JPH11144032A - 指紋読取装置 - Google Patents
指紋読取装置Info
- Publication number
- JPH11144032A JPH11144032A JP9304487A JP30448797A JPH11144032A JP H11144032 A JPH11144032 A JP H11144032A JP 9304487 A JP9304487 A JP 9304487A JP 30448797 A JP30448797 A JP 30448797A JP H11144032 A JPH11144032 A JP H11144032A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fingerprint
- prism
- resin film
- curable resin
- light
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】指紋の密着性を向上すると共に耐久性を確保し
たプリズム面を得、指紋の隆線を正確に読み取ることに
より、指紋画像データの再現性を良好とした指紋読取装
置を提供する。 【解決手段】プリズム１に指紋４を接触させて該指紋を
光学的に読取るようにした指紋読取装置において、プリ
ズム１に入射した光が指紋４の隆線で全反射を生じさせ
ないように、指紋４を接触させるプリズム面２に紫外線
硬化型樹脂膜３を施した。
たプリズム面を得、指紋の隆線を正確に読み取ることに
より、指紋画像データの再現性を良好とした指紋読取装
置を提供する。 【解決手段】プリズム１に指紋４を接触させて該指紋を
光学的に読取るようにした指紋読取装置において、プリ
ズム１に入射した光が指紋４の隆線で全反射を生じさせ
ないように、指紋４を接触させるプリズム面２に紫外線
硬化型樹脂膜３を施した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリズムに接触さ
せた指紋を光学的に読取ることにより本人確認を行う指
紋読取装置に係るもので、個人差のある指紋の状況によ
らず、高精度の指紋の読取りを可能にした指紋読取装置
に関するものである。
せた指紋を光学的に読取ることにより本人確認を行う指
紋読取装置に係るもので、個人差のある指紋の状況によ
らず、高精度の指紋の読取りを可能にした指紋読取装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の指紋読取装置は、図３に示すよう
な直角プリズム１を用い、このプリズム１の斜面（以
下、「プリズム面２」と云う）に指を接触させて光源か
らの入射光５を入射させると、プリズム面２で反射され
る光と反射されない光が生じ、それによる反射光６の模
様を受光部７で受光することにより、指紋パターンとし
て認識するようにしている。
な直角プリズム１を用い、このプリズム１の斜面（以
下、「プリズム面２」と云う）に指を接触させて光源か
らの入射光５を入射させると、プリズム面２で反射され
る光と反射されない光が生じ、それによる反射光６の模
様を受光部７で受光することにより、指紋パターンとし
て認識するようにしている。
【０００３】即ち、図４に示すように、光源からの入射
光５がプリズム面２に入射すると、この面に接触する指
紋４の隆線を成す凸部では反射されず、プリズム面２に
接触しない指紋４の凹部では空気層９に面するために反
射されず、このような反射光６の模様を受光部７で受光
することにより指紋パターンを認識するのである。
光５がプリズム面２に入射すると、この面に接触する指
紋４の隆線を成す凸部では反射されず、プリズム面２に
接触しない指紋４の凹部では空気層９に面するために反
射されず、このような反射光６の模様を受光部７で受光
することにより指紋パターンを認識するのである。
【０００４】上記の指紋読取装置におけるプリズム１に
おいて、読む取るべき指紋４が乾燥している場合には、
図５に示すように、指紋４とプリズム１のプリズム面２
との間に空気が混入し、そのために生じた空気層９に当
たった入射光５が全反射を起こすため、指紋パターンを
受光部７で正確に読み取ることが困難となる。
おいて、読む取るべき指紋４が乾燥している場合には、
図５に示すように、指紋４とプリズム１のプリズム面２
との間に空気が混入し、そのために生じた空気層９に当
たった入射光５が全反射を起こすため、指紋パターンを
受光部７で正確に読み取ることが困難となる。
【０００５】そこで、従来の指紋読取装置においては、
プリズム１のプリズム面２と指紋４との密着性を高める
ため、プリズム面２上に、特願平９−１３５１８９号公
報のようにシリコーン弾性体を施したり、特開平５−２
４２２２９号公報のように、ウレタン弾性体を施すこと
が行われている。
プリズム１のプリズム面２と指紋４との密着性を高める
ため、プリズム面２上に、特願平９−１３５１８９号公
報のようにシリコーン弾性体を施したり、特開平５−２
４２２２９号公報のように、ウレタン弾性体を施すこと
が行われている。
【０００６】ところが、上記のプリズム面２の弾力性を
高めたものは、摩擦によってこのプリズム面２が傷つき
やすく、この傷のために入射光が乱反射して正確な指紋
パターンが得られないという問題点があった。
高めたものは、摩擦によってこのプリズム面２が傷つき
やすく、この傷のために入射光が乱反射して正確な指紋
パターンが得られないという問題点があった。
【０００７】また、プリズム面２に上記の弾性体を形成
するのに、常温では時間がかかり、加熱硬化では熱エネ
ルギーを必要とするため、生産性において満足のいくも
のではなかった。
するのに、常温では時間がかかり、加熱硬化では熱エネ
ルギーを必要とするため、生産性において満足のいくも
のではなかった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解消するために成されたもので、指紋の密着性を向
上すると共に耐久性を確保したプリズム面を得、指紋の
隆線を正確に読み取ることにより、指紋画像データの再
現性を良好とした指紋読取装置を提供することを目的と
する。
点を解消するために成されたもので、指紋の密着性を向
上すると共に耐久性を確保したプリズム面を得、指紋の
隆線を正確に読み取ることにより、指紋画像データの再
現性を良好とした指紋読取装置を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の指紋読取装置は、プリズムに指紋を接触
させて該指紋を光学的に読取るようにした指紋読取装置
において、前記プリズムに入射した光が指紋の隆線で全
反射を生じさせないように、指紋を接触させるプリズム
面上に紫外線硬化型樹脂膜を施したものである。
めに、本発明の指紋読取装置は、プリズムに指紋を接触
させて該指紋を光学的に読取るようにした指紋読取装置
において、前記プリズムに入射した光が指紋の隆線で全
反射を生じさせないように、指紋を接触させるプリズム
面上に紫外線硬化型樹脂膜を施したものである。
【００１０】また、前記紫外線硬化型樹脂膜は、表面層
の硬度よりも内部層の硬度が低くなるように形成される
のがよい。
の硬度よりも内部層の硬度が低くなるように形成される
のがよい。
【００１１】また、前記紫外線硬化型樹脂膜は、酸素阻
害性のない表面硬化性に優れたジシクロペンタニル基を
有するアクリレート化合物を１０〜８０％含有するのが
よい。
害性のない表面硬化性に優れたジシクロペンタニル基を
有するアクリレート化合物を１０〜８０％含有するのが
よい。
【００１２】さらに、前記紫外線硬化型樹脂膜は、抗菌
添加剤を含有するのがよい。
添加剤を含有するのがよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
【００１４】図１は本発明による指紋読取装置のプリズ
ムに指の指紋を接触させて光源からの光を入射した状況
を示す側面図である。図２は本発明によるプリズム面に
接触した指紋の一つの隆線を示す部分拡大図である。
ムに指の指紋を接触させて光源からの光を入射した状況
を示す側面図である。図２は本発明によるプリズム面に
接触した指紋の一つの隆線を示す部分拡大図である。
【００１５】図１に示すように、指紋読取装置において
指紋４を接触させるプリズム１のプリズム面２に紫外線
硬化型樹脂膜３を施している。
指紋４を接触させるプリズム１のプリズム面２に紫外線
硬化型樹脂膜３を施している。
【００１６】この紫外線硬化型樹脂膜３としては、ウレ
タンアクリレート或はポリエステルアクリレートに酸素
阻害性のない表面硬化性に優れたジシクロペンタニル基
を有するアクリレート化合物を１０〜８０％含有したも
のを樹脂液に用いる。このような樹脂液は上記のアクリ
レート化合物を含むことによって、酸素中でべたつきが
少なく、その分、表面硬度性に優れるものである。
タンアクリレート或はポリエステルアクリレートに酸素
阻害性のない表面硬化性に優れたジシクロペンタニル基
を有するアクリレート化合物を１０〜８０％含有したも
のを樹脂液に用いる。このような樹脂液は上記のアクリ
レート化合物を含むことによって、酸素中でべたつきが
少なく、その分、表面硬度性に優れるものである。
【００１７】また、この樹脂液をプリズム面２に塗布し
て紫外線を３０秒間照射することにより樹脂膜３を形成
する。このような膜形成により、表面層の硬度よりも内
部層の硬度が低くなるように形成することができる。
て紫外線を３０秒間照射することにより樹脂膜３を形成
する。このような膜形成により、表面層の硬度よりも内
部層の硬度が低くなるように形成することができる。
【００１８】また、上記の膜形成において、紫外線硬化
型樹脂膜３の表面硬度をショアーＡで５０前後、内部の
硬度を３０〜４０程度に柔らかく形成すると、指紋４の
隆線が樹脂膜３に対してより密着しやすくなる。
型樹脂膜３の表面硬度をショアーＡで５０前後、内部の
硬度を３０〜４０程度に柔らかく形成すると、指紋４の
隆線が樹脂膜３に対してより密着しやすくなる。
【００１９】即ち、紫外線硬化型樹脂膜３の内部の柔ら
かさによって樹脂膜全体は適度の弾性を有するため、指
紋４との密着性を確保することができ、しかも、その表
面はべたつきのない耐摩耗性に優れた高硬度の被膜を有
するものとなる。
かさによって樹脂膜全体は適度の弾性を有するため、指
紋４との密着性を確保することができ、しかも、その表
面はべたつきのない耐摩耗性に優れた高硬度の被膜を有
するものとなる。
【００２０】従って、図２に示すように、指紋４とプリ
ズム面２との間に空気が混入し難く、指紋４の凸部との
接触面では入射光５が全反射を起こすことなく、指紋４
の凹部の空気層９で反射された反射光６を受光部７で正
確に読み取ることが可能となる。
ズム面２との間に空気が混入し難く、指紋４の凸部との
接触面では入射光５が全反射を起こすことなく、指紋４
の凹部の空気層９で反射された反射光６を受光部７で正
確に読み取ることが可能となる。
【００２１】さらに、上記の紫外線硬化型樹脂膜３は、
透明性、耐摩擦性、読取効果に優れるほか、非常に短時
間に作成されるため、生産性、省エネルギーに優れると
いう利点を有するものである。
透明性、耐摩擦性、読取効果に優れるほか、非常に短時
間に作成されるため、生産性、省エネルギーに優れると
いう利点を有するものである。
【００２２】また、上記の紫外線硬化型樹脂膜３に、そ
の屈折率を下げない程度の透明性、密度の揺らぎを光学
精度上変化させないようにした抗菌添加剤を混入させる
ことにより、不特定多数の人の指が触れるプリズム１の
読取面に衛生的な被膜を施すことが可能となる。
の屈折率を下げない程度の透明性、密度の揺らぎを光学
精度上変化させないようにした抗菌添加剤を混入させる
ことにより、不特定多数の人の指が触れるプリズム１の
読取面に衛生的な被膜を施すことが可能となる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の指紋読取
装置は、プリズムの表面に、指紋の隆線に密着して空気
の混入を防ぐようにした適度の弾性を有する紫外線硬化
型樹脂膜を施したため、指紋が乾燥質であっても指紋の
隆線を正確に読み取ることが可能となり、個人差のある
指紋の状況によらず、高精度の指紋の読取りを可能にし
た指紋読取装置を構成することが可能となる。
装置は、プリズムの表面に、指紋の隆線に密着して空気
の混入を防ぐようにした適度の弾性を有する紫外線硬化
型樹脂膜を施したため、指紋が乾燥質であっても指紋の
隆線を正確に読み取ることが可能となり、個人差のある
指紋の状況によらず、高精度の指紋の読取りを可能にし
た指紋読取装置を構成することが可能となる。
【００２４】また、プリズムの表面の紫外線硬化型樹脂
膜の表面は耐摩耗性に優れた硬度を有するため傷つきに
くく、耐久性に優れたものとなる。
膜の表面は耐摩耗性に優れた硬度を有するため傷つきに
くく、耐久性に優れたものとなる。
【００２５】さらに、プリズムの表面層を成す紫外線硬
化型樹脂膜に抗菌添加剤を混入させることにより、プリ
ズムの読取面に衛生的な被膜を施すことが可能となる。
不特定多数の人の指が触れるプリズムの読取面に衛生的
な被膜を施すことが可能となる。
化型樹脂膜に抗菌添加剤を混入させることにより、プリ
ズムの読取面に衛生的な被膜を施すことが可能となる。
不特定多数の人の指が触れるプリズムの読取面に衛生的
な被膜を施すことが可能となる。
【図１】図１は本発明による指紋読取装置のプリズムに
指の指紋を接触させて光源からの光を入射した状況を示
す側面図である。
指の指紋を接触させて光源からの光を入射した状況を示
す側面図である。
【図２】図２は本発明によるプリズム面に接触した指紋
の一つの隆線を示す部分拡大図である。
の一つの隆線を示す部分拡大図である。
【図３】図３は従来のプリズムに指の指紋を接触させて
光源からの光を入射した状況を示す側面図である。
光源からの光を入射した状況を示す側面図である。
【図４】図４は従来のプリズム面に指紋の隆線を接触さ
せた状況を示す部分拡大図である。
せた状況を示す部分拡大図である。
【図５】図５は従来のプリズム面に接触した指紋の一つ
の隆線を示す部分拡大図である。
の隆線を示す部分拡大図である。
１…プリズム ２…プリズム面 ３…紫外線硬化型樹脂膜 ４…指紋 ５…入射光 ６…反射光 ７…受光部 ９…空気層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年１１月１４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】即ち、図４に示すように、光源からの入射
光５がプリズム面２に入射すると、この面に接触する指
紋４の隆線を成す凸部では反射されず、プリズム面２に
接触しない指紋４の谷線を成す凹部では空気層９に面す
るために反射され、このような反射光６の模様を受光部
７で受光することにより指紋パターンを認識するのであ
る。
光５がプリズム面２に入射すると、この面に接触する指
紋４の隆線を成す凸部では反射されず、プリズム面２に
接触しない指紋４の谷線を成す凹部では空気層９に面す
るために反射され、このような反射光６の模様を受光部
７で受光することにより指紋パターンを認識するのであ
る。
Claims (4)
- 【請求項１】プリズムに指紋を接触させて該指紋を光学
的に読取るようにした指紋読取装置において、前記プリ
ズムに入射した光が指紋の隆線で全反射を生じさせない
ように、指紋を接触させるプリズム面上に紫外線硬化型
樹脂膜を施したことを特徴とする指紋読取装置。 - 【請求項２】前記紫外線硬化型樹脂膜は、表面層の硬度
よりも内部層の硬度が低くなるように形成されたことを
特徴とする請求項１記載の指紋読取装置。 - 【請求項３】前記紫外線硬化型樹脂膜は、酸素阻害性の
ない表面硬化性に優れたジシクロペンタニル基を有する
アクリレート化合物を１０〜８０％含有することを特徴
とする請求項１記載の指紋読取装置。 - 【請求項４】前記紫外線硬化型樹脂膜は、抗菌添加剤を
含有することを特徴とする請求項１記載の指紋読取装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9304487A JPH11144032A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 指紋読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9304487A JPH11144032A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 指紋読取装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144032A true JPH11144032A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17933632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9304487A Pending JPH11144032A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 指紋読取装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144032A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001067390A1 (fr) * | 2000-03-08 | 2001-09-13 | Seiko Instruments Inc. | Lecteur d'image |
| WO2005078660A1 (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Lite-On Japan Ltd. | 指紋画像入力装置 |
-
1997
- 1997-11-06 JP JP9304487A patent/JPH11144032A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001067390A1 (fr) * | 2000-03-08 | 2001-09-13 | Seiko Instruments Inc. | Lecteur d'image |
| WO2005078660A1 (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Lite-On Japan Ltd. | 指紋画像入力装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041104 |