JPH11147724A - 光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材の熱処理方法 - Google Patents
光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材の熱処理方法Info
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- JPH11147724A JPH11147724A JP33245497A JP33245497A JPH11147724A JP H11147724 A JPH11147724 A JP H11147724A JP 33245497 A JP33245497 A JP 33245497A JP 33245497 A JP33245497 A JP 33245497A JP H11147724 A JPH11147724 A JP H11147724A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大量の光学素子素材に熱処理を施してエ
ッジ部を効率的に加工できるようにすること。 【解決手段】 基台1上に、冷却板2,断熱板3,空気
断熱層4,載置プレート5からなる加工部を設け、この
加工部の上方に、昇降アーム9による上下動自在の加熱
板7を設ける。そして、載置プレート5上に載置された
複数の光学素子素材に対し、加熱板7を非接触で近接配
置し、輻射加熱による加工を一括して施す。
ッジ部を効率的に加工できるようにすること。 【解決手段】 基台1上に、冷却板2,断熱板3,空気
断熱層4,載置プレート5からなる加工部を設け、この
加工部の上方に、昇降アーム9による上下動自在の加熱
板7を設ける。そして、載置プレート5上に載置された
複数の光学素子素材に対し、加熱板7を非接触で近接配
置し、輻射加熱による加工を一括して施す。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子(例え
ば、ビデオムービー用レンズ)等を成形する際に用いら
れる光学素子素材のエッジを軟化させて曲率をもたせる
のに適した光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材
の熱処理方法に関する。
ば、ビデオムービー用レンズ)等を成形する際に用いら
れる光学素子素材のエッジを軟化させて曲率をもたせる
のに適した光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材
の熱処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガラス材料をプレス成形して光学素子
(レンズ等)を製造する場合、先ずガラス棒材を所定の
幅(長さ)に切断あるいは割断して、例えば図4に示す
ような円柱状の成形用材料21を得る。なお、特開昭6
0−246231号公報の第1図には同様の形状の材料
が記載されている。成形用材料の形状は、できる限り簡
単な形状が製造工程あるいは素材加工の面でも望まし
い。
(レンズ等)を製造する場合、先ずガラス棒材を所定の
幅(長さ)に切断あるいは割断して、例えば図4に示す
ような円柱状の成形用材料21を得る。なお、特開昭6
0−246231号公報の第1図には同様の形状の材料
が記載されている。成形用材料の形状は、できる限り簡
単な形状が製造工程あるいは素材加工の面でも望まし
い。
【0003】この成形用材料21は、図5に示す上型2
2、下型23、胴型24の中に組み込まれる。そして、
金型全体が成形用材料が変形可能な温度まで予備加熱さ
れ、型締めによって加圧成形がなされる。
2、下型23、胴型24の中に組み込まれる。そして、
金型全体が成形用材料が変形可能な温度まで予備加熱さ
れ、型締めによって加圧成形がなされる。
【0004】図6は、このような成形を行う装置の概要
を示す。図中、符号38が金型組立装置であり、ここで
図5に示すように、成形材料が金型内に組み込まれる。
そして、金型全体が搬送ライン32によって矢印の方向
に搬送され、成形装置31に投入される。なお、図中、
搬送される金型は省略し、金型に組み入れられているガ
ラス材料のみを丸で示している。
を示す。図中、符号38が金型組立装置であり、ここで
図5に示すように、成形材料が金型内に組み込まれる。
そして、金型全体が搬送ライン32によって矢印の方向
に搬送され、成形装置31に投入される。なお、図中、
搬送される金型は省略し、金型に組み入れられているガ
ラス材料のみを丸で示している。
【0005】成形装置31は、取り入れ室33、予備加
熱室34、プレス室35、冷却室36および取り出し室
37を具備し、金型に組み入れられたガラス材料は各室
に順次に搬送され、一連の工程を経て成形加工される。
その後、再び搬送ライン32によって金型組立装置38
の位置に戻り、金型を開いて成形加工された光学素子
(レンズ等)が取り出されて作業が終了する。量産にお
いては、上述の工程を繰り返す。
熱室34、プレス室35、冷却室36および取り出し室
37を具備し、金型に組み入れられたガラス材料は各室
に順次に搬送され、一連の工程を経て成形加工される。
その後、再び搬送ライン32によって金型組立装置38
の位置に戻り、金型を開いて成形加工された光学素子
(レンズ等)が取り出されて作業が終了する。量産にお
いては、上述の工程を繰り返す。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ガラス棒材を所定の幅
で切断して図4に示すような成形用材料21を得る場合
に、その切断時にエッジ部分が欠けたりあるいはクラッ
クが入ったりすることがある。このような成形用材料を
成形用金型に組み入れると、エッジのクラックの入った
部分において欠けが発生する恐れがある。
で切断して図4に示すような成形用材料21を得る場合
に、その切断時にエッジ部分が欠けたりあるいはクラッ
クが入ったりすることがある。このような成形用材料を
成形用金型に組み入れると、エッジのクラックの入った
部分において欠けが発生する恐れがある。
【0007】また、たとえクラックが発生していなくと
も、搬送ラインを用いて金型および成形用材料を搬送す
る場合、搬送中の揺れや衝撃等によりエッジ部分が欠け
る恐れがある。欠けた材料は型転写面の中心部に集まる
か、あるいは成形用材料の輪郭に沿って金型に付着した
状態となる。そして、このような状態で成形を行えば、
得られる光学素子の光学有効面に欠けた材料が付着し、
得られた光学素子は所望の光学機能を果たさなくなる。
も、搬送ラインを用いて金型および成形用材料を搬送す
る場合、搬送中の揺れや衝撃等によりエッジ部分が欠け
る恐れがある。欠けた材料は型転写面の中心部に集まる
か、あるいは成形用材料の輪郭に沿って金型に付着した
状態となる。そして、このような状態で成形を行えば、
得られる光学素子の光学有効面に欠けた材料が付着し、
得られた光学素子は所望の光学機能を果たさなくなる。
【0008】このように従来の成形方法では、製造歩留
まりの低下と共に、金型に損傷を与える恐れを除去でき
ない。そこで、本発明者は、光学素子素材のエッジ部を
面取り加工したり球面加工したりして成形工程における
クラック等の発生を低減することを検討したが、この場
合には、量産性やコスト面で必ずしも充分であるとはい
えないことがわかった。
まりの低下と共に、金型に損傷を与える恐れを除去でき
ない。そこで、本発明者は、光学素子素材のエッジ部を
面取り加工したり球面加工したりして成形工程における
クラック等の発生を低減することを検討したが、この場
合には、量産性やコスト面で必ずしも充分であるとはい
えないことがわかった。
【0009】本発明はこのような検討に基づいてなされ
たものであり、大量の光学素子素材に一括して熱処理を
施してエッジ部を効率的に加工することを可能とするこ
とにある。
たものであり、大量の光学素子素材に一括して熱処理を
施してエッジ部を効率的に加工することを可能とするこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
熱処理装置の発明であり、基台上に設けられた冷却板及
びこの冷却板の上方に空気断熱層を介して設けられた、
割断または切断研磨された光学素子素材を複数個載置可
能な載置プレートとを有する加工部と、この加工部の上
方に上下動自在に設けられ、かつ前記載置プレートに載
置される前記複数個の光学素子素材に対して熱処理を施
すことができる加熱板を具備する構成とした。
熱処理装置の発明であり、基台上に設けられた冷却板及
びこの冷却板の上方に空気断熱層を介して設けられた、
割断または切断研磨された光学素子素材を複数個載置可
能な載置プレートとを有する加工部と、この加工部の上
方に上下動自在に設けられ、かつ前記載置プレートに載
置される前記複数個の光学素子素材に対して熱処理を施
すことができる加熱板を具備する構成とした。
【0011】この構成により、載置プレート上に載置さ
れた複数の光学素子素材に対し、加熱板を用いて輻射加
熱による加工を一括して施してエッジ部を軟化させるこ
とができるから、歩留まりよく安価に、大量の光学素子
素材の加工を行える。
れた複数の光学素子素材に対し、加熱板を用いて輻射加
熱による加工を一括して施してエッジ部を軟化させるこ
とができるから、歩留まりよく安価に、大量の光学素子
素材の加工を行える。
【0012】請求項2記載の発明は、熱処理装置の発明
であり、前記載置プレートに、前記光学素子素材を位置
決めするための段差部と、前記空気断熱層に連通する貫
通孔とを設ける構成とした。
であり、前記載置プレートに、前記光学素子素材を位置
決めするための段差部と、前記空気断熱層に連通する貫
通孔とを設ける構成とした。
【0013】この構成により、載置プレートに光学素子
素材を効率的に位置決めでき、また、貫通孔および空気
断熱層を介した空気対流によって輻射熱を載置プレート
の下面に積極的に導入することができるから、加熱効率
をさらに向上させることができる。
素材を効率的に位置決めでき、また、貫通孔および空気
断熱層を介した空気対流によって輻射熱を載置プレート
の下面に積極的に導入することができるから、加熱効率
をさらに向上させることができる。
【0014】請求項3記載の発明は、熱処理装置の発明
であり、前記光学素子を位置決めするための段差部と前
記貫通孔とを規則的に配列し、前記段差部の近傍に前記
貫通孔が位置する構成とした。
であり、前記光学素子を位置決めするための段差部と前
記貫通孔とを規則的に配列し、前記段差部の近傍に前記
貫通孔が位置する構成とした。
【0015】この構成により、載置プレート上に載置さ
れた各光学素子素材の下面に、貫通孔を介して輻射熱を
効率的に導入できるから、熱処理時間を短縮することが
できる。
れた各光学素子素材の下面に、貫通孔を介して輻射熱を
効率的に導入できるから、熱処理時間を短縮することが
できる。
【0016】請求項4記載の発明は、熱処理装置の発明
であり、前記空気断熱層に挿入可能な補助冷却板を設け
る構成とした。
であり、前記空気断熱層に挿入可能な補助冷却板を設け
る構成とした。
【0017】補助冷却板の挿入によって、冷却板への熱
の放熱効率が高まり、一方、貫通孔が遮断されて熱対流
がなくなるから、冷却に要する時間を短縮できる。
の放熱効率が高まり、一方、貫通孔が遮断されて熱対流
がなくなるから、冷却に要する時間を短縮できる。
【0018】請求項5記載の発明は、熱処理方法の発明
であり、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光学素
子素材の熱処理装置を用いて光学素子素材に熱処理を施
す場合に、割断もしくは切断研磨された光学素子素材を
前記載置プレート上に載置する工程と、所定温度に制御
された前記加熱板を、前記光学素子に近接させて非接触
状態で位置させて所定の加熱処理を施す工程と、前記冷
却板を用いて、加熱処理された前記光学素子素材を冷却
する工程と、を具備するようにした。
であり、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光学素
子素材の熱処理装置を用いて光学素子素材に熱処理を施
す場合に、割断もしくは切断研磨された光学素子素材を
前記載置プレート上に載置する工程と、所定温度に制御
された前記加熱板を、前記光学素子に近接させて非接触
状態で位置させて所定の加熱処理を施す工程と、前記冷
却板を用いて、加熱処理された前記光学素子素材を冷却
する工程と、を具備するようにした。
【0019】これによって、載置プレート上に載置され
た複数の光学素子素材に対し一括して熱処理による加工
を行え、また、効率的な冷却も実現される。
た複数の光学素子素材に対し一括して熱処理による加工
を行え、また、効率的な冷却も実現される。
【0020】請求項6記載の発明は、熱処理方法の発明
であり、上記請求項2〜請求項4のいずれかに記載の熱
処理装置を用いて熱処理する場合に、前記貫通孔の径又
は前記補助冷却板の出し入れによって加熱及び冷却の速
度調整を行うようにした。
であり、上記請求項2〜請求項4のいずれかに記載の熱
処理装置を用いて熱処理する場合に、前記貫通孔の径又
は前記補助冷却板の出し入れによって加熱及び冷却の速
度調整を行うようにした。
【0021】これにより、貫通孔の径の調整によって熱
対流量を制御でき、また、補助冷却板の挿入の程度によ
って冷却板への放熱量を制御できるから、加熱速度およ
び放熱速度を適宜に選択することが可能となる。
対流量を制御でき、また、補助冷却板の挿入の程度によ
って冷却板への放熱量を制御できるから、加熱速度およ
び放熱速度を適宜に選択することが可能となる。
【0022】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態に係る
熱処理装置及び熱処理方法について、図面を参照しなが
ら説明する。
熱処理装置及び熱処理方法について、図面を参照しなが
ら説明する。
【0023】(実施の形態1)図1(a)は本発明の第
1の実施の形態における光学素子素材の熱処理装置であ
り、同図(b)は光学素子素材の(以下、載置プレート
という)の構造を示す図である。なお、図1(b)の下
側には、載置プレートのA−A線に沿う断面構造が示さ
れている。
1の実施の形態における光学素子素材の熱処理装置であ
り、同図(b)は光学素子素材の(以下、載置プレート
という)の構造を示す図である。なお、図1(b)の下
側には、載置プレートのA−A線に沿う断面構造が示さ
れている。
【0024】図1(a)に示すように、熱処理装置は、
基台1と、冷却板2と、断熱板3と、空気断熱層4と、
光学素子素材の載置プレート5と、ヒータが埋設されて
いる加熱板7と、加熱板7を上下動させるための昇降ア
ーム9とを具備する。
基台1と、冷却板2と、断熱板3と、空気断熱層4と、
光学素子素材の載置プレート5と、ヒータが埋設されて
いる加熱板7と、加熱板7を上下動させるための昇降ア
ーム9とを具備する。
【0025】冷却板2,断熱板3,空気断熱層4および
載置プレート5は、加工部を構成する。
載置プレート5は、加工部を構成する。
【0026】冷却板2は、図示しない通常の冷却パイプ
等を用いて水冷できるように構成されている。また、断
熱板3は、セラミックスや熱伝導率の小さい金属で構成
される。
等を用いて水冷できるように構成されている。また、断
熱板3は、セラミックスや熱伝導率の小さい金属で構成
される。
【0027】冷却板2と載置プレート5との間に所定の
厚みをもつ断熱板3が介在していることにより、冷却板
2と載置プレート5との間に空気断熱層4が形成され
る。この空気断熱層4は、加熱処理中において載置プレ
ート5と冷却板2との間のある程度の熱的絶縁性を確保
するとともに、加熱板から発せられる輻射熱を蓄熱して
補助的な加熱をするという作用がある。
厚みをもつ断熱板3が介在していることにより、冷却板
2と載置プレート5との間に空気断熱層4が形成され
る。この空気断熱層4は、加熱処理中において載置プレ
ート5と冷却板2との間のある程度の熱的絶縁性を確保
するとともに、加熱板から発せられる輻射熱を蓄熱して
補助的な加熱をするという作用がある。
【0028】載置プレート5には、光学素子の成形用材
料である光学素子素材(ガラス材)6が載置される。す
なわち、図1(b)に示すように、載置プレート5の表
面には、複数の位置決め用の段部8が所定のピッチで規
則的に配置されている。したがって、載置プレート5上
には、段部8によって正確に位置決めされた光学素子素
材6が多数載置されることになる。ここで、段部8は、
空気断熱層4の存在する領域の範囲内において設けられ
る。これにより、各光学素子素材6はすべて、空気断熱
層4の蓄熱作用による加熱を受けることになる。
料である光学素子素材(ガラス材)6が載置される。す
なわち、図1(b)に示すように、載置プレート5の表
面には、複数の位置決め用の段部8が所定のピッチで規
則的に配置されている。したがって、載置プレート5上
には、段部8によって正確に位置決めされた光学素子素
材6が多数載置されることになる。ここで、段部8は、
空気断熱層4の存在する領域の範囲内において設けられ
る。これにより、各光学素子素材6はすべて、空気断熱
層4の蓄熱作用による加熱を受けることになる。
【0029】加熱板7は、基台1に連結された昇降アー
ム9に取り付けられており、図中矢印で示す+Z〜−Z
まで昇降自在に構成されている。この加熱板7は、加熱
プレート5と同程度の面積をもち、載置プレート5上に
載置される複数個の光学素子素材6の全部に対して、一
括して均一に熱処理を施すことができる。一方、昇降ア
ーム9は、スライド軸を用いて上下動および所定位置で
の固定が可能な構成となっている。なお、加熱板7の温
度は、熱電対と制御回路とを組み合わせた温度調節機構
により制御される。
ム9に取り付けられており、図中矢印で示す+Z〜−Z
まで昇降自在に構成されている。この加熱板7は、加熱
プレート5と同程度の面積をもち、載置プレート5上に
載置される複数個の光学素子素材6の全部に対して、一
括して均一に熱処理を施すことができる。一方、昇降ア
ーム9は、スライド軸を用いて上下動および所定位置で
の固定が可能な構成となっている。なお、加熱板7の温
度は、熱電対と制御回路とを組み合わせた温度調節機構
により制御される。
【0030】次に、図1の熱処理装置を用い、光学素子
素材に熱処理を施してエッジ部に曲率を付与する熱処理
方法(加工方法)について説明する。
素材に熱処理を施してエッジ部に曲率を付与する熱処理
方法(加工方法)について説明する。
【0031】まず、載置プレート5上に、例えば図4の
形状をもつ光学素子素材6を複数個載置する。そして、
所定温度の加熱板7を下降させ、光学素子素材6の近傍
において非接触で固定する。その状態で所望時間の熱処
理を施し、光学素子素材6のエッジ部を軟化させる。
形状をもつ光学素子素材6を複数個載置する。そして、
所定温度の加熱板7を下降させ、光学素子素材6の近傍
において非接触で固定する。その状態で所望時間の熱処
理を施し、光学素子素材6のエッジ部を軟化させる。
【0032】所定時間が経過すると、加熱アーム7を上
昇させて電源を切り、加熱処理を終了するともに、冷却
板2による冷却処理を開始する。その状態で光学素子素
材6の温度が所定のレベルにまで下がると、次に、載置
プレート5を取り外し、光学素子素材6の温度が常温に
なるまで冷却する。これにより、図3に示すように、光
学素子素材6のエッジ部が丸められて自由曲面となる。
昇させて電源を切り、加熱処理を終了するともに、冷却
板2による冷却処理を開始する。その状態で光学素子素
材6の温度が所定のレベルにまで下がると、次に、載置
プレート5を取り外し、光学素子素材6の温度が常温に
なるまで冷却する。これにより、図3に示すように、光
学素子素材6のエッジ部が丸められて自由曲面となる。
【0033】このようにエッジが加工された光学素子素
材6はクラック等が生じにくい。ゆえに、図5,図6に
示す従来の成形法を用いて光学素子を成形しても、製造
歩留まりの低下や金型の損傷といった不都合が生じな
い。
材6はクラック等が生じにくい。ゆえに、図5,図6に
示す従来の成形法を用いて光学素子を成形しても、製造
歩留まりの低下や金型の損傷といった不都合が生じな
い。
【0034】次に、実験例について説明する。
【0035】先ず、図1(b)の載置プレート5の段部
8に、図4に示されるような円柱状でかつ両端面が鏡面
の光学素子素材6を15個載置した。この光学素子素材
6は、φ9.4mm×2.5mm厚の円柱体であり、そ
の組成は硼珪酸バリウム系ガラス(ガラス転移点は51
6℃、線膨張率は100℃〜300℃の範囲内では93
×10−7/℃)からなる。
8に、図4に示されるような円柱状でかつ両端面が鏡面
の光学素子素材6を15個載置した。この光学素子素材
6は、φ9.4mm×2.5mm厚の円柱体であり、そ
の組成は硼珪酸バリウム系ガラス(ガラス転移点は51
6℃、線膨張率は100℃〜300℃の範囲内では93
×10−7/℃)からなる。
【0036】載置プレートを断熱板の上にセットし、加
熱板を光学素子素材と1mmの間隙で固定した。加熱板
の温度は980℃に制御されていた。その状態で5分間
保持して、その後、加熱板の電源を切って温度を下げ
た。本実験例では、約15分でガラス転移点以下まで徐
冷した。その時点でプレートを取り出し光学素子素材が
常温になるまでさらに冷却した。
熱板を光学素子素材と1mmの間隙で固定した。加熱板
の温度は980℃に制御されていた。その状態で5分間
保持して、その後、加熱板の電源を切って温度を下げ
た。本実験例では、約15分でガラス転移点以下まで徐
冷した。その時点でプレートを取り出し光学素子素材が
常温になるまでさらに冷却した。
【0037】その結果、光学素子素材のエッジ部の良好
な加工を行うことができた。すなわち、エッジ部の曲率
半径は約0.1mmに仕上がっており、従来の成形法を
用いて成形したところ、前記した従来の不都合は発生し
なかった。
な加工を行うことができた。すなわち、エッジ部の曲率
半径は約0.1mmに仕上がっており、従来の成形法を
用いて成形したところ、前記した従来の不都合は発生し
なかった。
【0038】以上のように本実施の形態によれば、加熱
板および載置プレートの下面に設けられた空気断熱層の
作用により効率的な熱処理が行える。上述のように、空
気断熱層は、加熱板から発せられる輻射熱を蓄熱し補助
的な加熱をすることに作用するものであり、したがっ
て、本実施の形態の熱処理装置を用いれば、効率的に、
一度に大量の成形用の光学素子素材を製造(加工)する
ことができる。
板および載置プレートの下面に設けられた空気断熱層の
作用により効率的な熱処理が行える。上述のように、空
気断熱層は、加熱板から発せられる輻射熱を蓄熱し補助
的な加熱をすることに作用するものであり、したがっ
て、本実施の形態の熱処理装置を用いれば、効率的に、
一度に大量の成形用の光学素子素材を製造(加工)する
ことができる。
【0039】(実施の形態2)以下、本発明における実
施の形態2の熱処理装置及び熱処理方法について、図2
を参照しながら説明する。
施の形態2の熱処理装置及び熱処理方法について、図2
を参照しながら説明する。
【0040】図2は光学素子素材の載置プレートの構造
を示す図である。なお、図2の下側には、B−B線に沿
う載置プレートの断面図が示されている。本実施の形態
において使用する熱処理装置の構成は、図1に示される
ものと同じである。
を示す図である。なお、図2の下側には、B−B線に沿
う載置プレートの断面図が示されている。本実施の形態
において使用する熱処理装置の構成は、図1に示される
ものと同じである。
【0041】本実施の形態では、図1の構成に加えて、
載置プレート5の表面に設けられた段部8の近傍におい
て複数の貫通孔10を規則的に配置し、また、空気断熱
層4に挿入可能な補助冷却板11を設けている。
載置プレート5の表面に設けられた段部8の近傍におい
て複数の貫通孔10を規則的に配置し、また、空気断熱
層4に挿入可能な補助冷却板11を設けている。
【0042】貫通孔10は載置プレート5を貫通して空
気断熱層4に連通しており、また、図2に示されるよう
に、段部8と交互に所定ピッチで配置されている。熱処
理時において、この貫通孔10を介して加熱板7からの
輻射熱の対流を載置プレート5の下面に積極的に導入す
ることができ、載置プレート5の裏面からも効率的に光
学素子素材6を加熱することができる。よって、熱処理
時間を短縮することが可能となる。
気断熱層4に連通しており、また、図2に示されるよう
に、段部8と交互に所定ピッチで配置されている。熱処
理時において、この貫通孔10を介して加熱板7からの
輻射熱の対流を載置プレート5の下面に積極的に導入す
ることができ、載置プレート5の裏面からも効率的に光
学素子素材6を加熱することができる。よって、熱処理
時間を短縮することが可能となる。
【0043】一方、補助冷却板11は熱伝達効率が良好
な金属等からなり、熱処理中は、図中+X方向に位置決
めされ、冷却時には−X方向に移動して、空気断熱層4
の空間に挿入される。補助冷却板11が挿入されると、
貫通孔10が遮断されて熱対流が阻止されるとともに、
補助冷却板11が載置プレート5(光学素子素材6)の
高熱を効果的に冷却板2に逃がす。この補助冷却板11
の伝熱作用によって載置プレート5の冷却速度を短縮す
ることが可能となる。
な金属等からなり、熱処理中は、図中+X方向に位置決
めされ、冷却時には−X方向に移動して、空気断熱層4
の空間に挿入される。補助冷却板11が挿入されると、
貫通孔10が遮断されて熱対流が阻止されるとともに、
補助冷却板11が載置プレート5(光学素子素材6)の
高熱を効果的に冷却板2に逃がす。この補助冷却板11
の伝熱作用によって載置プレート5の冷却速度を短縮す
ることが可能となる。
【0044】以上のように構成された熱処理装置を用い
て、実施の形態1と同様の条件で同様の光学素子素材を
準備して熱処理および冷却の実験を行った。以下、実験
例について説明する。
て、実施の形態1と同様の条件で同様の光学素子素材を
準備して熱処理および冷却の実験を行った。以下、実験
例について説明する。
【0045】先ず、光学素子素材の載置プレート5の段
部8に光学素子素材6を15個載置する。この光学素子
素材6は、φ9.4mm×2.5mmの円柱体であり、
これは、硼珪酸バリウム系ガラス(ガラス転移点は51
6℃、線膨張率は、100℃〜300℃の範囲内では9
3×10−7/℃)である。
部8に光学素子素材6を15個載置する。この光学素子
素材6は、φ9.4mm×2.5mmの円柱体であり、
これは、硼珪酸バリウム系ガラス(ガラス転移点は51
6℃、線膨張率は、100℃〜300℃の範囲内では9
3×10−7/℃)である。
【0046】なお、載置プレート5に設けられた貫通孔
10の孔径は7.0mmである。また、図2に示される
ように、貫通孔10は段部8と交互に所定ピッチで配置
されており、熱対流による下側からの加熱が効果的に行
われるようになっている。
10の孔径は7.0mmである。また、図2に示される
ように、貫通孔10は段部8と交互に所定ピッチで配置
されており、熱対流による下側からの加熱が効果的に行
われるようになっている。
【0047】次に、980℃に加熱された加熱板7を光
学素子素材6の上面から1mmの付近まで下降させ固定
し、加熱を開始した。そして、加熱の開始から2分30
秒後に加熱板7を上昇させて電源を切り、一方、補助冷
却板11を挿入して貫通孔10の全てを遮断して冷却を
開始した。ガラス転移点近傍まで冷却するのに2分間を
要した。
学素子素材6の上面から1mmの付近まで下降させ固定
し、加熱を開始した。そして、加熱の開始から2分30
秒後に加熱板7を上昇させて電源を切り、一方、補助冷
却板11を挿入して貫通孔10の全てを遮断して冷却を
開始した。ガラス転移点近傍まで冷却するのに2分間を
要した。
【0048】実施の形態1と比較して、加熱時間が1/
2となり、冷却時間が約1/7に短縮された。熱処理後
の光学素子素材のエッジ形状は、実施の形態1の場合と
同様のものであり、良好なエッジの丸めを行うことがで
きた。
2となり、冷却時間が約1/7に短縮された。熱処理後
の光学素子素材のエッジ形状は、実施の形態1の場合と
同様のものであり、良好なエッジの丸めを行うことがで
きた。
【0049】(実施の形態3)次に、実施の形態3につ
いて説明する。本実施の形態では、貫通孔の径を変化さ
せて熱処理の速度を調整する。
いて説明する。本実施の形態では、貫通孔の径を変化さ
せて熱処理の速度を調整する。
【0050】以下、貫通孔10の口径をφ3.5mm
(実施の形態2の場合の半分)として、実施の形態1及
び2と同じ条件で熱処理した実験例について説明する。
(実施の形態2の場合の半分)として、実施の形態1及
び2と同じ条件で熱処理した実験例について説明する。
【0051】この場合には、エッジ加工に要する時間
(全処理時間)は、実施の形態2よりも長い時間を要
し、実施の形態1よりも短い時間であった。冷却時間
は、実施の形態2と同じ2分間でガラス転移点近傍まで
冷却できた。
(全処理時間)は、実施の形態2よりも長い時間を要
し、実施の形態1よりも短い時間であった。冷却時間
は、実施の形態2と同じ2分間でガラス転移点近傍まで
冷却できた。
【0052】すなわち、本発明の熱処理装置と熱処理方
法を用いれば所望の加熱速度および冷却速度を適宜選択
できることが確認された。なお、熱処理された光学素子
素材のエッジ部の形状は、実施の形態1の場合と同様の
ものであった。
法を用いれば所望の加熱速度および冷却速度を適宜選択
できることが確認された。なお、熱処理された光学素子
素材のエッジ部の形状は、実施の形態1の場合と同様の
ものであった。
【0053】このように、光学素子素材の載置プレート
5に貫通孔を設け、貫通孔の口径(面積)を調整するこ
とにより、熱加工や冷却のスピードをある程度、選択す
ることができる。
5に貫通孔を設け、貫通孔の口径(面積)を調整するこ
とにより、熱加工や冷却のスピードをある程度、選択す
ることができる。
【0054】なお、以上の例では、貫通孔の径を調整し
たが、貫通孔の数やその配置位置を調整することによっ
ても、熱処理や冷却の効率を変化させることができる。
たが、貫通孔の数やその配置位置を調整することによっ
ても、熱処理や冷却の効率を変化させることができる。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
歩留りよく安価に、大量の光学素子素材を加工できる熱
処理装置と熱処理方法を提供できるという有利な効果が
得られる。これによって、光学素子の成形時における金
型損傷や製造歩留まりの低下といった不都合が解消され
る。
歩留りよく安価に、大量の光学素子素材を加工できる熱
処理装置と熱処理方法を提供できるという有利な効果が
得られる。これによって、光学素子の成形時における金
型損傷や製造歩留まりの低下といった不都合が解消され
る。
【図1】(a)は本発明の実施の形態1に係る光学素子
素材の熱処理装置の構成を示す断面図、(b)は光学素
子素材載置プレートの構成を説明するための図
素材の熱処理装置の構成を示す断面図、(b)は光学素
子素材載置プレートの構成を説明するための図
【図2】本発明の実施の形態2における光学素子素材の
載置プレートの構成を示す図
載置プレートの構成を示す図
【図3】上記実施の形態の熱処理後の光学素子素材の形
状を示す図
状を示す図
【図4】従来の光学素子素材の加工形状を示す斜視図
【図5】金型を用いた光学素子の成形を説明するための
断面図
断面図
【図6】光学素子の成形装置の概要を説明するための図
1 基台 2 冷却板 3 断熱板 4 空気断熱層 5 光学素子素材載置用プレート 6 光学素子素材(ガラス素材) 7 加熱板 8 位置決め用の段差 9 昇降アーム 10 貫通孔 11 補助冷却板 12 熱処理後の光学素子素材
Claims (6)
- 【請求項1】 基台上に設けられた冷却板及びこの冷却
板の上方に空気断熱層を介して設けられた、割断または
切断研磨された光学素子素材を複数個載置可能な載置プ
レートを有する加工部と、この加工部の上方に上下動自
在に設けられ、かつ前記載置プレートに載置される前記
複数個の光学素子素材に対して熱処理を施すことができ
る加熱板と、を具備することを特徴とする光学素子素材
の熱処理装置。 - 【請求項2】 前記載置プレートに、前記光学素子素材
を位置決めするための段差部と、前記空気断熱層に連通
する貫通孔とを設けたことを特徴とする請求項1記載の
光学素子素材の熱処理装置。 - 【請求項3】 前記光学素子を位置決めするための段差
部と前記貫通孔とを規則的に配列し、前記段差部の近傍
に前記貫通孔が位置するようにしたことを特徴とする請
求項2記載の光学素子素材の熱処理装置。 - 【請求項4】 前記空気断熱層に挿入可能な補助冷却板
を設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいず
れかに記載の光学素子素材の熱処理装置。 - 【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載
の光学素子素材の熱処理装置を用いて光学素子素材に熱
処理を施す熱処理方法であって、割断もしくは切断研磨
された光学素子素材を前記載置プレート上に載置する工
程と、所定温度に制御された前記加熱板を前記光学素子
に近接させて非接触状態で固定し、所定の加熱処理を施
す工程と、加熱処理された前記光学素子素材を冷却する
工程と、を具備することを特徴とする光学素子素材の熱
処理方法。 - 【請求項6】 請求項2乃至請求項4のいずれかに記載
の熱処理装置を用いる場合に、前記貫通孔の径又は前記
補助冷却板の出し入れによって加熱又は冷却の速度調整
を行うことを特徴とする請求項5記載の光学素子素材の
熱処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33245497A JPH11147724A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材の熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33245497A JPH11147724A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材の熱処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11147724A true JPH11147724A (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=18255167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33245497A Pending JPH11147724A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 光学素子素材の熱処理装置及び光学素子素材の熱処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11147724A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007100977A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 連続式熱処理炉 |
-
1997
- 1997-11-17 JP JP33245497A patent/JPH11147724A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007100977A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 連続式熱処理炉 |
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