガラス転移
温度及び重量平均分子量が前記範囲内にある限り、公知
慣用のポリカルボン酸樹脂が使用できるが、特に好まし
いものとして、1分子中に1つの重合性不飽和結合と1
つのカルボキシル基を有する化合物を必須のモノマー成
分とする共重合樹脂がある。上記1分子中に1つの重合
性不飽和結合と1つのカルボキシル基を有する化合物と
しては、アクリル酸、メタアクリル酸、及びヒドロキシ
ル基含有の(メタ)アクリレートに多塩基酸無水物を付
加したモノ(2−アクリロイルオキシエチル)コハク
酸、モノ(2−アクリロイルオキシエチル)フタル酸、
モノ(2−アクリロイルオキシエチル)ヘキサヒドロフ
タル酸、モノ(2−アクリロイルオキシプロピル)コハ
ク酸、モノ(2−アクリロイルオキシプロピル)フタル
酸、モノ(2−アクリロイルオキシプロピル)ヘキサヒ
ドロフタル酸、モノ(2−メタクリロイルオキシエチ
ル)コハク酸、モノ(2−メタクリロイルオキシエチ
ル)フタル酸、モノ(2−メタクリロイルオキシエチ
ル)ヘキサヒドロフタル酸、モノ(2−メタクリロイル
オキシプロピル)コハク酸、モノ(2−メタクリロイル
オイルオキシプロピル)フタル酸、モノ(2−メタクリ
ロイルオキシプロピル)ヘキサヒドロフタル酸などが挙
げられ、これらを単独で又は2種類以上混合して用いる
ことができる。また、これらの1分子中に1つの重合性
不飽和結合と1つのカルボキシル基を有する化合物のポ
リカルボン酸樹脂中の含有割合は、後述の(メタ)アク
リル酸エステルと共重合した時、酸価が20〜120m
gKOH/gとなることが必要である。酸価が20mg
KOH/g未満となった場合、架橋密度が低くなり、耐
熱性、耐溶剤性等が低下する。逆に、酸価が120mg
KOH/gを越えた場合、熱硬化時の硬化収縮による反
りが増大したり、折り曲げた時の反発力が強くなるなど
の問題が発生する。
First, as the polycarboxylic acid resin (A) used in the composition of the present invention, a known and commonly used polycarboxylic acid resin is used as long as the acid value, glass transition temperature and weight average molecular weight are within the above ranges. However, it is particularly preferable that one polymerizable unsaturated bond and one
There is a copolymer resin containing a compound having two carboxyl groups as an essential monomer component. Examples of the compound having one polymerizable unsaturated bond and one carboxyl group in one molecule include acrylic acid, methacrylic acid, and hydroxyl group-containing (meth) acrylate to which a polybasic acid anhydride is added. 2-acryloyloxyethyl) succinic acid, mono (2-acryloyloxyethyl) phthalic acid,
Mono (2-acryloyloxyethyl) hexahydrophthalic acid, mono (2-acryloyloxypropyl) succinic acid, mono (2-acryloyloxypropyl) phthalic acid, mono (2-acryloyloxypropyl) hexahydrophthalic acid, mono ( 2- (methacryloyloxyethyl) succinic acid, mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalic acid, mono (2-methacryloyloxyethyl) hexahydrophthalic acid, mono (2-methacryloyloxypropyl) succinic acid, mono (2-methacryloyl oil) (Oxypropyl) phthalic acid, mono (2-methacryloyloxypropyl) hexahydrophthalic acid, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. The content ratio of the compound having one polymerizable unsaturated bond and one carboxyl group in one molecule in the polycarboxylic acid resin is determined by copolymerizing the acid value with the (meth) acrylic ester described below. Is 20-120m
It is necessary to be gKOH / g. Acid value is 20mg
If it is less than KOH / g, the crosslinking density will be low, and the heat resistance, solvent resistance, etc. will be reduced. Conversely, acid value is 120mg
If it exceeds KOH / g, problems such as an increase in warpage due to curing shrinkage during thermal curing and an increase in repulsion force when bent are caused.

【0011】さらに、前記1分子中に1つの重合性不飽
和結合と1つのカルボキシル基を有する化合物と共重合
する重合性モノマーとしては、公知慣用の重合性モノマ
ーが使用できるが、共重合樹脂のガラス転移点を下げる
目的と耐めっき性を上げる目的から、炭素数6〜21の
(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。具体的な例と
しては、n−プロピルアクリレート、i−プロピルアク
リレート、n−ブチルアクリレート、i−ブチルアクリ
レート、t−ブチルアクリレート、i−アミルアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシ
ルアクリレート、ベンジルアクリレート、i−ボロニル
アクリレート、i−デシルアクリレート、n−ラウリル
アクリレート、n−ステアリルアクリレート及びこれら
のメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、
疎水性付与の面から、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−ラウリル
アクリレート、n−ラウリルメタクリレートが特に好ま
しく、これらを用いることにより、形成される被膜に対
するめっき液の浸透防止、湯洗時の浮き、剥れ防止の効
果が得られ、耐めっき性が向上する。
Further, as the polymerizable monomer which is copolymerized with the compound having one polymerizable unsaturated bond and one carboxyl group in one molecule, a known and commonly used polymerizable monomer can be used. For the purpose of lowering the glass transition point and increasing the plating resistance, a (meth) acrylate having 6 to 21 carbon atoms is preferable. Specific examples include n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, i-amyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, benzyl acrylate, and i-propyl acrylate. Examples include boronyl acrylate, i-decyl acrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, and methacrylates thereof. Among these,
From the viewpoint of imparting hydrophobicity, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-lauryl acrylate, and n-lauryl methacrylate are particularly preferable, and by using these, prevention of penetration of a plating solution into a formed film and washing with hot water. The effect of preventing floating and peeling is obtained, and plating resistance is improved.

【0012】前記1分子中に1つの重合性不飽和結合と
1つのカルボキシル基を有する化合物と、炭素数6〜2
1の(メタ)アクリル酸エステルを必須成分とする共重
合樹脂(ポリカルボン酸樹脂)のガラス転移点(Tg)
は、各モノマー単独の重合物のTgと、各成分の重量分
率から、下記式(1)により、近似的に求めることがで
き、このTgが−60〜40℃、特に好ましくは−40
〜20℃になるようにモノマー組成を決定する。 1/Tg=W1 /Tg1 +W2 /Tg2 +・・・+Wn /Tgn ・・・(1) 式中、Tgは、共重合体のガラス転移点(°K)を示
し、Tg1 ,Tg2 ,・・・,Tgn は、各成分単独の
ポリマーのガラス転移点(°K)を示す。また、W1
2 ,・・・,Wn は、各成分の重量分率(W1 +W2
+・・・+Wn =1)を示す。このようにして得られた
共重合樹脂(ポリカルボン酸樹脂)のガラス転移点が、
40℃を越えた場合、熱硬化後の冷却時の反りが増大
し、一方、−60℃より低い場合、熱硬化後の塗膜の硬
度が低下する。
A compound having one polymerizable unsaturated bond and one carboxyl group in one molecule; and a compound having 6 to 2 carbon atoms.
Glass transition point (Tg) of copolymer resin (polycarboxylic acid resin) containing (meth) acrylic acid ester as an essential component
Can be approximately determined by the following formula (1) from the Tg of the polymer of each monomer alone and the weight fraction of each component, and this Tg is −60 to 40 ° C., particularly preferably −40.
The monomer composition is determined so as to reach -20 ° C. 1 / Tg = W 1 / Tg 1 + W 2 / Tg 2 +... + W n / Tg n (1) In the formula, Tg indicates a glass transition point (° K) of the copolymer, and Tg 1, Tg 2, ···, Tg n represents a glass transition point (° K) of each component alone of the polymer. W 1 ,
W 2 ,..., W n are weight fractions of each component (W 1 + W 2).
+ ... + W n = 1). The glass transition point of the copolymer resin (polycarboxylic acid resin) thus obtained is
If it exceeds 40 ° C., the warpage during cooling after thermosetting increases, while if it is lower than −60 ° C., the hardness of the coating film after thermosetting decreases.

【0013】また、前記ポリカルボン酸樹脂(共重合樹
脂)の重量平均分子量は、5,000〜100,000
の範囲内にあることが好ましい。重量平均分子量が5,
000未満の場合、共重合樹脂として作製することが難
しく、安定した樹脂の供給が得られなくなる。また、1
分子当りのカルボキシル基の濃度が低くなるため、熱硬
化後に良好な塗膜特性が得られなくなる。一方、10
0,000を越える場合、樹脂組成物を基材に印刷する
際に滲みや版離れが発生し、転写が悪くなり、作業性や
熱硬化後の塗膜の特性も低下する。
The polycarboxylic acid resin (copolymer resin) has a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000.
Is preferably within the range. Weight average molecular weight of 5,
When the molecular weight is less than 000, it is difficult to produce a copolymer resin, and a stable supply of the resin cannot be obtained. Also, 1
Since the concentration of carboxyl groups per molecule is low, good coating properties cannot be obtained after thermosetting. On the other hand, 10
If it exceeds 000, bleeding or plate separation occurs when the resin composition is printed on a substrate, transfer is deteriorated, and workability and properties of a heat-cured coating film are deteriorated.

【0014】前記(B)1分子中に2個以上のエポキシ
基を有する樹脂としては、ビスフェノールA型、水添ビ
スフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノー
ルS型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラッ
ク型、ビスフェノールAのノボラック型、ビフェノール
型、ビキシレノール型、トリスフェノールメタン型等の
グリシジルエーテル、ジグリシジルフタレート等のグリ
シジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレートやテ
トラグリシジルメタキシリレンジアミン等のグリシジル
アミン等の公知慣用のエポキシ樹脂を単独で又は2種以
上組み合わせて用いることができる。これらの中で特に
好ましいものとしては、有機溶剤等に難溶性のエポキシ
樹脂、例えばトリグリシジルイソシアヌレート(構造異
性体として、α体とβ体があるが、α体が特に好まし
い。)などが挙げられる。これらのエポキシ樹脂の配合
割合は、前記(A)ポリカルボン酸樹脂のカルボキシル
基1当量に対して、0.6〜2.0当量であることが、
硬化塗膜の耐めっき性、PCT耐性、はんだ耐熱性など
の特性面から好ましい。
As the resin (B) having two or more epoxy groups in one molecule, bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, phenol novolak type, cresol novolak type, bisphenol Known and commonly used epoxies such as glycidyl ethers such as novolak type, biphenol type, bixylenol type and trisphenol methane type of A, glycidyl esters such as diglycidyl phthalate, glycidyl amines such as triglycidyl isocyanurate and tetraglycidyl meta-xylylenediamine. Resins can be used alone or in combination of two or more. Among them, particularly preferred are epoxy resins which are hardly soluble in organic solvents and the like, for example, triglycidyl isocyanurate (structural isomers include α-form and β-form, but α-form is particularly preferred). Can be The mixing ratio of these epoxy resins is preferably 0.6 to 2.0 equivalents to 1 equivalent of the carboxyl group of the polycarboxylic acid resin (A).
It is preferable from the viewpoint of properties such as plating resistance, PCT resistance and solder heat resistance of the cured coating film.

【0015】前記(C)有機溶剤としては、ケトン類、
セロソルブ類、カルビトール類、セロソルブアセテート
類、カルビトールアセテート類、プロピレングリコール
エーテル類、ジプロピレングリコールエーテル類、プロ
ピレングリコールエーテルアセテート類、ジプロピレン
グリコールアセテート類、芳香族系炭化水素類などが挙
げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて用い
てもよい。さらに、これらの有機溶剤の沸点が140〜
180℃であることが、組成物の印刷性を考慮した場合
好ましく、滲みを生ずることなくスクリーン印刷でき
る。
As the organic solvent (C), ketones,
Cellosolves, carbitols, cellosolve acetates, carbitol acetates, propylene glycol ethers, dipropylene glycol ethers, propylene glycol ether acetates, dipropylene glycol acetates, aromatic hydrocarbons and the like, These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, the boiling point of these organic solvents is 140-
A temperature of 180 ° C. is preferable in consideration of printability of the composition, and screen printing can be performed without causing bleeding.

【0016】前記(D)メルカプト化合物としては、公
知慣用のメルカプト化合物が使用できるが、特に好まし
いものとして、2−メルカプトプロピオン酸、トリメチ
ロールプロパントリス(2−チオプロピオネート)、2
−メルカプトエタノール、2−アミノチオフェノール、
3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メル
カプト−プロピルトリメトキシシランなどのメルカプト
基含有シランカップリング剤などが挙げられる。これら
は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上組み合わ
せて用いてもよい。その配合量は、前記(A)ポリカル
ボン酸樹脂100重量部当たり、1〜10重量部の範囲
が適当である。メルカプト化合物の配合量が上記範囲よ
りも少ない場合、基材のポリイミドとの密着性が得られ
ない場合があり好ましくない。逆に、上記範囲を越えた
場合、架橋反応に必要な前記エポキシ樹脂のエポキシ基
を消費し(エポキシ基と反応し)、架橋密度が下がるた
め好ましくない。
As the (D) mercapto compound, known and commonly used mercapto compounds can be used. Particularly preferred are 2-mercaptopropionic acid, trimethylolpropane tris (2-thiopropionate),
-Mercaptoethanol, 2-aminothiophenol,
Mercapto group-containing silane coupling agents such as 3-mercapto-1,2,4-triazole and 3-mercapto-propyltrimethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more. The compounding amount is suitably in the range of 1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polycarboxylic acid resin (A). If the amount of the mercapto compound is less than the above range, adhesion to the polyimide of the substrate may not be obtained, which is not preferable. Conversely, when the ratio exceeds the above range, the epoxy group of the epoxy resin required for the crosslinking reaction is consumed (reacts with the epoxy group), and the crosslinking density is undesirably reduced.

【0017】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、さらに
必要に応じて、エポキシ樹脂の硬化反応を促進するため
に公知・慣用のエポキシ樹脂用硬化促進剤を添加するこ
とができ、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾ
ール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−フェ
ニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイ
ミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−
4−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、アセ
トグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類、ベ
ンジルジメチルアミン、4−(ジメチルアミノ)−N,
N−ジメチルベンジルアミン、4−メトキシ−N,N−
ジメチルベンジルアミン、4−メチル−N,N−ジメチ
ルベンジルアミン、ジシアンジアミド、メラミン等のア
ミン化合物が挙げられる。市販されているものとして
は、例えば四国化成工業(株)製の2MZ−A、2MZ
−OK、2PHZ、2P4BHZ、2P4MHZ(いず
れもイミダゾール系化合物の商品名)、サンアプロ社製
のU−CAT3503N、U−CAT3502T(いず
れもジメチルアミンでブロックされたブロックイソシア
ネート化合物の商品名)などがある。
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain, if necessary, a known / common epoxy resin curing accelerator for accelerating the curing reaction of the epoxy resin. Imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2- Ethyl-
Imidazole derivatives such as 4-methylimidazole, guanamines such as acetoguanamine and benzoguanamine, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N,
N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-
Examples include amine compounds such as dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine, dicyandiamide, and melamine. Examples of commercially available products include 2MZ-A and 2MZ manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.
-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (all are trade names of imidazole compounds), U-CAT3503N and U-CAT3502T (all are trade names of blocked isocyanate compounds blocked with dimethylamine) manufactured by San-Apro.

【0018】また本発明の熱硬化性樹脂組成物には、必
要に応じて、密着性、硬度、耐熱性等の特性を上げる目
的で、硫酸バリウム、タルク、シリカ、クレー等の公知
慣用の無機充填剤を配合でき、その配合量は前記(A)
ポリカルボン酸樹脂100重量部当たり100重量部以
下が適当であり、好ましくは5〜65重量部の割合であ
る。無機充填剤の配合量が上記割合を越えると、硬化塗
膜の耐屈曲性及び耐折性が低下し、好ましくない。さら
に、必要に応じて公知慣用の着色顔料、熱重合禁止剤、
増粘剤、消泡剤、レベリング剤、シランカップリング剤
等を添加できる。
The thermosetting resin composition of the present invention may contain, if necessary, known inorganic materials such as barium sulfate, talc, silica and clay for the purpose of improving the properties such as adhesion, hardness and heat resistance. A filler can be compounded, and the compounding amount is as described in (A) above.
The amount is suitably 100 parts by weight or less per 100 parts by weight of the polycarboxylic acid resin, and preferably 5 to 65 parts by weight. If the blending amount of the inorganic filler exceeds the above ratio, the flex resistance and the folding resistance of the cured coating film decrease, which is not preferable. Further, if necessary, known and commonly used coloring pigments, thermal polymerization inhibitors,
Thickeners, defoamers, leveling agents, silane coupling agents, and the like can be added.

【0019】以上のような組成を有する熱硬化性樹脂組
成物は、回路形成されたフレキシブルプリント配線板や
テープキャリアパッケージ又はエレクトロルミネッセン
トパネルにスクリーン印刷法により塗布し、例えば12
0〜180℃の温度に加熱して熱硬化させることによ
り、硬化収縮及び冷却収縮による反りがなく、基材に対
する密着性、耐屈曲性、耐折性、柔軟性、耐めっき性、
PCT耐性、はんだ耐熱性、電気絶縁性等に優れたソル
ダーレジスト膜や保護膜が形成される。
The thermosetting resin composition having the above composition is applied to a circuit-formed flexible printed wiring board, a tape carrier package or an electroluminescent panel by a screen printing method.
By heating to a temperature of 0 to 180 ° C. and thermally curing, there is no warping due to curing shrinkage and cooling shrinkage, adhesion to the substrate, bending resistance, folding resistance, flexibility, plating resistance,
A solder resist film or a protective film excellent in PCT resistance, solder heat resistance, electric insulation and the like is formed.

【0020】本発明の熱硬化性樹脂組成物をエレクトロ
ルミネッセントパネルに適用する形態の一例を、図面を
参照して説明する。図1は、エレクトロルミネッセント
素子の一例の概略構成を示しており、PET(ポリエチ
レンテレフタレート)フィルム等の透明基材(前面板)
1の上にはITO膜等の導電性膜からなる全面又はパタ
ーン状の透明電極2が被覆され、該透明電極2の上に
は、誘電体からなる第一絶縁膜3と第二絶縁膜5とでサ
ンドイッチされた状態のパターン状の発光層4が形成さ
れている。さらにこれらの上にはカーボン電極等からな
るパターン状の背面電極6が形成され、さらに本発明の
熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜7で全面覆
われている。図1においては、下方が前面側を示してい
る。なお、本発明が図1に示す態様のものに限定される
ものでないことは勿論であり、種々の形態のエレクトロ
ルミネッセントパネルの背面電極の保護膜として適用可
能である。また、本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物
は、前記したような優れた特性を示すため、携帯電話、
時計、カーステレオ等の表示パネルの保護膜としても有
用である。
An example of a mode in which the thermosetting resin composition of the present invention is applied to an electroluminescent panel will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of an example of an electroluminescent element, and is a transparent substrate (front plate) such as a PET (polyethylene terephthalate) film.
1 is covered with a transparent electrode 2 in the form of a conductive film such as an ITO film or the like or a pattern. On the transparent electrode 2, a first insulating film 3 and a second insulating film 5 made of a dielectric are coated. The light emitting layer 4 in a pattern sandwiched between the light emitting layers 4 is formed. Further, a pattern-shaped back electrode 6 made of a carbon electrode or the like is formed on these, and is entirely covered with a protective film 7 made of a cured product of the thermosetting resin composition of the present invention. In FIG. 1, the lower side shows the front side. The present invention is, of course, not limited to the embodiment shown in FIG. 1, and can be applied as a protective film for the back electrode of various forms of electroluminescent panel. Further, the cured product of the thermosetting resin composition of the present invention exhibits excellent properties as described above, so that a mobile phone,
It is also useful as a protective film for display panels such as watches and car stereos.

【0021】[0021]

【実施例】以下に実施例及び比較例を示して本発明につ
いて具体的に説明する。なお、以下において「部」及び
「%」とあるのは、特に断りのない限り全て重量基準で
ある。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. In the following, “parts” and “%” are all based on weight unless otherwise specified.

【0022】合成例1 温度計、撹拌器、滴下ロート、及び還流冷却器を備えた
フラスコに、カルビトールアセテート214.3部、ア
ゾビスイソブチロニトリル24.0部を入れ、窒素雰囲
気下で70℃に加熱せしめた。そこに、アクリル酸1
8.0部、i−ブチルメタクリレート162.5部、及
び2−エチルヘキシルメタクリレート319.5部の混
合モノマーを3時間かけて滴下した。その後さらに4時
間撹拌・反応させ、不揮発分70%、固形分酸価28.
1mgKOH/g、重量平均分子量16,000、Tg
の計算値=9.7℃のポリカルボン酸樹脂溶液を得た。
以下、このポリカルボン酸樹脂溶液をAワニスと称す。
Synthesis Example 1 In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser, 214.3 parts of carbitol acetate and 24.0 parts of azobisisobutyronitrile were put, and placed under a nitrogen atmosphere. Heated to 70 ° C. There, acrylic acid 1
A mixed monomer of 8.0 parts, 162.5 parts of i-butyl methacrylate, and 319.5 parts of 2-ethylhexyl methacrylate was added dropwise over 3 hours. Thereafter, the mixture was further stirred and reacted for 4 hours, and the nonvolatile content was 70% and the solid content was 28.
1 mg KOH / g, weight average molecular weight 16,000, Tg
= 9.7 ° C to obtain a polycarboxylic acid resin solution.
Hereinafter, this polycarboxylic acid resin solution is referred to as A varnish.

【0023】合成例2 温度計、撹拌器、滴下ロート、及び還流冷却器を備えた
フラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル214.3部、アゾビスイソブチロニトリル20.0
部を入れ、窒素雰囲気下で70℃に加熱せしめた。そこ
に、アクリル酸36.0部、n−ブチルメタクリレート
189.0部、及びn−ラウリルメタクリレート27
5.0部の混合モノマーを3時間かけて滴下した。その
後さらに4時間撹拌・反応させ、不揮発分70%、固形
分酸価56.1mgKOH/g、重量平均分子量25,
000、Tgの計算値=−30.5℃のポリカルボン酸
樹脂溶液を得た。以下、このポリカルボン酸樹脂溶液を
Bワニスと称す。
Synthesis Example 2 A flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser was charged with 214.3 parts of dipropylene glycol monomethyl ether and 20.0 parts of azobisisobutyronitrile.
Was heated to 70 ° C. under a nitrogen atmosphere. There, 36.0 parts of acrylic acid, 189.0 parts of n-butyl methacrylate, and n-lauryl methacrylate 27
5.0 parts of the mixed monomer was added dropwise over 3 hours. Thereafter, the mixture was further stirred and reacted for 4 hours, and the solid content was 70%, the acid value of the solid content was 56.1 mgKOH / g, the weight average molecular weight was 25
000, calculated value of Tg = -30.5 ° C. to obtain a polycarboxylic acid resin solution. Hereinafter, this polycarboxylic acid resin solution is referred to as B varnish.

【0024】比較合成例1 温度計、撹拌器、滴下ロート、及び還流冷却器を備えた
フラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル300.0部、アゾビスイソブチロニトリル12.0
部を入れ、窒素雰囲気下で70℃に加熱せしめた。そこ
に、アクリル酸72.0部、i−ブチルメタクリレート
428.0部、及び2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト200.0部の混合モノマーを3時間かけて滴下し
た。その後さらに4時間撹拌・反応させ、不揮発分70
%、固形分酸価80.1mgKOH/g、重量平均分子
量45,000、Tgの計算値=55.2℃のポリカル
ボン酸樹脂溶液を得た。以下、このポリカルボン酸樹脂
溶液をCワニスと称す。
Comparative Synthesis Example 1 A flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser was charged with 300.0 parts of dipropylene glycol monomethyl ether and 12.0 parts of azobisisobutyronitrile.
Was heated to 70 ° C. under a nitrogen atmosphere. Thereto, a mixed monomer of 72.0 parts of acrylic acid, 428.0 parts of i-butyl methacrylate, and 200.0 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate was dropped over 3 hours. Then, the mixture was further stirred and reacted for 4 hours,
%, A solid content acid value of 80.1 mg KOH / g, a weight average molecular weight of 45,000, and a calculated value of Tg = 55.2 ° C., to obtain a polycarboxylic acid resin solution. Hereinafter, this polycarboxylic acid resin solution is referred to as C varnish.

【0025】実施例1 合成例1で得られたAワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Aワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 (油化シェルエポキシ(株)製ジシアンジアミド) TEPIC−H 10部 (日産化学工業(株)製α−トリグリシジルイソシアヌレート) シリコーンKS−66 1部 (信越シリコーン(株)製のシリコーン系消泡剤) 硫酸バリウム 20部 結晶性シリカ 5部 プロピレングリコールモノブチルエーテル 10部 ──────────────────────────────── 合 計 149部
Example 1 The following components using the A varnish obtained in Synthesis Example 1 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. A varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part (Dicyandiamide manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) TEPIC-H 10 parts (α-triglycidyl isocyanurate manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Silicone KS-66 1 part (Silicone antifoaming agent manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) Barium sulfate 20 parts Crystalline silica 5 parts Propylene glycol monobutyl ether 10 parts 149 copies in total

【0026】実施例2 合成例2で得られたBワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Bワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 TEPIC−H 10部 シリコーンKS−66 1部 硫酸バリウム 20部 結晶性シリカ 5部 プロピレングリコールモノブチルエーテル 10部 ──────────────────────────────── 合 計 149部
Example 2 The following components using the B varnish obtained in Synthesis Example 2 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. B varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part TEPIC-H 10 parts Silicone KS-66 1 part Barium sulfate 20 parts Crystalline silica 5 parts Propylene glycol monobutyl ether 10 parts 149 copies in total

【0027】実施例3 合成例2で得られたBワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Bワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 TEPIC−H 10部 シリコーンKS−66 1部 結晶性シリカ 40部 プロピレングリコールモノブチルエーテル 10部 A−189 3部 (日本ユニカ(株)製3−メルカプト−プロピルトリメトキシシラン) ──────────────────────────────── 合 計 167部
Example 3 The following components using the B varnish obtained in Synthesis Example 2 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. B varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part TEPIC-H 10 parts Silicone KS-66 1 part Crystalline silica 40 parts Propylene glycol monobutyl ether 10 parts A-189 3 parts (3-mercapto manufactured by Nippon Yunika Co., Ltd.) -Propyltrimethoxysilane) ──────────────────────────────── 167 parts in total

【0028】実施例4 合成例2で得られたBワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Bワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 2PHZ 1部 エピコート 828 20部 (油化シェルエポキシ(株)製ビスフェノールA型エポキシ樹脂) シリコーンKS−66 1部 硫酸バリウム 30部 タルク 10部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 10部 A−189 3部 ──────────────────────────────── 合 計 177部
Example 4 The following components using the B varnish obtained in Synthesis Example 2 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. B Varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts 2PHZ 1 part Epicoat 828 20 parts (Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) Silicone KS-66 1 part Barium sulfate 30 parts Talc 10 parts Dipropylene glycol monomethyl ether 10 parts A-189 3 parts ──────────────────────────────── Total 177 parts

【0029】実施例5 合成例2で得られたBワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Bワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 2PHZ 1部 メラミン 1部 DEN 431 20部 (ダウケミカルズ社製フェノールノボラック型エポキシ樹脂) シリコーンKS−66 1部 結晶性シリカ 30部 クレー 20部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 10部 A−189 3部 ──────────────────────────────── 合 計 188部
Example 5 The following components using the B varnish obtained in Synthesis Example 2 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. B varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts 2PHZ 1 part Melamine 1 part DEN 431 20 parts (Phenol novolac type epoxy resin manufactured by Dow Chemicals) Silicone KS-66 1 part Crystalline silica 30 parts Clay 20 parts Dipropylene glycol monomethyl ether 10 parts A-189 3 parts ──────────────────────────────── Total 188 parts

【0030】比較例1 比較合成例1で得られたCワニスを用いた以下の配合成
分を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物
を得た。 Cワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 TEPIC−H 10部 シリコーンKS−66 1部 硫酸バリウム 20部 結晶性シリカ 5部 ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート 10部 ──────────────────────────────── 合 計 149部
Comparative Example 1 The following components using the C varnish obtained in Comparative Synthesis Example 1 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. C varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part TEPIC-H 10 parts Silicone KS-66 1 part Barium sulfate 20 parts Crystalline silica 5 parts Diethylene glycol monoethyl ether acetate 10 parts 149 copies in total

【0031】比較例2 合成例1で得られたAワニスを用いた以下の配合成分
を、3本ロールミルにて練肉し、熱硬化性樹脂組成物を
得た。 Aワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 エピコート 828 4部 シリコーンKS−66 1部 硫酸バリウム 20部 結晶性シリカ 5部 ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート 10部 ──────────────────────────────── 合 計 143部
Comparative Example 2 The following components using the A varnish obtained in Synthesis Example 1 were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. A varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part Epicoat 828 4 parts Silicone KS-66 1 part Barium sulfate 20 parts Crystalline silica 5 parts Diethylene glycol monoethyl ether acetate 10 parts Total 143 copies

【0032】比較例3 ジョンソンポリマー社製のスチレン−アクリル酸樹脂
(ジョンクリル68、重量平均分子量10,000、T
g=70℃、固形分酸価195mgKOH/g)を60
部量り取り、カルビトールアセテート40部に加熱溶解
した。以下このワニスをDワニスと称す。このDワニス
を用いた以下の配合成分を、3本ロールミルにて練肉
し、熱硬化性樹脂組成物を得た。 Dワニス 100部 フタロシアニングリーン 2部 DICY−7A 1部 エピコート 828 60部 シリコーンKS−66 1部 硫酸バリウム 20部 結晶性シリカ 5部 ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート 20部 ──────────────────────────────── 合 計 209部
Comparative Example 3 Styrene-acrylic acid resin (Johncryl 68, weight average molecular weight 10,000, T
g = 70 ° C., solid content acid value 195 mg KOH / g)
The mixture was weighed and dissolved in 40 parts of carbitol acetate by heating. Hereinafter, this varnish is referred to as D varnish. The following components using the D varnish were kneaded with a three-roll mill to obtain a thermosetting resin composition. D varnish 100 parts Phthalocyanine green 2 parts DICY-7A 1 part Epicoat 828 60 parts Silicone KS-66 1 part Barium sulfate 20 parts Crystalline silica 5 parts Diethylene glycol monoethyl ether acetate 20 parts 209 copies in total

【0033】性能評価: (1)密着性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれ接着剤付きカプトン材(厚さ50μ
m)及びPETフィルム上にスクリーン印刷で全面印刷
し、150℃で30分間硬化させた(乾燥膜厚20μ
m)。その硬化塗膜の密着性をJIS D0202に従
い、以下の基準で評価した。 ○:碁盤目の数が完全に残った場合 △:碁盤目の数が100個未満、60個以上残った場合 ×:碁盤目の数が60個未満しか残らなかった場合
Performance Evaluation: (1) Adhesion Each of the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 was prepared by using a Kapton material with an adhesive (thickness: 50 μm).
m) and the whole surface was printed by screen printing on a PET film, and cured at 150 ° C. for 30 minutes (dry film thickness: 20 μm).
m). The adhesion of the cured coating film was evaluated according to the following criteria in accordance with JIS D0202. :: When the number of grids remains completely △: When the number of grids is less than 100, and when 60 or more remain ×: When the number of grids is less than 60

【0034】(2)耐屈曲性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれカプトン材(厚さ50μm)上にスク
リーン印刷で全面印刷し、150℃で30分間硬化させ
た(乾燥膜厚20μm)。その硬化塗膜の耐屈曲性をI
PC−SM−840B TM2.4.29に従って直径
1/8インチ、10サイクルの条件にて以下の基準で評
価した。 ○:硬化塗膜にクラックがないもの △:硬化塗膜に若干クラックがあるもの ×:硬化塗膜にクラックがあるもの
(2) Flex resistance The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were all printed on a Kapton material (thickness: 50 μm) by screen printing at 150 ° C. For 30 minutes (dry film thickness: 20 μm). The flex resistance of the cured coating film is I
According to PC-SM-840B TM2.4.29, the evaluation was performed based on the following criteria under the condition of 1/8 inch in diameter and 10 cycles. :: The cured coating film has no cracks Δ: The cured coating film has some cracks X: The cured coating film has cracks

【0035】(3)耐折性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれカプトン材(厚さ25μm)上にスク
リーン印刷で全面印刷し、150℃で30分間硬化させ
た(乾燥膜厚20μm)。得られた硬化塗膜を180゜
折り曲げ、以下の基準で評価した。 ○:硬化塗膜にクラックがないもの △:硬化塗膜に若干クラックがあるもの ×:硬化塗膜にクラックがあるもの
(3) Folding Resistance The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were all printed on a Kapton material (thickness: 25 μm) by screen printing at 150 ° C For 30 minutes (dry film thickness: 20 μm). The cured coating film obtained was bent at 180 ° and evaluated according to the following criteria. :: The cured coating film has no cracks Δ: The cured coating film has some cracks X: The cured coating film has cracks

【0036】(4)柔軟性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれカプトン材(厚さ50μm)上にスク
リーン印刷で全面印刷し、150℃で30分間硬化させ
た(乾燥膜厚20μm)。得られた硬化塗膜を幅10m
m、長さ約90mmに加工し、電子秤上にて3mmまで
折り曲げたときの反発力を以下の基準で評価した。 ○:10g未満(カプトン材50μm相当) △:10〜30g未満 ×:30g以上
(4) Flexibility The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were all printed on a Kapton material (50 μm in thickness) by screen printing. It was cured for 30 minutes (dry film thickness 20 μm). The obtained cured coating film is 10m wide.
m and a length of about 90 mm, and the repulsive force when bent to 3 mm on an electronic balance was evaluated according to the following criteria. ○: less than 10 g (equivalent to 50 μm of Kapton material) △: less than 10 to 30 g ×: 30 g or more

【0037】(5)反り 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれカプトン材(150×110mm、厚
さ25μm)上にスクリーン印刷で全面印刷し、150
℃で30分間硬化させた(乾燥膜厚20μm)。冷却
後、得られた硬化塗膜の反りを以下の基準で評価した。 ○:反りがないもの △:若干反りがあるもの ×:反りがあるもの
(5) Warpage The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were all printed on a Kapton material (150 × 110 mm, thickness 25 μm) by screen printing. 150
Cured at 30 ° C. for 30 minutes (dry film thickness 20 μm). After cooling, the warpage of the obtained cured coating film was evaluated according to the following criteria. ○: no warpage △: slightly warped ×: warped

【0038】(6)耐めっき性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれプリント回路基板(厚さ1.6mm)
上にパターン印刷し、150℃で30分間硬化させた
(乾燥膜厚20μm)。得られた硬化塗膜の耐めっき性
を以下の基準で評価した。 めっき浴:シプレイ・ファーイースト社製LT−34;
70℃×10分 湯 洗:80℃×10分 ○:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色がないもの △:硬化塗膜に若干ふくれ、剥がれ、変色があるもの ×:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色があるもの
(6) Plating Resistance Each of the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a printed circuit board (1.6 mm thick).
A pattern was printed thereon and cured at 150 ° C. for 30 minutes (dry film thickness: 20 μm). The plating resistance of the obtained cured coating film was evaluated according to the following criteria. Plating bath: LT-34 manufactured by Shipley Far East;
70 ° C. × 10 minutes Hot water washing: 80 ° C. × 10 minutes ○: The cured coating has no blistering, peeling, or discoloration △: The cured coating has slight blistering, peeling, or discoloration ×: The cured coating has blistering, Those with peeling or discoloration

【0039】(7)PCT耐性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれプリント回路基板(厚さ1.6mm)
上にパターン印刷し、150℃で30分間硬化させた
(乾燥膜厚20μm)。得られた硬化塗膜のPCT耐性
を条件121℃、飽和50時間にて以下の基準で評価し
た。 ○:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色がないもの △:硬化塗膜に若干ふくれ、剥がれ、変色があるもの ×:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色があるもの
(7) PCT Resistance Each of the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a printed circuit board (1.6 mm thick).
A pattern was printed thereon and cured at 150 ° C. for 30 minutes (dry film thickness: 20 μm). The PCT resistance of the obtained cured coating film was evaluated under the following criteria under conditions of 121 ° C. and 50 hours of saturation. :: The cured coating has no blistering, peeling or discoloration △: The cured coating has slight blistering, peeling or discoloring ×: The cured coating has blistering, peeling or discoloration

【0040】(8)はんだ耐熱性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれプリント回路基板(厚さ1.6mm)
上にパターン印刷し、150℃で30分間硬化させた
(乾燥膜厚20μm)。得られた硬化塗膜にロジン系フ
ラックスを塗布し、260℃のはんだ槽に10秒間浸漬
し、硬化塗膜の状態を以下の基準で評価した。 ○:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色がないもの △:硬化塗膜に若干ふくれ、剥がれ、変色があるもの ×:硬化塗膜にふくれ、剥がれ、変色があるもの
(8) Heat Resistance to Solder Each of the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a printed circuit board (1.6 mm thick).
A pattern was printed thereon and cured at 150 ° C. for 30 minutes (dry film thickness: 20 μm). A rosin-based flux was applied to the obtained cured coating film, immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds, and the state of the cured coating film was evaluated according to the following criteria. :: The cured coating has no blistering, peeling or discoloration △: The cured coating has slight blistering, peeling or discoloring ×: The cured coating has blistering, peeling or discoloration

【0041】(9)電気絶縁性 上記実施例1〜5及び比較例1〜3の各熱硬化性樹脂組
成物を、それぞれIPCで定められたプリント回路基板
(厚さ1.6mm)のBパターン上にパターン印刷し、
150℃で30分間硬化させた(乾燥膜厚20μm)。
得られた硬化塗膜の電気絶縁性を以下の基準にて評価し
た。 加湿条件:温度85℃、湿度85%RH、印加電圧10
0V、500時間 測定条件:測定時間60秒、印加電圧500V ○:加湿後の絶縁抵抗値109 Ω以上、銅のマイグレー
ションなし △:加湿後の絶縁抵抗値109 Ω以上、銅のマイグレー
ションあり ×:加湿後の絶縁抵抗値108 Ω以下、銅のマイグレー
ションあり
(9) Electrical Insulation Each of the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a B pattern of a printed circuit board (1.6 mm thick) determined by IPC. Print the pattern on top,
It was cured at 150 ° C. for 30 minutes (dry film thickness: 20 μm).
The electrical insulation of the obtained cured coating film was evaluated according to the following criteria. Humidification conditions: temperature 85 ° C, humidity 85% RH, applied voltage 10
0V, 500 hours Measurement conditions: Measurement time 60 seconds, applied voltage 500V ○: insulation resistance 10 9 Omega or after humidification, copper without migration △: insulation resistance 10 9 Omega or after humidification, there copper migration × : Insulation resistance after humidification 10 8 Ω or less, copper migration

【0042】上記試験の結果を表1に示す。表1に示す
結果から明らかなように、本発明の熱硬化性樹脂組成物
から形成した硬化塗膜は、反りがなく、基材への密着
性、耐屈曲性、耐折性、柔軟性、耐めっき性、PCT耐
性並びにはんだ耐熱性に優れていた。また、電気絶縁性
においても良好な結果であった。
Table 1 shows the results of the above test. As is clear from the results shown in Table 1, the cured coating film formed from the thermosetting resin composition of the present invention has no warpage, adhesion to the substrate, bending resistance, folding resistance, flexibility, Excellent in plating resistance, PCT resistance and solder heat resistance. In addition, good results were also obtained in terms of electrical insulation.

【表1】 [Table 1]

【0043】[0043]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、可撓性
に優れたフレキシブルプリント配線板やテープキャリア
パッケージの製造に用いられるソルダーレジストイン
キ、又はエレクトロルミネッセントパネル等の製造に用
いられる保護膜として有用な熱硬化性樹脂組成物が提供
される。このようなソルダーレジストインキは熱硬化後
に反りがないため、フレキシブルプリント配線板やテー
プキャリアパッケージへの部品又はチップの装着が容易
である。また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、従来使
用されている液状ポリイミドインキと比較すると安価に
生産可能である。一方、保護膜として用いた場合、同様
に熱硬化後に反りがないため、エレクトロルミネッセン
ト素子が発光する際の音響ノイズを低下させることがで
きる。また、従来使用されているグラビアインキに比べ
て絶縁性が良いため、電荷量の放散が効果的に防止さ
れ、発光の輝度を向上することができる。従って、本発
明の熱硬化性樹脂組成物は、フレキシブルプリント配線
板やテープキャリアパッケージの製造に用いられるソル
ダーレジストインキ又はエレクトロルミネッセントパネ
ルの製造に用いられる保護膜として有用であり、可撓性
及び耐屈曲性、耐折性、柔軟性、耐めっき性、PCT耐
性、はんだ耐熱性、電気絶縁性、下地への密着性等の諸
特性に優れた保護膜を低コストで生産性良く形成でき
る。
As described above, according to the present invention, a solder resist ink used for manufacturing a flexible printed wiring board and a tape carrier package excellent in flexibility, or an electroluminescent panel is manufactured. The present invention provides a thermosetting resin composition useful as a protective film to be obtained. Since such a solder resist ink does not warp after thermosetting, it is easy to mount components or chips on a flexible printed wiring board or a tape carrier package. Further, the thermosetting resin composition of the present invention can be produced at a lower cost as compared with a conventionally used liquid polyimide ink. On the other hand, when used as a protective film, similarly, there is no warping after thermosetting, so that acoustic noise when the electroluminescent element emits light can be reduced. In addition, since the insulating property is better than that of the conventionally used gravure ink, the dissipation of the charge amount is effectively prevented, and the luminance of light emission can be improved. Therefore, the thermosetting resin composition of the present invention is useful as a solder resist ink used for manufacturing a flexible printed wiring board or a tape carrier package, or as a protective film used for manufacturing an electroluminescent panel, and has flexibility. A protective film with excellent properties such as bending resistance, bending resistance, flexibility, plating resistance, PCT resistance, solder heat resistance, electrical insulation, and adhesion to a base can be formed at low cost and with high productivity. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】背面電極表面に本発明に従って保護膜を形成し
たエレクトロルミネッセント素子の一例の概略部分断面
図である。
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view of an example of an electroluminescent device having a protective film formed on the surface of a back electrode according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基材 2 透明電極 3 第一絶縁膜 4 発光層 5 第二絶縁膜 6 背面電極 7 保護膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Transparent electrode 3 First insulating film 4 Light emitting layer 5 Second insulating film 6 Back electrode 7 Protective film

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)1分子中に2個以上のカルボキシ
ル基を有し、酸価が20〜120mgKOH/g、ガラ
ス転移温度が−60〜40℃で、かつ重量平均分子量が
5,000〜100,000であるポリカルボン酸樹
脂、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有する樹
脂、及び(C)有機溶剤を含有することを特徴とする熱
硬化性樹脂組成物。
(A) A compound having two or more carboxyl groups in one molecule, having an acid value of 20 to 120 mgKOH / g, a glass transition temperature of -60 to 40 ° C, and a weight average molecular weight of 5,000. A thermosetting resin composition comprising: a polycarboxylic acid resin having a molecular weight of about 100,000, (B) a resin having two or more epoxy groups in one molecule, and (C) an organic solvent.
【請求項2】 (A)1分子中に2個以上のカルボキシ
ル基を有し、酸価が20〜120mgKOH/gで、ガ
ラス転移温度が−60〜40℃で、かつ重量平均分子量
が5,000〜100,000であるポリカルボン酸樹
脂、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有する樹
脂、(C)有機溶剤、及び(D)メルカプト化合物を含
有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(A) having two or more carboxyl groups in one molecule, having an acid value of 20 to 120 mgKOH / g, a glass transition temperature of -60 to 40 ° C, and a weight average molecular weight of 5, (B) a resin having two or more epoxy groups in one molecule, (C) an organic solvent, and (D) a mercapto compound. Curable resin composition.
【請求項3】 前記(D)メルカプト化合物が、3−メ
ルカプト−プロピルトリメトキシシランであることを特
徴とする請求項2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
3. The thermosetting resin composition according to claim 2, wherein the (D) mercapto compound is 3-mercapto-propyltrimethoxysilane.
【請求項4】 前記(A)ポリカルボン酸樹脂が、1分
子中に1つの重合性不飽和結合と1つのカルボキシル基
を有する化合物を必須のモノマー成分とする共重合樹脂
であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項
に記載の熱硬化性樹脂組成物。
4. The polycarboxylic acid resin (A) is a copolymer resin containing a compound having one polymerizable unsaturated bond and one carboxyl group in one molecule as an essential monomer component. The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 前記(A)ポリカルボン酸樹脂が、炭素
数6〜21の(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノ
マー成分とする共重合樹脂であることを特徴とする請求
項1乃至4のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成
物。
5. The method according to claim 1, wherein the polycarboxylic acid resin (A) is a copolymer resin containing a (meth) acrylic acid ester having 6 to 21 carbon atoms as an essential monomer component. The thermosetting resin composition according to claim 1.
【請求項6】 前記(B)エポキシ基を有する樹脂の配
合量が、(A)ポリカルボン酸樹脂のカルボキシル基1
当量当たり、0.6〜2.0当量であることを特徴とす
る請求項1乃至5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂
組成物。
6. The compounding amount of the resin having an epoxy group (B) is the same as that of the carboxyl group 1 of the polycarboxylic acid resin (A).
The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the amount is 0.6 to 2.0 equivalents per equivalent.
【請求項7】 前記(D)メルカプト化合物の配合量
が、(A)ポリカルボン酸樹脂100重量部当たり、1
〜10重量部であることを特徴とする請求項2乃至6の
いずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
7. The compounding amount of the mercapto compound (D) is 1 to 100 parts by weight of the polycarboxylic acid resin (A).
The thermosetting resin composition according to any one of claims 2 to 6, wherein the amount is from 10 to 10 parts by weight.
【請求項8】 製品もしくは部品の被保護部表面に形成
された前記請求項1乃至7のいずれか一項に記載の熱硬
化性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜。
8. A protective film comprising a cured product of the thermosetting resin composition according to claim 1, formed on a surface of a protected portion of a product or a part.
【請求項9】 前記製品もしくは部品が、プリント配線
板、テープキャリアパッケージ、エレクトロルミネッセ
ントパネルの背面電極、又は、携帯電話、時計もしくは
カーステレオの表示パネルである請求項8に記載の保護
膜。
9. The protective film according to claim 8, wherein the product or component is a printed wiring board, a tape carrier package, a back electrode of an electroluminescent panel, or a display panel of a mobile phone, a clock or a car stereo. .
【請求項10】 被保護部表面に前記請求項1乃至7の
いずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を塗布した
後、所定温度に加熱して硬化させることを特徴とする保
護膜形成方法。
10. A protective film, characterized in that the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7 is applied to the surface of a protected portion and then heated to a predetermined temperature to be cured. Forming method.
【請求項11】 前記塗布がスクリーン印刷法、スリッ
トコーティング法、ロールコート法、スプレイコート
法、又はカーテンコート法により行われる請求項10に
記載の方法。
11. The method according to claim 10, wherein the application is performed by a screen printing method, a slit coating method, a roll coating method, a spray coating method, or a curtain coating method.
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