JPH11153514A - 光伝送用モジュールの製造方法並びにビット・エラーレート特性検査システム - Google Patents

光伝送用モジュールの製造方法並びにビット・エラーレート特性検査システム

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JPH11153514A
JPH11153514A JP9321629A JP32162997A JPH11153514A JP H11153514 A JPH11153514 A JP H11153514A JP 9321629 A JP9321629 A JP 9321629A JP 32162997 A JP32162997 A JP 32162997A JP H11153514 A JPH11153514 A JP H11153514A
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    • G01M11/30Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
    • G01M11/33Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face
    • G01M11/331Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face by using interferometer

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Abstract

(57)【要約】 【課題】情報通信システムの高速・大容量化に伴って要
求される光通信システム(光伝送システム)に用いられ
る光伝送用モジュールに対する低ビット・エラーレート
(BER)の特性を短時間で、且つ精度良く検査して高
信頼性を確保することができるようにした光伝送用モジ
ュールの製造方法並びにBER特性検査システム及びそ
の方法を提供することにある。 【解決手段】本発明は、矩形波パルスを干渉光として使
用することにより、簡単な理論上の信号対雑音比(S/
N)の劣化量を計算できるため、これによって計測した
光信号の誤り率から干渉光の無い場合(S/X=∞又は
X=0)を符号誤り率理論値を用いて補外し、光伝送シ
ステムに用いられる光伝送用モジュールのBER特性を
検査することである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光伝送システムを
構成する送信器モジュールや受信器モジュール等を製造
し、該製造された光伝送用モジュールを被検査対象とし
て伝送光パワーに対する低ビット・エラーレート(BE
R)の特性を短時間で、且つ精度良く検査する光伝送用
モジュールの製造方法並びにビット・エラーレート特性
検査システムおよびその方法に関する。特に本発明は、
光伝送システムを構成する光伝送用モジュールを被検査
対象として最小受信感度及びレートによる光パワーの依
存性、伝送ペナルティなどの特性を検査するものであ
り、高速光/電気信号の計測、検査、試験技術に関す
る。
【0002】
【従来の技術】第1の従来技術であるビット・エラーレ
ート(BER)特性計測としては、伝送速度に応じた誤
り率計測器を使用しておこなわれている。この際、干渉
光の外乱なしに、送信器と受信器を直結した場合と長距
離ファイバーを経由した場合について、受信信号光の所
定時間内でのエラー数のカウント及びエラー率の算定が
おこなわれている。また、10~3〜10~12程度のBE
R特性計測は、BERカーブ1本当り10数分程度を要
していた。さらに、送信器モジュールや受信器モジュー
ル等の被検査対象に対して環境温度の変動及び電源の変
動に応じたBERカーブを計測する必要があるため、1
個の製品(被検査対象)当りの検査時間は数時間を要す
ることになる。また、さらに10~13や10~14オーダの
低次のBER特性計測では数時間から数10時間をかけ
て計測しなければならないため、1ポイントデータとし
て干渉光を混入して、10~10のBER特性が得られる
時の光パワーの値から数dBm高いパワー値でのビット
エラーを計測し、エラーが無いことを確認している。
【0003】また、第2の従来技術としては、文献(M
argin Measurements in Opt
ical Amplifier Systems:IE
3PHOTONICS TECHNOROGY LET
TER,VOL.5,NO.3,MARCH 199
3)により、正弦波干渉法が提示されている。この方法
によれば、BERの外挿には、正弦波信号の振幅値とB
ERを用いて10~20程度まで外挿出来るとしている。
また、第3の従来技術としては、特開平6−25295
9号公報に記載されているように、雑音を付加して、ビ
ット・エラーレート(ビット誤り率)を計測して、劣化
させない状態のビット・エラーレートを計算により推定
する方法が提示されている。この方法は、雑音を付加す
る前後の復調出力の相対位相を識別することにより、計
算している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、情報通信システ
ムの高速・大容量化に伴い、高速光通信システムの高信
頼性が要求され、10~12以下の低ビット・エラーレー
トの計測が必要になってきている。ところが、第1の従
来技術では、非現実的な計測時間を要すると共に所望の
精度を保証できない課題を有していた。また、第2の従
来技術においても、正弦波信号の振幅を可変したり、変
調をかけなければならず、制御が困難となり、しかも外
挿精度や従来のリアルタイム計測との相対誤差の確認が
10~20レベルでは千年以上を要し、困難となるため、
所望の精度を保証できないという課題を有していた。ま
た、第3の従来技術は、識別が複雑で、且つ所望の精度
を保証できないという課題を有していた。
【0005】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決すべく、情報通信システムの高速・大容量化に伴って
要求される光通信システム(光伝送システム)に用いら
れる光伝送用モジュールに対する低ビット・エラーレー
ト(BER)の特性を短時間で、且つ精度良く検査して
高信頼性を確保することができるようにした光伝送用モ
ジュールの製造方法並びにビット・エラーレート特性検
査システム及びその方法を提供することにある。また本
発明の他の目的は、情報通信システムの高速・大容量化
に伴って要求される光通信システム(光伝送システム)
に用いられる光伝送用モジュールに対する低ビット・エ
ラーレート(BER)の特性を短時間で、且つ精度良く
検査して高品質の光伝送用モジュールを高歩留まりで製
造することができるようにした光伝送用モジュールの製
造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光伝送システムに用いられる光伝送用モ
ジュールを製造する製造工程と、電気信号パターンに応
じた光信号を発生する信号光送信手段と矩形パルス波形
の外乱信号に基づく干渉光を発生する干渉光送信手段と
上記信号光送信手段からの信号光と干渉光送信手段から
の干渉光とを光学的に合成する光カプラと該光カプラに
よって合成される合成光の光パワーを変化させる光学手
段と該光学手段から得られる合成光を受信して電気信号
に変換して識別再生する受信手段と上記光学手段によっ
て変化された合成光の光パワーの変化に対応させて上記
受信手段によって再生された合成信号についてのビット
・エラーレート(BER)を計測し、この計測された合
成光の光パワーの変化に対応させたBERから信号光の
光パワーに対するBER特性を算出し、この算出された
信号光の光パワーに対するBER特性からBERの理論
特性に基いて干渉光のない場合のBER特性を生成して
検査する計算手段とを備えたBER特性検査システムを
用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モジュール
を被検査対象としてBER特性を検査する検査工程とを
有することを特徴とする光伝送用モジュールの製造方法
である。
【0007】また、本発明は、光伝送システムに用いら
れる光伝送用モジュールを製造する製造工程と、電気信
号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信手段と
矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発生する干
渉光送信手段と上記信号光送信手段からの信号光と干渉
光送信手段からの干渉光とを光学的に合成する光カプラ
と該光カプラによって合成される信号光の光パワーと干
渉光の光パワーとの比(S/X)を所望の値に設定して
合成光の光パワーを変化させる光学手段と該光学手段か
ら得られる合成光を受信して電気信号に変換して識別再
生する受信手段と、上記光学手段による上記光パワーの
比(S/X)において合成光の光パワーの変化に対応さ
せて上記受信手段によって再生された合成信号について
のBERを計測し、この計測された上記光パワーの比
(S/X)における合成光の光パワーの変化に対応させ
たBERから、上記光パワーの比(S/X)における信
号光の光パワーに対するBER特性を算出し、この算出
された上記光パワーの比(S/X)における信号光の光
パワーに対するBER特性から、BERの理論特性に基
いて干渉光のない場合のBER特性を生成して検査する
計算手段とを備えたBER特性検査システムを用いて、
上記製造工程で製造された光伝送用モジュールを被検査
対象としてBER特性を検査する検査工程とを有するこ
とを特徴とする光伝送用モジュールの製造方法である。
【0008】また、本発明は、光伝送システムに用いら
れる光伝送用モジュールを製造する製造工程と、電気信
号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信手段と
矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発生する干
渉光送信手段と上記信号光送信手段からの信号光と干渉
光送信手段からの干渉光とを光学的に合成する光カプラ
と該光カプラによって合成される合成光の光パワーを変
化させる光学手段と該光学手段によって変化される合成
光の光パワーを測定する光パワー測定手段と上記光学手
段から得られる合成光を受信して電気信号に変換して識
別再生する受信手段と上記光パワー測定手段によって測
定される合成光の光パワーの変化に対応させて上記受信
手段によって再生された合成信号についてのBERを計
測し、この計測された合成光の光パワーの変化に対応さ
せたBERから信号光の光パワーに対するBER特性を
算出し、この算出された信号光の光パワーに対するBE
R特性からBERの理論特性に基いて干渉光のない場合
のBER特性を生成して検査する計算手段とを備えたB
ER特性検査システムを用いて、上記製造工程で製造さ
れた光伝送用モジュールを被検査対象としてBER特性
を検査する検査工程とを有することを特徴とする光伝送
用モジュールの製造方法である。
【0009】また、本発明は、光伝送システムに用いら
れる光伝送用モジュールを製造する製造工程と、電気信
号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信手段と
矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発生する干
渉光送信手段と上記信号光送信手段からの信号光と干渉
光送信手段からの干渉光とを光学的に合成する光カプラ
と該光カプラによって合成される信号光の光パワーと干
渉光の光パワーとの比(S/X)を所望の値に設定して
合成光の光パワーを変化させる光学手段と該光学手段に
よって変化される合成光の光パワーを測定する光パワー
測定手段と上記光学手段から得られる合成光を受信して
電気信号に変換して識別再生する受信手段と上記光学手
段による上記光パワーの比(S/X)において上記光パ
ワー測定手段によって測定された合成光の光パワーの変
化に対応させて上記受信手段によって再生された合成信
号についてのBERを計測し、この計測された上記光パ
ワーの比(S/X)における合成光の光パワーの変化に
対応させたBERから、上記光パワーの比(S/X)に
おける信号光の光パワーに対するBER特性を算出し、
この算出された上記光パワーの比(S/X)における信
号光の光パワーに対するBER特性から、BERの理論
特性に基いて干渉光のない場合のBER特性を生成して
検査する計算手段とを備えたBER特性検査システムを
用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モジュール
を被検査対象としてBER特性を検査する検査工程とを
有することを特徴とする光伝送用モジュールの製造方法
である。
【0010】また、本発明は、上記光伝送用モジュール
の製造方法における検査工程において、10~13以下の
BER特性を検査することを特徴とする。また、本発明
は、上記光伝送用モジュールの製造方法における検査工
程おいて用いられるBER検査システムの計算手段にお
けるBERの理論特性を、干渉光を付加したときの信号
対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づいて得ることを特
徴とする。また、本発明は、上記光伝送用モジュールの
製造方法における検査工程おいて用いられるBER検査
システムの計算手段におけるBERの理論特性を、信号
光の光パワーと干渉光の光パワーとの比(S/X)の関
数として示される干渉光を付加したときのS/Nの劣化
量Dに基づいて得ることを特徴とする。また、本発明
は、上記光伝送用モジュールの製造方法における検査工
程おいて用いられるBER検査システムの計算手段にお
けるBERの理論特性を、アイパターンのアイ開口率の
逆数のLogで定義される干渉光を付加したときのS/
Nの劣化量Dに基づいて得ることを特徴とする。
【0011】また、本発明は、光伝送システムに用いら
れる光伝送用モジュールを製造する製造工程と、電気信
号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信手段と
矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発生する干
渉光送信手段と上記信号光送信手段からの信号光と干渉
光送信手段からの干渉光とを光学的に合成する光カプラ
と該光カプラによって合成される信号光の光パワーと干
渉光の光パワーとの比(S/X)を互いに異なる複数の
値に設定して合成光の光パワーを変化させる光学手段と
該光学手段から得られる合成光を受信して電気信号に変
換して識別再生する受信手段と上記光学手段による上記
複数の光パワーの比(S/X)の各々において合成光の
光パワーの変化に対応させて上記受信手段によって再生
された合成信号についてのBERを計測し、この計測さ
れた上記複数の光パワーの比(S/X)の各々における
合成光の光パワーの変化に対応させたBERに基づいて
検査する計算手段とを備えたBER特性検査システムを
用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モジュール
を被検査対象としてBER特性を検査する検査工程とを
有することを特徴とする光伝送用モジュールの製造方法
である。
【0012】また、本発明は、上記光伝送用モジュール
の製造方法において、更に、上記検査工程で検査された
BER特性に関する情報を上記製造工程にフィードバッ
クするフィードバック工程を有することを特徴とする。
また、本発明は、電気信号パターンに応じた光信号を発
生する信号光送信手段と矩形パルス波形の外乱信号に基
づく干渉光を発生する干渉光送信手段と上記信号光送信
手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光
学的に合成する光カプラと該光カプラによって合成され
る合成光の光パワーを変化させる光学手段と該光学手段
から得られる合成光を受信して電気信号に変換して識別
再生する受信手段と上記光学手段によって変化された合
成光の光パワーの変化に対応させて上記受信手段によっ
て再生された合成信号についてのBERを計測し、この
計測された合成光の光パワーの変化に対応させたBER
から信号光の光パワーに対するBER特性を算出し、こ
の算出された信号光の光パワーに対するBER特性から
BERの理論特性に基いて干渉光のない場合のBER特
性を生成して検査する計算手段とを備え、光伝送システ
ムに用いられる被検査対象のBER特性を検査するよう
に構成したことを特徴とするBER特性検査システムで
ある。
【0013】また、本発明は、電気信号パターンに応じ
た光信号を発生する信号光送信手段と、矩形パルス波形
の外乱信号に基づく干渉光を発生する干渉光送信手段
と、上記信号光送信手段からの信号光と干渉光送信手段
からの干渉光とを光学的に合成する光カプラと、該光カ
プラによって合成される信号光の光パワーと干渉光の光
パワーとの比(S/X)を所望の値に設定して合成光の
光パワーを変化させる光学手段と、該光学手段から得ら
れる合成光を受信して電気信号に変換して識別再生する
受信手段と、上記光学手段による上記光パワーの比(S
/X)において合成光の光パワーの変化に対応させて上
記受信手段によって再生された合成信号についてのBE
Rを計測し、この計測された上記光パワーの比(S/
X)における合成光の光パワーの変化に対応させたBE
Rから、上記光パワーの比(S/X)における信号光の
光パワーに対するBER特性を算出し、この算出された
上記光パワーの比(S/X)における信号光の光パワー
に対するBER特性から、BERの理論特性に基いて干
渉光のない場合のBER特性を生成して検査する計算手
段とを備え、光伝送システムに用いられる被検査対象の
BER特性を検査するように構成したことを特徴とする
BER特性検査システムである。
【0014】また、本発明は、電気信号パターンに応じ
た光信号を発生する信号光送信手段と、矩形パルス波形
の外乱信号に基づく干渉光を発生する干渉光送信手段
と、上記信号光送信手段からの信号光と干渉光送信手段
からの干渉光とを光学的に合成する光カプラと、該光カ
プラによって合成される合成光の光パワーを変化させる
光学手段と、該光学手段によって変化される合成光の光
パワーを測定する光パワー測定手段と、上記光学手段か
ら得られる合成光を受信して電気信号に変換して識別再
生する受信手段と、上記光パワー測定手段によって測定
される合成光の光パワーの変化に対応させて上記受信手
段によって再生された合成信号についてのBERを計測
し、この計測された合成光の光パワーの変化に対応させ
たBERから信号光の光パワーに対するBER特性を算
出し、この算出された信号光の光パワーに対するBER
特性からBERの理論特性に基いて干渉光のない場合の
BER特性を生成して検査する計算手段とを備え、光伝
送システムに用いられる被検査対象のBER特性を検査
するように構成したことを特徴とするBER特性検査シ
ステムである。
【0015】また、本発明は、電気信号パターンに応じ
た光信号を発生する信号光送信手段と、矩形パルス波形
の外乱信号に基づく干渉光を発生する干渉光送信手段
と、上記信号光送信手段からの信号光と干渉光送信手段
からの干渉光とを光学的に合成する光カプラと、該光カ
プラによって合成される信号光の光パワーと干渉光の光
パワーとの比(S/X)を所望の値に設定して合成光の
光パワーを変化させる光学手段と、該光学手段によって
変化される合成光の光パワーを測定する光パワー測定手
段と、上記光学手段から得られる合成光を受信して電気
信号に変換して識別再生する受信手段と、上記光学手段
による上記光パワーの比(S/X)において上記光パワ
ー測定手段によって測定された合成光の光パワーの変化
に対応させて上記受信手段によって再生された合成信号
についてのBERを計測し、この計測された上記光パワ
ーの比(S/X)における合成光の光パワーの変化に対
応させたBERから、上記光パワーの比(S/X)にお
ける信号光の光パワーに対するBER特性を算出し、こ
の算出された上記光パワーの比(S/X)における信号
光の光パワーに対するBER特性から、BERの理論特
性に基いて干渉光のない場合のBER特性を生成して検
査する計算手段とを備え、光伝送システムに用いられる
被検査対象のBER特性を検査するように構成したこと
を特徴とするBER特性検査システムである。
【0016】また、本発明は、上記BER特性検査シス
テムにおける計算手段において、10~13以下のBER
特性を検査するように構成したことを特徴とする。ま
た、本発明は、上記BER特性検査システムにおける計
算手段において、上記BERの理論特性を、干渉光を付
加したときの信号対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づ
いて得るように構成したことを特徴とする。また、本発
明は、上記BER特性検査システムにおける計算手段に
おいて、上記BERの理論特性を、信号光の光パワーと
干渉光の光パワーとの比(S/X)の関数として示され
る干渉光を付加したときのS/Nの劣化量Dに基づいて
得るように構成したことを特徴とする。また、本発明
は、上記BER特性検査システムにおける計算手段にお
いて、上記BERの理論特性を、アイパターンのアイ開
口率の逆数のLogで定義される干渉光を付加したとき
のS/Nの劣化量Dに基づいて得るように構成したこと
を特徴とする。
【0017】また、本発明は、電気信号パターンに応じ
た光信号を発生する信号光送信手段と、矩形パルス波形
の外乱信号に基づく干渉光を発生する干渉光送信手段
と、上記信号光送信手段からの信号光と干渉光送信手段
からの干渉光とを光学的に合成する光カプラと、該光カ
プラによって合成される信号光の光パワーと干渉光の光
パワーとの比(S/X)を互いに異なる複数の値に設定
して合成光の光パワーを変化させる光学手段と、該光学
手段から得られる合成光を受信して電気信号に変換して
識別再生する受信手段と、上記光学手段による上記複数
の光パワーの比(S/X)の各々において合成光の光パ
ワーの変化に対応させて上記受信手段によって再生され
た合成信号についてのBERを計測し、この計測された
上記複数の光パワーの比(S/X)の各々における合成
光の光パワーの変化に対応させたBERに基づいて検査
する計算手段とを備え、光伝送システムに用いられる被
検査対象のBER特性を異なるレベルで検査するように
構成したことを特徴とするBER特性検査システムであ
る。
【0018】また、本発明は、上記BER特性検査シス
テムにおける計算手段において、信号光のパワーSと干
渉光のパワーXとの比が一定(S/X=A)で計測した
エラーレートデータの組(Pr,BER)のどちらか1
つの座標データを用い、他の座標を演算によりBER特
性を補外することを特徴とする。また、本発明は、上記
BER特性検査システムにおける計算手段において、エ
ラーレートデータBERの値を誤り率理論値(BER=
Q(q):正規分布の上限確率又は誤差関数)を用いて
BER特性を補外することを特徴とする。また、本発明
は、上記BER特性検査システムにおける計算手段にお
いて、複数のS/Xの値によるエラーレートデータの組
(Pr,BER)から、BER特性を補外することを特
徴とする。また、本発明は、上記BER特性検査システ
ムにおける干渉光送信手段に、ファイバー用アンプを励
起光として干渉光に重畳させて、BER特性を補外する
ことを特徴とする。
【0019】また、本発明は、送信器より光信号を発生
させ、所望の光パワー比で上記光信号より低い周波数の
デジタル光信号である干渉光を印加し、上記光信号と干
渉光とを合成し、該合成した光信号のパワーを減衰し、
該減衰した光信号を受信器で受信して該受信信号のエラ
ーレートを計測し、該エラーレートを演算して干渉光の
パワーがない(X=0)ときのBER特性を求め、この
求められたBER特性と基準となるBER特性とを比較
して良否の判定を行い、光伝送システムに用いられる被
検査対象についてBERを検査するBER特性検査方法
である。
【0020】以上説明したように、前記構成によれば、
矩形波パルスを干渉光として使用することにより、簡単
な理論上の信号対雑音比(S/N)の劣化量を計算でき
るため、これによって計測した光信号の誤り率から干渉
光の無い場合(S/X=∞又はX=0)を符号誤り率理
論値を使用して補外することができ、また信号光の光パ
ワー対干渉光の光パワー比(S/X値)により精度の良
い10~12以下の低ビットエラーレート(BER)特性
を容易に生成して10~12以下の低ビットエラーレート
の検査を、精度良く、しかも簡単、且つ短時間で実行す
ることができ、その結果、情報通信システムの高速・大
容量化(例えば、2.4Gbit/sec以上の10G
bit/sec、40Gbit/sec等)に伴って要
求される光通信システム(光伝送システム)の高信頼性
を確保することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明に係る実施の形態につい
て、図面を用いて説明する。図1は、本発明に係る誤り
率(BER:Bit Error Rate)を検査す
る光信号を発生する送信器モジュール、または光伝送さ
れた光信号を受信して電気信号に変換して再生する受信
器モジュール、または送信器モジュールと受信器モジュ
ールとの間をファイバーで接続した光伝送システムの概
略構成を示す図である。即ち、本発明に係る誤り率(B
ER)の検査が行われる製品形態として、送信器単品モ
ジュールと、受信器単品モジュールと、送信器モジュー
ルと受信器モジュールとの間をファイバーで接続した光
伝送システムとがある。
【0022】光信号を発生する送信器モジュール20と
しては、主として、送信データ28に基づいて駆動され
るフォトダイオードドライバー(LED DRV)21
と、発光ダイオード(LED)22とを送信器用光モジ
ュール基板(図示せず)に実装することによって構成さ
れる。光信号を受信して電気信号に変換して再生する受
信器モジュール31としては、主として、光信号を受信
する受光ダイオード(PD)24と、該受光ダイオード
24で受光して変換された信号を等化増幅する受信アン
プ(AMP)25と、該受信アンプ25で等化増幅され
た受信信号aのパルス列から再生用クロック信号cを抽
出すると共にタイミングパルス信号30を出力するタン
ク回路(RETIMER)27と、上記受信アンプ25
で等化増幅された受信信号(ガウス的なランダム変数と
仮定される整形パルスの出力電圧)aから識別再生用ク
ロック信号cに基づいてタイミングパルス時点で所定の
閾値レベルbで識別再生されて再生データ29を出力す
る識別再生器26とを受信器用光モジュール基板(図示
せず)に実装することによって構成される。光伝送シス
テムとしては、主として、上記送信器モジュール20
と、上記受信器モジュール31と、これら送信器モジュ
ール20と受信器モジュール31との間を光コネクタを
介して接続される長距離用のファイバー23とによって
構成される。なお、送信器側の光コネクタを、送信器用
光モジュール基板に実装してもよい。また、受信器側の
光コネクタを、受信器用光モジュール基板に実装しても
よい。
【0023】次に、被検査対象が光伝送システムに用い
られる送信器単品モジュール、または受信器単品モジュ
ール、または全体としてのビット誤り率(ビット・エラ
ーレート:BER)の検査について説明する。特に、情
報通信システムの高速・大容量化(例えば2.4Gbi
t/sec以上)に伴い、上記光通信システム(光伝送
システム)における高信頼性が要求されるにつれて、環
境温度の変動および電源の変動に応じて10~12以下の
低ビット・エラーレート(BER)の検査が、精度良
く、しかも簡単、かつ短時間に必要となってきている。
更に情報通信システムが10Gbit/sec以上にな
ると10~13や10~14オーダの低次のビットエラーレー
ト(BER)の検査が必要となる。
【0024】図2は、本発明に係る誤り率(BER)の
検査を行う全体検査システムの一実施の形態を示す構成
図である。被検査の対象となる送信器2又は受信器3の
どちらかが標準マスターモジュール又は、既知の良好特
性のものを使用した場合、他方が被検査受信器モジュー
ル又は被検査送信器モジュールとなる。即ち、送信器
(S)2が被検査送信器の場合には、通常、長距離ファ
イバー4を経由した場合と、長距離ファイバー4を経由
せずに直結した場合(BTB)5について、ファイバー
の繋ぎ替えにより同一検査システム内で検査される。受
信器(Rx)3が被検査受信器の場合は、通常長距離フ
ァイバー4の接続なしに、標準送信器2を使用して検査
される。当然、光伝送システム全体が被検査対象の場合
には、送信器(S)2、受信器(Rx)3および長距離
ファイバー4が被検査対象となる。いずれの場合も誤り
率(BER)の検査は同じであるので、ここでは送信器
2が被検査送信器の場合について説明する。
【0025】1は、疑似ランダムパターン発生器(PP
G)で、パルス電力が一定になるように電気信号(0,
1)の発生確率が各々1/2で、NRZ(Non re
turn Zero)信号を発生するものである。即
ち、疑似ランダムパターン発生器1は、所定の周期時間
Tにおいて電気信号(0,1)の発生確率が各々1/2
にしてパルス電力が一定の疑似ランダムパターンを発生
するものである。送信器(S)2は、疑似ランダムパタ
ーン発生器1から発生した疑似ランダムパターン信号を
E/O(電気/光)変換して信号光を出力して長距離フ
ァイバー4または直結ファイバー(BTB)5により伝
送する。信号光送信手段としては、疑似ランダムパター
ン発生器(PPG)1と送信器(S)2とによって構成
される。7は、外乱パターン発生器(SG)で、送信器
2の伝送速度vより遅いv/100〜v/250程度の
速度の(1,0)の繰り返しパルスパターン信号(振幅
一定の矩形波パルスからなる外乱パターン信号)を発生
するものである。6は、疑似ランダム干渉光(ノイズ
光)を発生する送信器(X)で、外乱パターン発生器7
から入力される送信器2の伝送速度vより遅いv/10
0〜v/250程度の速度のパルス波形からなる外乱パ
ターン信号をE/O(電気/光)変換して干渉光を出力
するものである。干渉光送信手段としては、外乱パター
ン発生器(SG)7と送信器(X)6とによって構成さ
れる。8は、光減衰器(ATT)で、送信器6から出力
される干渉光の光出力パワー(dB)の大きさを調整す
るものである。なお、送信器2から出力される信号光と
送信器6から出力される干渉光のパワーの比を一定にし
て変化させないで使用する場合には、光減衰器8は不要
となる。9は、光カプラ(COUPLER)で、送信器
2から出力される信号光と送信器6から出力される干渉
光とをパワー比において一定の割合(例えば、合成比と
してパワー比で50:50や9:1や8:2がある。)
で合成するものである。10は、光パワーを変化させる
光学手段としての光減衰器(ATT)で、信号光(S)
のみの光パワー値と干渉光(X)のみの光パワー値を調
整するものである。11は、光カプラ(COUPLE
R)で、伝送路の信号光(S)と干渉光(X)との光信
号をモニタする光パワーメータ12と受信器3とに一定
の割合(例えば、分岐比としてパワー比で50:50や
9:1や8:2がある。)で分岐するものである。12
は、光パワーメータ(PWM)で、光カプラ11で分岐
された信号光(S)のみの光パワー値と干渉光(X)の
みの光パワー値の測定、あるいはS光+X光の合成パワ
ー値を測定してその値を表示するものである。受信手段
である受信器(Rx)3は、合成光を光電変換し、受信
アンプ(AMP)25で等化増幅することによって波形
整形し、タンク回路(RETIMER)27によって再
生クロックcを発生することによってリタイミングを行
い、識別再生器26により受信アンプ25で等化増幅さ
れた受信信号(ガウス的なランダム変数と仮定される整
形パルスの出力電圧)aから識別再生用クロック信号c
に基づいてタイミングパルス時点で所定の閾値レベルb
で識別再生を行い、(1,0)の再生データ29を出力
すると共に再生クロックcに応じたタイミング信号30
を出力するものである。受信器3における識別は、ある
一定レベルの閾値bと入力信号aとが比較され、0又は
1のパルス信号(再生データ)29として再生される。
なお、受信器3は、閾値bが可変式のものと固定式のも
のがある。
【0026】13は、主としてCPUで構成されるエラ
ー検出器(ERD)で、光減衰器10で調整された光パ
ワーの値に対して、タイミング信号30に基づいて疑似
ランダムパターン発生器1で与えられたパターンと同期
して比較され、取得するエラー率(エラー数n/与えた
パターン数N)と伝送速度vとによって次に示す(数
2)式の関係から決まる時間T内で、エラーカウントを
行い、誤り率(BER)を計算するものである。即ち、
エラー検出器(ERD)13において、誤り率(BE
R)は、次に示す(数1)式の関係から計算される。 BER=(測定時間T内の(1,0)信号のエラーの発生数n)/(測定時間T 内の(1,0)信号のパターン数N)=(エラー数n(bitまたはケ))/[ ((1,0)信号の伝送速度v(bit/s))×(測定時間T(s))] (数1) T=n/(BER×v) (数2) なお、疑似ランダムパターン発生器1とエラー検出器
(ERD)13は同一装置内で構成することも可能であ
る。14は、主としてCPUとメモリ(記憶装置)とに
よって構成される外挿演算手段(APC)で、エラー検
出器13によって実測されたS/Xエラレート実測カー
ブとS/X耐力理論特性とに基づいてBERカーブ(B
ER特性)を外挿するものであると共にバス15を介し
て光減衰器(ATT)10、光パワーメータ(PWM)
12、疑似ランダムパターン発生器1、外乱パターン発
生器(SG)7およびエラー検出器(ERD)13を制
御する機能を有している。また、BERの特性検査結果
16を解析し、前工程にフィードバックする機能を有し
ている。なお、エラー検出器(ERD)13と外挿演算
手段14とを一つのCPUで構成することも可能であ
る。
【0027】次に、図2に示す全体検査システムの作用
について説明する。ただし、送信器2が被検査送信器の
場合について説明する。即ち、疑似ランダムパターン発
生器1からの信号は、送信器2でレーザ光のオンオフ信
号に変換され、伝送系に出力される。この時、被検査送
信器の場合は、通常、長距離ファイバー4を経由した場
合と、長距離ファイバー4を経由せずに直結した場合
(BTB)5について、ファイバーの繋ぎ替えにより同
一検査システム内で検査される。この検査では、送信器
2から出力される光信号に干渉光を印加する手段とし
て、もう一つの送信器6に被測定送信器2の伝送速度v
より遅いv/100〜v/250程度の速度の一定の振
幅の矩形波パルス((1,0)の繰り返しパルスパター
ン)からなる電気信号を外乱パターン発生器7から送信
器6に出力する。この一定の振幅の矩形波パルスからな
る電気信号は送信器6で光に変換され、干渉光を出力す
る。この干渉光は、送信器2からの信号光と光カプラ9
で一定の割合で合成される。又、干渉光の光出力パワー
(dB)の大きさは、バス15を介して得られる制御信
号に基づいて光減衰器8により自動またはマニュアルで
調整される。信号光と干渉光の比を一定にして、変化さ
せないで使用する場合は、合成後の光減衰器10におい
て、合成光の光パワーをバス15を介して得られる制御
信号に基づいて光減衰器8により自動またはマニュアル
で変化させることができ、しかも信号光のみの光パワー
値と干渉光のみの光パワー値とを別々に光パワーメータ
12により測定して信号光と干渉光の比を確認できる
為、干渉光側の光減衰器8は省略することができる。勿
論、光パワーメータ12は、合成された合成光の光パワ
ーを測定することができる。光カプラ11は、伝送路の
信号光と干渉光の光信号をモニタする光パワーメータ1
2と受信器3とに一定の割合で光信号を分岐する。この
時光パワーメータ12には、伝送路の光パワーを表示で
きるように構成されている。受信器3では合成光を光電
変換し、波形整形、リタイミング、識別再生を行い、
(1,0)の電気信号を出力する。この時、識別は、あ
る一定レベルの閾値bと入力信号aとが比較され、0又
は1のパルス信号(再生データ)29として再生され
る。この信号はエラー検出器13で、光減衰器10で調
整された光パワーの値に対して、タイミング信号29に
基づいて疑似ランダムパターン発生器1で与えられたパ
ターンと同期して比較され、取得するエラー率と伝送速
度vによって決まる時間内で、エラーカウントを行い、
誤り率(BER)を計算し、バス15を介して外挿演算
手段14に出力する。
【0028】なお、送信器2、6のレーザ光の波長は同
一波長のもの(例えば、長距離用としては1.5μmの
波長、短距離用としては1.3μmの波長)が使用され
る。また、被検査受信器を検査する場合には、送信器6
から得られる干渉光(X光)の他に、もう一つのカプラ
(図示せず)を使用して、光ファイバーアンプのノイズ
光(励起光)を印加して行われることもある。
【0029】次に、外挿演算手段14において実行する
外挿方法について詳述する。まず、BERカーブ(BE
R特性)を外挿する第1の外挿方法を図3を用いて説明
する。図3(a)に示すS/X耐力理論特性は、予め、
外挿演算手段14内のCPUまたは別に設けられたCP
Uによって次に示す(数3)の理論式より求められる。
もし、予め、S/X耐力理論特性を外挿演算手段14と
は別に設けられたCPUによって求めた場合には、この
求められたS/X耐力理論特性を外挿演算手段14に入
力して内部に設けられたメモリ等の記憶装置に記憶させ
る必要がある。
【0030】
【数3】
【0031】(数3)式において、関数Q(x)は正規
分布の上限確率である。
【0032】一般に、干渉光(X光)がない場合の連続
した受信パルス(通常の(0,1)パルスでユニポーラ
信号を使用)の受信器3内部のアンプ25で等化増幅さ
れた整形パルスの出力電圧(図1に示す受信波形a)
は、ガウス的なランダム変数と仮定し、受信器3内部の
識別再生器26において、受信信号のパルス列から抽出
された識別再生用クロック信号cに基づいて、タイミン
グパルスの時点で所定の閾値レベルbで識別再生され
る。この閾値レベルbが、信号振幅の1/2と仮定する
と、伝送誤り率(BER)は、次に示す(数4)式の関
係を有する。 BER=(1/2)erfc(q/√2)=Q(q) (数4) 但し、誤差関数erfc(x)は、次に示す(数5)式
の関係を有する。
【0033】 erfc(x)=1−erf(x) (数5) また、Q(q)は、正規分布の上限確率である。2qは
次に示す(数6)式の関係を有する。 2q=A/√N (数6) 但し、Aは信号振幅尖頭値、√Nは平均雑音振幅で与え
られる。また、(S/N)は、デシベル表示では次に示
す(数7)で表される。 (S/N)=20log(2q)(dB) (数7) そこで、上記(数4)式と(数7)式との関係から、B
ERを(S/N)の関数として表すと、符号誤り率BE
Rは、次に示す(数8)式の関係となる。
【0034】
【数8】
【0035】ところで、S/X耐力理論特性は、干渉光
(X)がない場合の上記(数8)式で示される符号誤り
率の理論式(干渉光がない場合の信号光(S)にGau
ss分布雑音Nが重畳されている場合の符号誤り率の理
論式)において、干渉光(X)が光カプラ9で合成して
印加されたときのS/N劣化量Dを(S/N)の項より
差し引いた上記(数3)式として表される。干渉光
(X)印加によって生じるS/N劣化量Dは、アイパタ
ーンのアイ開口率の逆数のLogで定義され、次に示す
(数9)式の関係で表される。なお、アイパターンのア
イ開口率は、アイパターン全体の開口幅(外側のひとみ
幅)Vに対する内側開口幅(内側のひとみ幅)Eの比E
/Vで示される。 D=20Log(V/E)(dB) (数9) なお、アイパターンの信号振幅レベルの関係から、V、
Eは各々次に示す(数10)式の関係を有し、S/X比
の関係は、次に示す(数11)式の関係を有することに
なる。 V=S+X、 E=S−X (数10) (S/X)E=10Log(S/X) (数11) 即ち、干渉光(X)印加によって生じるS/N劣化量D
は、(数10)式および(数11)式の関係から、上記
(数9)式に基づいて、(S/X)Eの関数として、次
に示す(数12)式から求めることができる。
【0036】
【数12】
【0037】この(数12)式において、(S/X)E
は、S/X比のデシベル値である。図3(a)に示すS
/X耐力理論特性は、上記(数3)式および(数12)
式より、S/N値をパラメータとして、S/Xに対する
誤り率特性を計算したものである。ところで、S/X=
∞(X=0)時のBERの漸近値はD=0となるため、
上記(数3)式より、BER(S/X=∞)=Q((1
/2)・(10の((S/N)/20)乗))=Pezとして、干
渉光(X)がない場合(S/X=∞の時)の伝送誤り率
として与えられる。このS/X耐力理論特性は、実測し
たS/X耐力特性とPr=−32dBm、S/N=2
3.6dBにおいて、一致している。(図3(a)の黒
く塗りつぶした□印カーブ) 以上説明したように、上記(数3)式に基づいて求めら
れるS/X耐力理論特性は、実測値から得られるS/X
耐力特性と一致することを確認することができた。な
お、S/X耐力特性は、S/X(信号光(S)と干渉光
(X)とのパワー比)(dB)と誤り率(BER)との
関係を示す特性である。
【0038】図3(b)は、外挿演算手段(APC)1
4において、干渉光(X)を付加(挿入)して計測して
バス15を介して入力されたS/Xパラメータによる信
号光の光パワーPrに対するエラー検出器(ERD)1
3から得られる誤り率の実測カーブ(実線、S/X=1
0dB)である。横軸の光入力パワーPrは、通常のB
ERカーブ(BER特性)の信号光(S)の光パワーで
表示するため、干渉光(X)を印加した時において光パ
ワーメータ(PWM)12で計測されてバス15を介し
て入力された光パワーの値Pinから、干渉光(X)の
みのパワーを差し引いたPrで表示している。即ち、干
渉光(X)を付加して光パワーメータ12で計測される
光パワーPinの値は、干渉光(X)も含めて計測され
るので、このときの信号光(S)のパワーPrは、△P
r分差引いて、Pr=Pin−△Prの計算によって求
められる。それは、BER特性の横軸Prを、信号光
(S)のパワー表示に合わせる必要があるためである。
そして、外挿演算手段14において、干渉光(X)を印
加した時において光パワーメータ12で計測されてバス
15を介して入力された光パワーの値Pinとこの時の
信号光(S)のみのパワー値Prとの差分△Prは、光
パワーメータ(PWM)12で計測して例えば光減衰器
(ATT)10を調整することによって設定されてバス
15を介して入力されたS/Xの値により、次に示す
(数13)式で計算される。
【0039】
【数13】
【0040】この(数13)式は、次の関係から得られ
ることになる。
【0041】ΔPr=10Log[S/X時のS光のパ
ワーmw換算値+S/X時のX光のパワーmw換算値]
−(S/X=∞時のS光パワー値(dBm))=10L
og((10の(S/10)乗)+(10の((S-[S/X]E)/10)
乗))−S=10Log(1+(10の(-[S/X]E/10)
乗)))[dB] 例えば、S/X=10(dB)の場合には、S光のみの
パワーPrは、上記(数13)式に基づいて算出される
△Pr=0.414(dB)の値だけ、光パワーメータ
12で読み取られてバス15を介して入力された値(S
光とX光との合計パワー)Pinより小さくなる。他の
S/X=8(dB)、S/X=6(dB)の場合には、
同様に(数13)式より計算される値を用いてPr軸上
に表示することができる。S/X=10(dB)の設定
は、信号光Sのみの状態で、X光を切り、光減衰器10
で光パワーを−30(dBm)に設定し、次に、信号光
Sを切り、X光のみを入れて、光パワーを−40(dB
m)になるように光減衰器8を調整する。以後、SとX
を同時に入力して、光減衰器10のみで受光パワーPr
を可変すると、光パワー(S/X)を一定比(例えば本
例ではS/X=10dB)で可変することができる。
【0042】次に、外挿演算手段14において、S/X
=A(dB)(例えばA(dB)=10(dB))の場
合について、外挿する方法について説明する。外挿演算
手段14は、算出したS/Xエラーレート実測カーブの
計測点(Pr1,BER1)のデータとバス15を介し
て入力されたS/X=A(dB)(例えばA(dB)=
10(dB))の値から、上記(数3)及び(数12)
式の関係から得られる次に示す(数14)式に基づい
て、S/Nを算出し、その時のS/NからS/X=∞
(D=0)時の漸近値誤り率BER=Pezを上記(数
3)式又は(数8)式より求める。この値は、X光が無
い場合のBERを示している。
【0043】
【数14】
【0044】(数14)式において、関数Q~1(BE
R)は正規累積分布の逆関数である。そこで、外挿演算
手段14は、予め求められてメモリ(記憶装置)に記憶
された図3(a)に示すS/X耐力理論特性から、例え
ば、BER1とS/X=10(dB)との値に基づいて
S/N=21(dB)が算出され、この時、S/X=∞
(D=0)時の漸近値誤り率BERとしてPez=10
~8を求めることができ、この求められた値を用いて、図
3(b)に示すS/Xエラーレート実測カーブにおける
外挿BERカーブ(外挿BER特性)の1点(Pr1,
Pez1)を得ることができる。Pr1はS/Xエラー
レート実測値の信号光Sのパワー変換値であり、Pez
1はS/X耐力理論特性のS/X=∞(X=0)時の漸
近値誤り率である。そして、外挿演算手段14は、S/
Xエラーレート実測カーブの計測点N組(Prn,BE
Rn)についても同様に計算され、1本の外挿BERカ
ーブ(外挿BER特性)を生成することができる。
【0045】その結果、S/X=10(dB)の場合に
おいて、エラー検出器13によるBER=10~7程度ま
での計測で、外挿演算手段14は、Pez≒10~10
BERを外挿することができる。更に、外挿演算手段1
4において、10~12までの外挿BERカーブ(外挿B
ER特性)を求めるには、エラー検出器13によって1
0~9までのS/X印加による計測ですませることができ
る。
【0046】以上説明したように、S/X=A(dB)
の値が小さい程、計測するBERの高い値で外挿できる
ため、計測時間の短縮を図ることができる。計測時間は
低ビットになる程大きく、誤り率1桁当たり10倍の時
間を要することになる。送受信器の伝送速度が2.4G
b/sの場合、10~12の1点の誤り率計測時間とし
て、上記(数2)式の関係から約7分必要となる。又、
実測BERカーブと外挿BERカーブとの相対誤差は、
S/X=A(dB)の値によりPr軸で1dB〜0.1
dB程度の誤差となり、S/X値が小さい程誤差が大き
くなるため、必要精度と計測時間のトレードオフによ
り、S/X値の最適値がある。ここで述べた外挿方法
は、S/X一定で説明したが、図6に示すように、外挿
演算手段14において、1本のBERカーブを生成する
時にS/X値の値を複数組み合わせて例えば、S/X=
A、B(dB)、A>B等を使用して、同様にBERカ
ーブを外挿することで、計測時間の短縮及び精度向上が
計れる。また、外挿演算手段14において、各ポイント
毎の外挿時に2点間の直線性(勾配ΔBER/△Pr)
のチェックや全点からの最小2乗法による直線との偏位
(△Pr、△Peなど)のチェックを行うことにより、
曲がり不良特性の検査が可能となる。Prの値によら
ず、BERが一定となる様なエラーフロアや曲がりなど
の不良特性の検査も同様に可能である。
【0047】即ち、外挿演算手段14は、ステップ61
において、バス15を介して光減衰器(ATT)10等
に対してS/X=B(dB)(但し、Bとして、例えば
6(dB)〜10(dB)にすることによって、エラー
検出器(ERD)13からBERを10~5〜10~8程度
まで短時間で実測することができる。)に設定し、エラ
ー検出器(ERD)13でBERの実測計算を開始す
る。次に、外挿演算手段14は、ステップ62におい
て、S/X=B(dB)に設定されてエラー検出器(E
RD)13で短時間の間に実測計算されて入力される誤
り率(BER)に基づいて、入力された誤り率(BE
R)が例えば10~5〜10~8程度である場合、目標値
(例えば10~12)より大幅に大きいことにより被検査
対象である送信器または受信器または光伝送システムが
不良品であること(最小受信感度の合否判定)を判別検
査することができる。即ち、誤り率(BER)が、目標
値より大幅に大きい不良品を短時間の間に選別検査する
ことができる。次に、外挿演算手段14は、ステップ6
3において、S/X=B(dB)に設定されてエラー検
出器(ERD)13で短時間の間に実測計算されて入力
される1本のBERカーブにおける2点間の直線性(勾
配ΔBER/△Pr)について、求め、この直線性が目
標値を満足するかどうか(ΔBER/△Pr≦|a|レ
ート/dB)をチェックし、満足しない場合には、その
BERカーブの検査結果16をステップ66において出
力して、曲がり不良特性等の検査が可能となる。次に、
外挿演算手段14は、ステップ64において、詳細BE
R計測すべく、バス15を介して光減衰器(ATT)1
0等に対してS/X=A(dB)(但し、Aは最適値で
ある。)に設定し、エラー検出器(ERD)13でBE
Rの実測計算を行う。そして、外挿演算手段14は、ス
テップ65において、エラー検出器(ERD)13で実
測計算されて入力されたS/Xエラレート実測カーブ
を、予め求められて記憶装置(メモリ)に記憶されたS
/X耐力理論特性に基づいて外挿計算を施し、ステップ
66において外挿BERカーブ(外挿BER特性)の算
出(被検査対象である送信器または受信器または光伝送
システムに対する環境温度の変動および電源の変動に応
じたS/X=∞の時の10~12以下の低ビットエラーレ
ート(BER)の検査)を実行してその結果16を出力
し、ステップ67において終了する。
【0048】次に、BERカーブ(BER特性)を外挿
する第2の外挿方法を図4を用いて説明する。上記第1
の外挿方法では、S/Xエラーレートカーブの計測値
(Pr1,BER1)を用いて、計測時の光パワーPr
1をそのまま使用して、BER1に対するS/Nの値を
上記(数14)式より求め、この干渉光(X)の無い場
合のS/Nに対する漸近理論値Pez1を次に示す(数
15)式により計算し、(Pr1,Pez1)を外挿点
とする方法である。
【0049】 BER(S/X=∞)=Q((1/2)・(10の((S/N)/20)乗))=Pez1 (数15) これに対し第2の外挿方法は、S/Nの値を介さずに、
即ち、(数14)の正規累積分布の逆関数Q~1(BE
R)の計算を行わず、図4(b)に示す如く計測して算
出されたS/X=A(dB)におけるPr’(dBm)
に対するBERカーブの少なくとも2点(図中×印)間
から、図4(a)に示す如く予め正確に求めたS/X耐
力理論特性の値(S/X=A,Pet)及びS/X=∞
の時のPezを用いて、このPet(S/X=A(d
B),S/N=J(dB)におけるS/X耐力誤り率理
論値)の各値におけるS/Xエラーレートカーブ上のP
r’を、補間等によって逆に求め、この(Pr’,Pe
t)に基づいて外挿点(Pr’,Pez)を決定するこ
とにより、求める外挿BERカーブの1点を決定する方
法である。即ち、図4(a)に示すS/X耐力理論特性
において、S/X=A(dB)を決め、S/Nとして任
意の値J(dB)を選ぶことによって、S/X=A(d
B)におけるBERとしてPetを算出することがで
き、更にS/X=∞におけるBERとしてPezを算出
することができる。更に、図4(b)に示す如く計測し
て算出されたS/X=A(dB)におけるPr(dB
m)に対するBERカーブの少なくとも2点(図中×
印)間から、上記理論特性から算出されたPetを示す
Pr’を、補間等によって逆に求めことができる。この
求められたPr’と、上記理論特性から算出されたPe
zから外挿点(Pr’,Pez)を決定することができ
る。他のS/Nとして任意に選ぶことによって算出され
る(Pet)nについても同様にPr’を求めることに
より、次の点の外挿BERカーブを生成することができ
る。外挿BERカーブの始点と終点のPr’は、前後の
外挿BERカーブの延長線上から補間等により、同様に
求められる。あるいは、外挿点の各々の2点間を結ぶ直
線の勾配と切片の平均値から求めた直線からも同様に外
挿することが可能である。
【0050】以上説明したように、第2の外挿方法で
は、正規累積分布の逆関数Q~1(BER)の計算が不要
のため、演算処理が簡単になり、被検査対象の送信器ま
たは受信器が変わっても、常に区切りの良い定ったBE
R点での特性カーブが補間計算のみで描ける。また、良
品等の直線性の良い特性カーブでは、低次のBER演算
の誤差を比較的少なくすることができる。次に、BER
カーブ(BER特性)を外挿する第3の外挿方法を図5
を用いて説明する。この第3の外挿方法は、図5(a)
(b)に示すように、実測したS/X耐力特性(パラメ
ータPr)の誤り率(Pe)nが、S/X=∞時にS/
X耐力理論特性(パラメータS/N)のどの漸近誤り率
理論値(Pez値)に漸近するかをスケール変換により
求め、この求められたPez値とPrから、図5(c)
に示すように外挿BERカーブをプロットする方法であ
る。図5(a)において、γは、S/X耐力理論特性
(S/NをパラメータとしたS/X(dB)に対するB
ER値の理論特性)におけるBER値が10~3の目盛り
とS/X=∞の時のPez漸近値における10~3の目盛
りとの偏位差である。この値はS/X=A(dB)にお
いて、|γ|=|Log(−Log1.38*10~3
−Log(−Log10~3)|=0.0205で計算さ
れる。図5(b)に示すように、実測S/X耐力特性
(PrをパラメータとしたS/X(dB)に対するBE
R値の実測特性)において、S/X=A(dB)におけ
るBER計測値(Pe)nに対するPe軸上の変位α
(LogPe)を計算し、S/X耐力理論曲線のS/X
=A(dB)において誤り率漸近理論値Pezの目盛に
おける偏位β(=α+γ)を計算する。次に、この偏位
βに対する(Pez)nを計算し、この(Pr,Pe
z)nに対する座標を求めることにより、図5(c)に
示す如く外挿BERカーブを得る。この第3の外挿方法
では、γは各Peに対して一定で説明したが、10~4
下に対しても同様に図5(a)に示すPetとPezと
の関係から個別の変換値γを計算し、これを用いてスケ
ール変換することにより、さらに精度を向上させること
ができる。また、この第3の外挿方法は、原理的にPr
計測値そのものを使用しているため、フロア曲線の外挿
に適している。
【0051】次に、光伝送モジュールの製造方法につい
て、図7を用いて説明する。図1に示す光信号を発生す
る送信器20としての光伝送用モジュールは、モジュー
ル製造工程52において、主として、送信データ28に
基づいて駆動されるフォトダイオードドライバー(LE
D DRV)21と、発光ダイオード(LED)22と
を送信器用光モジュール基板(図示せず)に実装される
ように製造され、その後調整工程53において送信電気
特性及び光学特性等について調整され、その後検査工程
54において図2に示すBER検査システムを用いてB
ER検査等が行われて良品と不良品とに選別されて製造
される。この検査工程54において、短時間の間に不良
品を選別するためには、外挿演算手段(APC)14に
おいて、図6にステップ62で示すように、S/X=B
(dB)によるBER計測を実施すればよい。また図1
に示す光信号を受信して電気信号に変換して再生する受
信器31としての光伝送用モジュールは、モジュール製
造工程52において、主として、光信号を受信する受光
ダイオード(PD)24と、受信アンプ(AMP)25
と、タンク回路(RETIMER)27と、識別再生器
26とを受信器用光モジュール基板(図示せず)に実装
されるように製造され、その後調整工程53において受
信光学特性及び電気特性等について調整され、その後検
査工程54において図2に示すBER検査システムを用
いてBER検査等が行われて良品と不良品とに選別され
て製造される。この検査工程54において、短時間の間
に不良品を選別するためには、外挿演算手段(APC)
14において、図6にステップ62で示すように、S/
X=B(dB)によるBER計測を実施すればよい。
【0052】なお、検査工程54におけるBER検査等
については、主として、上記送信器20としての光伝送
用モジュールと、上記受信器31としての光伝送用モジ
ュールと、これら送信器20としての光伝送用モジュー
ルと受信器31としての光伝送用モジュールとの間を光
カプラを介して接続される長距離用のファイバー23と
によって構成される光伝送システムとして実行しても良
いことは明らかである。この場合、光伝送システムとし
て不良と判定されたとき、例えば、送信器20としての
光伝送用モジュールが不良なのか、受信器31としての
光伝送用モジュールが不良なのかを究明する必要が生じ
る。そして、検査工程54において行われて外挿演算手
段(APC)14から出力されるBER検査等の結果1
6は、BER特性の不良モードにより、受光感度調整
(受光ダイオード24の電流増幅率や識別再生器26の
閾値レベルb等)や部品組立直し等の前工程のモジュー
ル製造工程52および調整工程53にフィードバックさ
れ、モジュール製造工程52および調整工程53におい
てモジュールの製造条件や調整条件が制御されて、高品
質の光伝送モジュールが高歩留まりで製造される。な
お、検査工程54で不良品と判定された光伝送用モジュ
ールを調整しなおせば良品となるものは、調整工程53
に戻されて再調整される。また、検査工程54で不良品
と判定された光伝送用モジュールについて、部品と取り
替えること等によって良品に修正できるものは、モジュ
ール製造工程52に戻されて修正される。
【0053】
【発明の効果】本発明によれば、情報通信システムの高
速・大容量化送信器からの信号光(S)と外乱成分とし
ての干渉光(X)とを適切なパワー比で光学的に合成
し、この合成光を受信器で受信して誤り率(BER)を
計測し、外挿演算手段により簡単な演算で、干渉光を無
くした時(S/X=∞)のBER特性を自動生成できる
ので、環境温度の変動および電源の変動に応じた10~
12以下の低ビットエラーレート(BER)の検査を、精
度良く、しかも簡単、且つ短時間で実行することがで
き、その結果、情報通信システムの高速・大容量化(例
えば、2.4Gbit/sec以上の10Gbit/s
ec、40Gbit/sec等)に伴って要求される光
通信システム(光伝送システム)の高信頼性を確保する
ことができる効果を奏する。即ち、本発明によれば、S
/Xの値の取り方により、必要な精度と計測時間のトレ
ンドに合った実用的なBER特性を得ることができ、そ
の結果、情報通信システムの高速・大容量化に伴って要
求される光通信システム(光伝送システム)の高信頼性
を確保することができる効果を奏する。
【0054】また、本発明によれば、BERカーブの生
成過程で特性の勾配チェックや基準となる特性との比較
により、フロアなどの不良特性の検査や最小受信感度の
良否の判定、検査を短時間で行うことができる効果を奏
する。また、本発明によれば、不良モードの識別結果に
より、調整工程での再調整(閾値電圧の調整やフォトダ
イオードの光電流増倍率等の調整)やモジュール製造工
程での修正を実現し、効率的な生産が可能となる。ま
た、本発明によれば、BER検査等の結果を、モジュー
ル製造工程や調整工程にフィードバックしてモジュール
の製造条件や調整条件を制御することによって、高品質
の光伝送モジュールを高歩留まりで製造することがで
き、その結果、情報通信システムの高速・大容量化に伴
って要求される光伝送システムの高信頼性を確保するこ
とができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光伝送システムの概略構成を示す
図である。
【図2】本発明に係る誤り率(BER)の検査を行うB
ER検査システムの一実施の形態を示す構成図である。
【図3】図2に示す外挿演算手段において実行する第1
の外挿方法を説明するための図である。
【図4】図2に示す外挿演算手段において実行する第2
の外挿方法を説明するための図である。
【図5】図2に示す外挿演算手段において実行する第3
の外挿方法を説明するための図である。
【図6】本発明に係るS/X値を変えてBER計測を行
ってBER検査を行う手順を示す図である。
【図7】本発明に係る光伝送システムを構成する光伝送
用モジュールの概略製造方法を示す図である。
【符号の説明】
1…疑似ランダムパターン発生器(PPG)、 2…送
信器(S)、 3…受信器(Rx)、 4…長距離ファ
イバー、 5…直結ファイバー(BTB)、6…送信器
(X)、 7…外乱パターン発生器(SG)、 8、1
0…光減衰器(ATT)、 9…光カプラ(COUPL
ER)、 11…光カプラ(COUPLER)(光分岐
器)、 12…光パワーメータ(PWM)、 13…エ
ラー検出器(ERD)、 14…外挿演算手段(AP
C)、 15…バス、 16…BER検査結果出力、
20…送信器モジュール、 21…フォトダイオードド
ライバー(LED DRV)、 22…発光ダイオード
(LED)、 24…受光ダイオード(PD)、 25
…受信アンプ(AMP)、 26…識別再生器、27…
タンク回路(RETIMER)、 28…送信データ、
29…再生データ、 30…タイミング出力、 31
…受信器モジュール、 52…モジュール製造工程、
53…調整工程、 54…BER検査工程
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 淳 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地株式 会社日立製作所情報通信事業部内 (72)発明者 馬場 直彦 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地株式 会社日立製作所情報通信事業部内 (72)発明者 吉屋 勉 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地株式 会社日立製作所情報通信事業部内 (72)発明者 川本 和民 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 山本 恭一 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地株式 会社日立製作所情報通信事業部内 (72)発明者 青山 和男 東京都千代田区神田駿河台四丁目6番地株 式会社日立製作所内

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光伝送システムに用いられる光伝送用モジ
    ュールを製造する製造工程と、 電気信号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信
    手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発
    生する干渉光送信手段と、上記信号光送信手段からの信
    号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光学的に合成す
    る光カプラと、該光カプラによって合成される合成光の
    光パワーを変化させる光学手段と、該光学手段から得ら
    れる合成光を受信して電気信号に変換して識別再生する
    受信手段と、上記光学手段によって変化された合成光の
    光パワーの変化に対応させて上記受信手段によって再生
    された合成信号についてのビット・エラーレートを計測
    し、この計測された合成光の光パワーの変化に対応させ
    たビット・エラーレートから信号光の光パワーに対する
    ビット・エラーレート特性を算出し、この算出された信
    号光の光パワーに対するビット・エラーレート特性から
    ビット・エラーレートの理論特性に基いて干渉光のない
    場合のビット・エラーレート特性を生成して検査する計
    算手段とを備えたビット・エラーレート特性検査システ
    ムを用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モジュ
    ールを被検査対象としてビット・エラーレート特性を検
    査する検査工程とを有することを特徴とする光伝送用モ
    ジュールの製造方法。
  2. 【請求項2】光伝送システムに用いられる光伝送用モジ
    ュールを製造する製造工程と、 電気信号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信
    手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発
    生する干渉光送信手段と、上記信号光送信手段からの信
    号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光学的に合成す
    る光カプラと、該光カプラによって合成される信号光の
    光パワーと干渉光の光パワーとの比(S/X)を所望の
    値に設定して合成光の光パワーを変化させる光学手段
    と、該光学手段から得られる合成光を受信して電気信号
    に変換して識別再生する受信手段と、上記光学手段によ
    る上記光パワーの比(S/X)において合成光の光パワ
    ーの変化に対応させて上記受信手段によって再生された
    合成信号についてのビット・エラーレートを計測し、こ
    の計測された上記光パワーの比(S/X)における合成
    光の光パワーの変化に対応させたビット・エラーレート
    から、上記光パワーの比(S/X)における信号光の光
    パワーに対するビット・エラーレート特性を算出し、こ
    の算出された上記光パワーの比(S/X)における信号
    光の光パワーに対するビット・エラーレート特性から、
    ビット・エラーレートの理論特性に基いて干渉光のない
    場合のビット・エラーレート特性を生成して検査する計
    算手段とを備えたビット・エラーレート特性検査システ
    ムを用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モジュ
    ールを被検査対象としてビット・エラーレート特性を検
    査する検査工程とを有することを特徴とする光伝送用モ
    ジュールの製造方法。
  3. 【請求項3】光伝送システムに用いられる光伝送用モジ
    ュールを製造する製造工程と、 電気信号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信
    手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発
    生する干渉光送信手段と、上記信号光送信手段からの信
    号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光学的に合成す
    る光カプラと、該光カプラによって合成される合成光の
    光パワーを変化させる光学手段と、該光学手段によって
    変化される合成光の光パワーを測定する光パワー測定手
    段と、上記光学手段から得られる合成光を受信して電気
    信号に変換して識別再生する受信手段と、上記光パワー
    測定手段によって測定される合成光の光パワーの変化に
    対応させて上記受信手段によって再生された合成信号に
    ついてのビット・エラーレートを計測し、この計測され
    た合成光の光パワーの変化に対応させたビット・エラー
    レートから信号光の光パワーに対するビット・エラーレ
    ート特性を算出し、この算出された信号光の光パワーに
    対するビット・エラーレート特性からビット・エラーレ
    ートの理論特性に基いて干渉光のない場合のビット・エ
    ラーレート特性を生成して検査する計算手段とを備えた
    ビット・エラーレート特性検査システムを用いて、上記
    製造工程で製造された光伝送用モジュールを被検査対象
    としてビット・エラーレート特性を検査する検査工程と
    を有することを特徴とする光伝送用モジュールの製造方
    法。
  4. 【請求項4】光伝送システムに用いられる光伝送用モジ
    ュールを製造する製造工程と、 電気信号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信
    手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発
    生する干渉光送信手段と、上記信号光送信手段からの信
    号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光学的に合成す
    る光カプラと、該光カプラによって合成される信号光の
    光パワーと干渉光の光パワーとの比(S/X)を所望の
    値に設定して合成光の光パワーを変化させる光学手段
    と、該光学手段によって変化される合成光の光パワーを
    測定する光パワー測定手段と、上記光学手段から得られ
    る合成光を受信して電気信号に変換して識別再生する受
    信手段と、上記光学手段による上記光パワーの比(S/
    X)において上記光パワー測定手段によって測定された
    合成光の光パワーの変化に対応させて上記受信手段によ
    って再生された合成信号についてのビット・エラーレー
    トを計測し、この計測された上記光パワーの比(S/
    X)における合成光の光パワーの変化に対応させたビッ
    ト・エラーレートから、上記光パワーの比(S/X)に
    おける信号光の光パワーに対するビット・エラーレート
    特性を算出し、この算出された上記光パワーの比(S/
    X)における信号光の光パワーに対するビット・エラー
    レート特性から、ビット・エラーレートの理論特性に基
    いて干渉光のない場合のビット・エラーレート特性を生
    成して検査する計算手段とを備えたビット・エラーレー
    ト特性検査システムを用いて、上記製造工程で製造され
    た光伝送用モジュールを被検査対象としてビット・エラ
    ーレート特性を検査する検査工程とを有することを特徴
    とする光伝送用モジュールの製造方法。
  5. 【請求項5】上記検査工程において、10~13以下のビ
    ット・エラーレート特性を検査することを特徴とする請
    求項1または2または3または4記載の光伝送用モジュ
    ールの製造方法。
  6. 【請求項6】上記検査工程おいて用いられるビット・エ
    ラーレート検査システムの計算手段におけるビット・エ
    ラーレートの理論特性を、干渉光を付加したときの信号
    対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づいて得ることを特
    徴とする請求項1または2または3または4記載の光伝
    送用モジュールの製造方法。
  7. 【請求項7】上記検査工程おいて用いられるビット・エ
    ラーレート検査システムの計算手段におけるビット・エ
    ラーレートの理論特性を、信号光の光パワーと干渉光の
    光パワーとの比(S/X)の関数として示される干渉光
    を付加したときの信号対雑音比(S/N)の劣化量Dに
    基づいて得ることを特徴とする請求項1または2または
    3または4記載の光伝送用モジュールの製造方法。
  8. 【請求項8】上記検査工程おいて用いられるビット・エ
    ラーレート検査システムの計算手段におけるビット・エ
    ラーレートの理論特性を、アイパターンのアイ開口率の
    逆数のLogで定義される干渉光を付加したときの信号
    対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づいて得ることを特
    徴とする請求項1または2または3または4記載の光伝
    送用モジュールの製造方法。
  9. 【請求項9】光伝送システムに用いられる光伝送用モジ
    ュールを製造する製造工程と、 電気信号パターンに応じた光信号を発生する信号光送信
    手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基づく干渉光を発
    生する干渉光送信手段と、上記信号光送信手段からの信
    号光と干渉光送信手段からの干渉光とを光学的に合成す
    る光カプラと、該光カプラによって合成される信号光の
    光パワーと干渉光の光パワーとの比(S/X)を互いに
    異なる複数の値に設定して合成光の光パワーを変化させ
    る光学手段と、該光学手段から得られる合成光を受信し
    て電気信号に変換して識別再生する受信手段と、上記光
    学手段による上記複数の光パワーの比(S/X)の各々
    において合成光の光パワーの変化に対応させて上記受信
    手段によって再生された合成信号についてのビット・エ
    ラーレートを計測し、この計測された上記複数の光パワ
    ーの比(S/X)の各々における合成光の光パワーの変
    化に対応させたビット・エラーレートに基づいて検査す
    る計算手段とを備えたビット・エラーレート特性検査シ
    ステムを用いて、上記製造工程で製造された光伝送用モ
    ジュールを被検査対象としてビット・エラーレート特性
    を検査する検査工程とを有することを特徴とする光伝送
    用モジュールの製造方法。
  10. 【請求項10】更に、上記検査工程で検査されたビット
    ・エラーレート特性に関する情報を上記製造工程にフィ
    ードバックするフィードバック工程を有することを特徴
    とする請求項1または2または3または4または9記載
    の光伝送用モジュールの製造方法。
  11. 【請求項11】電気信号パターンに応じた光信号を発生
    する信号光送信手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基
    づく干渉光を発生する干渉光送信手段と、上記信号光送
    信手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを
    光学的に合成する光カプラと、該光カプラによって合成
    される合成光の光パワーを変化させる光学手段と、該光
    学手段から得られる合成光を受信して電気信号に変換し
    て識別再生する受信手段と、上記光学手段によって変化
    された合成光の光パワーの変化に対応させて上記受信手
    段によって再生された合成信号についてのビット・エラ
    ーレートを計測し、この計測された合成光の光パワーの
    変化に対応させたビット・エラーレートから信号光の光
    パワーに対するビット・エラーレート特性を算出し、こ
    の算出された信号光の光パワーに対するビット・エラー
    レート特性からビット・エラーレートの理論特性に基い
    て干渉光のない場合のビット・エラーレート特性を生成
    して検査する計算手段とを備え、光伝送システムに用い
    られる被検査対象のビット・エラーレート特性を検査す
    るように構成したことを特徴とするビット・エラーレー
    ト特性検査システム。
  12. 【請求項12】電気信号パターンに応じた光信号を発生
    する信号光送信手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基
    づく干渉光を発生する干渉光送信手段と、上記信号光送
    信手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを
    光学的に合成する光カプラと、該光カプラによって合成
    される信号光の光パワーと干渉光の光パワーとの比(S
    /X)を所望の値に設定して合成光の光パワーを変化さ
    せる光学手段と、該光学手段から得られる合成光を受信
    して電気信号に変換して識別再生する受信手段と、上記
    光学手段による上記光パワーの比(S/X)において合
    成光の光パワーの変化に対応させて上記受信手段によっ
    て再生された合成信号についてのビット・エラーレート
    を計測し、この計測された上記光パワーの比(S/X)
    における合成光の光パワーの変化に対応させたビット・
    エラーレートから、上記光パワーの比(S/X)におけ
    る信号光の光パワーに対するビット・エラーレート特性
    を算出し、この算出された上記光パワーの比(S/X)
    における信号光の光パワーに対するビット・エラーレー
    ト特性から、ビット・エラーレートの理論特性に基いて
    干渉光のない場合のビット・エラーレート特性を生成し
    て検査する計算手段とを備え、光伝送システムに用いら
    れる被検査対象のビット・エラーレート特性を検査する
    ように構成したことを特徴とするビット・エラーレート
    特性検査システム。
  13. 【請求項13】電気信号パターンに応じた光信号を発生
    する信号光送信手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基
    づく干渉光を発生する干渉光送信手段と、上記信号光送
    信手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを
    光学的に合成する光カプラと、該光カプラによって合成
    される合成光の光パワーを変化させる光学手段と、該光
    学手段によって変化される合成光の光パワーを測定する
    光パワー測定手段と、上記光学手段から得られる合成光
    を受信して電気信号に変換して識別再生する受信手段
    と、上記光パワー測定手段によって測定される合成光の
    光パワーの変化に対応させて上記受信手段によって再生
    された合成信号についてのビット・エラーレートを計測
    し、この計測された合成光の光パワーの変化に対応させ
    たビット・エラーレートから信号光の光パワーに対する
    ビット・エラーレート特性を算出し、この算出された信
    号光の光パワーに対するビット・エラーレート特性から
    ビット・エラーレートの理論特性に基いて干渉光のない
    場合のビット・エラーレート特性を生成して検査する計
    算手段とを備え、光伝送システムに用いられる被検査対
    象のビット・エラーレート特性を検査するように構成し
    たことを特徴とするビット・エラーレート特性検査シス
    テム。
  14. 【請求項14】電気信号パターンに応じた光信号を発生
    する信号光送信手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基
    づく干渉光を発生する干渉光送信手段と、上記信号光送
    信手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを
    光学的に合成する光カプラと、該光カプラによって合成
    される信号光の光パワーと干渉光の光パワーとの比(S
    /X)を所望の値に設定して合成光の光パワーを変化さ
    せる光学手段と、該光学手段によって変化される合成光
    の光パワーを測定する光パワー測定手段と、上記光学手
    段から得られる合成光を受信して電気信号に変換して識
    別再生する受信手段と、上記光学手段による上記光パワ
    ーの比(S/X)において上記光パワー測定手段によっ
    て測定された合成光の光パワーの変化に対応させて上記
    受信手段によって再生された合成信号についてのビット
    ・エラーレートを計測し、この計測された上記光パワー
    の比(S/X)における合成光の光パワーの変化に対応
    させたビット・エラーレートから、上記光パワーの比
    (S/X)における信号光の光パワーに対するビット・
    エラーレート特性を算出し、この算出された上記光パワ
    ーの比(S/X)における信号光の光パワーに対するビ
    ット・エラーレート特性から、ビット・エラーレートの
    理論特性に基いて干渉光のない場合のビット・エラーレ
    ート特性を生成して検査する計算手段とを備え、光伝送
    システムに用いられる被検査対象のビット・エラーレー
    ト特性を検査するように構成したことを特徴とするビッ
    ト・エラーレート特性検査システム。
  15. 【請求項15】上記計算手段において、10~13以下の
    ビット・エラーレート特性を検査するように構成したこ
    とを特徴とする請求項11または12または13または
    14記載のビット・エラーレート特性検査システム。
  16. 【請求項16】上記計算手段において、上記ビット・エ
    ラーレートの理論特性を、干渉光を付加したときの信号
    対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づいて得るように構
    成したことを特徴とする請求項11または12または1
    3または14記載のビット・エラーレート特性検査シス
    テム。
  17. 【請求項17】上記計算手段において、上記ビット・エ
    ラーレートの理論特性を、信号光の光パワーと干渉光の
    光パワーとの比(S/X)の関数として示される干渉光
    を付加したときの信号対雑音比(S/N)の劣化量Dに
    基づいて得るように構成したことを特徴とする請求項1
    1または12または13または14記載のビット・エラ
    ーレート特性検査システム。
  18. 【請求項18】上記計算手段において、上記ビット・エ
    ラーレートの理論特性を、アイパターンのアイ開口率の
    逆数のLogで定義される干渉光を付加したときの信号
    対雑音比(S/N)の劣化量Dに基づいて得るように構
    成したことを特徴とする請求項11または12または1
    3または14記載のビット・エラーレート特性検査シス
    テム。
  19. 【請求項19】電気信号パターンに応じた光信号を発生
    する信号光送信手段と、矩形パルス波形の外乱信号に基
    づく干渉光を発生する干渉光送信手段と、上記信号光送
    信手段からの信号光と干渉光送信手段からの干渉光とを
    光学的に合成する光カプラと、該光カプラによって合成
    される信号光の光パワーと干渉光の光パワーとの比(S
    /X)を互いに異なる複数の値に設定して合成光の光パ
    ワーを変化させる光学手段と、該光学手段から得られる
    合成光を受信して電気信号に変換して識別再生する受信
    手段と、上記光学手段による上記複数の光パワーの比
    (S/X)の各々において合成光の光パワーの変化に対
    応させて上記受信手段によって再生された合成信号につ
    いてのビット・エラーレートを計測し、この計測された
    上記複数の光パワーの比(S/X)の各々における合成
    光の光パワーの変化に対応させたビット・エラーレート
    に基づいて検査する計算手段とを備え、光伝送システム
    に用いられる被検査対象のBER特性を異なるレベルで
    検査するように構成したことを特徴とするビット・エラ
    ーレート特性検査システム。
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