JPH11145351A - Heat dissipating spacer - Google Patents

Heat dissipating spacer

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JPH11145351A
JPH11145351A JP30563597A JP30563597A JPH11145351A JP H11145351 A JPH11145351 A JP H11145351A JP 30563597 A JP30563597 A JP 30563597A JP 30563597 A JP30563597 A JP 30563597A JP H11145351 A JPH11145351 A JP H11145351A
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heat radiation
hardness
spacer
heat
silicone
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Hiroaki Sawa
博昭 澤
Masato Nishikawa
正人 西川
Mitsuru Shiiba
満 椎葉
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat dissipating spacer in which handling property is improved, while keeping high flexibility and high thermal conductivity. SOLUTION: This spacer is formed of silicone set matter containing heat conductive filler and has at least one part wherein difference in the hardness in Askar C hardness in the thickness direction thereof is less than 20 (excludes 0). It is desirable that the thermal conductivity be 0.7 W/m.K or more and Askar C hardness of the entire spacer be less than 50. In the heat dissipating spacer, it is desirable that silicone set matter is constituted of a single layer or multilayer of three or more layers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高柔軟性、高熱伝
導性放熱スペーサーの改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improved heat-radiating spacer having high flexibility and high thermal conductivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】トランジスタ、サイリスタ等の発熱性電
子部品においては、使用時に発生する熱を除去すること
が重要な課題となっている。従来、その除熱は、発熱性
電子部品を電気絶縁性の熱伝導性シートを介して放熱フ
ィンや金属板に取り付けて行われており、その熱伝導性
シートとしてはシリコーンゴムに熱伝導性フィラーの充
填された放熱シートが使用されている。
2. Description of the Related Art In heat-generating electronic components such as transistors and thyristors, it is important to remove heat generated during use. Conventionally, heat removal is performed by attaching heat-generating electronic components to heat-dissipating fins or metal plates via an electrically insulating heat-conductive sheet. Is used.

【0003】一方、最近の電子機器の高密度化に伴い、
放熱フィン等を取り付けるスペースがない場合や、電子
機器が密閉されていて放熱フィンからの放熱が困難な場
合には、発熱性電子部品から発生した熱を電子機器のケ
ース等に直接伝熱する方法が採られている。この方式に
おいては、発熱性電子部品とケースとの間のスペースを
埋めるだけの厚みを有する高柔軟性の放熱スペーサーが
用いられている。また、IC化やLSI化された発熱性
電子部品がプリント基板に実装されている場合の放熱に
おいても、プリント基板と放熱フィンとの間に高柔軟性
の放熱スペーサーが用いられている。
On the other hand, with the recent increase in the density of electronic devices,
If there is no space to install the heat radiation fins, or if the electronic equipment is sealed and it is difficult to dissipate heat from the heat radiation fins, a method of directly transferring the heat generated from the heat-generating electronic components to the case of the electronic equipment Is adopted. In this method, a highly flexible heat radiation spacer having a thickness sufficient to fill a space between the heat-generating electronic component and the case is used. Also, in the case of heat dissipation when a heat-generating electronic component made into an IC or LSI is mounted on a printed circuit board, a highly flexible heat-dissipating spacer is used between the printed board and the heat-dissipating fins.

【0004】このような高柔軟性の放熱スペーサーにあ
っては、実装時の押圧によって発熱性電子部品を損傷さ
せないように、アスカ−C硬度が50未満の極めて柔ら
かいものが使用されている。そのため、取扱い性(ハン
ドリング性)が悪いのでそれを改善するため、従来、補
強層付きのものが提案されている。例えば、あらかじめ
形成しておいた補強層に柔軟層を積層したもの(特開平
2−196453号公報、特開平6−155517号公
報)や、柔軟層内部にガラスクロスを入れたもの(特開
平7−266356号公報)などである。
[0004] As such a highly flexible heat radiation spacer, an extremely soft one having an Asker-C hardness of less than 50 is used so as not to damage the heat-generating electronic component due to pressing during mounting. For this reason, handling properties (handling properties) are poor, and in order to improve the handling properties, those having a reinforcing layer have been conventionally proposed. For example, a flexible layer is laminated on a reinforcing layer formed in advance (JP-A-2-196453, JP-A-6-155517), or a glass cloth is inserted inside the flexible layer (JP-A-7-1995). -266356).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の放熱スペーサーによれば取扱い性は向上するが、柔軟
性と熱伝導性を犠牲にしなければならないという問題が
あった。
However, according to these heat-radiating spacers, the handleability is improved, but there is a problem that flexibility and thermal conductivity must be sacrificed.

【0006】すなわち、あらかじめ形成しておいた補強
層に柔軟層を積層したものは、製造工程が複雑であるば
かりでなく、柔軟層と補強層とのアスカ−C硬度の硬度
差が50程度以上と極端に異なり、しかも伸びも大きく
異なっているため、放熱スペーサーの実装時に押圧がか
かって横方向に広げられた場合、伸びの小さな補強層が
抵抗となって広がりを抑制し、柔軟性が大幅に低下す
る。特に、押圧が大きくなると補強層と柔軟層が剥離
し、熱伝導性も低下する。
That is, when a flexible layer is laminated on a reinforcing layer formed in advance, not only the manufacturing process is complicated, but also a difference in hardness of Asker-C hardness between the flexible layer and the reinforcing layer is about 50 or more. If the heat-dissipating spacers are spread laterally due to pressure when they are mounted, the reinforcing layer with low elongation will act as a resistance and suppress the spread, greatly increasing flexibility. To decline. In particular, when the pressure is increased, the reinforcing layer and the flexible layer are separated, and the thermal conductivity is also reduced.

【0007】柔軟層内部にガラスクロスを入れたもの
は、製造工程は簡略化できるが、ガラスクロスが伸びな
いために上記と同様な柔軟性低下の問題がある。また、
ガラスクロスは、熱伝導率が小さく、しかもわずかの押
圧が加わっても柔軟層から剥離してしまうので、熱伝導
性が低下する。
[0007] When a glass cloth is placed inside the flexible layer, the manufacturing process can be simplified, but the glass cloth does not extend, and thus there is the same problem of lowering the flexibility as described above. Also,
The glass cloth has a low thermal conductivity, and is peeled off from the flexible layer even when a slight pressure is applied, so that the thermal conductivity is reduced.

【0008】本発明は、上記に鑑みてなされたものであ
り、高柔軟性、高熱伝導性を保持したまま取扱い性を高
めた放熱スペーサーを提供することを目的とする。
[0008] The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a heat radiation spacer having improved handleability while maintaining high flexibility and high thermal conductivity.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、熱
伝導性フィラーを含有してなるシリコーン固化物からな
るものであって、その厚み方向におけるアスカーC硬度
の硬度差が20以下(0は含まず)となる部分を少なく
とも一箇所を有してなることを特徴とする放熱スペーサ
ーであり、特に熱伝導率が0.7W/m・K以上、全体
のアスカーC硬度が50未満であることを特徴とする放
熱スペーサーである。また、本発明は、これらの放熱ス
ペーサーにおいて、層間剥離をなくし熱伝導性が犠牲に
なることがないように、シリコーン固化物を単層で構成
したものであり、また押圧を加えそれを解放したときに
元の形状に戻りやすくなる(復元性がよくなる)よう
に、シリコーン固化物を三層以上の多層で構成したもの
である。
That is, the present invention comprises a silicone solidified product containing a thermally conductive filler, and has a difference in hardness of Asker C hardness in the thickness direction of 20 or less (0 is 0). The heat radiation spacer is characterized by having at least one portion which does not include (excluding), particularly having a thermal conductivity of 0.7 W / m · K or more and an overall Asker C hardness of less than 50. A heat radiation spacer characterized by the following. Further, in the present invention, in these heat radiation spacers, in order to eliminate delamination and not sacrifice thermal conductivity, a silicone solidified material is formed in a single layer, and a pressure is released by applying a pressure. In order to sometimes easily return to the original shape (improve the resilience), the silicone solidified product is constituted by three or more layers.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、更に詳しく本発明について
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0011】本発明のマトリックスであるシリコーン固
化物は高柔軟性を有するものであり、その具体例は付加
反応型シリコーンの固化物である。この付加反応型シリ
コーンとしては、一分子中にビニル基とH−Si基の両
方を有する一液型のシリコーン又は末端あるいは側鎖に
ビニル基を有するオルガノポリシロキサンと末端あるい
は側鎖に2個以上のH−Si基を有するオルガノポリシ
ロキサンとの二液性のシリコーンなどである。シリコー
ン固化物の柔軟性は、シリコーンの架橋密度、熱伝導性
フィラーの充填量によって調整することができる。
The solidified silicone as the matrix of the present invention has high flexibility, and a specific example thereof is a solidified addition reaction type silicone. Examples of the addition reaction type silicone include a one-pack type silicone having both a vinyl group and an H-Si group in one molecule or an organopolysiloxane having a vinyl group at a terminal or a side chain and two or more at the terminal or a side chain. And a two-part silicone with an organopolysiloxane having an H-Si group. The flexibility of the solidified silicone can be adjusted by the crosslink density of the silicone and the filling amount of the thermally conductive filler.

【0012】シリコーン固化物と熱伝導性フィラーの割
合は、シリコーン固化物が30〜90体積%、特に40
〜80体積%、熱伝導性フィラーが70〜10体積%、
特に60〜20体積%であることが好ましい。シリコー
ン固化物が30体積%未満、又は熱伝導性フィラーが7
0体積%をこえると、柔軟性が十分でなくなる。また、
シリコーン固化物が90体積%をこえるか、又は熱伝導
性フィラーが10体積%未満では熱伝導性が低下する。
The ratio of the solidified silicone to the thermally conductive filler is such that the solidified silicone is 30 to 90% by volume, especially 40% by volume.
~ 80% by volume, heat conductive filler is 70 ~ 10% by volume,
In particular, it is preferably from 60 to 20% by volume. Less than 30% by volume of silicone solidified material or 7 thermally conductive fillers
When the content exceeds 0% by volume, the flexibility becomes insufficient. Also,
If the solidified silicone exceeds 90% by volume, or if the amount of the thermally conductive filler is less than 10% by volume, the thermal conductivity decreases.

【0013】熱伝導性フィラーとしては、窒化硼素、窒
化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、マグネ
シア、炭化珪素、、酸化亜鉛、アルミニウム、銅、銀等
から選ばれた一種又は二種以上が使用される。熱伝導性
フィラーの形状は、球状、粉状、繊維状、針状、鱗片状
などの如何なるものでも良い。粒度は、平均粒径0.5
〜100μm程度のものが使用される。
As the thermal conductive filler, one or more selected from boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, magnesia, silicon carbide, zinc oxide, aluminum, copper, silver and the like are used. . The shape of the heat conductive filler may be any shape such as a sphere, a powder, a fiber, a needle, and a scale. Particle size, average particle size 0.5
の も の 100 μm is used.

【0014】本発明の放熱スペーサーの全体の硬度は、
アスカーC硬度で50未満、特に30以下であることが
好ましい。アスカーC硬度が50以上であると、発熱性
電子部品との密着性及び形状追従性が悪くなって放熱特
性が低下し、また発熱性電子部品に大きな圧縮力が加わ
ると損傷してしまう。
The overall hardness of the heat radiation spacer of the present invention is as follows:
The Asker C hardness is preferably less than 50, particularly preferably 30 or less. If the Asker C hardness is 50 or more, the adhesion to the heat-generating electronic component and the shape-following property are deteriorated, so that the heat radiation characteristic is reduced.

【0015】また、本発明の放熱スペーサーの熱伝導率
は、0.7W/m・K以上、特に1.0W/m・K以上
であることが好ましい。
The thermal conductivity of the heat radiation spacer of the present invention is preferably 0.7 W / m · K or more, particularly preferably 1.0 W / m · K or more.

【0016】本発明の放熱スペーサーの厚みとしては、
0.5〜20mmが一般的である。また、その平面形状
は、三角形、四角形、五角形等の多角形、円形、楕円形
など特に制約はなく、更にはその表面は球面状などの曲
面を持ったものであってもよい。
The thickness of the heat radiation spacer of the present invention is as follows.
0.5 to 20 mm is common. The planar shape is not particularly limited, such as a polygon such as a triangle, a quadrangle, and a pentagon, a circle, an ellipse, and the like, and the surface may have a curved surface such as a spherical surface.

【0017】本発明は、このような放熱スペーサーにお
いて、その厚み方向におけるアスカーC硬度の硬度差が
20以下(0は含まず)となる部分を少なくとも一箇所
を設けることによって、高柔軟性と高熱伝導性を保持し
たままで取扱い性を改良したことが大きな特徴である。
硬度差は、放熱スペーサーから隣接する二つの放熱スペ
ーサー層部分を切り出し、そのアスカーC硬度を測定す
ることによって、確認することができる。
According to the present invention, such a heat radiation spacer is provided with at least one portion having a hardness difference of Asker C hardness of 20 or less (not including 0) in the thickness direction, thereby providing high flexibility and high heat. A major feature is that the handleability has been improved while maintaining the conductivity.
The hardness difference can be confirmed by cutting out two adjacent heat radiation spacer layers from the heat radiation spacer and measuring the Asker C hardness thereof.

【0018】本発明においては、上記硬度差が20以下
(0は含まず)となる部分を少なくとも一箇所、好まし
く二箇所以上有しているものである。二箇所以上の硬度
差を設けるには、(イ)放熱スペーサーの厚み方向に段
階的に高く又は低くして傾斜的に変化させる、(ロ)中
央部の硬度を高くし表裏両面の硬度を低くする、(ハ)
中央部の硬度を低くし表裏両面の硬度を高くすること等
によって行うことができる。(イ)によれば、高柔軟
性、高熱伝導性及び取扱い性のバランスに優れた放熱ス
ペーサーが、(ロ)によれば取扱い性と密着性に特に優
れた放熱スペーサーが、(ハ)によれば被接触部材にバ
リ等があっても裂け難くしかも高柔軟性の放熱スペーサ
ーが得られやすい。
In the present invention, at least one, preferably two or more, portions having the above hardness difference of 20 or less (excluding 0) are provided. In order to provide two or more hardness differences, (a) gradually increase or decrease in the thickness direction of the heat radiation spacer and change it incline. (B) increase the hardness of the central part and reduce the hardness of both front and back surfaces. Yes, (c)
This can be done by lowering the hardness at the center and increasing the hardness on both the front and back surfaces. According to (a), a heat radiation spacer excellent in balance between high flexibility, high thermal conductivity and handleability, and according to (b), a heat radiation spacer particularly excellent in handleability and adhesion, according to (c) In this case, even if there is a burr or the like in the contacted member, it is difficult to tear, and a heat radiation spacer having high flexibility can be easily obtained.

【0019】放熱スペーサーの厚み方向に上記硬度差を
設けるには、以下の方法を採用することができる。
The following method can be employed to provide the above hardness difference in the thickness direction of the heat radiation spacer.

【0020】(1)架橋密度及び/又は熱伝導性フィラ
ー配合量を変えて、固化後の硬度が段階的に異なる二種
又は三種以上のスラリーを調整し、真空下で脱泡後、フ
ッ素樹脂製型にそれらを順次に又は順不同に流し込んで
積層状態にした後、乾燥機、遠赤外乾燥機等で一度に硬
化させる方法。この場合には、シリコーン固化物の単層
からなる放熱スペーサーとなる。 (2)型にスラリーを流し込み、ある程度硬化させてか
ら別のスラリーを流し込んで硬化させる方法。この場合
には、別のスラリーを流し込む際、先に流し込んだスラ
リーの硬化程度に応じて、シリコーン固化物の各層の明
瞭差が異なる二層以上の多層からなる放熱スペーサーと
なる。
(1) Two or three or more slurries having different hardnesses after solidification are adjusted stepwise by changing the crosslink density and / or the amount of the thermally conductive filler, and after defoaming under vacuum, A method in which they are poured into a mold sequentially or in random order to form a laminated state, and then cured at once with a dryer, a far-infrared dryer or the like. In this case, the heat radiation spacer is formed of a single layer of the solidified silicone. (2) A method in which a slurry is poured into a mold and cured to some extent, and then another slurry is poured and cured. In this case, when another slurry is poured, a heat radiation spacer composed of two or more layers in which each layer of the solidified silicone is distinctly different depending on the degree of hardening of the previously poured slurry.

【0021】(3)上記(1)、(2)の方法におい
て、各スラリーを型に流し込む代わりにドクターブレー
ド法により塗布成形する方法。 (4)架橋密度及び/又は熱伝導性フィラー配合量の異
なる二種又は三種以上の混練物を多軸式スクリューから
押出し、それらを金型で集束一体化してからベルト式乾
燥機等で硬化させる方法。この場合には、シリコーン固
化物の単層からなる放熱スペーサーとなりやすい。
(3) In the above methods (1) and (2), each slurry is coated and formed by a doctor blade method instead of being poured into a mold. (4) Two or three or more kinds of kneaded materials having different crosslink densities and / or heat conductive filler compounding amounts are extruded from a multi-screw screw, bundled and integrated by a mold, and then cured by a belt dryer or the like. Method. In this case, the heat radiation spacer is likely to be a single layer of the solidified silicone.

【0022】(5)熱伝導性フィラーをシートの厚み方
向に傾斜的に量を変えて型に充填しておき、架橋密度が
同じか又は異なるスラリーないしはこれらに更に熱伝導
性フィラーの配合されたスラリーを順次に又は順不同に
流し込んでから硬化させる方法。この場合には、シリコ
ーン固化物の単層からなる放熱スペーサーとなる。 (6)平均粒子径が20〜100μm程度の粒径の大き
な熱伝導性フィラーを配合したスラリー又は混練物と、
平均粒径が20μm未満の熱伝導性フィラーを配合した
スラリー又は混練物とを調製しておき、上記(1)〜
(5)に準じて、流し込み成形、ドクターブレード成
形、又は押出し成形する方法。 (7)一種類のスラリーを、型に流し込むか又はドクタ
ーブレード法により塗布し、粒子の大きな熱伝導性フィ
ラーが沈降するまで室温に放置後、乾燥機、遠赤外乾燥
機等で硬化する方法。この場合には、シリコーン固化物
の単層からなる放熱スペーサーとなる。
(5) The heat-conductive filler is filled in a mold in such a manner that the amount of the heat-conductive filler is changed in an inclined manner in the thickness direction of the sheet. A method in which slurries are poured sequentially or in any order and then cured. In this case, the heat radiation spacer is formed of a single layer of the solidified silicone. (6) a slurry or kneaded mixture containing a large thermally conductive filler having a particle diameter of about 20 to 100 μm,
A slurry or a kneaded material containing a thermally conductive filler having an average particle size of less than 20 μm is prepared in advance and the above (1) to
A method of casting, doctor blade molding, or extrusion molding according to (5). (7) A method in which one kind of slurry is poured into a mold or applied by a doctor blade method, left at room temperature until a large-particle heat conductive filler settles, and then cured with a dryer, a far-infrared dryer, or the like. . In this case, the heat radiation spacer is formed of a single layer of the solidified silicone.

【0023】これらの場合において、スラリ−又は混練
物の粘度は、流し込み成形法又はドクターブレード法の
場合は10万cps以下、特に2万cps以下、押出し
成形法の場合は10万cps以上であることが望まし
い。増粘に際しては、十〜数百μmのシリコーン微粉や
アエロジル等の超微粉などが使用される。
In these cases, the viscosity of the slurry or the kneaded material is 100,000 cps or less, particularly 20,000 cps or less in the case of the casting method or the doctor blade method, and 100,000 cps or more in the case of the extrusion molding method. It is desirable. At the time of thickening, tens to hundreds of μm of silicone fine powder or ultra-fine powder such as Aerosil are used.

【0024】上記のしたように、本発明の放熱スペーサ
ーにおいては、そのシリコーン固化物の層は、単層又は
二層以上の多層のいずれであってもよいが、単層又は三
層以上の多層であることが好ましい。単層の場合は、放
熱スペーサーの製造が比較的容易であり、層間剥離の心
配はない。また、三層以上の多層の場合には、熱伝導
性、強度、その他の特性の異なる組み合わせが可能とな
り、目的に応じた多種の放熱スペーサーの製造が容易と
なる。しかも、押圧を加えそれを解放したときに元の形
状への戻りやすさ(復元性)が単層よりも優れることが
多い。
As described above, in the heat radiation spacer of the present invention, the layer of the solidified silicone may be a single layer or a multilayer of two or more layers, but may be a single layer or a multilayer of three or more layers. It is preferred that In the case of a single layer, the manufacture of the heat radiation spacer is relatively easy, and there is no fear of delamination. In the case of three or more layers, different combinations of thermal conductivity, strength, and other properties are possible, and it becomes easy to manufacture various kinds of heat radiation spacers according to the purpose. In addition, it is often easier to return to the original shape (restorability) when a pressure is applied and released, than a single layer.

【0025】[0025]

【実施例】以下、実施例と比較例をあげてさらに具体的
に本発明を説明する。
The present invention will be described below more specifically with reference to examples and comparative examples.

【0026】実施例1 この例は、熱伝導性フィラーの配合量が同じでシリコー
ン固化物の架橋密度が異なる二種類のスラリーを用いて
放熱スペーサーを製造した例である。すなわち、シリコ
ーンA液(ビニル基を有するオルガノポリシロキサン)
とシリコーンB液(H−Si基を有するオルガノポリシ
ロキサン)との二液性の付加反応型シリコーン(東レダ
ウコーニング社製商品名「CY52−283」)を、A
液対B液の混合比を表1に示す割合(体積%)とし、こ
れに平均粒子径17μmのアルミナ(住友化学社製商品
名「AS−30」)、平均粒子径28μmの窒化珪素
(電気化学工業社製商品名「F−2」)を表1に示す割
合で混合し、スラリー1及びスラリー3を調製した。
Example 1 In this example, a heat-radiating spacer was manufactured using two types of slurries having the same blending amount of the heat conductive filler and different crosslink densities of the solidified silicone. That is, silicone A liquid (organopolysiloxane having a vinyl group)
And a silicone B liquid (organopolysiloxane having an H-Si group), a two-part addition reaction type silicone (trade name "CY52-283" manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.)
The mixing ratio of the liquid to the liquid B was set to the ratio (vol%) shown in Table 1, and alumina (average particle size: 17 μm, “AS-30” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and silicon nitride having an average particle size of 28 μm (electric Slurry 1 and Slurry 3 were prepared by mixing at a ratio shown in Table 1 with trade name “F-2” manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.

【0027】ドクターブレード法により、まずスラリー
1を塗布後、それを硬化させる前に速やかにスラリー3
をその上に塗布した。塗布厚みは表1に示した。次い
で、これを遠赤外乾燥機で150℃×10分間加熱し、
更に熱風乾燥機で150℃×22時間加熱してシリコー
ンを固化させ、放熱スペーサーを製造した。
According to the doctor blade method, first, after the slurry 1 is applied, the slurry 3 is immediately slurried before it is cured.
Was applied thereon. The coating thickness is shown in Table 1. Next, this was heated in a far-infrared dryer at 150 ° C. × 10 minutes,
Further, the silicone was solidified by heating at 150 ° C. × 22 hours with a hot air drier to produce a heat radiation spacer.

【0028】実施例2〜4 この例は、熱伝導性フィラーの配合量とシリコーン固化
物の架橋密度が異なる二種類のスラリーを用いて放熱ス
ペーサーを製造した例である。すなわち、シリコーンA
液とシリコーンB液の混合比を表1に示す割合(体積
%)とし、これにアルミナ「AS−30」、窒化珪素
「F−2」を表1に示す割合で混合し、スラリー1及び
スラリー3を調製した。
Examples 2 to 4 In this example, heat radiation spacers were produced using two types of slurries having different amounts of the thermally conductive filler and different crosslink densities of the solidified silicone. That is, silicone A
The mixing ratio of the liquid and the silicone B liquid was set to the ratio (% by volume) shown in Table 1, and alumina “AS-30” and silicon nitride “F-2” were mixed at the ratio shown in Table 1, and the slurry 1 and the slurry 1 were mixed. 3 was prepared.

【0029】実施例2では、これらのスラリーを用いた
こと以外は、実施例1と同様にして放熱スペーサーを製
造した。実施例3〜4では、まずスラリー1を塗布後、
それを硬化させる前に速やかにスラリー3をその上に塗
布し、更にそれを硬化させる前に速やかにスラリー1を
再びその上に塗布したこと以外は、実施例1と同様にし
て放熱スペーサーを製造した。
In Example 2, a radiating spacer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that these slurries were used. In Examples 3 and 4, after applying the slurry 1 first,
The heat radiation spacer was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the slurry 3 was immediately applied thereon before being cured, and the slurry 1 was immediately applied again thereon before being cured. did.

【0030】実施例5 この例は、一種類のスラリーを用いて本発明の放熱スペ
ーサーを製造した例である。すなわち、実施例1と同じ
シリコーンA液とシリコーンB液を使用し、これに平均
粒子径10μmのアルミナ(住友化学社製商品名「AS
−50」)と平均粒子径50μmの球状アルミナ(昭和
電工社製商品名「CB−50」)を表1に示す割合で混
合してスラリー3を調製した。これを真空乾燥機で脱泡
後、ドクターブレード法により表1で示す厚みに塗布し
た後、室温で30分放置し、粒子径の比較的大きいアル
ミナ粒子を下部に自然沈降させた。次いで、これを遠赤
外乾燥機で150℃×10分間加熱し、更に熱風乾燥機
で150℃×22時間加熱してシリコーンを固化させ、
放熱スペーサーを製造した。
Example 5 This example is an example in which the heat radiation spacer of the present invention was manufactured using one kind of slurry. That is, the same silicone A liquid and silicone B liquid as those of Example 1 were used, and alumina having an average particle diameter of 10 μm (trade name “AS” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was used.
−50 ”) and spherical alumina having an average particle diameter of 50 μm (trade name“ CB-50 ”manufactured by Showa Denko KK) were mixed at a ratio shown in Table 1 to prepare a slurry 3. This was defoamed by a vacuum dryer, applied to a thickness shown in Table 1 by a doctor blade method, and allowed to stand at room temperature for 30 minutes to spontaneously sediment alumina particles having a relatively large particle diameter at the bottom. Next, this was heated with a far-infrared dryer at 150 ° C. × 10 minutes, and further heated with a hot-air dryer at 150 ° C. × 22 hours to solidify the silicone,
A heat radiation spacer was manufactured.

【0031】上記実施例1〜5で製造された放熱スペー
サーは、いずれも単層のシリコーン固化物からなり、し
かもその厚み方向の硬度差は、実施例1、2及び5では
傾斜的に、実施例3及び4では非傾斜的に変化している
ものであった。
Each of the heat radiation spacers manufactured in Examples 1 to 5 is made of a single layer of solidified silicone, and the hardness difference in the thickness direction is inclined in Examples 1, 2 and 5. In Examples 3 and 4, the change was non-inclined.

【0032】実施例6〜7 この例は、熱伝導性フィラーの配合量とシリコーン固化
物の架橋密度が異なる三種類のスラリーを用いて放熱ス
ペーサーを製造した例である。すなわち、上記実施例で
使用したのと同じシリコーン液と熱伝導性フィラーを用
い、表1に示すスラリー1、スラリー2及びスラリー3
を調製した。
Examples 6 and 7 In this example, heat radiation spacers were manufactured using three types of slurries having different amounts of the thermally conductive filler and different crosslink densities of the solidified silicone. That is, the same silicone liquid and heat conductive filler as used in the above example were used, and the slurry 1, slurry 2, and slurry 3 shown in Table 1 were used.
Was prepared.

【0033】ドクターブレード法により、まずスラリー
1を塗布後、遠赤外乾燥機で150℃×5分間加熱した
後、その上面にスラリー2を塗布し、同じく150℃×
5分間加熱した。次いで、その上面に更にスラリー3し
た後、遠赤外乾燥機で150℃×10分間加熱し、更に
熱風乾燥機で150℃×22時間加熱してシリコーンを
固化させ、放熱スペーサーを製造した。
After applying the slurry 1 by the doctor blade method, the slurry 1 was heated at 150 ° C. × 5 minutes with a far-infrared drier, and then the slurry 2 was applied on the upper surface thereof.
Heat for 5 minutes. Next, after slurry 3 was further applied on the upper surface, the slurry was heated at 150 ° C. × 10 minutes with a far-infrared drier, and further heated at 150 ° C. × 22 hours with a hot air drier to solidify the silicone, thereby producing a heat radiation spacer.

【0034】上記実施例6〜7で製造された放熱スペー
サーは、いずれも三層のシリコーン固化物からなる多層
構造であり、しかもその厚み方向の硬度が傾斜的に変化
しているものであった。
Each of the heat radiation spacers manufactured in Examples 6 and 7 had a multilayer structure composed of three layers of solidified silicone, and the hardness in the thickness direction was inclined. .

【0035】比較例1 スラリー1のみをその塗布厚み1.5mmとしたこと以
外は、実施例2と同様にして放熱スペーサーを製造し
た。
Comparative Example 1 A heat radiation spacer was produced in the same manner as in Example 2 except that only the slurry 1 was applied in a thickness of 1.5 mm.

【0036】比較例2 スラリー3のみをその塗布厚み1.5mmとしたこと以
外は、実施例2と同様にして放熱スペーサーを製造し
た。
Comparative Example 2 A heat radiation spacer was manufactured in the same manner as in Example 2 except that only the slurry 3 was applied to a thickness of 1.5 mm.

【0037】比較例3 スラリー1を塗布し、それを熱風乾燥機で150℃×2
Hr加熱硬化させて補強層を形成させた後、その上にス
ラリー3を塗布したこと以外は、実施例2と同様にして
放熱スペーサーを製造した。
Comparative Example 3 Slurry 1 was applied, and it was heated at 150 ° C. × 2 with a hot air drier.
A heat radiation spacer was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the reinforcing layer was formed by heating and curing with Hr, and then the slurry 3 was applied thereon.

【0038】比較例4 スラリー3のみをその塗布厚み1.0mmに塗布した
後、熱伝導性フィラーが下部に沈降する前に直ちにそれ
を硬化させたこと以外は、実施例5と同様にして放熱ス
ペーサーを製造した。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 The heat radiation was performed in the same manner as in Example 5 except that only the slurry 3 was applied to a thickness of 1.0 mm and then immediately cured before the thermally conductive filler settled down. A spacer was manufactured.

【0039】上記比較例1、2及び3で製造された放熱
スペーサーは、いずれも単層のシリコーン固化物からな
るものであったが、その厚み方向の硬度差はないもので
あった。また、比較例3は、補強層とシリコ−ン固化層
との硬度差が極端に異なる(アスカーCの硬度差が3
6)ものであった。
The heat radiation spacers manufactured in Comparative Examples 1, 2 and 3 were all made of a single layer of solidified silicone, but had no difference in hardness in the thickness direction. In Comparative Example 3, the hardness difference between the reinforcing layer and the silicon solidified layer was extremely different (the hardness difference of Asker C was 3
6).

【0040】比較例5 スラリー2を塗布しなかったこと以外は、実施例7と同
様にして放熱スペーサーを製造した。得られた放熱スペ
ーサーは、補強層とシリコーン固化層との硬度差が極端
に異なり、アスカーCの硬度差が30であった。
Comparative Example 5 A heat radiation spacer was produced in the same manner as in Example 7, except that the slurry 2 was not applied. In the obtained heat radiation spacer, the hardness difference between the reinforcing layer and the silicone solidified layer was extremely different, and the hardness difference of Asker C was 30.

【0041】比較例6 補強層として、0.2mmの放熱シート(電気化学工業
社製商品名「M−20」)を配置し、その上面にスラリ
ー3を塗布したこと以外は、実施例1と同様にして放熱
スペーサーを製造した。得られた放熱スペーサーは、補
強層とシリコーン固化層との硬度が極端に異なるもので
あった。
Comparative Example 6 A heat radiation sheet (trade name “M-20”, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) of 0.2 mm was disposed as a reinforcing layer, and the slurry 3 was applied on the upper surface thereof. Similarly, a heat radiation spacer was manufactured. In the obtained heat radiation spacer, the hardness of the reinforcing layer and the hardness of the silicone solidified layer were extremely different.

【0042】上記で得られた放熱スペーサーについて、
以下に従い、圧縮率、熱伝導率、アスカーC硬度、取扱
い性、層間状剥離の有無、及び復元性を測定した。それ
らの結果を表2に示す。
With respect to the heat radiation spacer obtained above,
The compressibility, thermal conductivity, Asker C hardness, handleability, presence / absence of delamination, and resilience were measured according to the following. Table 2 shows the results.

【0043】(1)圧縮率 放熱スペーサーの1cm2 の部分に、精密万能試験機
(島津製作所社製商品名「オートグラフ」)により、厚
さ方向に1kgの荷重をかけ、圧縮率(%)=圧縮変形
量(mm)×100/元の厚さ(mm)、により算出し
た。
(1) Compression Ratio A 1 kg load is applied to the 1 cm 2 portion of the heat radiation spacer in the thickness direction by a precision universal testing machine (trade name “Autograph” manufactured by Shimadzu Corporation) to reduce the compression ratio (%). = Compressive deformation (mm) x 100 / original thickness (mm).

【0044】(2)熱抵抗 放熱スペーサーをTO−3型銅製ヒーターケースと銅板
との間に挟み、厚みの20%を圧縮した後、銅製ヒータ
ーケースに電力5Wをかけて4分間保持し、銅製ヒータ
ーケースと銅板との温度差(℃)を測定した。そして、
熱抵抗(℃/W)=温度差(℃)/電力(W)、により
熱抵抗を算出し、この値を用い、熱伝導率(W/m・
K)=厚み(m)/〔熱抵抗(K/W)×測定面積(m
2 )〕、により熱伝導率を算出した。
(2) Thermal Resistance A heat radiation spacer is sandwiched between a TO-3 type copper heater case and a copper plate, and after compressing 20% of the thickness, 5 W of electric power is applied to the copper heater case and held for 4 minutes. The temperature difference (° C.) between the heater case and the copper plate was measured. And
The thermal resistance is calculated by the following equation: thermal resistance (° C./W)=temperature difference (° C.) / Power (W), and the thermal conductivity (W / m ·
K) = thickness (m) / [thermal resistance (K / W) × measured area (m
2 )], the thermal conductivity was calculated.

【0045】(3)アスカーC硬度 放熱スペーサー全体の硬度を測定すると共に、放熱スペ
ーサーをその厚みを約4分割にスライスし、得られたそ
れぞれの放熱スペーサー部分を厚み12mmをこえる最
小値に積層した後、アスカーC硬度計により、放熱スペ
ーサーの厚み方向4区分(上の区分、中上の区分、中下
の区分、下の区分)における硬度を荷重1kgで測定し
た。
(3) Asker C Hardness The hardness of the entire heat-radiating spacer was measured, and the heat-radiating spacer was sliced into approximately four divided thicknesses. Thereafter, the hardness of the heat dissipation spacer in four sections in the thickness direction (upper section, middle upper section, middle lower section, lower section) was measured with an Asker C hardness meter at a load of 1 kg.

【0046】(4)取扱い性 放熱スペーサーの取扱い性(ハンドリング性)を指触に
より判定した。 「○」:ハンドリング性が良く、手で持ち上げても変形
せず。 「×」:ハンドリング性が悪く、手で持ち上げると変形
する。
(4) Handling Property The handling property (handling property) of the heat radiation spacer was determined by finger touch. "O": Good handling, no deformation even when lifted by hand. “×”: Poor handling, deformed when lifted by hand.

【0047】(5)層間剥離の有無 層間剥離が生じるか、手で放熱スペーサー上下を引張り
判定した。 「○」:層間剥離しない。 「×」:層間剥離する。
(5) Presence or absence of delamination Whether or not delamination occurred was determined by pulling the heat radiation spacer up and down by hand. "O": No delamination. “×”: delamination occurs.

【0048】(6)復元性 放熱スペーサーの厚みが1/3になるまで圧縮した後、
圧縮を解除し、元の厚みに概ね戻るかどうかを測定し
た。 「○」:元に戻る。 「×」:元に戻らない。
(6) Restorability After compression until the thickness of the heat radiation spacer is reduced to 1/3,
The compression was released, and it was measured whether the thickness was almost returned to the original thickness. "O": Return to the original. “×”: Does not return.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明によれば、高熱伝導性と高柔軟性
を保持したままで取扱い性を改良した放熱スペーサーが
提供される。
According to the present invention, there is provided a heat radiation spacer having improved handleability while maintaining high thermal conductivity and high flexibility.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱伝導性フィラーを含有してなるシリコ
ーン固化物からなるものであって、その厚み方向におけ
るアスカーC硬度の硬度差が20以下(0は含まず)と
なる部分を少なくとも一箇所を有してなることを特徴と
する放熱スペーサー。
1. A method comprising a solidified silicone containing a thermally conductive filler, wherein at least one portion having a hardness difference of Asker C hardness of 20 or less (not including 0) in a thickness direction thereof is provided. A heat dissipating spacer, comprising:
【請求項2】 熱伝導率が0.7W/m・K以上、全体
のアスカーC硬度が50未満であることを特徴とする請
求項1記載の放熱スペーサー。
2. The heat radiation spacer according to claim 1, wherein the heat conductivity is 0.7 W / m · K or more and the Asker C hardness is less than 50.
【請求項3】 シリコーン固化物が単層から構成されて
いることを特徴とする請求項1又は2記載の放熱スペー
サー。
3. The heat radiation spacer according to claim 1, wherein the solidified silicone is composed of a single layer.
【請求項4】 シリコーン固化物が三層以上の多層から
構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の
放熱スペーサー。
4. The heat radiation spacer according to claim 1, wherein the solidified silicone is composed of three or more layers.
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