JPH11147725A - Mold for press forming and glass formed product by the same - Google Patents
Mold for press forming and glass formed product by the sameInfo
- Publication number
- JPH11147725A JPH11147725A JP9312989A JP31298997A JPH11147725A JP H11147725 A JPH11147725 A JP H11147725A JP 9312989 A JP9312989 A JP 9312989A JP 31298997 A JP31298997 A JP 31298997A JP H11147725 A JPH11147725 A JP H11147725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- press
- glass
- alloy
- molding die
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクなど
の記録媒体に最適な磁気ディスク用ガラス基板を大量か
つ安価に生産するプレス成形用金型およびその製造方法
並びに磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および光学
レンズなどの高精度光学ガラス素子を大量かつ安価に生
産するプレス成形用金型およびその製造方法並び光学ガ
ラス素子の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a press molding die for producing a glass substrate for a magnetic disk most suitable for a recording medium such as a magnetic disk in a large amount at low cost, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk. Also, the present invention relates to a press-molding die for producing high-precision optical glass elements such as optical lenses in large quantities at low cost, a method for producing the same, and a method for producing an optical glass element.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、磁気記録の分野、特に磁気ディス
クにおいては、小型化、薄型化、高容量化などの高性能
化が進んでいるが、それに伴って、高密度磁気記録媒体
への要求が高まり、高剛性、高硬度で平滑化が容易なガ
ラス基板は、高密度化、高信頼性化に極めて有利なこと
から盛んに検討されている。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of magnetic recording, in particular, in magnetic disks, high performance such as miniaturization, thinning, and high capacity has been advanced. Glass substrates with high rigidity, high hardness and easy smoothing have been actively studied because they are extremely advantageous for high density and high reliability.
【0003】従来、磁気ディスク用ガラス基板は、所定
のサイズに切り抜かれた後、平滑な表面を得るために1
枚1枚ガラス基板を研磨する研磨法により製造されてき
た。しかしながら、研磨工程に高い精度が要求され、か
つ、工程数も多いという欠点があった。Conventionally, a glass substrate for a magnetic disk has been cut out to a predetermined size and then cut out to obtain a smooth surface.
It has been manufactured by a polishing method of polishing a glass substrate one by one. However, there are drawbacks that high precision is required for the polishing step and that the number of steps is large.
【0004】それに対して、高品質かつ高生産性の可能
なプレス成形法は光学ガラス素子製造の分野では、数多
くの検討がなされ、既に実用化が図られている。[0004] On the other hand, a number of studies have been made on a press molding method capable of high quality and high productivity in the field of optical glass element production, and practical use has already been achieved.
【0005】ところで、プレス成形に用いられる金型
は、ガラスを繰り返し成形しても劣化しない特殊な金型
が必要であり、種々の検討がなされている。By the way, a mold used for press molding requires a special mold which does not deteriorate even if glass is repeatedly molded, and various studies have been made.
【0006】プレス成形金型母材としては、超硬合金
(タングステンカーバイド)や、サーメット、ジルコニ
ア、炭化珪素その他セラミックスが使用され、金型は母
材保護と離型時のガラスの粘着を防止するため、離型
性、耐酸化性、耐反応性の良い保護膜がコーティングさ
れるものが開発されている。[0006] As a press-forming mold base material, a cemented carbide (tungsten carbide), cermet, zirconia, silicon carbide or other ceramics is used. The mold protects the base material and prevents adhesion of glass at the time of mold release. For this reason, a coating with a protective film having good releasability, oxidation resistance, and reaction resistance has been developed.
【0007】例えば、特開平2−137914号公報に
記載では、超硬合金表面に貴金属合金薄膜を設け、合金
表面上に微細パターンを形成した成形用金型が提案され
ている。しかしながら、母材として用いれれる超硬合金
(タングステンカーバイド)やサーメットは加工性が悪
く、磁気ディスク用基板の型として十分な平滑性(nm
オーダの平滑性)を得ることは難しく、加工時表面に欠
陥ができやすいという課題があった。For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-137914 proposes a molding die in which a noble metal alloy thin film is provided on the surface of a cemented carbide and a fine pattern is formed on the surface of the alloy. However, cemented carbide (tungsten carbide) and cermet used as a base material have poor workability, and have sufficient smoothness (nm) as a mold for a magnetic disk substrate.
It is difficult to obtain a smoothness on the order), and there is a problem that defects are easily generated on the surface during processing.
【0008】また、貴金属合金薄膜は微細加工が非常に
困難であり、所望のパターンが得られ難く、得られる磁
気ディスク基板の品質が劣るという欠陥があった。Further, the noble metal alloy thin film has defects that it is very difficult to perform fine processing, it is difficult to obtain a desired pattern, and the quality of the obtained magnetic disk substrate is inferior.
【0009】さらに、光学レンズやプリズムなどの光学
素子においても、金型の表面の微小な凹凸は散乱光の増
加につながり、より表面平滑性の良いレンズが求められ
ているが、従来の金型では限界に来ていた。Further, in optical elements such as optical lenses and prisms, minute irregularities on the surface of the mold lead to an increase in scattered light, and a lens having better surface smoothness is required. Then we were at the limit.
【0010】また、磁気ディスク用基板として十分な平
滑性の得る事が容易なガラス材を成形母材として使用す
る技術については、特開平1−148714号公報の記
載では、ガラスをプレス成形用母材とし、セラミックス
または貴金属物質で保護膜を作製して使用する試みがな
され、また、特開昭64−33022号公報の記載で
は、MgF2などのフッ化物またはSiO2などの酸化物
を離型被膜として使用した光学素子成形用金型として提
案されている。また、特開平2−51434号公報の記
載では、ガラスをプレス成形用母材とし、表面に微細加
工用による微細パターンを形成した薄膜を有し、炭化珪
素、窒化珪素からなる中間膜を介して、保護膜として炭
素膜を形成した成形用金型が、光ディスク成形用金型と
して提案されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-148714 discloses a technique for using a glass material, which can easily obtain sufficient smoothness as a magnetic disk substrate, as a molding base material. Attempts have been made to produce and use a protective film made of ceramics or a noble metal material as a material, and according to JP-A-64-33022, a fluoride such as MgF 2 or an oxide such as SiO 2 is released from the mold. It has been proposed as an optical element molding die used as a coating. Also, in the description of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-51434, glass is used as a base material for press molding, has a thin film in which a fine pattern is formed on the surface by fine processing, and is formed through an intermediate film made of silicon carbide and silicon nitride. A molding die on which a carbon film is formed as a protective film has been proposed as an optical disk molding die.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、いずれ
も、プレス成形における過酷な高温加圧下の繰り返し使
用に対して、十分な耐久性を有しておらず、長期間の繰
り返し使用によりプレス面の荒れによる表面粗さの増
加、また、ミクロな保護膜の剥離が発生する場合があ
り、微細パターンの変形など品質の劣化がおこり、近年
の高耐久、長寿命化の要求には、十分に答えていないと
いう課題を有していた。However, none of them have sufficient durability against repeated use under severe high temperature and pressure in press molding, and roughened press surfaces due to repeated use for a long period of time. In some cases, the surface roughness may be increased, and the micro-protective film may be peeled off. The quality of the product, such as the deformation of fine patterns, may be degraded. There was a problem that there is no.
【0012】また、従来、金型加工は円盤状のダイヤモ
ンド砥石を回転させ加工を行う研削法が用いられていた
が、用いる円盤状のダイヤモンド砥石は、直径2ミリ以
下のものは現状では製造することが出来ず、この径以下
の凹形状を有する金型の加工は出来ず、プレス成形法に
よる光学ガラス素子の製造には限界があった。Conventionally, a die has been processed by a grinding method in which a disk-shaped diamond grindstone is rotated to perform processing. However, a disk-shaped diamond grindstone having a diameter of 2 mm or less is currently manufactured. Therefore, it was not possible to process a mold having a concave shape having a diameter less than this diameter, and there was a limit to the production of an optical glass element by a press molding method.
【0013】従って、本発明の目的は、上記した従来技
術の欠点を解消し、製造されるべき磁気ディスク用基板
および光学ガラス素子に対応した超平滑な表面性ならび
に高精度な精密形状を有し、プレス成形において金型形
状を精密かつ高精度に転写した磁気ディスク用ガラス基
板製造および光学ガラス素子の製造が可能であり、かつ
長期間の繰り返し使用においても、金型劣化の少ない磁
気ディスク用基板および光学ガラス素子のプレス用金型
およびその製造方法、更にそれを用いて製造した磁気デ
ィスク用ガラス基板および光学ガラス素子を提供するも
のである。Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to provide an ultra-smooth surface and a high-precision precise shape corresponding to a magnetic disk substrate and an optical glass element to be manufactured. It is possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk and an optical glass element in which the shape of a mold is precisely and highly accurately transferred in press molding, and a magnetic disk substrate with less mold deterioration even when used repeatedly for a long time. The present invention also provides a mold for pressing an optical glass element and a method for manufacturing the same, and a glass substrate for a magnetic disk and an optical glass element manufactured using the same.
【0014】また、従来、プレス成形法では製造するこ
とが出来なかった直径2ミリ以下の凸形状を有する光学
ガラス素子用のプレス用金型およびその製造方法ならび
に光学ガラス素子を提供するものである。Another object of the present invention is to provide a press die for an optical glass element having a convex shape having a diameter of 2 mm or less, which cannot be produced by the conventional press molding method, a method for producing the same, and an optical glass element. .
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の第1の発明は、酸化物からなる金型母材のプレス成形
面に耐熱性金属或いは合金からなる下地層を介して、貴
金属系の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜を形成
したプレス成形用金型である。According to a first aspect of the present invention, there is provided a precious metal-based material formed on a press-formed surface of a metal mold base material via an underlayer made of a heat-resistant metal or alloy. This is a press-molding die on which a thin-film protective film made of the above metal or alloy is formed.
【0016】第2の発明は、表面の平滑なガラスまたは
単結晶アルミナからなるプレス成形用母材のプレス面に
耐熱性金属或いは合金からなる下地層を介して、貴金属
系の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜を形成した
プレス成形用金型である。According to a second aspect of the present invention, a precious metal-based metal or alloy is formed on a pressed surface of a press-forming base material made of glass or single-crystal alumina with a smooth surface through an underlayer made of a heat-resistant metal or alloy. This is a press molding die on which a thin protective film is formed.
【0017】第3の発明は、ガラス製品に対応した微細
パターンを形成したガラスまたは単結晶アルミナからな
る成形用金型の母材のプレス成形面に耐熱性金属或いは
合金からなる下地層を介して、貴金属系の金属或いはの
合金からなる薄膜状の保護膜を形成したプレス成形用金
型である。According to a third aspect of the present invention, a press-formed surface of a base material of a molding die made of glass or single-crystal alumina formed with a fine pattern corresponding to a glass product is provided via a base layer made of a heat-resistant metal or alloy. And a press-forming die on which a thin protective film made of a noble metal-based metal or an alloy thereof is formed.
【0018】第4の発明は、光学ガラス素子に対応した
形状を形設したガラスまたは単結晶アルミナからなる成
形用金型の母材のプレス成形面に耐熱性金属或いは合金
からなる下地層を介して、貴金属系の金属或いはの合金
からなる薄膜状の保護膜を形成したプレス成形用金型で
ある。According to a fourth aspect of the present invention, a press-formed surface of a base material of a molding die made of glass or single-crystal alumina having a shape corresponding to an optical glass element is provided via an underlayer made of a heat-resistant metal or alloy. And a press-forming mold on which a thin protective film made of a noble metal or an alloy thereof is formed.
【0019】第5の発明は、表面が平滑なガラスまたは
単結晶アルミナをドライエッチングしてなる成形用金型
の母材の少なくともプレス成形面に、耐熱性金属或いは
合金からなる下地層をスパッタ法で形成し且つその下地
層の表面をドライエッチングした後に、貴金属系の金属
或いは合金からなる薄膜状の保護膜を、スパッタ法で形
成したプレス成形用金型である。According to a fifth aspect of the present invention, a base layer made of a heat-resistant metal or an alloy is formed on at least a press-formed surface of a base material of a forming die formed by dry etching glass or single-crystal alumina having a smooth surface. And a dry-etching of the surface of the underlayer, followed by forming a thin protective film made of a noble metal or alloy by a sputtering method.
【0020】第6の発明は、表面が平滑なガラスまたは
単結晶アルミナにガラス製品に対応した微細パターンを
ドライエッチング法にて形成してなる成形用金型の母材
のプレス成形面に、耐熱性金属或いは合金からなる下地
層をスパッタ法で形成し且つその下地層の表面をドライ
エッチングした後に、貴金属系の金属或いは合金からな
る薄膜状の保護膜を、スパッタ法で形成したプレス成形
用金型。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for forming a fine pattern corresponding to a glass product on a glass or a single crystal alumina having a smooth surface by dry etching. After forming a base layer made of a conductive metal or alloy by a sputtering method and dry-etching the surface of the base layer, a thin-film protective film made of a noble metal-based metal or alloy is formed by press-forming metal formed by a sputtering method. Type.
【0021】第7の発明は、ガラス製品形状を有する成
形用母型によってプレス成形されたガラスの表面をドラ
イエッチングしてなる成形用金型の母材のプレス成形面
に、耐熱性金属或いは合金からなる下地層をスパッタ法
で形成し且つその下地層の表面をドライエッチングした
後に、貴金属系の金属或いは合金からなる薄膜状の保護
膜を、スパッタ法で形成したプレス成形用金型。According to a seventh aspect of the present invention, a heat-resistant metal or alloy is formed on a press-formed surface of a base material of a molding die formed by dry-etching a surface of glass press-formed by a molding die having a glass product shape. A press-forming mold in which a base layer made of a metal is formed by sputtering and a surface of the base layer is dry-etched, and then a thin protective film made of a noble metal or alloy is formed by sputtering.
【0022】第8の発明は、第2,3,4,5又は6の
発明のプレス成形用金型を用いプレス成形された磁気デ
ィスク用ガラス基板或いは光学ガラス素子である。An eighth invention is a glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element which is press-formed using the press-molding die according to the second, third, fourth, fifth or sixth invention.
【0023】第9の発明は、第7の発明のプレス成形用
金型によりプレス成形された磁気ディスク用ガラス基板
或いは光学ガラス素子である。A ninth aspect of the present invention is a glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element which is press-formed by the press-forming die of the seventh aspect.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態について、
図面を参照しながら説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below.
This will be described with reference to the drawings.
【0025】(実施形態の1)図1は本発明で使用した
磁気ディスク用基板のプレス成形用金型の構成を示す拡
大断面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is an enlarged sectional view showing the structure of a press-molding die for a magnetic disk substrate used in the present invention.
【0026】1はガラス転移温度がガラス成形温度より
も高いガラスからなるプレス成形用金型の母材で、この
母材1に使用するガラス種類は、特に限定する物ではな
いが、金型の繰り返し使用による変形を防止するため、
できるだけ高温時の機械強度の優れたものがよく、熱膨
張係数が小さい物が望ましい。Reference numeral 1 denotes a base material of a press forming die made of glass having a glass transition temperature higher than the glass forming temperature. The kind of glass used for the base material 1 is not particularly limited. To prevent deformation due to repeated use,
It is preferable that the material has excellent mechanical strength at the highest possible temperature and that the coefficient of thermal expansion is small.
【0027】例えば、石英ガラスは、ガラス転移温度が
高く、プレス成形用母材として好適である。For example, quartz glass has a high glass transition temperature and is suitable as a base material for press molding.
【0028】また、二酸化珪素を主成分とし、酸化アル
ミ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、アルカリ金属酸化
物、アルカリ土類金属酸化物などの成分を含有したもの
も必要に応じて母材1として使用することができる。こ
の場合には、成形されるガラス素材の成形温度よりも転
移温度が高いガラス材が必要であり、望ましくは成形温
度よりも50℃以上高くなるように成分を調節したガラ
スを使用する必要がある。Also, a material containing silicon dioxide as a main component and containing components such as aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, alkali metal oxide, and alkaline earth metal oxide is used as the base material 1 if necessary. be able to. In this case, it is necessary to use a glass material having a higher transition temperature than the molding temperature of the glass material to be molded, and desirably use glass whose components are adjusted to be 50 ° C. or more higher than the molding temperature. .
【0029】更に、母材1のプレス成形面の平滑性は、
磁気ディスク用としては、5nm以下が適当で、望まし
くは2nm以下、さらに望ましくは、1nm以下が適当
で、で、このような平滑面は酸化セリウムの微粒子を用
いた研磨によって得ることができる。Further, the smoothness of the press-formed surface of the base material 1 is as follows:
For a magnetic disk, the thickness is suitably 5 nm or less, preferably 2 nm or less, more preferably 1 nm or less. Such a smooth surface can be obtained by polishing using cerium oxide fine particles.
【0030】また、単結晶アルミナもプレス成形用金型
の母材として、使用することができる。2000℃を越
える耐熱性を有しており、ダイヤモンド砥粒を用いたラ
ッピングの後、SiO2の球状微粒子を用いた精密研磨
により、ガラスの場合と同様に、磁気ディスク用として
必要な5nm以下、望ましくは2nm以下、さらに望ま
しくは、1nm以下の平滑面を得ることができる。Further, single-crystal alumina can also be used as a base material of a press molding die. It has a heat resistance exceeding 2000 ° C., and after lapping using diamond abrasive grains, by precision polishing using spherical fine particles of SiO 2, as in the case of glass, 5 nm or less necessary for magnetic disks, preferably Can obtain a smooth surface of 2 nm or less, more preferably 1 nm or less.
【0031】2はチタン(Ti)、バナジウム(V)、
クロム(Cr)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(N
b)、モリブデン(Mo)、ハフニウム(Hf)、タン
タル(Ta)、タングステン(W)の耐熱性金属うちで
少なくとも一種類以上の成分を含有させた材料からなる
ターゲットをスパッタして、母材1の表面に形成した薄
膜状の下地層で、この下地層2は、母材1と後述する保
護膜3との付着強度を増加させて、高温、高圧下でのプ
レス成形用金型の繰り返し使用による保護膜3の膜剥が
れを防止するものである。2 is titanium (Ti), vanadium (V),
Chromium (Cr), zirconium (Zr), niobium (N
b), a target made of a material containing at least one component among heat-resistant metals such as molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (Ta), and tungsten (W) is sputtered to form a base material 1 The underlayer 2 formed on the surface of the substrate 1 has an underlayer 2 which increases the adhesive strength between the base material 1 and a protective film 3 described later, and is used repeatedly by a press molding die under high temperature and high pressure. To prevent the protective film 3 from peeling off.
【0032】この下地層2は、直流スパッタ法,高周波
スパッタ法、マグネトロンスパッタ法或いはイオンビー
ム法により、ガス圧が1x10-2〜1x10-4Torr、パ
ワー密度が1〜10W/cm2の製膜条件でスパッタして、膜
厚を0.05〜3μmとするのが適当で、これ以下の膜
厚では、下地層2として十分な付着強度が得られなくな
り、又、これ以上の膜厚では、下地層2の表面が荒れて
母材1の表面平滑性が損なわれる。This underlayer 2 is formed by a DC sputtering method, a high frequency sputtering method, a magnetron sputtering method, or an ion beam method at a gas pressure of 1 × 10 −2 to 1 × 10 −4 Torr and a power density of 1 to 10 W / cm 2 . It is appropriate that the film thickness is set to 0.05 to 3 μm by sputtering under the conditions. If the film thickness is less than this, sufficient adhesion strength cannot be obtained as the underlayer 2. The surface of the underlayer 2 is roughened, and the surface smoothness of the base material 1 is impaired.
【0033】3は、白金(Pt)、パラジウム(P
d)、ロジウム(Rh)、ルテニュウム(Ru)、イリ
ジウム(Ir)、オスミウム(Os)、レニウム(R
e)、タンタル(Ta)の元素を一種類以上含有する貴
金属系金属或いは合金の材料からなるターゲットをスパ
ッタして、下地層2の表面に形成した薄膜状の保護膜
で、この保護膜3は高温、高圧下でのガラスのプレス成
形の繰り返しによるガラスの母材1のプレス面への付着
及び母材1のプレス成形面の面荒れによる表面平滑性の
低下を防止する。3 is platinum (Pt), palladium (P
d), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium (Os), rhenium (R
e), a thin film-like protective film formed on the surface of the underlayer 2 by sputtering a target made of a noble metal-based metal or alloy material containing at least one kind of tantalum (Ta) element. The glass is prevented from adhering to the press surface of the base material 1 due to repeated press forming of the glass under high temperature and high pressure, and the surface smoothness of the press formed surface of the base material 1 is prevented from lowering due to surface roughness.
【0034】この保護膜3は、直流スパッタ法,高周波
スパッタ法、マグネトロンスパッタ法或いはイオンビー
ム法により、ガス圧が1x10-2〜1x10-4Torr、パ
ワー密度が1〜10W/cm2の製膜条件でスパッタして、膜
厚を0.1〜5μmとするのが適当で、対応する材料か
ら成るターゲットをスパッタし、形成することができ
る。スパッタ法としては、直流スパッタ法、高周波スパ
ッタ法、マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッ
タ法が適用でき、これ以下の膜厚では、保護膜3として
十分な付着強度が得られなくなり、又、これ以上の膜厚
では、下地層2と同様に、保護膜3の表面が荒れて母材
1の表面平滑性が損なわれる。The protective film 3 is formed by a DC sputtering method, a high frequency sputtering method, a magnetron sputtering method or an ion beam method, at a gas pressure of 1 × 10 −2 to 1 × 10 −4 Torr and a power density of 1 to 10 W / cm 2 . It is appropriate that the film thickness is set to 0.1 to 5 μm by sputtering under the conditions, and a target made of a corresponding material can be formed by sputtering. As the sputtering method, a DC sputtering method, a high-frequency sputtering method, a magnetron sputtering method, or an ion beam sputtering method can be applied. If the film thickness is less than this, a sufficient adhesion strength cannot be obtained as the protective film 3. As with the underlayer 2, the surface of the protective film 3 is roughened, and the surface smoothness of the base material 1 is impaired.
【0035】なお、母材1の表面に下地層2と保護膜3
を形設する前に、母材1の表面をアルゴンなどの高周波
プラズマによって表面をドライエッチングしておくと、
母材1と下地層2と保護膜3との付着強度を高めること
ができるが、この場合には、母材1の表面がドライエッ
チングで荒れないように条件を最適化する必要がある。The underlayer 2 and the protective film 3 are formed on the surface of the base material 1.
Before forming the substrate, if the surface of the base material 1 is dry-etched by high-frequency plasma such as argon,
The adhesion strength between the base material 1, the base layer 2, and the protective film 3 can be increased, but in this case, it is necessary to optimize the conditions so that the surface of the base material 1 is not roughened by dry etching.
【0036】図2は、本発明のプレス成形用金型を使用
するプレス成形機の基本的な構成図である。FIG. 2 is a basic configuration diagram of a press molding machine using the press molding die of the present invention.
【0037】4は磁気ディスク用ガラス基板となるガラ
ス素材、5は、磁気ディスク用ガラス基板の外径及び厚
みを規制する胴型、6は胴型5の内側下部に配設された
プレス成形用金型の下型、7は図中上下方向に移動可能
な状態で胴型5の内側上部に挿入された上型、8は胴型
5を加熱する胴型用ヒータ部、11は上型7を押し下げ
て下型6に載置されたガラス素材4を加圧するピストン
シリンダ、12はプレス成形機の本体を覆うチャンバ、
13はチャンバ12の中に窒素ガスを導入する窒素導入
口である。Reference numeral 4 denotes a glass material serving as a glass substrate for a magnetic disk, 5 denotes a barrel die for regulating the outer diameter and thickness of the glass substrate for a magnetic disk, and 6 denotes a press molding disposed below the inner side of the drum die 5. The lower die of the die, 7 is an upper die inserted into the upper inside of the trunk die 5 so as to be movable in the vertical direction in the figure, 8 is a heater for the die for heating the trunk die 5, and 11 is an upper die 7 , A piston cylinder for pressing the glass material 4 placed on the lower mold 6, a chamber 12 for covering a main body of the press molding machine,
Reference numeral 13 denotes a nitrogen inlet for introducing nitrogen gas into the chamber 12.
【0038】このように構成されたプレス成形機におい
て、胴型5、下型6及び上型7をそれぞれ胴型用ヒータ
部8、下型用ヒータ部9及び上型用ヒータ部10によっ
て加熱し、かつ、窒素ガスを窒素ガス導入口13からチ
ャンバ12の中に導入した上、下型6に載置されたガラ
ス素材4を、ピストンシリンダ11によって押し下げら
れる上型7で加圧して、磁気ディスク用ガラス基板を製
造する。In the press molding machine having the above-described structure, the body mold 5, the lower mold 6, and the upper mold 7 are heated by the body heater 8, the lower mold heater 9, and the upper mold heater 10, respectively. In addition, nitrogen gas is introduced into the chamber 12 from the nitrogen gas inlet 13, and the glass material 4 placed on the lower mold 6 is pressurized by the upper mold 7 pushed down by the piston cylinder 11, and the magnetic disk is For manufacturing glass substrates.
【0039】ところで、磁気ディスク用ガラス基板のプ
レス成形は低い酸素濃度雰囲気中で行うため、プレス成
形の高温による金型の酸化防止され、金型の耐久性が向
上する。Since the press forming of the glass substrate for a magnetic disk is performed in a low oxygen concentration atmosphere, oxidation of the die due to the high temperature of the press forming is prevented, and the durability of the die is improved.
【0040】(実施例1)つぎに、本発明の表面が平滑
な磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスク用ガ
ラス基板のプレス成形用金型の製造方法について図1及
び図2により具体的に説明する。Example 1 Next, a method for manufacturing a magnetic disk substrate having a smooth surface and a method for manufacturing a press mold for a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. explain.
【0041】先ず、直径48mm、厚み15mmの円柱状の
石英ガラスからなる一対のプレス成形用金型の母材1の
プレス成形面を、粒径0.1μmの微細なダイヤモンド
砥粒で鏡面研磨した上、酸化セリウムを用い表面粗さ
0.5nmになるまで研磨する。そして、研磨された母材
1のプレス成形面を、アルゴンガスの高周波プラズマに
よって、アルゴンガス圧8x10-3Torr、パワー密
度2W/cm2の条件でエッチングする。First, the press-formed surfaces of the base material 1 of a pair of press-molding dies made of a cylindrical quartz glass having a diameter of 48 mm and a thickness of 15 mm were mirror-polished with fine diamond abrasive grains having a particle diameter of 0.1 μm. Then, polishing is performed using cerium oxide until the surface roughness becomes 0.5 nm. Then, the polished press-formed surface of the base material 1 is etched by high frequency plasma of argon gas under the conditions of argon gas pressure of 8 × 10 −3 Torr and power density of 2 W / cm 2 .
【0042】次に、研磨、マグネトロン高周波スパッタ
法により、アルゴンガス圧5x10 -3Torr、パワー
密度5W/cm2の条件で、各種材料をターゲットとし
て、膜厚0.2μmの下地層2を形成した上、その下地
層2の表面を、アルゴンガスの高周波プラズマにより、
アルゴンガス圧8x10-3Torr、パワー密度2W/
cm2の条件でエッチングする。Next, polishing, magnetron high frequency sputtering
Method, argon gas pressure 5 × 10 -3Torr, power
Density 5W / cmTwoTarget various materials under the conditions
To form an underlayer 2 having a thickness of 0.2 μm,
The surface of the layer 2 is coated with high-frequency plasma of argon gas.
Argon gas pressure 8x10-3Torr, power density 2W /
cmTwoEtching is performed under the following conditions.
【0043】最後に、このエッチングされた下地層2の
表面に、マグネトロン高周波スパッタ法により、各種貴
金属をターゲットとし貴金属合金からなる薄膜状の保護
膜3を形成することによって、後記「表1」に示す試料
1〜8のプレス成形用金型を製造する。なお、試料1〜
8のプレス成形用金型に形成した下地層2及び保護膜3
の具体的な組成は「表1」に示す。Finally, a thin protective film 3 made of a noble metal alloy is formed on the etched surface of the underlayer 2 by magnetron high-frequency sputtering using various noble metals as targets. The press-molding dies of Samples 1 to 8 shown are manufactured. In addition, samples 1 to
Underlayer 2 and protective film 3 formed in press molding die of No. 8
Is shown in "Table 1".
【0044】又、この比較例として、下地層2のないプ
レス成形用金型(「表1」の試料9)と、粒径0.1μ
mの微細なダイヤモンド砥粒によって鏡面研磨した超硬
合金の表面に保護膜3を形成したプレス成形用金型
(「表1」の試料10)とを製造する。As a comparative example, a press-forming mold without the underlayer 2 (sample 9 in Table 1) was used.
A press molding die (Sample 10 in Table 1) in which a protective film 3 is formed on the surface of a cemented carbide that has been mirror-polished with fine diamond abrasive grains of m is manufactured.
【0045】そして、試料1,2,・・・・・,9或い
は10のプレス成形用金型を図2のプレス成形機に取り
付けて、ソーダライムガラスからなる直径35mmの円柱
状のガラス素材4を、酸素濃度0.1%以下の窒素雰囲
気中において、温度700℃、プレス圧力60Kg/cm2
の条件で2分間プレス成形した上、その温度が450℃
に冷却されるまで更にプレス成形を継続して、プレス成
形機から取り出せば、円盤状のガラス基板が製造され、
この円盤状のガラス基板に内径加工を施せば、磁気ディ
スク用ガラス基板ができる。Then, the press-forming molds of Samples 1, 2,..., 9 or 10 were attached to the press-forming machine of FIG. 2, and a cylindrical glass material 4 made of soda lime glass and having a diameter of 35 mm. At a temperature of 700 ° C. and a pressing pressure of 60 kg / cm 2 in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 0.1% or less.
Press molding for 2 minutes under the condition of
Continue to press-mold until cooled down, take out from the press-forming machine, a disk-shaped glass substrate is manufactured,
By subjecting this disc-shaped glass substrate to inner diameter processing, a glass substrate for a magnetic disk can be obtained.
【0046】そこで、このようなプレス成形を3000
回行った後、成形用金型及びプレス成形した磁気ディス
ク用ガラス基板の表面をAFM(原子間力顕微鏡)によ
り34μm角の範囲で5ヶ所測定した上、その表面粗さ
(SRa)の平均を算出し評価し、又、プレス成形した
磁気ディスク用ガラス基板の表面を光干渉方式の3次元
表面粗さ計にて測定し、高さ50nm以上の粗大突起の数
を測定すると、「表1」のような結果になる。Therefore, such press molding is performed for 3000 times.
After performing the rounding, the surfaces of the molding die and the glass substrate for the press-formed magnetic disk were measured at five points within a range of 34 μm square by AFM (atomic force microscope), and the average of the surface roughness (SRa) was measured. Calculated and evaluated, and when the surface of the glass substrate for a press-formed magnetic disk was measured with a three-dimensional surface roughness meter of an optical interference method and the number of coarse protrusions having a height of 50 nm or more was measured, Table 1 was obtained. The result is as follows.
【0047】[0047]
【表1】 [Table 1]
【0048】「表1」から明らかなように、本発明のプ
レス成形用金型(試料1〜8)で製造された磁気ディス
ク用ガラス基板は、3000回目のプレス成形品でも初
期の成形品と比較して、表面粗さに変化はほとんどな
く、粗大突起の形成も見られなかった。As is clear from Table 1, the glass substrate for a magnetic disk manufactured by the press-molding die of the present invention (samples 1 to 8) is the same as the initial molded product even in the 3000th press-molded product. In comparison, there was almost no change in the surface roughness, and no formation of coarse projections was observed.
【0049】これに対し、下地層2のないプレス成形用
金型(試料9)では、表面粗さが大きくなると共に、5
0nm以上の粗大突起の発生が見られる。On the other hand, in the press-molding mold without the base layer 2 (sample 9), the surface
The occurrence of coarse protrusions of 0 nm or more is observed.
【0050】又超硬合金の母材の表面に保護膜3を形成
したプレス成形用金型(試料10)では、初期の成形品
から表面荒さが荒くて、粗大突起が形成されている上
に、このプレス成形用金型の表面を光学顕微鏡で倍率4
00倍で金型表面を観察したところ、ミクロな膜剥離が
部分的に発生しているのが見られた。In the press-molding die (sample 10) in which the protective film 3 was formed on the surface of the cemented carbide base material, the surface roughness was rough from the initial molded product, and coarse projections were formed. The surface of this press molding die was magnified by an optical microscope at a magnification of 4.
When the mold surface was observed at a magnification of × 00, it was found that microscopic film peeling had partially occurred.
【0051】なお、本実施例では、ガラスを金型母材と
したプレス成形による磁気ディスク用ガラス基板の製造
方法及び磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型
の製造方法について説明したが、光学ガラス素子につい
ても同様の結果が得られる。In this embodiment, a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk by press molding using glass as a mold base material and a method of manufacturing a die for press-molding a glass substrate for a magnetic disk have been described. Similar results are obtained for glass elements.
【0052】更に、単結晶アルミナを金型母材としたプ
レス成形用金型においても、磁気ディスク用ガラス基板
および光学ガラス素子の製造において同様の結果が得ら
れる。Further, the same result can be obtained in the production of a glass substrate for a magnetic disk and an optical glass element also in a press molding die using single crystal alumina as a die base material.
【0053】(実施形態の2)次に、本発明の微細パタ
ーンを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び
その磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製
造方法について図1及び図2により具体的に説明する。(Embodiment 2) Next, a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having a fine pattern according to the present invention and a method of manufacturing a mold for press-molding the glass substrate for a magnetic disk will be described with reference to FIGS. This will be specifically described.
【0054】プレス成形用金型の母材1の表面に、微細
パターンを形成する方法としては、レジストをスピンコ
ートして、プリベイクした後、従来の紫外線露光、また
は、レーザビームで描画するレーザビーム露光、電子ビ
ームで描画する電子ビーム露光により、レジストパター
ンを形成する。そして、パターン形成したレジストをマ
スクにしてドライエッチングを行うと、母材1の表面に
パターンが形成される。As a method for forming a fine pattern on the surface of the base material 1 of the press molding die, a resist is spin-coated, prebaked, and then subjected to conventional ultraviolet exposure or laser beam drawing with a laser beam. A resist pattern is formed by exposure and electron beam exposure for drawing with an electron beam. When dry etching is performed using the patterned resist as a mask, a pattern is formed on the surface of the base material 1.
【0055】ドライエッチングには、アルゴンガス、C
F4等のフッ素系ガス又はフッ素系ガスと酸素との混合
系ガスが使用できるイオンビームエッチング、電子サイ
クロトロン(ECR)共鳴イオンエッチング法など指向
性の良いエッチング法が適当である。For dry etching, argon gas, C
An etching method with good directivity, such as ion beam etching or electron cyclotron (ECR) resonance ion etching, in which a fluorine-based gas such as F 4 or a mixed gas of a fluorine-based gas and oxygen can be used, is suitable.
【0056】(実施例2)以下、微細パターンを有する
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びその磁気ディ
スク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法につい
て具体的に説明する。Embodiment 2 Hereinafter, a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having a fine pattern and a method for manufacturing a die for press-molding the glass substrate for a magnetic disk will be specifically described.
【0057】実施例1と同様に、直径48mm、厚み15
mmの円柱状の石英ガラスからなる一対のプレス成形用金
型の母材と1のプレス成形面を、微細なダイヤモンド砥
粒を用いて鏡面研磨した上、酸化セリウムで表面粗さ
0.5nmになるまで研磨する。そして、研磨された母材
1のプレス成形面に、ポジ型電子ビームレジストPMM
Aをスピンコーティング法で塗布して、70℃の条件で
プリベイクした後、0.2μmランド形状と1.0μm
のグルーブ形状とを同心円状に交互に有する微細パター
ンを電子ビーム露光法で描画して、現像することによ
り、レジストパターンを形成する。As in Example 1, the diameter was 48 mm and the thickness was 15
The base material of a pair of press-molding molds made of quartz glass having a columnar shape of 1 mm and the press-formed surface of 1 are mirror-polished using fine diamond abrasive grains, and the surface roughness is adjusted to 0.5 nm with cerium oxide. Polish until it is. Then, a positive-type electron beam resist PMM is formed on the press-formed surface of the polished base material 1.
A was applied by a spin coating method, and prebaked at 70 ° C.
A resist pattern is formed by drawing and developing a fine pattern having concentric circles alternately with the above groove shape by an electron beam exposure method.
【0058】つぎに、母材1の研磨されたプレス成形面
を、アルゴンガスを用いた電子サイクロトロン(EC
R)共鳴イオンエッチング法により、真空度6x10-4
Torr、電力1000Wの条件でドライエッチングし
て、母材1のプレス成形面に深さ200nm微細パターン
を形成する。実施例1と同様に、研磨され且つ微細パタ
ーンが形成された母材1のプレス成形面を、アルゴンガ
スの高周波プラズマでエッチングした後、マグネトロン
高周波スパッタ法により、各種材料をターゲットとし下
地層2を形成した上、その下地層2の表面をアルゴンガ
スの高周波プラズマでエッチングする。Next, the polished press-formed surface of the base material 1 is connected to an electron cyclotron (EC) using argon gas.
R) Degree of vacuum 6 × 10 -4 by resonance ion etching
Dry etching is performed under the conditions of Torr and power of 1000 W to form a fine pattern having a depth of 200 nm on the press-formed surface of the base material 1. As in the case of the first embodiment, the press-formed surface of the polished base material 1 on which a fine pattern is formed is etched with high-frequency plasma of argon gas, and then the base layer 2 is formed by magnetron high-frequency sputtering using various materials as targets. After the formation, the surface of the underlayer 2 is etched by high frequency plasma of argon gas.
【0059】最後に、このエッチングされた下地層2の
表面に、マグネトロン高周波スパッタ法により、各種貴
金属をターゲットとし貴金属合金からなる薄膜状の保護
膜3を形成することによって、後記「表2」に示す試料
11〜19のプレス成形用金型を製造する。なお、試料
11〜19のプレス成形用金型に形成した下地層2及び
保護膜3の具体的な組成は「表2」に示す。Finally, a thin protective film 3 made of a noble metal alloy is formed on the etched surface of the underlayer 2 by magnetron high-frequency sputtering using various noble metals as targets. The press-molding dies of Samples 11 to 19 shown are manufactured. The specific compositions of the underlayer 2 and the protective film 3 formed on the press-molding dies of Samples 11 to 19 are shown in Table 2.
【0060】又、この比較例として、鏡面研磨された円
柱状の石英ガラスのプレス成形面に、酸化珪素のスパッ
タ膜を形成して、電子ビーム露光法によりパターン形成
した上、CF4ガスでドライエッチングして、微細パタ
ーンを形成する。そして、研磨され且つ微細パターンが
形成された母材1のプレス成形面に、炭化珪素のスパッ
タ膜を形成した上、メタンと水素との混合ガスのプラズ
マCVD法で炭素からなる保護膜3を形成したプレス成
形用金型(「表2」の試料20)を製造する。[0060] As the comparative example, the press molding surface of a cylindrical quartz glass is mirror-polished, to form a sputtered film of silicon oxide, on which is patterned by electron beam lithography, dry with CF 4 gas Etching is performed to form a fine pattern. Then, a sputtered film of silicon carbide is formed on the press-formed surface of the base material 1 on which the polished and fine pattern is formed, and a protective film 3 made of carbon is formed by a plasma CVD method using a mixed gas of methane and hydrogen. The press mold (sample 20 in “Table 2”) is manufactured.
【0061】そして、試料11,12,・・・・・,1
9或いは20のプレス成形用金型を図2のプレス成形機
に取り付けて、ソーダライムガラスからなる直径35mm
の円柱状のガラス素材4を、酸素濃度0.1%以下の窒
素雰囲気中において、温度700℃、プレス圧力60Kg
/cm2の条件で2分間プレス成形した上、その温度が4
50℃に冷却されるまで更にプレス成形を継続して、プ
レス成形機から取り出せば、円盤状のガラス基板が製造
され、この円盤状のガラス基板に内径加工を施せば、磁
気ディスク用ガラス基板ができる。Then, samples 11, 12,..., 1
Attach the 9 or 20 press mold to the press machine of FIG. 2 and make a soda lime glass 35 mm in diameter.
In a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 0.1% or less, a columnar glass material 4 of a
/ Cm 2 minutes after having pressed at 2 conditions, the temperature is 4
Further press molding is continued until the temperature is cooled to 50 ° C., and if the glass substrate is taken out of the press molding machine, a disk-shaped glass substrate is manufactured. it can.
【0062】なお、磁気ディスク用ガラス基板の表面及
び断面を走査型電子顕微鏡を用いて評価した結果、磁気
ディスク用ガラス基板にはプレス成形用金型のプレス成
形面のランド形状及びグルーブ形状の精度は寸法誤差が
10%の範囲内できれいに転写しており、ランド形状部
の表面の粗さ(SRa)も0.8nmとプレス成形用金型
のプレス成形面の表面の粗さと同レベルであった。The surface and cross section of the glass substrate for a magnetic disk were evaluated using a scanning electron microscope. As a result, the accuracy of the land shape and groove shape of the press-formed surface of the press-molding die was determined. Has a clear transfer within a dimensional error range of 10%, and the surface roughness (SRa) of the land-shaped portion is 0.8 nm, which is the same level as the surface roughness of the press-formed surface of the press-molding die. Was.
【0063】そこで、このようなプレス成形を3000
回行った後、成形用金型及びプレス成形面の微細パター
ンのグルーブ形状部の表面及びプレス成形した磁気ディ
スク用ガラス基板のランド部の表面をAFM(原子間力
顕微鏡)により34μm角の範囲で5ヶ所測定した上、
その表面粗さ(SRa)の平均を算出し評価し、又、プ
レス成形した磁気ディスク用ガラス基板の表面を光干渉
方式の3次元表面粗さ計にて測定し、高さ50nm以上の
粗大突起の数を測定すると、「表2」のような結果にな
る。Therefore, such press molding is performed for 3000 times.
After that, the surface of the groove-shaped portion of the fine pattern of the molding die and the press-molded surface and the surface of the land portion of the glass substrate for the press-formed magnetic disk were subjected to AFM (atomic force microscopy) in a range of 34 μm square. After measuring 5 places,
The average of the surface roughness (SRa) is calculated and evaluated, and the surface of the glass substrate for a press-formed magnetic disk is measured with a three-dimensional surface roughness meter of an optical interference method. Is measured, the result is as shown in Table 2.
【0064】[0064]
【表2】 [Table 2]
【0065】「表2」から明らかなように、本発明のプ
レス成形用金型(試料11〜19)によって製造された
磁気ディスク用ガラス基板は、3000回目のプレス成
形品でも初期のプレス成形品と比較して、表面粗さに変
化はなく、粗大突起の形成も見られなかった。As is clear from Table 2, the glass substrate for a magnetic disk manufactured by the press-molding die of the present invention (samples 11 to 19) is the same as that of the 3000th press-molded product. In comparison with the surface roughness, there was no change in the surface roughness, and no formation of coarse projections was observed.
【0066】これに対し、炭素膜からなる保護膜3を母
材1のプレス成形面に形成した比較例(試料20)で
は、このプレス成形用金型の表面を光学顕微鏡で倍率8
00倍で観察したところ、微細パターンのエッヂ部に保
護膜3の剥がれと思われる欠陥が発生しており、又、微
細パターンの変形も見られた。On the other hand, in the comparative example (sample 20) in which the protective film 3 made of a carbon film was formed on the press-formed surface of the base material 1, the surface of this press-molding die was magnified by an optical microscope at a magnification of 8.
When observed at a magnification of × 00, a defect was thought to occur at the edge portion of the fine pattern, which was considered to be peeling of the protective film 3, and deformation of the fine pattern was also observed.
【0067】なお、本実施例では、ガラスを金型母材と
したプレス成形による磁気ディスク用ガラス基板の製造
方法と、ランド形状及びグルーブ形状の微細パターンを
有する磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の
製造方法とについて説明したが、微細パターンを有する
光学ガラス素子についても同様の結果が得られる。In this embodiment, a method for producing a glass substrate for a magnetic disk by press molding using glass as a mold base material and a method for press-molding a glass substrate for a magnetic disk having a land-shaped and groove-shaped fine pattern are described. Although the method for manufacturing the mold has been described, similar results can be obtained for an optical glass element having a fine pattern.
【0068】更に、単結晶アルミナを金型母材としたプ
レス成形用金型においても、磁気ディスク用ガラス基板
および光学ガラス素子の製造において同様の結果が得ら
れる。Further, the same results can be obtained in the production of a glass substrate for a magnetic disk and an optical glass element in a press molding die using single crystal alumina as a base material.
【0069】(実施形態の3)更に、プレス成形法では
製造することができなかった直径2mm以下の凸形状の光
学ガラス素子の製造方法及びその光学ガラス素子のプレ
ス成形用金型の製造方法について図3により具体的に説
明する。(Embodiment 3) Further, a method of manufacturing a convex optical glass element having a diameter of 2 mm or less and a method of manufacturing a press mold for the optical glass element, which could not be manufactured by the press molding method. This will be described more specifically with reference to FIG.
【0070】図3は、本発明の光学ガラス素子のプレス
成形用金型の製造工程の概念を示すものである。FIG. 3 shows the concept of the manufacturing process of the press molding die for the optical glass element of the present invention.
【0071】14は製造するレンズの見本(以下「レン
ズ見本」という)、15は円柱状のガラスのプレス成形
面を研削法で加工し且つ研磨して、レンズ見本14の図
3において上面或いは下面の曲面或いは平面と同一の形
状、同等の平滑性を有する曲面或いは平面に形成した成
形用母型の母材、16は母材15の表面に下地層17と
保護膜18とを順次形成してなる成形用母型である。Reference numeral 14 denotes a lens sample to be manufactured (hereinafter, referred to as “lens sample”). Reference numeral 15 denotes an upper or lower surface of the lens sample 14 shown in FIG. The base material of the molding die 16 having the same shape as the curved surface or the flat surface, and the curved surface or the flat surface having the same smoothness. The base material 16 is formed by sequentially forming the base layer 17 and the protective film 18 on the surface of the base material 15. It is a mold for molding.
【0072】19は、加熱された円柱状のガラスの一平
面に成形用母型16のプレス成形面を押圧して、レンズ
見本14の上面或いは下面の曲面或いは平面と同一の形
状、同等の平滑性を有する面を形成してなる成形用金型
の母材で、この母材19は、成形用母型の母材15に使
用するガラスの成形温度よりも50℃以上低い転移温度
のガラスからなる。20は母材19の表面に下地層21
と保護膜22とを順次形成してなる成形用金型である。Reference numeral 19 denotes a press-formed surface of the molding mother die 16 pressed against one plane of the heated cylindrical glass so as to have the same shape as the curved surface or the flat surface of the upper or lower surface of the lens sample 14, and an equivalent smoothness. The base material 19 is a base material of a molding die having a surface having properties. The base material 19 is made of glass having a transition temperature of 50 ° C. or lower than the molding temperature of the glass used for the base material 15 of the molding base. Become. Reference numeral 20 denotes an underlayer 21 on the surface of the base material 19.
And a protective film 22 are sequentially formed.
【0073】成形用金型20を製造するには、先ず、レ
ンズ見本14の一方の面の曲面或いは平面と同一の形
状、同等の平滑性を有するように、円柱状のガラスのプ
レス成形面を研削法で加工し且つ研磨して成形用母型の
母材15を形成した上、その母材15の表面に下地層1
7と保護膜18とを順次形成することにより、成形用母
型16を製造する。In order to manufacture the molding die 20, first, a cylindrical glass press-molded surface is formed so as to have the same shape as the curved surface or the flat surface of one surface of the lens sample 14 and the same smoothness. After processing by a grinding method and polishing to form a base material 15 of a molding die, a base layer 1 is formed on the surface of the base material 15.
7 and the protective film 18 are sequentially formed to manufacture the molding master 16.
【0074】次に、加熱された円柱状のガラスのプレス
成形面を成形用母型16のプレス成形面で押圧して、レ
ンズ見本14の一方の面の曲面或いは平面と同一の形
状、同等の平滑性を有する凹み或いは平面を形成して成
形用金型の母材19を形成した上、その母材19の表面
に下地層21と保護膜22とを順次形成することによ
り、成形用金型20を製造する。Next, the press-formed surface of the heated cylindrical glass is pressed by the press-formed surface of the molding die 16 to have the same shape as the curved surface or the flat surface of one surface of the lens sample 14, or an equivalent shape. By forming a concave or flat surface having smoothness to form a base material 19 of a molding die, and forming a base layer 21 and a protective film 22 on the surface of the base material 19 sequentially, the molding die is formed. 20 is manufactured.
【0075】又、レンズ見本14の他方の面の平面或い
は曲面と同一の形状、同等の平滑性を有する平面或いは
凹みを形成した成形用金型20も前述の如き製造方法で
製造することにより、一対の成形用金型20ができあが
る。The molding die 20 having the same shape as the other surface of the lens sample 14 or a flat surface or a concave surface having the same smoothness as the curved surface is also manufactured by the manufacturing method as described above. A pair of molding dies 20 is completed.
【0076】この結果、従来製造できなかったガラスの
研磨表面と同等の平滑表面性を有する小径の凸状或いは
凹状のレンズを製造することができる。As a result, it is possible to produce a small-diameter convex or concave lens having a smooth surface property equivalent to that of a polished surface of glass that could not be produced conventionally.
【0077】(実施例3)以下、直径2mm以下の凸形状
の光学ガラス素子の製造方法及びその光学ガラス素子の
プレス成形金型の製造方法について図3により更に具体
的に説明する。Embodiment 3 Hereinafter, a method for manufacturing a convex optical glass element having a diameter of 2 mm or less and a method for manufacturing a press mold for the optical glass element will be described more specifically with reference to FIG.
【0078】先ず、直径1.8mm、長さ5mmの2つの円柱
状の石英ガラスをそれぞれ研削加工して、曲率半径が0.
9mmの凸面形状のプレス成形面を有するマイクロレンズ
の成形用母型の母材15と、平面形状のプレス成形面を
有するマイクロレンズのプレス成形用母型の母材15と
をそれぞれ形成した上、これらの母材15のプレス成形
面をそれぞれ表面の粗さが1nmになるまで酸化セリウム
砥粒で研磨する。First, two columnar quartz glasses each having a diameter of 1.8 mm and a length of 5 mm are ground, respectively, to have a radius of curvature of 0.4 mm.
After forming a preform 15 of a microlens forming base having a 9 mm convex press forming surface and a preforming base 15 of a microlens press forming base having a planar press forming surface, The press-formed surfaces of these base materials 15 are polished with cerium oxide abrasive grains until the surface roughness becomes 1 nm.
【0079】そして、これらの母材15の研磨されたプ
レス面を、実施例1と同様に、アルゴンガスの高周波プ
ラズマでエッチングした後、マグネトロン高周波スパッ
タ法によって、炭化珪素−白金(SiC−Pt、Pt含
有率50wt%)からなる下地層17を形成し、且つ、
その下地層17の表面をアルゴンガスの高周波プラズマ
によってエッチングする。その上、下地層17の表面に
マグネトロン高周波スパッタ法によって白金−ロジウム
(Pt−Rh、Rh含有率20wt%)合金薄膜からなる保護
膜18を形成することにより、成形用母型16を製造す
る。Then, the polished press surfaces of these base materials 15 are etched with high-frequency plasma of argon gas in the same manner as in Example 1, and then silicon carbide-platinum (SiC-Pt, An underlayer 17 made of Pt (50 wt%), and
The surface of the underlayer 17 is etched by high frequency plasma of argon gas. Further, a protective matrix 18 made of a platinum-rhodium (Pt-Rh, Rh content 20 wt%) alloy thin film is formed on the surface of the underlayer 17 by a magnetron high-frequency sputtering method, thereby manufacturing the molding master 16.
【0080】次に、この成形用母型16を図2のプレス
成形機に取り付けてマイクロレンズの成形用金型20を
製造する。すなわち、直径が6mm厚さが6mmの円柱状の
パイレックスガラス素材を、成形母型16とプレス成形
面が平らな金型の間に設置して、温度が750℃、プレ
ス圧力が50Kg/cm2の条件で5分間プレス成形した
上、その温度が500℃に冷却されるまで更にプレスを
継続した後、ガラス素材をプレス成形機から取り出す
と、曲率半径が0.9mmの凹面形状のプレス成形面を有す
る成形用金型の母材19が形成される。Next, the molding master 16 is attached to the press molding machine shown in FIG. 2 to produce a microlens molding die 20. That is, a cylindrical Pyrex glass material having a diameter of 6 mm and a thickness of 6 mm is placed between the molding die 16 and a die having a flat press-formed surface, and the temperature is 750 ° C. and the pressing pressure is 50 kg / cm 2. After press-molding for 5 minutes under the conditions described above, after further pressing until the temperature is cooled to 500 ° C., when the glass material is taken out from the press-forming machine, the concave-shaped press-formed surface having a radius of curvature of 0.9 mm is formed. A base material 19 of a molding die having the same is formed.
【0081】また、直径が6mm厚さが6mmの円柱状のパ
イレックスガラス素材の1面を研磨して、平面形状をプ
レス成形面に有する成形用金型の母材19を形成する。Further, one surface of a cylindrical Pyrex glass material having a diameter of 6 mm and a thickness of 6 mm is polished to form a base material 19 of a molding die having a planar shape on a press molding surface.
【0082】そこで、2つの成形用金型の母材19のプ
レス成形面を、それぞれ、実施例1と同様に、アルゴン
ガスの高周波プラズマでエッチングした後、各種材料を
ターゲットとしマグネトロン高周波スパッタ法により下
地層21を形成する。そして、その下地層21の表面を
アルゴンガスの高周波プラズマでエッチングした上、各
種貴金属をターゲットとしマグネトロン高周波スパッタ
法により保護膜22を形成することにより、後記「表
3」に示す試料21〜29の上型或いは下型となる一対
の成形用金型20を製造する。なお、試料21〜29の
成形用金型20に形成した下地層21及び保護膜22の
具体的な組成は「表3」に示す。Thus, the press-formed surfaces of the base materials 19 of the two molding dies are each etched with high-frequency plasma of argon gas in the same manner as in Example 1, and then subjected to magnetron high-frequency sputtering using various materials as targets. An underlayer 21 is formed. Then, the surface of the base layer 21 is etched with high-frequency plasma of argon gas, and the protective film 22 is formed by a magnetron high-frequency sputtering method using various noble metals as targets, thereby obtaining samples 21 to 29 shown in Table 3 below. A pair of molding dies 20 serving as an upper mold or a lower mold is manufactured. The specific compositions of the underlayer 21 and the protective film 22 formed on the molding dies 20 of the samples 21 to 29 are shown in Table 3.
【0083】又、比較例として、フッ化マグネシウムを
プレス成形面に蒸着した成形用金型(「表3」の試料3
0)を製造する。As a comparative example, a molding die in which magnesium fluoride was vapor-deposited on the press molding surface (Sample 3 in Table 3)
0) is manufactured.
【0084】そして、試料21,22,・・・・・,2
9或いは30のプレス成形用金型を図2のプレス成形機
に取り付けて、PbOの含有率が70wt%、SiO2の含
有率が27wt%、残りが微量成分から成る酸化鉛系光
学ガラスを直径0.7mmの球状に加工したガラス素材を、
酸素濃度0.1%以下の窒素雰囲気中において、温度が
520℃、プレス圧力が40Kg/cm2の条件で2分間プ
レス成形した上、その温度が300℃に冷却されるまで
更にプレス成形を継続して、プレス成形機から取り出せ
ば、マイクロレンズが製造される。Then, samples 21, 22,..., 2
A press molding die of 9 or 30 was attached to the press molding machine of FIG. 2, and a lead oxide optical glass having a PbO content of 70 wt%, a SiO 2 content of 27 wt%, and a balance of trace components was prepared. Glass material processed into a spherical shape of 0.7 mm,
In a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% or less, press molding is performed for 2 minutes at a temperature of 520 ° C. and a pressing pressure of 40 kg / cm 2 , and further press molding is continued until the temperature is cooled to 300 ° C. Then, by taking it out of the press molding machine, a microlens is manufactured.
【0085】そこで、このようなプレス成形を3000
回行った後に、成形用金型20の表面および成形用金型
20によって成形したマイクロレンズの表面をそれぞれ
光干渉方式の3次元表面粗さ計で5ヶ所測定した上、そ
の表面粗さ(RMS値)の平均を算出し評価する。この
結果および成形用金型20の表面状態の観察結果「表
3」のようになる。Therefore, such press molding is performed for 3000 times.
After performing the rounding, the surface of the molding die 20 and the surface of the microlens molded by the molding die 20 were measured at five places by a three-dimensional surface roughness meter of an optical interference method, and the surface roughness (RMS Value) is calculated and evaluated. The results and the observation of the surface condition of the molding die 20 are shown in "Table 3".
【0086】[0086]
【表3】 [Table 3]
【0087】「表3」から明らかなように、本発明のプ
レス用金型(試料21〜29)で製造されたマイクロレ
ンズは、3000回目のプレス成形品でも、初期の成形
品と比較して表面粗さ(RSM値)に変化がなかったの
に対し、フッ化マグネシウムからなる保護膜を形成した
比較例(試料30)では、プレス成形が3000回に達
するまでに膜の剥離とガラス素材の溶着が発生した。As is apparent from Table 3, the microlenses manufactured by the press molds (samples 21 to 29) of the present invention were compared with the initial molded products even in the 3000th press molded product. While the surface roughness (RSM value) did not change, in the comparative example (sample 30) in which the protective film made of magnesium fluoride was formed, the film was peeled off and the glass material was removed until the press molding reached 3000 times. Welding occurred.
【0088】[0088]
【発明の効果】以上説明したのように本発明によれば、
製造する磁気ディスク用ガラス基板あるいは光学ガラス
素子に対応する超平滑な表面性と高精度な微細パターン
或いは精密形状を有するプレス成形用金型が簡単に製造
できるという効果がある。As described above, according to the present invention,
There is an effect that a press mold having an ultra-smooth surface property and a high-precision fine pattern or a precise shape corresponding to a glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element to be manufactured can be easily manufactured.
【0089】また、本発明によれば、本発明のプレス成
形用金型を使用してプレス成形を行うと、金型形状が精
密且つ高精度に転写された磁気ディスク用ガラス基板あ
るいは光学ガラス素子が容易に製造できるという効果が
ある。更に、本発明によれば、従来のプレス成形法では
製造できなかったマイクロレンズのプレス成形用金型を
プレス成形法によって安価に且つ大量に製造できるとい
う効果がある。According to the present invention, when press molding is performed using the press molding die of the present invention, a glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element on which the shape of the die is transferred with high precision and high precision. Can be easily manufactured. Further, according to the present invention, there is an effect that a metal mold for press molding of a microlens, which cannot be produced by the conventional press molding method, can be produced inexpensively and in large quantities by the press molding method.
【0090】更に、本発明によれば、プレス成形用金型
を長期間に亘って繰り返し使用しても、金型の劣化を防
止それて、金型の寿命が長くなるという効果がある。Further, according to the present invention, even if the press molding die is used repeatedly over a long period of time, there is an effect that the deterioration of the die is prevented and the life of the die is extended.
【0091】更に、本発明によれば、前述の効果から、
高品質な磁気ディスク用ガラス基板或いは光学ガラス素
子が安価に且つ大量に製造できるという効果がある。Further, according to the present invention, from the aforementioned effects,
There is an effect that high-quality glass substrates for magnetic disks or optical glass elements can be manufactured inexpensively and in large quantities.
【図1】本発明の磁気ディスク用ガラス基板のプレス成
形用金型の断面図FIG. 1 is a cross-sectional view of a mold for press-molding a glass substrate for a magnetic disk of the present invention.
【図2】本発明のプレス成形用金型を使用するプレス成
形機の基本的な構成図FIG. 2 is a basic configuration diagram of a press forming machine using the press forming die of the present invention.
【図3】本発明の光学ガラス素子のプレス成形用金型の
製造工程の概念図FIG. 3 is a conceptual diagram of a manufacturing process of a mold for press-molding an optical glass element of the present invention.
1,19 成形用金型の母材 2,17,21 下地層 3,18,22 保護膜 4 ガラス素材 5 胴型 6 下型 7 上型 8 胴型用ヒータ部 9 下型用ヒータ部 10 上型用ヒータ部 11 ピストンシリンダ 12 チャンバ 13 窒素ガス導入口 14 レンズ見本 15 成形用母型の母材 16 成形用母型 20 成形用金型 Reference Signs List 1,19 Base material of molding die 2,17,21 Base layer 3,18,22 Protective film 4 Glass material 5 Body mold 6 Lower mold 7 Upper mold 8 Body heater section 9 Lower mold heater section 10 Upper Mold heater section 11 Piston cylinder 12 Chamber 13 Nitrogen gas inlet 14 Lens sample 15 Mold base material 16 Mold matrix 20 Mold mold
Claims (9)
下地層を介してタングステン(W)、白金(Pt)、パ
ラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニュウム
(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、
レニウム(Re)、タンタル(Ta)のうち、少なくと
も一種類以上の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜
を形成したプレス成形用金型において、 前記下地層は、チタン(Ti)、バナジウム(V)、ク
ロム(Cr)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(N
b)、モリブデン(Mo)、ハフニウム(Hf)、タン
タル(Ta)、タングステン(W)のうち、少なくとも
一種類以上の金属或いは合金からなることを特徴とする
プレス成形用金型。1. A press-formed surface of a mold base material made of an oxide, which is provided with a tungsten (W), a platinum (Pt), a palladium (Pd), a rhodium (Rh), a ruthenium (Ru), an iridium (A) through an underlayer. Ir), osmium (Os),
In a press-molding mold in which a thin protective film made of at least one kind of metal or alloy of rhenium (Re) and tantalum (Ta) is formed, the underlayer is made of titanium (Ti), vanadium (V ), Chromium (Cr), zirconium (Zr), niobium (N
b) a press-molding die comprising at least one metal or alloy of molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (Ta), and tungsten (W).
からなる成形用金型の母材のプレス成形面には、タング
ステン(W)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロ
ジウム(Rh)、ルテニュウム(Ru)、イリジウム
(Ir)、オスミウム(Os)、レニウム(Re)、タ
リウム(Ta)のうち少なくとも一種類以上の金属或い
は合金からなる薄膜状の保護膜が、チタン(Ti)、バ
ナジウム(V)、クロム(Cr)、ジルコニウム(Z
r)、ニオブ(Nb)、モリブデン(Mo)、ハフニウ
ム(Hf)、タンタル(Ta)、タングステン(W)の
うち、少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる
下地層を介して、形成されることを特徴とするプレス成
形用金型。2. A press forming surface of a base material of a forming die made of glass or single crystal alumina having a smooth surface has tungsten (W), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), A thin protective film made of at least one metal or alloy of ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium (Os), rhenium (Re), and thallium (Ta) is made of titanium (Ti), vanadium ( V), chromium (Cr), zirconium (Z
r), niobium (Nb), molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (Ta), and tungsten (W) via an underlayer made of at least one metal or alloy. A mold for press molding characterized by the following.
したガラスまたは単結晶アルミナからなる成形用金型の
母材のプレス成形面には、タングステン(W)、白金
(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ル
テニュウム(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム
(Os)、レニウム(Re)、タリウム(Ta)のうち
少なくとも一種類以上の合金からなる薄膜状の保護膜
が、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム(C
r)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(Nb)、モリブ
デン(Mo)、ハフニウム(Hf)、タンタル(T
a)、タングステン(W)のうち、少なくとも一種類以
上の金属或いは合金からなる下地層を介して、形成され
ることを特徴とするプレス成形用金型。3. A press-formed surface of a base material of a molding die made of glass or single-crystal alumina formed with a fine pattern corresponding to a glass product includes tungsten (W), platinum (Pt), and palladium (Pd). , Rhodium (Rh), ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium (Os), rhenium (Re), and thallium (Ta). ), Vanadium (V), chromium (C
r), zirconium (Zr), niobium (Nb), molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (T
a) A press-molding die formed through an underlayer made of at least one kind of metal or alloy of tungsten (W).
ガラスまたは単結晶アルミナからなる成形用金型の母材
のプレス成形面には、タングステン(W)、白金(P
t)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニ
ュウム(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム(O
s)、レニウム(Re)、タンタル(Ta)のうち少な
くとも一種類以上の金属或いは合金からなる薄膜状の保
護膜が、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム
(Cr)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(Nb)、モ
リブデン(Mo)、ハフニウム(Hf)、タンタル(T
a)、タングステン(W)のうち、少なくとも一種類以
上の金属或いは合金からなる下地層を介して、形成され
ることを特徴とするプレス成形用金型。4. A press-formed surface of a base material of a molding die made of glass or single-crystal alumina having a shape corresponding to an optical glass element is provided with tungsten (W) and platinum (P).
t), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium (O
s), rhenium (Re), tantalum (Ta), and at least one kind of metal or alloy is formed of a thin protective film made of titanium (Ti), vanadium (V), chromium (Cr), zirconium (Zr). , Niobium (Nb), molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (T
a) A press-molding die formed through an underlayer made of at least one kind of metal or alloy of tungsten (W).
をドライエッチングしてなる成形用金型の母材の少なく
ともプレス成形面には、タングステン(W)、白金(P
t)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニ
ュウム(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム(O
s)、レニウム(Re)、タンタル(Ta)のうち少な
くとも一種類以上の金属或いは合金からなる薄膜状の保
護膜が、チタン(Ti)、バナジウム(V)、クロム
(Cr)、ジルコニウム(Zr)、ニオブ(Nb)、モ
リブデン(Mo)、ハフニウム(Hf)、タンタル(T
a)、タングステン(W)のうち、少なくとも一種類以
上の金属或いは合金からなる下地層をスパッタ法で形成
し且つ該下地層をドライエッチングした後、スパッタ法
で形成されることを特徴とするプレス成形用金型。5. At least a press-formed surface of a base material of a molding die obtained by dry-etching glass or single-crystal alumina having a smooth surface has tungsten (W), platinum (P)
t), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium (O
s), rhenium (Re), tantalum (Ta), and at least one kind of metal or alloy is formed of a thin protective film made of titanium (Ti), vanadium (V), chromium (Cr), zirconium (Zr). , Niobium (Nb), molybdenum (Mo), hafnium (Hf), tantalum (T
a) a press formed by forming a base layer made of at least one kind of metal or alloy of tungsten (W) by a sputtering method, dry-etching the base layer, and then forming the base layer by a sputtering method; Mold for molding.
にガラス製品に対応した微細パターンをドライエッチン
グ法にて形成してなる成形用金型の母材のプレス成形面
には、タングステン(W)、白金(Pt)、パラジウム
(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニュウム(Ru)、
イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、レニウム
(Re)、タンタル(Ta)のうち少なくとも一種類以
上の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜が、チタン
(Ti)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、ジルコ
ニウム(Zr)、ニオブ(Nb)、モリブデン(M
o)、ハフニウム(Hf)、タンタル(Ta)、タング
ステン(W)のうち、少なくとも一種類以上の金属或い
は合金からなる下地層をスパッタ法で形成し且つ該下地
層をドライエッチングした後、スパッタ法で形成される
ことを特徴とするプレス成形用金型。6. A press-formed surface of a base material of a molding die obtained by forming a fine pattern corresponding to a glass product on glass or single-crystal alumina having a smooth surface by dry etching. , Platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru),
A thin protective film made of at least one metal or alloy of at least one of iridium (Ir), osmium (Os), rhenium (Re), and tantalum (Ta) is made of titanium (Ti), vanadium (V), chromium ( Cr), zirconium (Zr), niobium (Nb), molybdenum (M
o), an underlayer made of at least one metal or alloy of hafnium (Hf), tantalum (Ta), and tungsten (W) is formed by sputtering, and the underlayer is dry-etched, and then sputtered. A mold for press molding characterized by being formed by:
てプレス成形されたガラスの表面をドライエッチングし
てなる成形用金型の母材のプレス成形面には、タングス
テン(W)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジ
ウム(Rh)、ルテニュウム(Ru)、イリジウム(I
r)、オスミウム(Os)、レニウム(Re)、タンタ
ル(Ta)のうち少なくとも一種類以上の金属或いは合
金からなる薄膜状の保護膜が、チタン(Ti)、バナジ
ウム(V)、クロム(Cr)、ジルコニウム(Zr)、
ニオブ(Nb)、モリブデン(Mo)、ハフニウム(H
f)、タンタル(Ta)、タングステン(W)のうち、
少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる下地層
をスパッタ法で形成し且つ該下地層をドライエッチング
した後、スパッタ法で形成されることを特徴とするプレ
ス成形用金型。7. A press-formed surface of a base metal of a molding die obtained by dry-etching a surface of glass press-formed by a molding die having a glass product shape has tungsten (W), platinum (Pt). ), Palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), iridium (I
r), osmium (Os), rhenium (Re), tantalum (Ta), and a thin protective film made of at least one metal or alloy made of titanium (Ti), vanadium (V), chromium (Cr) , Zirconium (Zr),
Niobium (Nb), molybdenum (Mo), hafnium (H
f), tantalum (Ta) and tungsten (W)
A press molding die, wherein a base layer made of at least one kind of metal or alloy is formed by a sputtering method, and the base layer is dry-etched and then formed by a sputtering method.
成形用金型を用いプレス成形されたことを特徴とする磁
気ディスク用ガラス基板或いは光学ガラス素子。8. A glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element which is press-formed using the press-molding die according to claim 2, 3, 4, 5 or 6.
レス成形されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス
基板或いは光学ガラス素子。9. A glass substrate for a magnetic disk or an optical glass element, which is press-formed by the press-molding die according to claim 7.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31298997A JP3653957B2 (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Press mold |
US09/026,379 US6119485A (en) | 1997-02-21 | 1998-02-19 | Press-molding die, method for manufacturing the same and glass article molded with the same |
SG1998000363A SG68649A1 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-19 | Press-molding die method for manufacturing the same and glass article molded with the same |
IDP980236A ID19957A (en) | 1997-02-21 | 1998-02-20 | DIE PRESS-PRINT, METHODS FOR MAKING IT AND GLASS OBJECTS PRINTED WITH IT |
EP98103018A EP0860404B1 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-20 | Press-moulding die for press-moulding a glass article and method for manufacturing the die |
DE69802023T DE69802023T2 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-20 | Press mold for press molding a glass body and method for producing the press mold |
MYPI98000752A MY118611A (en) | 1997-02-21 | 1998-02-21 | Press-molding die, method for manufacturing the same and glass article molded with the same |
KR1019980005490A KR100250946B1 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-21 | Press-molding die,method for manufacturing the same and glass article molded with the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31298997A JP3653957B2 (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Press mold |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11147725A true JPH11147725A (en) | 1999-06-02 |
JP3653957B2 JP3653957B2 (en) | 2005-06-02 |
Family
ID=18035905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31298997A Expired - Fee Related JP3653957B2 (en) | 1997-02-21 | 1997-11-14 | Press mold |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3653957B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095669A (en) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | Olympus Optical Co Ltd | Mold for molding optical element |
JP2009167062A (en) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Mino Ceramic Co Ltd | Fixture for heat treating glass |
-
1997
- 1997-11-14 JP JP31298997A patent/JP3653957B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095669A (en) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | Olympus Optical Co Ltd | Mold for molding optical element |
JP2009167062A (en) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Mino Ceramic Co Ltd | Fixture for heat treating glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3653957B2 (en) | 2005-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100250946B1 (en) | Press-molding die,method for manufacturing the same and glass article molded with the same | |
EP0567896B1 (en) | Die for forming a micro-optical element, manufacturing method therefor, micro-optical element and manufacturing method therefor | |
JP4739729B2 (en) | Method for manufacturing member having antireflection structure | |
JP3701106B2 (en) | Press molding die and glass substrate for magnetic disk | |
JP2005132660A (en) | Manufacturing method of optical element having non-reflective structure and optical element having non-reflective structure manufactured through the method | |
JPH10231129A (en) | Mold for press molding and glass molded product by the mold | |
JP3653957B2 (en) | Press mold | |
JP2005132679A (en) | Manufacturing method of optical element having non-reflective structure and optical element having non-reflective structure manufactured through the method | |
JPH11268920A (en) | Forming mold for forming optical element and its production | |
JP3134583B2 (en) | Press mold for optical glass element and method for producing the same | |
JP2000219521A (en) | Mold for forming glass substrate, its manufacture and production of glass substrate | |
JP6073624B2 (en) | Method for producing mold press mold, mold press mold, and method for producing glass optical element using the same | |
JP3341520B2 (en) | Optical lens manufacturing method | |
JP2008040322A (en) | Method for manufacturing antireflection structure | |
JP2003048723A (en) | Press forming method and press formed equipment | |
JPH07109131A (en) | Production of glass product | |
JPH1179757A (en) | Forming die for optical element and regenerating method therefor | |
JPH0710561A (en) | Die for molding optical device | |
JP4554835B2 (en) | Mold for glass and method for producing glass molded product | |
JPH0725628A (en) | Mold for forming precision optical glass element and production of the mold | |
JPH08208245A (en) | Production of forming mold for optical element | |
JP2001130918A (en) | Method for regenerating mold for molding optical element | |
JPH05294642A (en) | Mold for molding optical glass element and production of optical glass element | |
JPH06305742A (en) | Mold for forming glass optical element and production of glass optical element | |
JP2003146690A (en) | Mold for forming glass substrate, method of manufacturing the same and method of forming glass substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040713 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050221 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080311 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090311 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100311 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |