JPH11145523A - 半導体発光装置 - Google Patents

半導体発光装置

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JPH11145523A
JPH11145523A JP30247297A JP30247297A JPH11145523A JP H11145523 A JPH11145523 A JP H11145523A JP 30247297 A JP30247297 A JP 30247297A JP 30247297 A JP30247297 A JP 30247297A JP H11145523 A JPH11145523 A JP H11145523A
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JP
Japan
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light
light emitting
emitting device
gap
emitting element
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JP30247297A
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Tomio Inoue
登美男 井上
Norio Yamashita
憲男 山下
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Matsushita Electronics Corp
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    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光取出し面から逆向きに漏れ出る光をリード
フレームの上端のギャップから抜ける光も含めて反射さ
せて発光強度を向上させ得る半導体発光装置を提供す
る。 【解決手段】 透明のサファイア基板1aを持つ発光素
子1を、リードフレーム2の上端のマウント部の反射カ
ップ2aにギャップ2dを切開して区分けしたp側及び
n側の導通のための接続座2b,2cに搭載し、更に発
光素子1を含んでエポキシ樹脂3によって封止する発光
装置において、少なくともギャップ2dに補助反射部4
を設けることによって、このギャップ2dから抜ける光
成分を光取出し面側に反射させて回収する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば青色発光
ダイオード等の光デバイスに利用される窒化ガリウム系
化合物を利用したたとえばフリップチップ型の半導体発
光装置に係り、特に底部側への発光を高効率で反射させ
て発光強度を向上し得る半導体発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】GaN,GaAlN,InGaN及びI
nAlGaN等の窒化ガリウム系化合物半導体は、可視
光発光デバイスや高温動作電子デバイス用の半導体材料
として多用されるようになり、青色発光ダイオードの分
野での展開が進んでいる。
【0003】この窒化ガリウム系化合物の半導体の製造
では、その表面において半導体膜を成長させるための結
晶基板として、一般的には絶縁性のサファイアが利用さ
れる。このサファイアのような絶縁性の結晶基板を用い
る場合では、結晶基板側から電極を出すことができない
ので、半導体層に設けるp,nの電極は結晶基板と対向
する側の一面に形成されることになる。
【0004】たとえば、GaN系半導体発光素子は、絶
縁性の基板としてサファイア基板を用いてその上面にn
型層及びp型層を有機金属気相成長法によって積層形成
し、p型層の一部をエッチングしてn型層を露出させ、
これらのn型層とp型層のそれぞれにn側電極及びp側
電極を形成するというものがその基本的な構成である。
そして、p側電極を透明電極とした場合であれば、これ
らのp側及びn側の電極にそれぞれボンディングパッド
部を形成して、リードフレームや基板にそれぞれワイヤ
ボンディングされる。また、サファイア基板側から光を
取り出すようにしたフリップチップ型の半導体発光素子
では、p側電極を透明電極としないままでこのp側及び
n側の電極のそれぞれにマイクロバンプを形成し、これ
らのマイクロバンプを基板またはリードフレームのp側
及びn側に接続する。
【0005】ここで、p側電極を透明電極とする半導体
発光装置では、この透明電極が光取出し面となるが、フ
リップチップ型の半導体発光装置では上下反転した姿勢
で発光装置の基板またはリードフレームの上に搭載され
るので、発光方向に臨んでいるサファイア基板の一面が
光取出し面となる。そして、サファイア基板が透明であ
ることから、前者のp側透明電極を取出し面とするもの
でも、フリップチップ型のものでも、光取出し面と逆向
きに漏れる光が発生することになる。したがって、この
漏れる光を基板またはリードフレームによって光取出し
面側に向けて反射させるようにすれば、発光効率の向上
が可能となる。
【0006】このようなタイプの異なる発光素子のいず
れについても、リードフレームに素子を搭載するもので
は、n側及びp側をワイヤによってボンディングするか
またはマイクロバンプを接合するので、リードフレーム
はn側及びp側に分けた構成のものが使用される。図4
にフリップチップ型の発光素子をリードフレームに搭載
した例の概略を示す。
【0007】図4の(a)において、透明のサファイア
基板51が上面を向く姿勢とした発光素子50は、その
下面にp側及びn側のマイクロバンプ51a,51bを
それぞれ形成してリードフレーム52の上面に搭載され
ている。リードフレーム52は、その上端部をマウント
部53としたものであり、従来周知のように、p側及び
n側のマイクロバンプ51a,51bに対応するように
このマウント部53を二つの接続座53a,53bとし
て形成している。そして、図示のように発光素子50を
搭載することで、マイクロバンプ51a,51bをそれ
ぞれ接続座53a,53bに電気的に導通させたアセン
ブリが得られる。なお、リードフレーム52の上端から
発光素子50の全体を含めてエポキシ樹脂によって封止
すれば、発光素子50を光源とするLEDランプが形成
されることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】先に述べたように、フ
リップチップ型の発光素子50では、サファイア基板5
1の上面が光取出し面となるが、このサファイア基板5
1に積層したp型層を抜けて下側に漏れる光が発生す
る。したがって、マウント部53を銀鏡やメッキ処理し
た反射面とすれば、この漏れる光を光取出し面側に反射
させることができ、発光強度をこの反射光分だけ上げる
ことができる。
【0009】ところが、図4の(b)から明らかなよう
に、マウント部53は接続座53a,53bに分かれて
いてその間にギャップ54があるので、このギャップ5
4部分については反射面を形成することはできない。し
たがって、このギャップ54の分に相当して、下に漏れ
る光の反射を得ることはできないことになる。
【0010】たとえば、従来の一般的な発光素子におい
ては、発光素子50は同図の(b)において一辺の長さ
が0.34mm程度であり、ギャップ54の幅は0.2
5mm程度である。このような寸法関係では、発光素子
50の底面積に対してギャップ54が占める大きさは半
分以上となり、漏れた光の反射回収の面からみると大き
な損失を伴うことになる。
【0011】また、このような問題は、フリップチップ
型の発光素子だけでなく、サファイア等の透明の絶縁性
基板を用いるものにおいても同様である。
【0012】一方、たとえば特開平4−10670号公
報に記載のように、発光強度を上げるためにリードフレ
ームの周りに反射部材を設け、発光素子の側面からの光
を光取出し面側からの発光方向に向けて反射させるよう
にしたものもある。
【0013】しかしながら、この公報に記載のもので
は、発光素子の下面に臨んでいるリードフレームのギャ
ップ部分は、エポキシ樹脂を利用したレンズ部材で封止
されたものであり、発光素子から下に漏れる発光分を反
射させるという機能は持ち合わせていない。したがっ
て、透明のサファイア基板を用いる発光素子であれば、
その側方から漏れる光については反射回収が可能である
が、下に抜ける光はそのまま未回収となり、発光強度の
効率的な向上には至らない。
【0014】本発明において解決すべき課題は、発光素
子をリードフレームに搭載する発光装置において光取出
し面から逆向きに漏れ出る光を効率よく反射させて発光
強度を向上させることにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明の結晶基
板の上にn型層及びp型層を成長させた半導体積層膜構
造を持つ発光素子と、発光素子搭載用の反射カップを持
つマウント部にギャップを切開するとともにこのギャッ
プによりp側及びn側の導通部をそれぞれ形成する一対
の接続座を設けたリードフレームとを備え、マウント部
に搭載した発光素子を含んで外皮樹脂により封止する半
導体発光装置であって、少なくともマウント部のギャッ
プに対応する位置に発光素子からの光をその光取出し面
側に向けて反射する補助反射部を形成してなるものであ
る。
【0016】このような構成であれば、発光素子の光取
出し面とは逆の面からマウント部に漏れる光を補助反射
部によって光取出し面側に反射させることができ、従来
ではギャップ部からそのまま光が抜けていた発光成分を
含めて光取出し面へ回収することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】請求項1に記載の発明は、透明の
結晶基板の上にn型層及びp型層を成長させた半導体積
層膜構造を持つ発光素子と、発光素子搭載用の反射カッ
プを持つマウント部にギャップを切開するとともにこの
ギャップによりp側及びn側の導通部をそれぞれ形成す
る一対の接続座を設けたリードフレームとを備え、マウ
ント部に搭載した発光素子を含んで外皮樹脂により封止
する半導体発光装置であって、少なくともマウント部の
ギャップに対応する位置に発光素子からの光をその光取
出し面側に向けて反射する補助反射部を形成してなるも
のであり、光取出し面からの発光成分に加えて、ギャッ
プ部からそのまま光が抜けていた発光成分も含めて光取
出し面へ回収して発光効率を上げるという作用を有す
る。
【0018】請求項2に記載の発明は、補助反射部は、
反射カップの内部及び光取出し面側を除いて白色樹脂に
より形成されてなるものであり、白色樹脂は可視光を効
率よく反射するのでギャップ部から下に抜けていた発光
成分を効率よく光取出し面側に回収し、発光効率を上げ
るという作用を有する。
【0019】請求項3に記載の発明は、補助反射部は、
白色系顔料のフィラーを含んだ樹脂で、熱可塑性樹脂を
インジェクション成形によりまたは熱硬化性樹脂をトラ
ンスファー成形により形成したもので、前者は比較的簡
単な製造プロセスで形成できるという特徴を持つ。ま
た、後者は熱に一般的に弱い前者に比べて耐熱性に優れ
ているという特徴を持つ。この補助反射部を形成したリ
ードフレームのマウント部に発光素子を搭載後、外皮樹
脂で補助反射部を一体に含ませることができるという作
用を有する。
【0020】以下に、本発明の実施の形態の具体例を図
面を参照しながら説明する。図1は本発明の一実施の形
態による窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を用いた
発光装置の概要を示す縦断面図、図2は横断面図、図3
は図2に示した発光装置の要部を拡大して示すA−A線
矢視による縦断面図である。
【0021】図3において、発光素子1は、絶縁性の透
明なサファイア基板1aの表面に複数の半導体薄膜層を
従来周知の有機金属気相成長法によって成膜したもので
ある。この薄膜の積層体は、たとえば順にGaNバッフ
ァ層,n型GaN層,InGaN活性層,p型AlGa
N層及びp型GaN層としたダブルヘテロ構造とするこ
とができる。そして、図示の例では、発光素子1はフリ
ップチップ型であって、p側電極1b及びn側電極1c
にそれぞれマイクロバンプ1d,1eを形成している。
【0022】発光素子1を搭載するリードフレーム2
は、従来例で示したものと同様に、マウント部の反射カ
ップ2aを上端に形成するとともに、マイクロバンプ1
d,1eをそれぞれ別個に搭載して導通させるための接
続座2b,2cをギャップ2dを間に挟んで設けてい
る。
【0023】図1及び図2に示すように、リードフレー
ム2に搭載された発光素子1は、レンズ機能と発光素子
1の保護を兼ねる外皮樹脂としてのエポキシ樹脂3によ
って封止される。このエポキシ樹脂3は、マウント部の
反射カップ2aよりも下方までを含むように形成された
ものである。
【0024】エポキシ樹脂3の内部には、反射カップ2
aの上端とほぼ同じ面とした上端面を持ちその下端面は
反射カップ2aの下端よりも少し下側にまで及ぶ補助反
射部4を形成する。この補助反射部4は、図2に示すよ
うに、反射カップ2aの上端及び接続座2b,2cと発
光素子1の上面には被さらないように形成され、ギャッ
プ2dには隙間なく充填されている。
【0025】この補助反射部4は、先に述べたようにギ
ャップ2dに隙間なく充填されたものであり、可視光を
効率よく反射すること及び接続座2b,2cどうしを絶
縁する必要があるために、白色の樹脂により形成される
ことが好ましい。
【0026】補助反射部4を樹脂で形成する場合、2つ
の方法があり、1つは熱可塑性の樹脂を用いてインジェ
クション成形を行う方法であり、この成形方法では製造
プロセスも比較的簡単であるが、一般的に熱に弱くな
り、外皮樹脂であるエポキシ樹脂で封止する工程やリー
ドフレームの半田ディップする工程など、熱が加わる工
程で問題が起こらないような材料を選定することが重要
である。もう1つは、熱硬化性のエポキシ樹脂を用いた
トランスファー成形で行う方法であり、この場合、硬化
させる時間が必要であるが、外皮樹脂と同じエポキシ樹
脂であり、耐熱性にも優れている。
【0027】補助反射部4は、リードフレーム2のギャ
ップ2dから下に漏れる光をサファイア基板1aの上面
の光取出し面側に反射させるもので、先に挙げた樹脂の
基材に適切な白色顔料をフィラーとして混入したもので
ある。このフィラーとしては、たとえば酸化チタン微粉
末を用いることができ、補助反射部4を白色の銀鏡層と
することができる。
【0028】以上の構成において、リードフレーム2を
介して発光素子1に通電されると、サファイア基板1a
とp側電極との界面部分のInGaN層を発光層とする
緑または青の色の発光が得られる。この発光層からの光
は、サファイア基板1aの上面を光取出し面としてエポ
キシ樹脂3中に放出されるほか、図3において下側に漏
れる光としても放出される。
【0029】本発明では、発光素子1及び接続座2b,
2cを含むマウント部の反射カップ2aの上面に被さら
ないように且つギャップ2dには発光素子1の下方を含
めて全てに酸化チタン等の白色顔料をフィラーとして含
む補助反射部4によっ被覆しているので、発光素子1か
らギャップ2dに漏れ出る光をこの補助反射部4から光
取出し面側に反射させることができる。
【0030】すなわち、従来構造では、ギャップ2dの
真上に位置している発光素子1の部分からの光について
は、これを反射回収することができなかった。これに対
し、本発明ではギャップ2dを含めて補助反射部4を白
色樹脂で形成しているので、ギャップ2dを抜けようと
する光も全て補助反射部4によってサファイア基板1a
の上面の光取出し面側に反射させてこれを発光成分とし
て回収することができる。
【0031】ここで、従来技術の項において、ギャップ
54の幅は発光素子50の大きさに対して占める面積割
合が比較的大きいことを既に述べた。そして、本実施の
形態においても、発光素子1とギャップ2dのそれぞれ
の大きさの関係が同じとした場合、ギャップ2dから抜
ける光の割合が大きいのは同様である。したがって、こ
のように抜け出る割合が大きな光の全てを補助反射部4
によって光取出し面側に反射させて回収できることか
ら、補助反射部4を設けない場合に比べて発光効率が格
段に向上することは明らかである。
【0032】なお、以上の例では、透明のサファイア基
板1aを用いたフリップチップ型の発光素子1とした
が、サファイア等の透明の結晶基板を利用した窒化ガリ
ウム系の発光素子であっても同様の構成とすることがで
きる。すなわち、従来例で説明したp側電極を透明電極
とする発光素子であれば、そのサファイア基板を下向き
にしてリードフレームに搭載すると、サファイア基板か
ら下方に光が漏れるので、この漏れた光を補助反射部4
によって反射させるようにすればよい。
【0033】
【発明の効果】請求項1の発明では、光取出し面からの
発光成分に加えて、ギャップ部からそのまま光が抜けて
いた発光成分も含めて反射部から光取出し面へ反射させ
て回収することができ、特にフリップチップ型のように
透明基板側への発光層からの光に対して逆向きに放出さ
れる光の成分が大きい場合では、発光強度を格段に向上
させることができる。
【0034】請求項2の発明では、補助反射部を可視光
を効率よく反射する白色樹脂によって形成することによ
り、ギャップ部から下に抜けていた発光成分を効率よく
光取出し面側に回収して発光効率を上げることができ
る。
【0035】請求項3の発明では、補助反射部をインジ
ェクション成形またはトランスファー成形によって形成
するので、前者の場合では比較的簡単な製造プロセスで
補助反射部の形成が可能となり、また後者の場合では、
耐熱性に優れた製造が可能となり、いずれにおいても外
皮樹脂に直にフィラーを封止するという簡単な製造プロ
セスで済むので、製造も簡単になり歩留りも向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態によるフリップチップ型
の半導体発光素子を備えた発光装置の概略縦断面図
【図2】図1の発光装置の概略横断面図
【図3】図2に示した発光装置の要部を拡大して示すA
−A線矢視による縦断面図
【図4】従来例であって、(a)はフリップチップ型の
発光素子をリードフレームに搭載したときの概略縦断面
図 (b)は平面図
【符号の説明】
1 発光素子 1a サファイア基板 1b p側電極 1c n側電極 1d,1e マイクロバンプ 2 リードフレーム 2a 反射カップ 2b,2c 接続座 2d ギャップ 3 エポキシ樹脂(外皮樹脂) 4 補助反射部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明の結晶基板の上にn型層及びp型層を
    成長させた半導体積層膜構造を持つ発光素子と、発光素
    子搭載用の反射カップを持つマウント部にギャップを切
    開するとともにこのギャップによりp側及びn側の導通
    部をそれぞれ形成する一対の接続座を設けたリードフレ
    ームとを備え、マウント部に搭載した発光素子を含んで
    外皮樹脂により封止する半導体発光装置であって、少な
    くともマウント部のギャップに対応する位置に発光素子
    からの光をその光取出し面側に向けて反射する補助反射
    部を形成してなる半導体発光装置。
  2. 【請求項2】補助反射部は、反射カップの内部及び光取
    出し面側を除いて白色樹脂により形成されてなる請求項
    1記載の半導体発光装置。
  3. 【請求項3】補助反射部は、白色系顔料のフィラーを含
    んだ樹脂で、熱可塑性樹脂をインジェクション成形によ
    りまたは熱硬化性樹脂をトランスファー成形により形成
    した後、外皮樹脂で封止してなる請求項2記載の半導体
    発光装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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