JPH11142870A - Transmission type liquid crystal display element - Google Patents

Transmission type liquid crystal display element

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JPH11142870A
JPH11142870A JP30818997A JP30818997A JPH11142870A JP H11142870 A JPH11142870 A JP H11142870A JP 30818997 A JP30818997 A JP 30818997A JP 30818997 A JP30818997 A JP 30818997A JP H11142870 A JPH11142870 A JP H11142870A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
transparent
crystal display
substrate
display element
Prior art date
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Application number
JP30818997A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Yamada
直木 山田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type liquid crystal display element capable of improving picture quality by uniforming relation (VT characteristic) between voltage and a transmission factor and preventing the generation of short-circuit between transparent electrodes. SOLUTION: The transmission type liquid crystal display element 20 is provided with a transparent substrate 21, a counter substrate 22 arranged oppositely to the substrate 21 as a light exist side, transparent electrodes 23, 32 respectively formed on the substrates 21, 22, and a liquid crystal layer 34 formed in a gap between both the substrates 21, 22. A flattened film 31 is formed on the substrate 21 on the inside of the electrode 23. The surface of the film 31 is flattened by polishing processing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板側から対
向基板側に光を出射する透過型液晶表示素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transmission type liquid crystal display device which emits light from a transparent substrate to a counter substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、低消費電力、低電圧動作、軽量、
薄型、カラー表示などを特徴とする液晶ディスプレイ
は、パーソナルコンピューターやビデオ機器などへその
用途を拡大している。このような液晶ディスプレイを形
成するための液晶表示素子としては、従来、例えば図4
に示す構成のものが知られている。図4において符号1
は透過型液晶表示素子(以下、液晶表示素子と略称す
る)であり、この液晶表示素子1は、アクティブマトリ
ックス方式を採用したもので、透明基板2と対向基板3
とが所定の間隙を介して互いに対向した状態に配置さ
れ、構成されたものである。
2. Description of the Related Art In recent years, low power consumption, low voltage operation, light weight,
Liquid crystal displays characterized by thinness, color display, and the like are expanding their applications to personal computers and video equipment. Conventionally, as a liquid crystal display element for forming such a liquid crystal display, for example, FIG.
Is known. In FIG.
Denotes a transmissive liquid crystal display element (hereinafter abbreviated as a liquid crystal display element). The liquid crystal display element 1 employs an active matrix system, and includes a transparent substrate 2
Are arranged so as to face each other with a predetermined gap therebetween.

【0003】透明基板2は、図示しないバックライトの
内側(光出射側)に配設された石英製のもので、各画素
毎に形成された多数の透明電極4…、およびこれら透明
電極4…を駆動する薄膜トランジスタ(TFT)からな
るスイッチング素子5…を備えたものである。
The transparent substrate 2 is made of quartz disposed inside a backlight (not shown) (light emission side), and includes a large number of transparent electrodes 4 formed for each pixel and these transparent electrodes 4. Are provided with switching elements 5 composed of thin film transistors (TFTs) for driving.

【0004】スイッチング素子5は、透明基板2上に形
成されたベース6と、このベース6上に絶縁膜(図示
略)を介して形成されたコレクタ7と、このコレクタ7
の側方に形成されたゲート8とを有して構成されたもの
である。透明電極4は、このスイッチング素子5のベー
ス6に電気的に接続して形成されたITO等の透明導電
材料からなるものであり、この透明電極4の表面にはポ
リイミド等からなる配向膜9が設けられている。
The switching element 5 includes a base 6 formed on the transparent substrate 2, a collector 7 formed on the base 6 via an insulating film (not shown), and a collector 7.
And a gate 8 formed on the side of the gate. The transparent electrode 4 is made of a transparent conductive material such as ITO formed by being electrically connected to the base 6 of the switching element 5, and an alignment film 9 made of polyimide or the like is formed on the surface of the transparent electrode 4. Is provided.

【0005】また、透明基板2には、そのスイッチング
素子5の形成に際して第1層間絶縁膜10、第2層間絶
縁膜11が設けられている。これら第1層間絶縁膜1
0、第2層間絶縁膜11は、例えばPSG(リンシリケ
ートガラス)からなるもので、スイッチング素子5の各
構成要素を他の構成要素から電気的に分離し、あるいは
電気的に接続させるために設けられたものである。
The transparent substrate 2 is provided with a first interlayer insulating film 10 and a second interlayer insulating film 11 when the switching element 5 is formed. These first interlayer insulating films 1
0, the second interlayer insulating film 11 is made of, for example, PSG (phosphosilicate glass), and is provided to electrically separate each component of the switching element 5 from other components or to electrically connect the components. It was done.

【0006】第2層間絶縁膜11の上には平坦化膜12
が形成されている。平坦化膜12はBPSG(ホウ素リ
ンシリケートガラス)等からなるもので、加熱リフロー
処理によって平坦化されたもの又はスピンコートされた
透明レジスト膜である。そして、このように平坦化膜1
2が形成されていることにより、特にスイッチング素子
5によって生じた透明基板2上での凹凸の度合いはかな
り小さくなっている。
A planarizing film 12 is formed on the second interlayer insulating film 11.
Are formed. The flattening film 12 is made of BPSG (boron phosphorus silicate glass) or the like, and is a flattened by heat reflow treatment or a spin-coated transparent resist film. Then, as described above, the planarizing film 1 is formed.
Due to the formation of 2, the degree of unevenness particularly on the transparent substrate 2 caused by the switching element 5 is considerably reduced.

【0007】対向基板3は、光の出射側に配置されるも
ので、その内面(透明基板2側の面)側にはITO等の
透明導電性膜からなる透明電極13、ポリイミド等から
なる配向膜14がこの順に形成配置されている。また、
前記透明基板2と対向基板3との間隙には液晶層15が
設けられている。この液晶層15は配向膜9、14によ
って一軸方向に配向させられたもので、透明電極4と透
明電極13との間に電圧が印加されることにより、その
配向方向が変わるものとなっている。そして、これによ
りバックライト(図示略)から透明基板2を経て入射し
た光は、その透過、遮断(吸収)が液晶層15によって
調整されるようになっている。
The opposing substrate 3 is disposed on the light emitting side, and has a transparent electrode 13 made of a transparent conductive film such as ITO and an orientation made of polyimide or the like on its inner surface (the surface on the transparent substrate 2 side). The films 14 are formed and arranged in this order. Also,
A liquid crystal layer 15 is provided in a gap between the transparent substrate 2 and the counter substrate 3. The liquid crystal layer 15 is uniaxially oriented by the orientation films 9 and 14, and its orientation changes when a voltage is applied between the transparent electrode 4 and the transparent electrode 13. . Thus, the transmission and blocking (absorption) of light incident from the backlight (not shown) via the transparent substrate 2 is adjusted by the liquid crystal layer 15.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
液晶表示素子1では、スイッチング素子5や各種の配線
(図示略)などの影響により、平坦化膜12である程度
平坦化しているにもかかわらず透明電極4表面の平坦性
が悪くなっている。そして、このように透明電極4表面
の平坦性が悪くなっていることから、単一の画素内の液
晶層15中において、図4中T1 で示す液晶の厚みとT
2 で示す液晶の厚みとが異なってしまい、これによりV
T特性が均一でなくなり、透過率が単一画素内で不均一
になってしまう。
By the way, in such a liquid crystal display element 1, the liquid crystal display element 1 is flattened to some extent by the flattening film 12 due to the influence of the switching element 5 and various wirings (not shown). The flatness of the surface of the transparent electrode 4 is poor. Then, from the fact that in this way it has poor flatness of the transparent electrode 4 surface, in a liquid crystal layer 15 in a single pixel, and the thickness of the liquid crystal shown in Figure 4 in T 1 T
Become different and the liquid crystal thickness indicated by 2, thereby V
The T characteristic is not uniform, and the transmittance is non-uniform within a single pixel.

【0009】すなわち、下地の影響によって透明電極4
の表面が十分に平坦でないことから、その単一の画素に
おいて、図5中に示すように透明電極13の周辺部にお
ける液晶の厚みT1 と中央部における液晶の厚みT2
が異なってしまい、これにより図6に示すように透明電
極4と透明電極13との間の電圧(V)と、透過率
(T)との関係(VT特性)が異なってしまい、同一電
圧での透過率が厚みT1 の箇所と厚みT2 の箇所とで異
なってしまうのである。
That is, the transparent electrode 4 is affected by the influence of the base.
5 is not sufficiently flat, the thickness T 1 of the liquid crystal in the peripheral portion of the transparent electrode 13 and the thickness T 2 of the liquid crystal in the central portion of the single pixel differ from each other as shown in FIG. As a result, as shown in FIG. 6, the relationship (VT characteristic) between the voltage (V) between the transparent electrode 4 and the transparent electrode 13 and the transmittance (T) differs, and the transmittance at the same voltage is reduced. it from being different between the portion and the portion of the thickness T 2 of the thickness T 1.

【0010】しかして、近年では液晶表示装置が超小型
化、超高精細化になるにつれ、このように液晶表示素子
の画素内VT特性の均一性が悪いと画質に悪影響がでて
しまい、これが品質上改善すべき課題の一つとなってい
る。また、透明電極の平面均一性が悪いと、その上の配
向膜をラビング処理した際に該配向膜とバフローラとの
間の接触均一性が悪くなり、局所的にバフカスが多く発
生して隣接画素間で透明電極どうしがショートしてしま
うおそれがある。
However, in recent years, as liquid crystal display devices have become ultra-miniaturized and ultra-high definition, poor uniformity of the VT characteristics in the pixels of the liquid crystal display element has an adverse effect on the image quality. This is one of the issues that need to be improved in quality. Also, if the uniformity of the plane of the transparent electrode is poor, the uniformity of contact between the alignment film and the buff roller is deteriorated when the alignment film on the transparent electrode is rubbed, and a large amount of buffing is locally generated to cause an adjacent pixel. The transparent electrodes may be short-circuited between them.

【0011】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、電圧と透過率との関係
(VT特性)を均一にして画質の向上を図り、かつ透明
電極間のショートを防止した透過型液晶表示素子を提供
することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to improve the image quality by making the relationship between voltage and transmittance (VT characteristics) uniform and improve the short circuit between the transparent electrodes. An object of the present invention is to provide a transmissive liquid crystal display element in which the problem is prevented.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の透過型液晶表示
素子では、透明基板と、この透明基板に対向して設けら
れた光出射側となる対向基板と、これら透明基板および
対向基板にそれぞれ形成された透明電極と、これら透明
基板と対向基板との間隙に形成された液晶層とを備えて
なり、前記透明基板にはその透明電極の内側に平坦化膜
が設けられ、該平坦化膜はその表面が研磨処理によって
平坦化されてなることを前記課題の解決手段とした。
According to the transmission type liquid crystal display device of the present invention, a transparent substrate, a counter substrate provided on the light emitting side facing the transparent substrate, and the transparent substrate and the counter substrate are respectively provided. A transparent electrode formed thereon, and a liquid crystal layer formed in a gap between the transparent substrate and the counter substrate, wherein the transparent substrate is provided with a flattening film inside the transparent electrode, Has solved the above-mentioned problem in that its surface is flattened by a polishing treatment.

【0013】この透過型液晶表示素子によれば、透明基
板における透明電極の内側に設けられた平坦化膜が、そ
の表面が研磨処理されたことによって平坦化されたもの
であることから、従来の単に加熱リフロー処理したもの
又はスピンコートされた透明レジスト膜に比べその平坦
化度が高くなり、したがってこの上に形成される透明電
極の表面の平坦化度が高くなる。
According to this transmission type liquid crystal display device, the flattening film provided inside the transparent electrode on the transparent substrate is flattened by polishing the surface thereof. The degree of planarization is higher than that of a transparent resist film simply subjected to a heat reflow treatment or spin-coated, and therefore, the degree of planarization of the surface of a transparent electrode formed thereon is increased.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の透過型液晶表示素
子を詳しく説明する。図1は本発明の透過型液晶表示素
子の一実施形態例を示す図であり、図1において符号2
0は透過型液晶表示素子である。この液晶表示素子20
は、図4に示したものと同様にアクティブマトリックス
方式を採用したものであり、透明基板21と対向基板2
2とが所定の間隙を介して互いに対向した状態に配置さ
れ、構成されたものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a transmission type liquid crystal display device of the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a view showing one embodiment of a transmissive liquid crystal display element of the present invention.
Reference numeral 0 denotes a transmission type liquid crystal display element. This liquid crystal display element 20
Adopts an active matrix method similar to that shown in FIG.
2 are arranged so as to face each other with a predetermined gap therebetween.

【0015】透明基板21は、図示しないバックライト
の内側(光出射側)に配設された石英製のもので、各画
素毎に形成された多数の透明電極23…、およびこれら
透明電極23…を駆動する薄膜トランジスタ(TFT)
からなるスイッチング素子24…を備えたものである。
The transparent substrate 21 is made of quartz disposed inside a backlight (not shown) (light emission side), and includes a large number of transparent electrodes 23 formed for each pixel and these transparent electrodes 23. Driving thin film transistor (TFT)
Are provided.

【0016】スイッチング素子24は、図4に示したも
のと同様に、透明基板21上に形成されたベース25
と、このベース25上に絶縁膜(図示略)を介して形成
されたコレクタ26と、このコレクタ26の側方に形成
されたゲート27とを有して構成されたものである。透
明電極23は、このスイッチング素子24のベース25
に電気的に接続して形成されたITO等の透明導電材料
からなるものであり、この透明電極23の表面にはポリ
イミド等からなる配向膜28が設けられている。
The switching element 24 includes a base 25 formed on a transparent substrate 21 in the same manner as shown in FIG.
And a collector 26 formed on the base 25 via an insulating film (not shown), and a gate 27 formed on the side of the collector 26. The transparent electrode 23 is a base 25 of the switching element 24.
The transparent electrode 23 is provided with an alignment film 28 made of polyimide or the like on the surface of the transparent electrode 23.

【0017】また、透明基板21には、そのスイッチン
グ素子24の形成に際して第1層間絶縁膜29、第2層
間絶縁膜30が設けられている。これら第1層間絶縁膜
29、第2層間絶縁膜30は、図4に示したものと同様
にPSG(リンシリケートガラス)等からなるものであ
り、スイッチング素子24の各構成要素を他の構成要素
から電気的に分離し、あるいは電気的に接続させるため
に設けられたものである。
The transparent substrate 21 is provided with a first interlayer insulating film 29 and a second interlayer insulating film 30 when the switching element 24 is formed. The first interlayer insulating film 29 and the second interlayer insulating film 30 are made of PSG (phosphosilicate glass) or the like as shown in FIG. 4, and each component of the switching element 24 is replaced by another component. It is provided to be electrically separated from or electrically connected to.

【0018】第2層間絶縁膜30の上には平坦化膜31
が形成されている。平坦化膜31はスピンコートされた
透明レジスト膜又はBPSG(ホウ素リンシリケートガ
ラス)等からなるもので、加熱リフロー処理された後、
あるいはリフロー処理を行うことなく直接、CMP法
(化学的機械的研磨法)等の研磨処理によって平坦化さ
れたものである。したがって、このように平坦化膜31
が研磨処理で平坦化されていることにより、この平坦化
膜31は、スイッチング素子24等によって生じた透明
基板21上での凹凸に影響されることなくその表面がほ
ぼ平坦なものとなっている。
A planarizing film 31 is formed on the second interlayer insulating film 30.
Are formed. The flattening film 31 is made of a spin-coated transparent resist film or BPSG (boron phosphorus silicate glass) or the like.
Alternatively, the surface is directly planarized by a polishing process such as a CMP (chemical mechanical polishing) method without performing a reflow process. Therefore, the flattening film 31 is thus formed.
Is flattened by the polishing process, so that the surface of the flattening film 31 is substantially flat without being affected by the irregularities on the transparent substrate 21 caused by the switching elements 24 and the like. .

【0019】対向基板22は、図4に示した液晶表示素
子1における対向基板3と同じ構成を有したガラス等の
透明基材からなるもので、その内面(透明基板21側の
面)側にITO等の透明導電性膜からなる透明電極3
2、ポリイミド等からなる配向膜33をこの順に形成配
置したものである。また、前記透明基板21と対向基板
22との間隙には液晶層34が設けられている。この液
晶層34も図4に示したものと同様に配向膜28、33
によって一軸方向に配向させられたもので、透明電極2
3と透明電極32との間に電圧が印加されることによ
り、その配向方向が変わるものとなっている。そして、
これにより透明基板21側から入射した光は、その透
過、遮断(吸収)が液晶層34によって調整されるよう
になっている。
The opposing substrate 22 is made of a transparent base material such as glass having the same structure as the opposing substrate 3 in the liquid crystal display element 1 shown in FIG. Transparent electrode 3 made of a transparent conductive film such as ITO
2. An alignment film 33 made of polyimide or the like is formed and arranged in this order. Further, a liquid crystal layer 34 is provided in a gap between the transparent substrate 21 and the counter substrate 22. The liquid crystal layer 34 also has the alignment films 28 and 33 as shown in FIG.
Are uniaxially oriented by a transparent electrode 2
When a voltage is applied between the transparent electrode 3 and the transparent electrode 32, the orientation direction is changed. And
Thus, the transmission and blocking (absorption) of the light incident from the transparent substrate 21 side is adjusted by the liquid crystal layer 34.

【0020】このような構成の液晶表示素子20では、
透明基板21における透明電極23の内側に設けられた
平坦化膜31が、その表面が研磨処理されたことによっ
て平坦化されたものであることから、従来の単に加熱リ
フロー処理したもの又はスピンコートされた透明レジス
ト膜に比べその平坦化度が高くなり、したがってこの上
に形成される透明電極23の表面の平坦化度が高くな
る。そして、このように透明電極23の表面が十分に平
坦であることから、図2に示すように液晶層34の厚み
3 がその単一の画素内において均一になり、これによ
り図3に示すようにVT特性が均一になって透過率が単
一画素内で一定となり、したがって表示画質の向上を図
ることができる。また、透明電極23の表面が十分に平
坦になるので、この透明電極23上の配向膜28をラビ
ング処理した際に局所的にバフカスがたまることがなく
なるため、隣接画素間で透明電極どうしがショートして
しまうのを効果的に防止することができる。
In the liquid crystal display element 20 having such a configuration,
Since the flattening film 31 provided inside the transparent electrode 23 of the transparent substrate 21 is flattened by polishing the surface, the conventional flattening film 31 is simply subjected to a heat reflow process or spin-coated. The flatness of the transparent resist film is higher than that of the transparent resist film, and thus the flatness of the surface of the transparent electrode 23 formed thereon is higher. Then, since in this way the surface of the transparent electrode 23 are sufficiently flat, it becomes uniform in a pixel thickness T 3 of the single crystal layer 34 as shown in FIG. 2, thereby 3 As described above, the VT characteristics become uniform, and the transmittance becomes constant within a single pixel, so that the display quality can be improved. In addition, since the surface of the transparent electrode 23 is sufficiently flat, buffing does not locally accumulate when the alignment film 28 on the transparent electrode 23 is subjected to the rubbing treatment, so that the transparent electrodes are short-circuited between adjacent pixels. Can be effectively prevented.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように本発明の透過型液晶
表示素子は、透明基板における透明電極の内側に設けら
れた平坦化膜を、その表面を研磨処理することによって
平坦化し、これにより従来の単に加熱リフロー処理した
もの又はスピンコートされた透明レジスト膜に比べその
平坦化度を高くしたものであるから、この平坦化膜の上
に形成される透明電極の表面の平坦化度を高くすること
ができ、したがって液晶層の厚みをその単一の画素内に
おいて均一にすることができ、これによりVT特性を均
一にして透過率を単一画素内で一定にし、表示画質の向
上を図ることができる。
As described above, in the transmission type liquid crystal display device of the present invention, the flattening film provided inside the transparent electrode on the transparent substrate is flattened by polishing the surface thereof, whereby the conventional liquid crystal display device has the conventional structure. The flattening degree of the surface of the transparent electrode formed on the flattening film is increased because the flattening degree of the transparent electrode film formed on the flattening film is higher than that of the transparent resist film simply subjected to heat reflow treatment or spin-coated. Therefore, the thickness of the liquid crystal layer can be made uniform within the single pixel, whereby the VT characteristics can be made uniform, the transmittance can be made constant within the single pixel, and the display quality can be improved. Can be.

【0022】また、透明電極の表面を十分に平坦にする
ので、この透明電極上の配向膜をラビング処理した際に
局所的にバフカスがたまることがなくなるため、隣接画
素間で透明電極どうしがショートしてしまうのを効果的
に防止することができる。よって、透明電極間の間隔を
狭くすることができるため、ドメインマージンを向上す
ることができる。
Also, since the surface of the transparent electrode is sufficiently flat, buffing does not locally accumulate when the alignment film on the transparent electrode is rubbed, so that the transparent electrodes are short-circuited between adjacent pixels. Can be effectively prevented. Therefore, since the interval between the transparent electrodes can be reduced, the domain margin can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における透過型液晶表示素子の一実施形
態例の概略構成を示す要部側断面図である。
FIG. 1 is a side sectional view showing a main part of a schematic configuration of an embodiment of a transmission type liquid crystal display element according to the present invention.

【図2】図1に示した透過型液晶表示素子の作用を説明
するための要部側断面図である。
FIG. 2 is a side sectional view for explaining a function of the transmission type liquid crystal display element shown in FIG. 1;

【図3】図4に示したT3 部分のV−T特性を示すグラ
フ図である。
3 is a graph showing V-T characteristics of T 3 portion shown in FIG.

【図4】従来の透過型液晶表示素子の一例の概略構成を
示す要部側断面図である。
FIG. 4 is a sectional side view of a main part showing a schematic configuration of an example of a conventional transmission type liquid crystal display element.

【図5】図4に示した透過型液晶表示素子の課題を説明
するための要部側断面図である。
FIG. 5 is a side sectional view for explaining a problem of the transmission type liquid crystal display element shown in FIG. 4;

【図6】図1に示したT1 部分とT2 部分とのV−T特
性を示すグラフ図である。
6 is a graph showing a V-T characteristic of the T 1 portion and T 2 portion shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…透過型液晶表示素子、21…透明基板、22…対
向電極、23…透明電極、31…平坦化膜、32…透明
電極、34…液晶層
Reference Signs List 20: transmissive liquid crystal display element, 21: transparent substrate, 22: counter electrode, 23: transparent electrode, 31: flattening film, 32: transparent electrode, 34: liquid crystal layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板と、この透明基板に対向して設
けられた光出射側となる対向基板と、これら透明基板お
よび対向基板にそれぞれ形成された透明電極と、これら
透明基板と対向基板との間隙に形成された液晶層とを備
えてなり、 前記透明基板にはその透明電極の内側に平坦化膜が設け
られ、 該平坦化膜はその表面が研磨処理によって平坦化されて
なることを特徴とする透過型液晶表示素子。
1. A transparent substrate, an opposing substrate provided on the transparent substrate and serving as a light emitting side, transparent electrodes respectively formed on the transparent substrate and the opposing substrate, and a transparent substrate and an opposing substrate. And a liquid crystal layer formed in a gap between the transparent substrate and the transparent substrate, wherein a flattening film is provided inside the transparent electrode, and the flattening film has a surface flattened by a polishing process. Characteristic transmission type liquid crystal display device.
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