JPH11142336A - Ｉｃｐ分析装置 - Google Patents
Ｉｃｐ分析装置Info
- Publication number
- JPH11142336A JPH11142336A JP9302399A JP30239997A JPH11142336A JP H11142336 A JPH11142336 A JP H11142336A JP 9302399 A JP9302399 A JP 9302399A JP 30239997 A JP30239997 A JP 30239997A JP H11142336 A JPH11142336 A JP H11142336A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- spray chamber
- waste soln
- icp
- liquid storage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スプレーチェンバ内に大きな圧力変動が生じ
ても、廃液溜管内の廃液を流出させてしまわないＩＣＰ
分析装置を提供する。 【解決手段】 二重管構造にした廃液溜容器３を設けた
ため、スプレーチェンバ１内に大きな圧力変動が生じた
ときでもスプレーチェンバ１内のアルゴンガスが廃液溜
容器３の廃液を通り、廃液溜容器３の空気抜き開口部よ
り管外へ抜けることができるため、廃液溜容器３内に貯
溜されていた廃液を押し出してドレインタンク５に流出
させてしまうことはない。
ても、廃液溜管内の廃液を流出させてしまわないＩＣＰ
分析装置を提供する。 【解決手段】 二重管構造にした廃液溜容器３を設けた
ため、スプレーチェンバ１内に大きな圧力変動が生じた
ときでもスプレーチェンバ１内のアルゴンガスが廃液溜
容器３の廃液を通り、廃液溜容器３の空気抜き開口部よ
り管外へ抜けることができるため、廃液溜容器３内に貯
溜されていた廃液を押し出してドレインタンク５に流出
させてしまうことはない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣＰ（高周波誘
導結合プラズマ）発光分光分析装置およびＩＣＰ−質量
分析装置（ＭＳ）として使用されるＩＣＰ分析装置に関
する。
導結合プラズマ）発光分光分析装置およびＩＣＰ−質量
分析装置（ＭＳ）として使用されるＩＣＰ分析装置に関
する。
【０００２】
【従来技術】ＩＣＰ（高周波誘導結合プラズマ）は元素
分析用の優れた励起発光源として、またイオン源として
多く利用される。
分析用の優れた励起発光源として、またイオン源として
多く利用される。
【０００３】試料は液体で扱われるのがほとんどである
が、図２に示すようにスプレーチェンバ１内でネブライ
ザ６によって試料７を霧化させてエアロゾルとしてこれ
をプラズマトーチ８に導き、高周波コイル９で発生させ
る高周波磁界を用いてプラズマを生成させ、発光強度や
イオン量を測定して試料中の元素の定性・定量分析が行
われる。
が、図２に示すようにスプレーチェンバ１内でネブライ
ザ６によって試料７を霧化させてエアロゾルとしてこれ
をプラズマトーチ８に導き、高周波コイル９で発生させ
る高周波磁界を用いてプラズマを生成させ、発光強度や
イオン量を測定して試料中の元素の定性・定量分析が行
われる。
【０００４】このようなＩＣＰ分析においては、スプレ
ーチェンバ１内で霧化された試料７の内、プラズマトー
チ８に導入されるエアロゾルはごく一部であってほとん
どはスプレーチェンバ１内で再び溶液となって排出され
る。
ーチェンバ１内で霧化された試料７の内、プラズマトー
チ８に導入されるエアロゾルはごく一部であってほとん
どはスプレーチェンバ１内で再び溶液となって排出され
る。
【０００５】従来、その排出は図２に示すようにスプレ
ーチェンバ１のドレイン部に廃液溜管２を接続し、廃液
溜管２の他端にＵ字管４を接続してＵ字管４を介してド
レインタンク５に排出されるようになっている。
ーチェンバ１のドレイン部に廃液溜管２を接続し、廃液
溜管２の他端にＵ字管４を接続してＵ字管４を介してド
レインタンク５に排出されるようになっている。
【０００６】Ｕ字管４は所定の高さに設置してあるから
廃液溜管２に廃液が貯溜されることによって余剰液の排
出がＵ字管４からなされてもスプレーチェンバ１の廃液
面を一定に保つことができ、これによりスプレーチェン
バ１内の圧力が一定となるように工夫されている。ま
た、廃液溜管２での廃液の貯溜によって試料エアロゾル
導入に用いられるアルゴンガスが排出口を通して抜ける
のを防止する働きもしている。
廃液溜管２に廃液が貯溜されることによって余剰液の排
出がＵ字管４からなされてもスプレーチェンバ１の廃液
面を一定に保つことができ、これによりスプレーチェン
バ１内の圧力が一定となるように工夫されている。ま
た、廃液溜管２での廃液の貯溜によって試料エアロゾル
導入に用いられるアルゴンガスが排出口を通して抜ける
のを防止する働きもしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のＩＣＰ分析装置
は以上のように構成されているがＩＣＰ分析を精度良く
行うにはプラズマの安定が必要であり、そのためにはス
プレーチェンバ１内の圧力を一定に保つことが重要であ
る。スプレーチェンバ１内の圧力を変動させる要因は一
つではないが上述したスプレーチェンバ１内の廃液の処
理も問題となる。即ち図２において、スプレーチェンバ
１、廃液溜管２、Ｕ字管４の材質は、取り扱われる試料
が有機溶媒や薬品類であることを考慮してガラスやテフ
ロン等の耐薬品性の材料が使用され一般的に親水性に乏
しい。そのためＵ字管４からの廃液排出は徐々には排出
されず廃液溜管２に在る貯溜量が有る値を越えたとき一
塊となって一気に流失してしまう。そうするとスプレー
チェンバ１内の液面を揺動させ、圧力を変動させてプラ
ズマを不安定にさせる。
は以上のように構成されているがＩＣＰ分析を精度良く
行うにはプラズマの安定が必要であり、そのためにはス
プレーチェンバ１内の圧力を一定に保つことが重要であ
る。スプレーチェンバ１内の圧力を変動させる要因は一
つではないが上述したスプレーチェンバ１内の廃液の処
理も問題となる。即ち図２において、スプレーチェンバ
１、廃液溜管２、Ｕ字管４の材質は、取り扱われる試料
が有機溶媒や薬品類であることを考慮してガラスやテフ
ロン等の耐薬品性の材料が使用され一般的に親水性に乏
しい。そのためＵ字管４からの廃液排出は徐々には排出
されず廃液溜管２に在る貯溜量が有る値を越えたとき一
塊となって一気に流失してしまう。そうするとスプレー
チェンバ１内の液面を揺動させ、圧力を変動させてプラ
ズマを不安定にさせる。
【０００８】このような問題を改善する策として通常取
られる方法は廃液溜管２を短くすることである。そうす
ると、液面の変動周期が短くなり（廃液溜管２の長さを
Ｌ、重力の加速度をｇとしたとき、液面の振動の周期Ｔ
はＴ＝［Ｌ／（２ｇ）］1/2で与えられる。）測定系の
信号処理における積分時間内でみればこの振動に関する
影響は平均化されてデータ上には現れないことになる。
られる方法は廃液溜管２を短くすることである。そうす
ると、液面の変動周期が短くなり（廃液溜管２の長さを
Ｌ、重力の加速度をｇとしたとき、液面の振動の周期Ｔ
はＴ＝［Ｌ／（２ｇ）］1/2で与えられる。）測定系の
信号処理における積分時間内でみればこの振動に関する
影響は平均化されてデータ上には現れないことになる。
【０００９】しかしながら、廃液溜管２を短くするとプ
ラズマトーチ点灯時にかかる大きな圧力のために貯溜さ
れている廃液も廃液溜管２から流出してしまうという問
題があった。
ラズマトーチ点灯時にかかる大きな圧力のために貯溜さ
れている廃液も廃液溜管２から流出してしまうという問
題があった。
【００１０】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、ＩＣＰ分析において分析時にスプレー
チェンバ１内の液面が安定に保たれるようにして、常に
精度の良い分析が行えるＩＣＰ分析装置を提供すること
を目的とする。
たものであって、ＩＣＰ分析において分析時にスプレー
チェンバ１内の液面が安定に保たれるようにして、常に
精度の良い分析が行えるＩＣＰ分析装置を提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のＩＣＰ分析装置は、試料導入装置を構成す
るスプレーチェンバ１とこのスプレーチェンバ１に貯溜
する液面の高さを一定に保つために設けられたＵ字管４
を二重管構造の廃液溜容器３としたことを特徴とする。
め、本発明のＩＣＰ分析装置は、試料導入装置を構成す
るスプレーチェンバ１とこのスプレーチェンバ１に貯溜
する液面の高さを一定に保つために設けられたＵ字管４
を二重管構造の廃液溜容器３としたことを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明のＩＣＰ分析装置の一実施
例を図１により説明する。符号１はスプレーチェンバ、
２は廃液溜管、３は廃液溜容器、５はドレインタンク、
６はネブライザ、７は試料、８はプラズマトーチ、９は
高周波コイルである。
例を図１により説明する。符号１はスプレーチェンバ、
２は廃液溜管、３は廃液溜容器、５はドレインタンク、
６はネブライザ、７は試料、８はプラズマトーチ、９は
高周波コイルである。
【００１３】廃液溜容器３は二重管構造になっており、
外側の管はその側面に廃液を貯蔵するドレインタンク５
への配管接続口がある。この接続口の廃液溜容器３にお
ける取り付け高さは廃液が廃液溜容器３に十分な量の貯
溜ができる高さに設けられており、廃液は常にこの取付
口高さの面まで貯溜されるようになっている。さらに外
側の管の上部には空気抜きのための開口が設けられてい
る。
外側の管はその側面に廃液を貯蔵するドレインタンク５
への配管接続口がある。この接続口の廃液溜容器３にお
ける取り付け高さは廃液が廃液溜容器３に十分な量の貯
溜ができる高さに設けられており、廃液は常にこの取付
口高さの面まで貯溜されるようになっている。さらに外
側の管の上部には空気抜きのための開口が設けられてい
る。
【００１４】内側の管は外側の管の貯溜廃液の中にその
開口部があるような構造になっている。そして内側の管
の他端はスプレーチェンバ１のドレイン口に廃液溜管２
によって接続されており、前述の理由により廃液溜管２
は十分短く作られている。
開口部があるような構造になっている。そして内側の管
の他端はスプレーチェンバ１のドレイン口に廃液溜管２
によって接続されており、前述の理由により廃液溜管２
は十分短く作られている。
【００１５】分析に先立ち、廃液溜管２ならびに廃液溜
容器３には前もって溶媒が貯溜される。スプレーチェン
バ１、廃液溜容器３の高さの液面相対位置は図１に示す
ように置かれる。ネブライザ６からのアルゴンガスが供
給されている時は各々の液面高さはスプレーチェンバ１
でＡ、廃液溜容器３でＢの高さにある。
容器３には前もって溶媒が貯溜される。スプレーチェン
バ１、廃液溜容器３の高さの液面相対位置は図１に示す
ように置かれる。ネブライザ６からのアルゴンガスが供
給されている時は各々の液面高さはスプレーチェンバ１
でＡ、廃液溜容器３でＢの高さにある。
【００１６】分析の際には、試料７がネブライザ６で霧
化されてスプレーチェンバ１内に噴霧される。そして霧
化された試料はこのスプレーチェンバ１で粒子の均一化
と気流の安定化が図られた後、プラズマトーチ８に導か
れる。実際には粒経の細かいミストのみがプラズマトー
チ８に導入され、大きな霧滴など大部分はスプレーチェ
ンバ１の内壁に付着し、また自重で沈降し溶液となって
スプレーチェンバ１の底部にあるドレイン口に溜まる。
化されてスプレーチェンバ１内に噴霧される。そして霧
化された試料はこのスプレーチェンバ１で粒子の均一化
と気流の安定化が図られた後、プラズマトーチ８に導か
れる。実際には粒経の細かいミストのみがプラズマトー
チ８に導入され、大きな霧滴など大部分はスプレーチェ
ンバ１の内壁に付着し、また自重で沈降し溶液となって
スプレーチェンバ１の底部にあるドレイン口に溜まる。
【００１７】この新しい廃液の増加は廃液溜容器３の液
面を上昇させることになるが、その分廃液溜容器３のド
レイン口より廃液は流出して廃液溜容器３の液面は常に
面Ｂに保たれる。
面を上昇させることになるが、その分廃液溜容器３のド
レイン口より廃液は流出して廃液溜容器３の液面は常に
面Ｂに保たれる。
【００１８】しかし、プラズマトーチ８の点灯の際には
スプレーチェンバ１の空気をアルゴンガスに置き換える
ため大量のアルゴンガスを導入する。このためスプレー
チェンバ１内が一時的に大きな圧力変動を受け、この
時、従来法によれば廃液溜の容器が小さいため（大きく
できない理由は前述した）、廃液溜に貯溜されていた廃
液がドレインタンク５へ殆ど排出されてしまい、分析の
中止もしくは圧力安定まで測定の中断を余儀なくされて
いた。
スプレーチェンバ１の空気をアルゴンガスに置き換える
ため大量のアルゴンガスを導入する。このためスプレー
チェンバ１内が一時的に大きな圧力変動を受け、この
時、従来法によれば廃液溜の容器が小さいため（大きく
できない理由は前述した）、廃液溜に貯溜されていた廃
液がドレインタンク５へ殆ど排出されてしまい、分析の
中止もしくは圧力安定まで測定の中断を余儀なくされて
いた。
【００１９】本発明では、二重管構造にした廃液溜容器
３を設けたため、スプレーチェンバ１内に大きな圧力変
動が生じたときでもスプレーチェンバ１内のアルゴンガ
スが廃液溜容器３の廃液を通り、廃液溜容器３の空気抜
き開口部より管外へ抜けてしまうため、廃液溜容器３内
に貯溜されていた廃液を押し出してドレインタンク５に
流出させてしまうことはない。
３を設けたため、スプレーチェンバ１内に大きな圧力変
動が生じたときでもスプレーチェンバ１内のアルゴンガ
スが廃液溜容器３の廃液を通り、廃液溜容器３の空気抜
き開口部より管外へ抜けてしまうため、廃液溜容器３内
に貯溜されていた廃液を押し出してドレインタンク５に
流出させてしまうことはない。
【００２０】なお本実施例では廃液溜容器３の上部に空
気抜き開口部を設けたが、廃液溜容器３からドレインタ
ンク５に通じる側配管部に設けても良い。
気抜き開口部を設けたが、廃液溜容器３からドレインタ
ンク５に通じる側配管部に設けても良い。
【００２１】
【発明の効果】本発明のＩＣＰ分析装置は上記のように
構成されており、Ｕ字管を二重管構造の廃液溜容器とし
たため、スプレーチェンバ内に大きな圧力変動が生じて
も分析を中断することなく、短時間にプラズマは安定
し、従って分析におけるスループットを改善することが
できる。
構成されており、Ｕ字管を二重管構造の廃液溜容器とし
たため、スプレーチェンバ内に大きな圧力変動が生じて
も分析を中断することなく、短時間にプラズマは安定
し、従って分析におけるスループットを改善することが
できる。
【図１】本発明のＩＣＰ分析装置の一実施例を示す図で
ある。
ある。
【図２】従来例のＩＣＰ分析装置を示す図である。
１…スプレーチェンバ ２…廃液溜管 ３…廃液溜容器 ４…Ｕ字管 ５…ドレインタンク ６…ネブライザ ７…試料 ８…プラズマトーチ ９…高周波コイル
Claims (1)
- 【請求項１】 ネブライザで霧化された試料をスプレー
チェンバを経てプラズマトーチに導入して励起発光・イ
オン化させることにより分析を行うＩＣＰ分析装置にお
いて、前記スプレーチェンバに貯溜する液面の高さを一
定に保つために設けられたＵ字管を二重管構造の廃液溜
容器としたことを特徴とするＩＣＰ分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9302399A JPH11142336A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | Ｉｃｐ分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9302399A JPH11142336A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | Ｉｃｐ分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11142336A true JPH11142336A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17908454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9302399A Pending JPH11142336A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | Ｉｃｐ分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11142336A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019176136A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社島津製作所 | 廃液監視装置 |
| CN116840010A (zh) * | 2023-07-03 | 2023-10-03 | 暨南大学 | 一种雾化室进气装置 |
-
1997
- 1997-11-05 JP JP9302399A patent/JPH11142336A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019176136A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社島津製作所 | 廃液監視装置 |
| JPWO2019176136A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2021-01-14 | 株式会社島津製作所 | 廃液監視装置 |
| CN116840010A (zh) * | 2023-07-03 | 2023-10-03 | 暨南大学 | 一种雾化室进气装置 |
| CN116840010B (zh) * | 2023-07-03 | 2024-05-03 | 暨南大学 | 一种雾化室进气装置 |
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