JPH11142611A - 光学素子とその製造方法 - Google Patents

光学素子とその製造方法

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JPH11142611A
JPH11142611A JP30818497A JP30818497A JPH11142611A JP H11142611 A JPH11142611 A JP H11142611A JP 30818497 A JP30818497 A JP 30818497A JP 30818497 A JP30818497 A JP 30818497A JP H11142611 A JPH11142611 A JP H11142611A
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JP
Japan
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resin
transparent resin
refractive index
transparent
lens
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JP30818497A
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English (en)
Inventor
Nagato Osano
永人 小佐野
Junichi Sakamoto
淳一 坂本
Hiroyuki Suzuki
博幸 鈴木
Kenitsu Iwata
研逸 岩田
Fumitaka Yoshimura
文孝 吉村
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明基板表面に複数の微小レンズを配置して
なる平面レンズアレイを安価に提供する。 【解決手段】 透明基板1上に、第一の透明樹脂からな
る樹脂吸収層23を形成し、インクジェット法により、
第一の透明樹脂とは屈折率の異なる第二の透明樹脂含有
溶液22を付与して該樹脂吸収層23内に浸透させ、屈
折率分布を形成して平面微小レンズを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板上に屈折
率分布によって形成される平面微小レンズを多数配置し
た平面レンズアレイからなる光学素子を高精度に製造す
るための製造方法、及び該製造方法によって製造された
光学素子に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、マルチメディアの発展に伴い、多
数の微小レンズを平面状に配列したレンズアレイからな
る光学素子の利用も増え、その精度向上が望まれてい
る。
【0003】このような光学素子としては、例えば液晶
プロジェクタにおいて、光源と液晶の間に配置して光量
ロスを防止するもの、或いは、スクリーン表面に形成し
て像を明るくするもの、固体撮像素子上に配置して入射
光を増加させるもの、ガラスファイバの光通信素子に使
われるもの、等多くの用途に使用されている。
【0004】上記液晶プロジェクタを図3に模式的に示
す。図中、31は光源、32は集光レンズ、33は液晶
パネル、34は投射レンズ、35はスクリーンである。
液晶パネル33には一般に薄膜トランジスタ(TFT)
液晶パネルが採用されているが、TFTパネルは駆動の
ためのTFTや配線部分が遮光されるため、光が透過す
る領域が少なくなっている。そこで、図4に示すよう
に、画素の一つ一つに対応して微小レンズを透明基板上
に配置したレンズアレイ41を用いることにより、TF
Tや配線部分の遮光領域42を避け、画素の有効(透
光)領域43に光を集め、明るさを向上させている。
【0005】また、光通信の分野では、並列光ファイバ
通信に対する関心が高まっており、半導体レーザアレイ
やLEDアレイのように集積されたアレイ状のデバイス
が用いられてきている。このようなアレイ状のデバイス
を結合するためにも、レンズアレイが有効である。図5
に示すように、レンズアレイ52を用いると、集積され
た半導体レーザアレイ51とファイバアレイ53を一度
にまとめて位置合わせすることができる。
【0006】従来このような用途に用いられるレンズア
レイの製造方法としては、特公平6−24990号公報
に記載された金型を用いてガラス材料を成形する方法、
特開平8−207159号公報に記載されたスタンパと
基板の間に樹脂を挟み込み成形する方法、特開平5−1
73003号公報に記載されたフォトリソグラフィ法に
よるもの、特開平5−157924号公報に記載された
マスク開口部を通して屈折率を変化させる方法などが提
案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たレンズアレイの製造方法はいずれも、微小レンズを形
成するために型やマスクを必要とし、任意の形状、任意
の配置のレンズアレイを速やかに形成することが困難で
あった。また、用いる型やマスクの作製のために、製造
コストもかかるという問題があった。
【0008】本発明の目的は、上記問題を解決し、透明
基板上に任意の場所に任意の大きさのレンズを配置して
なるレンズアレイを安価に提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、透明基
板上に第一の透明樹脂からなる樹脂吸収層を形成し、該
樹脂吸収層にインクジェット法により上記第一の透明樹
脂とは屈折率の異なる第二の透明樹脂を含有する溶液を
付与して上記樹脂吸収層内に浸透させ、該第二の透明樹
脂含有溶液の滴下位置の中央を中心とする屈折率分布を
形成して平面微小レンズを形成することを特徴とする光
学素子である。
【0010】また本発明の第二は、透明基板上に該基板
表面に中心を有する同心の半球状に広がる屈折率分布に
よって形成される平面微小レンズを複数有し、上記製造
方法によって製造されたことを特徴とする光学素子であ
る。
【0011】本発明においては、予め第一の透明樹脂に
より樹脂吸収層を形成し、インクジェット法により、異
なる屈折率の第二の透明樹脂を付与して上記樹脂吸収層
内に浸透させることにより、第一の透明樹脂と第二の透
明樹脂の組成比分布による屈折率分布を形成し、平面微
小レンズを形成するため、任意の場所に任意の大きさで
平面微小レンズを形成することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1に本発明の光学素子の断面模
式図を示す。図中、1は透明基板、2は透明樹脂層で、
該透明樹脂層2内に平面微小レンズ3を複数有してい
る。平面微小レンズ3は、透明基板1表面に滴下した第
二の透明樹脂含有溶液の滴下位置の中央、例えばAを中
心として同心の半球状に広がる屈折率分布を有し、該屈
折率分布によって、該軸方向の光線を屈折させるレンズ
作用を有する、いわゆるグラジエントインデックスレン
ズである。
【0013】本発明の製造方法による、上記レンズの形
成の様子を図2に模式的に示す。本発明においては、先
ず透明基板1上に、第一の透明樹脂からなる樹脂吸収層
23を形成し、該樹脂吸収層23にインクジェットノズ
ルより、異なる屈折率の第二の透明樹脂含有溶液22を
付与する。第二の透明樹脂含有溶液22は樹脂吸収層2
3に付着すると層内に吸収され、浸透し、該第二の透明
樹脂含有溶液22の滴下位置の中央を中心として、第一
の透明樹脂との組成比分布が形成される。本発明におい
て2種の透明樹脂は屈折率が異なるように設定されてい
るため、当該組成比分布は最終的に屈折率分布を形成
し、微小レンズ3が形成される。
【0014】本発明において透明基板1としては、平面
に研磨された光学ガラス、またはプラスチックで所望の
光学性能を有するものを用いる。透明基板1は、表面に
形成する透明樹脂層2との密着強度を上げるために十分
に脱脂洗浄を施すことが望ましい。
【0015】上記透明基板1上に、樹脂吸収層23を形
成する。樹脂吸収層23は、後述する第二の透明樹脂を
付与した際にこれを吸収するものであり、熱や光照射等
により硬化する透明樹脂をディップ塗布法、スピン塗布
法などによって塗布して形成する。塗布後の膜は粘度が
低く流動状態でも良いが、取り扱いを容易にするため加
熱し、半硬化状態にしても良い。
【0016】本発明において樹脂吸収層23を形成する
ために用いられる第一の透明樹脂としては、ポリメチル
メタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポ
リスチレン−ポリメチルメタクリレート混合系、或いは
非晶質直鎖オレフィンポリマー、非晶質環状オレフィン
ポリマー、非晶質フッ素ポリマー等が好ましく用いられ
る。
【0017】また、インクジェット法により上記樹脂吸
収層23に付与する第二の透明樹脂は、液状でインクジ
ェットノズル21より付与し且つ樹脂吸収層23内に浸
透し得るものであり、上記第一の透明樹脂とは屈折率が
異なり、最終的に屈折率分布を形成し得るものを選択し
て用いる。具体的には、樹脂吸収層23を形成するため
に用いられる第一の透明樹脂との屈折率差が0.01以
上であるような組み合わせになることが好ましく、ポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート混合系、
或いは非晶質直鎖オレフィンポリマー、非晶質環状オレ
フィンポリマー等が好ましく用いられる。また、液状の
ポリマーはそのままで、液状でないポリマーは溶媒等に
溶解して溶液状として用いる。
【0018】本発明においては、第二の透明樹脂を複数
種用いて、同じ基板上に異なる屈折率分布を形成するこ
とも可能である。
【0019】また、インクジェット方式としては、エネ
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェ
ットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタ
イプ等が使用可能である。
【0020】上記第二の透明樹脂含有溶液22の付与量
を制御することにより、最終的に透明樹脂層2に形成さ
れる屈折率の変化量を制御することができ、所定の性能
のグラジエントインデックスレンズを得ることができ
る。例えば、孔径の大きなノズルを用いれて、大きな液
滴を付与する、或いは、同じ場所に複数回液滴を付与す
ることにより、直径の大きなレンズを形成することがで
きる。
【0021】所定の位置に第二の透明樹脂含有溶液22
を付与した樹脂吸収層23は、必要に応じて加熱または
光を照射する等の処理を施し、硬化させる。
【0022】
【実施例】[実施例1]透明基板として、平面に研磨さ
れた光学ガラスBK7を用い、アルカリ洗浄及びUVオ
ゾン処理を施した。この基板に、ポリメチルメタクリレ
ート(屈折率:1.491)を10重量%アセトン溶媒
中に溶解させた溶液を厚さ0.1μmになるように塗布
した。
【0023】上記ポリメチルメタクリレート層の所定位
置に、インクジェット法によりポリカーボネート(屈折
率:1.584)を5重量%ジエチルケトンに溶解した
溶液を1レンズ当たり95μgずつ付与した。
【0024】上記基板をホットプレートに載せ、120
℃で20分間乾燥硬化させた。このようにして得られた
平面微小レンズアレイは、屈折率1.491のポリメチ
ルメタクリレートの膜の中に、屈折率1.584のポリ
カーボネートが分散され、膜に垂直な方向の軸を中心に
屈折率の勾配のついたグラジエントインデックスレンズ
の性能を有していた。
【0025】[実施例2]実施例1と同じ基板に、フッ
素系ポリマー(旭硝子社製「サイトップCTL」,屈折
率:1.340)を10重量%フロリナート溶媒中に溶
解したものを厚さ0.2μmに塗布した。
【0026】上記フッ素系ポリマー層の所定位置に、イ
ンクジェット法によりポリメチルメタクリレート(屈折
率1.491)の5重量%キシレン溶液を1レンズ当た
り200μgずつ付与した。
【0027】上記基板をホットプレートに載せ、140
℃で30分間乾燥硬化させた。このようにして得られた
平面微小レンズアレイは、実施例1と同様の性能を有し
ていた。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、微小な
レンズを多数有するレンズアレイを、型やマスクを用い
ることなく、直接透明基板上に作製することができるの
で、任意の大きさ、任意の場所に微小レンズを有するレ
ンズアレイを安価に製造、提供することができる。ま
た、同一基板において、屈折率の異なる微小レンズを配
置することができ、多層記録媒体の書込み、読み取り用
ヘッドへの応用も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光学素子の一実施形態の断面模式図で
ある。
【図2】本発明の製造方法により微小レンズを形成する
様子を示す模式図である。
【図3】本発明の光学素子の一用途である液晶プロジェ
クタを示す模式図である。
【図4】図2に示した液晶プロジェクタの部分拡大図で
ある。
【図5】本発明の光学素子の別の用途である並列光ファ
イバを示す模式図である。
【符号の説明】
1 透明基板 2 透明樹脂層 3 微小レンズ 21 インクジェットノズル 22 第二の透明樹脂含有溶液 23 樹脂吸収層 31 光源 32 集光レンズ 33 液晶パネル 34 投射レンズ 35 スクリーン 41 レンズアレイ 42 遮光領域 43 有効領域 51 半導体レーザアレイ 52 レンズアレイ 53 ファイバアレイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 研逸 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 吉村 文孝 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に第一の透明樹脂からなる樹
    脂吸収層を形成し、該樹脂吸収層にインクジェット法に
    より上記第一の透明樹脂とは屈折率の異なる第二の透明
    樹脂を含有する溶液を付与して上記樹脂吸収層内に浸透
    させ、該第二の透明樹脂含有溶液の滴下位置の中央を中
    心とする屈折率分布を形成して平面微小レンズを形成す
    ることを特徴とする光学素子。
  2. 【請求項2】 透明基板上に該基板表面に中心を有する
    同心の半球状に広がる屈折率分布によって形成される平
    面微小レンズを複数有し、請求項1記載の製造方法によ
    って製造されたことを特徴とする光学素子。
JP30818497A 1997-11-11 1997-11-11 光学素子とその製造方法 Pending JPH11142611A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6635941B2 (en) 2001-03-21 2003-10-21 Canon Kabushiki Kaisha Structure of semiconductor device with improved reliability

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6635941B2 (en) 2001-03-21 2003-10-21 Canon Kabushiki Kaisha Structure of semiconductor device with improved reliability
US6893941B2 (en) 2001-03-21 2005-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor device and its manufacture method

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