JPH11140431A

JPH11140431A - 非極性分散媒を用いた遊離砥粒研磨スラリー組成物

Info

Publication number: JPH11140431A
Application number: JP32719497A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Orii; 一也折井; Toshihiro Kaku; 智弘賀来; Tetsuyuki Itakura; 哲之板倉; Rei Takeuchi; 礼竹内
Original assignee: Tokyo Magnetic Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Infomedia Co Ltd
Priority date: 1997-11-13
Filing date: 1997-11-13
Publication date: 1999-05-25

Abstract

(57)【要約】【課題】 (1) 非極性（非水系）分散媒中に親水性が強
い研磨材粒子を均一に分散させること、(2) 研磨スラリ
ーの臭気をなくすこと、(3) スラリー研磨液の蒸発をな
くすこと、(4) 被研磨物の腐食の問題を解決すること。【解決手段】分子骨格中に二重結合又は三重結合又は
分枝を有するノニオン性界面活性剤を使用して親水性の
研磨材粒子を非極性分散媒に均一に分散させた研磨スラ
リー組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はポリシング加工、特
に精密機器、精密電子部品、例えば、磁気ヘッド、ハー
ドディスク基板、金属材料など、特に被研磨物の腐食が
問題となる加工工程で使用するのに適した遊離砥粒スラ
リーに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の遊離砥粒研磨スラリーは水系分散
媒を用いた系が主であり、水を分散媒として使用し、研
磨材粒子の沈降防止を目的としてエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、有機ベントナイト、水溶性高
分子、グリセリンなどの増粘剤を添加した遊離砥粒スラ
リー（特開昭５１−７０５８９号、特開昭５５−１３９
４７９号、特開昭６１−１８２７６３号、特開昭６１−
２０７４７９号の各公報）やメカノケミカル作用を期待
して水酸化カリウム、水酸化アンモニウムなどの各種化
学的腐食作用を有する物質を添加したものがほとんどで
あった。

【０００３】これらの水系分散媒を用いた従来の遊離砥
粒研磨スラリーにおいては、ダイヤモンド研磨材やアル
ミナ研磨材などの親水性の強い粒子を分散させることは
容易であるが、しかし水に対して弱い金属材料などを研
磨すると、被研磨物の腐食や錆が発生し問題となってい
た。

【０００４】そこで、分散媒を非水系にした所謂油系ス
ラリーが考えられるが、研磨材粒子は表面に存在するカ
ルボニル基やカルボキシル基により強い親水性を示すの
で、非極性の非水系分散媒中にこのような研磨材粒子を
均一に分散させることは困難であり、凝集した研磨材粒
子によって被研磨物にスクラッチが発生するといった問
題点があった。

【０００５】そこで、極性の高い非水系分散媒、即ち極
性の高い有機溶媒を用いることが考えられる。アルコー
ルやエーテルのような極性の高い非水系分散媒を使用す
ると確かに各種研磨材粒子を均一に分散させることはで
きるが、しかしこのような極性溶媒はその構造のせいで
臭気がきつく、環境や人体を汚染する問題がある。さら
に、極性有機溶媒として広く知られていて入手しやすい
メチルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアル
コール類やアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケトン系溶剤は一般に沸点が低く、
このような有機溶媒を分散媒として用いた場合には、研
磨作業中にこの分散媒が蒸発してしまい、研磨の作業性
が著しく低下し、過剰のスラリーを供給し続ける必要が
あったり、また研磨加工中に粒子濃度が変化し、精密な
加工ができないといった問題点があった。また、価格や
入手容易性などの点で利用しやすい極性有機溶媒には比
較的含水率が高いものが多く、水系分散媒について前記
した被研磨物の腐食や錆の問題を十分に満足できる程度
に改善することができない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの問題を解決する研磨スラリーを提供することであ
り、より詳細には、研磨スラリーにおいて、(1) 非極性
（非水系）分散媒中に親水性が強い研磨材粒子を均一に
分散させること、(2) 研磨スラリーの臭気をなくすこ
と、(3) スラリー研磨液の蒸発をなくすこと、(4) 被研
磨物の腐食の問題を解決することの４点である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、非極性（非水系）研磨スラリー中に用い
られる親水性粒子である研磨材粒子を疎水化処理するこ
とによってこれらの目的が果たされることを見出した。
親水性研磨材粒子の疎水化処理剤としては、一般的に界
面活性剤を用いることができ、特にノニオン系界面活性
剤を用いるのが好ましい。添加した界面活性剤は、研磨
材粒子表面に存在するカルボニル基やカルボキシル基な
どの親水性極性基によって、親水性基を粒子側に、疎水
基を分散媒側にして研磨材粒子表面に吸着する。その結
果、研磨材粒子の表面が界面活性剤の疎水基分子に覆わ
れた状態になって親水性だった粒子が疎水化され、非水
系／非極性分散媒との親和性が高まり、スラリー中での
分散性が向上する。即ち、親水性研磨材粒子を界面活性
剤で疎水化処理したことによって、分散媒として非極性
有機溶剤を用いることが可能になったのである。

【０００８】スラリー分散媒として非極性の有機溶媒
（特に炭化水素系の比較的無臭の有機溶媒）を用いるこ
とが可能になったということは、極性有機溶媒について
前記した研磨スラリーの臭気の問題が解決されるという
ことである。また、非極性有機溶媒には石油留分、パラ
フィン系炭化水素などの安価で入手しやすく且つ比較的
高沸点（即ち蒸発しにくい）のものが多く存在するの
で、極性有機溶媒と比較してスラリー研磨液の蒸発及び
それに関連する前記の諸問題に関する費用効率が良好で
ある。さらに、これらの非極性有機溶媒（特に炭化水素
類）は極性有機溶媒と比較しても含水率が極めて低いの
で、被研磨物の腐食の問題も解決される。

【０００９】界面活性剤の吸着量は極性基の分子断面積
に支配されるが、分子断面積は疎水基の分枝による屈曲
性及び極性基の位置などの影響を受ける。また、界面活
性剤は大別して(1) アニオン性界面活性剤、(2) カチオ
ン性界面活性剤、(3) ノニオン系界面活性剤、(4) 両性
界面活性剤の４つに分類されている。

【００１０】これらの中では、ノニオン系界面活性剤を
用いるのが特に好ましい。その理由を以下に述べる。非
極性溶媒中での電解質の解離はBjerrum, Fuoss, Kraus
らによって研究されてきた。非極性有機溶媒中に分散し
た粒子でも、イオン性界面活性剤を含むときには電気泳
動測定から数十ｍＶ程度のζ電位が観測されるとしてい
る。また、非極性溶媒中のイオン性界面活性剤の存在は
他の電解質の電離を助長すると共に、イオン性界面活性
剤は自分自身が解離したイオンを自分のミセルで安定化
することが知られている。例えば、代表的なカオチン性
界面活性剤であるセチルトリメチルアンモニウムクロラ
イド（ＣＴＡＣ）ではＣｌ^- と活性剤イオンとになる。
この場合、Ｃｌ^- の方が親水性であるので、親水性であ
る無機粒子（本発明では研磨材粒子）に対し吸着して負
電荷を与えると考えられている。その時に電離している
イオンが分散媒中に遊離状態で存在すると、この遊離イ
オンが金属材料などに対してアタックし腐食を発生させ
る原因となりうる。即ち、イオン性界面活性剤には腐食
の問題が多少残ってしまう。

【００１１】そこで、界面活性剤の中でも特にノニオン
系界面活性剤を用いることによって、非極性溶媒中での
イオンの解離をなくし被研磨物に対するこれら腐食を促
進するイオン種のアタックがなく、なお且つ安定した分
散状態の研磨スラリー組成物を得ることができる。本発
明による研磨スラリー組成物は、界面活性剤として特に
ノニオン系界面活性剤を用いることによって、界面活性
剤のイオンによる被研磨物の腐食や錆の問題を解決する
と共に、非極性分散媒中に親水性研磨材粒子を凝集体の
存在なく均一に分散させるものである。本発明の研磨ス
ラリー組成物は、限定されたノニオン系界面活性剤と非
極性分散媒とを使用することによって特別な効果、つま
り極性分散系において親水性粒子である研磨材粒子を均
一に安定分散させ、なお且つ、研磨作業中の臭気や分散
媒の揮発をなくし、被研磨物の腐食をなくす効果を有す
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明において用いられるノニオ
ン系界面活性剤は非極性分散媒中に溶解するものでなけ
ればならず、そのような界面活性剤は、その分子骨格中
に二重結合や三重結合を有するか、又は分枝が存在する
ものであるのが一般的である。このようなノニオン系界
面活性剤としては、例えばソルビタン脂肪酸エステル系
であるモノオレイン酸ソルビタン、セスキオレイン酸ソ
ルビタン、トリオレイン酸ソルビタン、モノイソステア
リン酸ソルビタン、セスキイソステアリン酸ソルビタ
ン、グリセリンエステル系としてはペンタオレイン酸デ
カグリセリル、ペンタイソステアリン酸デカグリセリ
ル、モノイソステアリン酸グリセリル、トリオレイン酸
デカグリセリル、ペンタオレイン酸ヘキサデカグリセリ
ル、モノイソステアリン酸ジグリセリルなど、ポリオキ
シエチレンソルビット脂肪酸エステル系であるテトラオ
レイン酸ＰＯＥソルビット、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル系であるモノオレイン酸ポリエチレングリ
コール２ＥＯ、６ＥＯ、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル系であるＰＯＥ(2) オレイルエーテル、ＰＯＥ
(3) ２級アルキルエーテルなどがあるが、これらに特に
限定されることはなく、上述した条件を満足するノニオ
ン系界面活性剤であれば用いることができる。

【００１３】界面活性剤には、ＨＬＢ値｛親水性−親油
性バランス（Hydophile-LipophileBalance)｝と呼ばれ
る親水性・疎水性の尺度が決められている。この値が高
い界面活性剤は親水成分が強く、水に対する溶解性に優
れ、反対にＨＬＢ値が低い界面活性剤は水に対する溶解
性が低下することが知られている。研磨材粒子は強い親
水性を示すので、用いる界面活性剤は、本発明において
用いられる非極性（非水系）分散媒中に溶解し得るもの
であるという条件を逸脱しない範囲でＨＬＢ値が高い方
が、より有効な粒子の疎水化処理を施すことが出来る。
これは、粒子の表面に存在するカルボニル基やカルボキ
シル基のような親水性基に界面活性剤の親水性基（酸化
エチレン基など）が吸着し固定層を形成するためであ
り、この相互作用が界面活性剤の親水性度、即ちＨＬＢ
値に比例するからである。

【００１４】界面活性剤は、その添加する濃度によりζ
電位を変化させ系の分散挙動を支配する。非水分散系に
界面活性剤を添加して疎水化処理を施す場合について述
べると、界面活性剤を添加すると、粒子表面において、
界面活性剤分子の親水基を粒子側に、疎水基を分散媒側
に向けて吸着が起こる。理論的には、界面活性剤分子が
粒子表面を単分子で完全に被覆する濃度において疎水化
処理効果、即ち分散効果が発揮される。この濃度を超え
て更に過剰の界面活性剤を添加すると、単分子で吸着し
た界面活性剤層の上に今度は疎水基を粒子側に、親水基
を分散媒側に向けて所謂２層吸着が発生し粒子は凝集す
る。更に過剰に添加すると三重吸着が起こり、再度分散
する。このように、界面活性剤の添加濃度によって、粒
子は分散／凝集／再分散を繰り返す。これらの理由によ
り、本発明による研磨スラリー組成物の最適ノニオン系
界面活性剤濃度は、０．０１〜１０．０ｗｔ％範囲、よ
り好ましくは０．２〜１．０ｗｔ％である。

【００１５】分散媒の極性とは普通に使用される意味で
溶媒分子内の原子とその結合の種類、原子配列とその位
置などによって分子内に生ずる双極子に基づく性質であ
る。この極性の大きさは相互作用する分子の極性によっ
て相対的に決まるものである。溶媒の極性は定性的には
Hildebrandの溶解性パラメーター（ＳＰ値）δで表され
る。この値δが大きいほど極性が大きく、小さいものほ
ど極性は小さい。このδ値はさらに分散、極性による配
向および水素結合などの分子間相互作用によっていくつ
か分けられるが、これらの値は、その溶媒がどのような
化合物を良く溶かすかという、化合物に対する溶解の選
択性を決定するものである。

【００１６】本発明の遊離砥粒スラリー研磨液の分散媒
として用いられる有機溶媒は、このＳＰ値が低いもので
あるのが望ましい。これは、極性成分が増加することに
よって分散媒の臭気が問題になったり、分散媒自体が人
体や被研磨物に対して悪影響を与えるからである。さら
に、蒸発速度の早い分散媒は研磨作業中に蒸発してしま
い、安定な研磨加工を困難なものにするので、本発明に
おいては、研磨加工中の研磨スラリーの蒸発をなくし、
安定なる研磨加工を行うために、分散媒として蒸発速度
が遅い溶媒を用いるのが好適である。

【００１７】これらのことから、本発明において用いら
れる分散媒は、溶解性パラメーターＳＰ値が１０．０以
下、好ましくは９．０以下、より好ましくは８．０以下
であり且つ相対蒸発速度が５．０以下、より好ましくは
２．０以下であるものが好適である。本明細書において
相対蒸発速度とは、エクソン化学（株）製無臭イソパラ
フィン系溶媒であるアイソパーＬ（沸点１９１〜２０５
℃）の蒸発速度を１．００としたときの相対蒸発速度を
言う。このような分散媒としては、例えば、エクソン化
学（株）製無臭イソパラフィン系溶媒：アイソパーシリ
ーズや低臭ナフテン系溶媒：ＥＸＸＳＯＬシリーズ、モ
ービル化学製ｎ−パラフィン系溶媒：ホワイトレックス
シリーズおよび工業用脂肪族系溶媒であるペガソール、
ペガホワイト、サートレックスなどがある。

【００１８】本発明において用いられる研磨材粒子は、
研磨加工一般に用いられるものであればよく、特に制限
されるものではない。具体的には、ダイヤモンド、アル
ミナ、シリコンカーバイト、酸化セリウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化ケイ素、酸化鉄などが挙げられる。

【００１９】

【実施例】（実施例１）ソルビタン脂肪酸エステル系界面活性剤による粒子疎水
化処理本実施例においては、本発明の非極性溶媒を用いた遊離
砥粒スラリーの研磨材粒子の分散性を評価検討するため
に、各種の分散媒を用意し、分散実験を実施した。実験
に用いた分散媒はヘキサン（７．２４）、アイソパーＬ
（７．８５）、トルエン（８．９１）、メチルエチルケ
トン（９．２７）、メチルアルコール（１４．２８）、
蒸留水（２３．５０）である（括弧内の数値は溶媒の溶
解性パラメーターＳＰ値δを示す）。本実施例では、呼
称粒度０〜０．２５μｍのダイヤモンド粒子を研磨材粒
子として用いた。研磨材濃度は０．５ｗｔ％とした。界
面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤であるモノオ
レイン酸ソルビタン｛日光ケミカルズ（株）の商品名：
ＳＯ−１０Ｒ｝を用いた。

【００２０】ここで、ノニオン系界面活性剤の効果を観
察するために、活性剤を添加したスラリーと未添加のス
ラリーとをそれぞれ調製し、ダイヤモンド研磨材の分散
性を比較した。なお、ダイヤモンド研磨材の分散には超
音波バス（ブランソン Model：）を用いた。分散時間は
１０分間とし、分散後のスラリー研磨液を光学顕微鏡で
観察し、ダイヤモンド粒子の分散性を比較した。その結
果、溶解性パラメーターＳＰ値δが９．０以上の分散媒
を単独で用いた系は界面活性剤を添加しなくともダイヤ
モンド研磨材粒子を均一に分散することができたが、ト
ルエン、ヘキサンのような極性の低い溶媒ではダイヤモ
ンド研磨材粒子を分散させることが出来なかった。しか
しながら、ノニオン系界面活性剤を添加した系では、Ｓ
Ｐ値の低い溶媒中でも蒸留水に分散させた系と同様に均
一に研磨材粒子を分散させることが出来た。本実施例の
結果を図１に示す。ただしＤ５０は粒子分布を小さい方
から数えて５０％まで累積した場合の粒子径を表す。

【００２１】また、本実施例ではソルビタン脂肪酸エス
テルの疎水基数を変化させた時の分散性についても検討
した。実験に用いたノニオン系界面活性剤はモノオレイ
ン酸ソルビタン（５．０）、セスキオレイン酸ソルビタ
ン（３．７）、トリオレイン酸ソルビタン（１．７）で
ある（ここで、括弧内の数値はＨＬＢ値を示す）。その
結果、ＨＬＢ値が大きい程分散性が良好であり、即ち分
散性はモノオレイン酸ソルビタン（５．０）＞セスキオ
レイン酸ソルビタン（３．７）＞トリオレイン酸ソルビ
タン（１．７）の順だった。これは、ダイヤモンド粒子
表面にはカルボニル基やカルボキシル基といった親水性
基があるために、界面活性剤を添加した時には、粒子表
面の親水基と活性剤分子中の親水基が相互作用し活性剤
の疎水基を外側に向けて吸着するためであり、添加する
界面活性剤は、ある程度親水性度が強いほうが疎水性粒
子を分散させる能力が高いことが確認された。本結果を
表１に示す。

【００２２】

【表１】ただし◎は優、○は良好、△はやや劣る。

【００２３】（実施例２）グリセリンエステル系界面活性剤による粒子疎水化処理本実施例においては、実施例１と同様に非極性溶媒を用
いた遊離砥粒スラリーの研磨材粒子の分散性を評価検討
するために、別の種類のノニオン系界面活性剤を用いて
分散実験を実施した。この実験においては、実施例１で
界面活性剤を添加しない場合に分散性が悪かったヘキサ
ン（７．２４）、アイソパーＬ（７．８５）を分散媒と
して用いた（括弧内の数値は溶媒の溶解性パラメーター
ＳＰ値δを示す）。本実施例では、呼称粒度０〜０．２
５μｍのダイヤモンド粒子を研磨材粒子として用いた。
研磨材濃度は０．５ｗｔ％とした。界面活性剤として
は、ノニオン系界面活性剤であるトリオレイン酸デカグ
リセリル｛日鉱ケミカルズ（株）の商品名：Decaglyn3-
0 ｝を用いた。ここで、ノニオン系界面活性剤の効果を
観察するために、活性剤を添加したスラリーと未添加の
スラリーとをそれぞれ調製し、ダイヤモンド研磨材の分
散性を比較した。尚、ダイヤモンド研磨材の分散には超
音波バスを用いた。分散時間は１０分間とし、分散後の
スラリー研磨液を光学顕微鏡で観察し、ダイヤモンド粒
子の分散性を比較した。その結果、ノニオン系界面活性
剤の種類を変えても親水性粒子であるダイヤモンド粒子
を非極性溶媒中に均一に分散させることができるという
ことが確認された。

【００２４】（実施例３）界面活性剤の添加濃度効果本実施例においては、非極性溶媒を用いた遊離砥粒研磨
スラリーにおける界面活性剤の最適添加量についての検
討を行なった。この実験においては、界面活性剤として
ノニオン系界面活性剤であるモノオレイン酸ソルビタン
を用いた。界面活性剤の添加量は、０、０．０５、０．
１、０．１５、０．２、０．５、１．０、３．０、５．
０、１０．０ｗｔ％とした。研磨材粒子としては、実施
例１と同様に呼称粒度０〜０．２５μｍのダイヤモンド
研磨材粒子を用いた。分散媒としては、イソパラフィン
系であるエクソン化学製の商品名：アイソパーＬを用い
た。また、界面活性剤としてトリオレイン酸デカグリセ
リル、テトラオレイン酸ＰＯＥソルビット、モノオレイ
ン酸ポリエチレングリコール２ＥＯについても同様に試
験した。その結果、全ての界面活性剤を用いた系におい
て添加量が０．２ｗｔ％以上で良好なる分散性を示し
た。本実施例の結果を図２に示す。

【００２５】（実施例４）分散媒の種類と研磨特性本実施例においては、スラリー研磨液に使用する分散媒
の蒸発速度と研磨特性との関係を明確にした。この実施
例において用いた分散媒は、蒸留水（０．６７）、イソ
プロピルアルコール（２．７９）、ｎ−ヘキサン（１
４．４９）、メチルエチルケトン（９．０５）、アイソ
パーＬ（１．００）、アイソパーＭ（０．６１）、ホワ
イトレックス３０７（０．２２）および３３５（０．１
０）である（ここで、括弧内の数値はアイソパーＬを
１．００としたときの相対蒸発速度を示す）。研磨実験
には日本エンギス（株）製自動精密鏡面ラッピングマシ
ンＨＹＰＲＥＺＥＪ−３８０１Ｎ型を用い、被研
磨物としてＮｉ−Ｚｎフェライトブロックを用いた。研
磨条件は、ラップ盤に錫／鉛定盤を使用し、定盤回転数
６０ｒｐｍとし、スラリー研磨液供給量を３０秒間隔に
３秒間噴霧、加工荷重２５０／ｃｍ² 、加工時間３０分
間とした。評価は、研磨量、研磨面状態および定盤全体
にスラリー研磨液を噴霧して１０分間放置した後の定盤
のぬれ状態を観察することによって行なった。さらに、
スラリーの臭気を研磨作業者によって官能評価し、スラ
リー加工の作業性を評価した。本実施例の結果、蒸発速
度がイソプロピルアルコール以上の分散媒を用いた研磨
スラリーにおいては研磨加工中にスラリーが蒸発してし
まって均一な加工を行なうことができず、スクラッチが
発生するなどの不具合が多発した。また、これらの蒸発
速度の早い極性溶媒を用いたスラリー研磨液は臭気が著
しく、研磨作業環境や人体を汚染することが確認され
た。

【００２６】（実施例５）分散媒の種類と被研磨物の腐食性本実施例においては、分散媒の種類が被研磨物に対して
及ぼす化学的影響を評価するために、スラリー研磨液に
被研磨物を浸積した時の腐食発生の有無を観察した。分
散媒としては、実施例４で用いた蒸留水、イソプロピル
アルコール、ｎ−ヘキサン、メチルエチルケトン、アイ
ソパーＬ、アイソパーＭ、ホワイトレックス３０７およ
び３３５を用い、界面活性剤としてはモノオレイン酸ソ
ルビタンを用い、その添加量は０．２ｗｔ％とした。評
価は、各スラリー研磨液に鉄／アルミニウム合金のブロ
ックを０、１、３、２４、９６、１６８、３３６時間浸
積させた後のブロックの腐食状態を光学顕微鏡によって
観察することによって行なった。その結果、蒸留水やイ
ソプロピルアルコールを分散媒として用いた研磨スラリ
ー中では１時間程度の浸積により腐食が発生したが、そ
の他の分散媒を用いた系中では腐食の発生は確認されな
かった。

【００２７】これらの実施例から、ノニオン系界面活性
剤、特にその分子骨格中に二重結合又は三重結合又は分
枝を有するノニオン系界面活性剤を用い、分散媒として
溶解性パラメーターＳＰ値δが８．０以下で、なお且つ
相対蒸発速度が２．０以下の非水系／非極性有機溶媒を
用いることによって、研磨材粒子を均一に分散させるこ
とができ、なお且つ、臭気やスラリー研磨液の蒸発、腐
食などの問題を解決出来る高性能遊離砥粒スラリー研磨
液を得ることが出来ることが証明された。

【００２８】

【発明の効果】本発明の研磨スラリー組成物において
は、親水性粒子である研磨材粒子がノニオン系界面活性
剤のような疎水化処理剤で処理されているので、非極性
（非水系）分散媒中に親水性研磨材粒子を均一に分散さ
せることが可能になった。また、言い換えれば、親水性
粒子である研磨材粒子をノニオン系界面活性剤のような
疎水化処理剤で処理したことによってスラリー分散媒と
して非極性の有機溶媒、特に炭化水素系の有機溶媒を用
いることが可能になった。非極性有機溶媒は、極性有機
溶媒と比較して前述のように多くの利点を有する。即
ち、非極性有機溶媒を用いることによって、研磨スラリ
ーの臭気をなくすことができる。さらに、前述のように
非極性有機溶媒には比較的高沸点で蒸発しにくく且つ低
価格で容易に入手できるものが多いので、スラリー研磨
液の蒸発を減少させることができ、その結果として研磨
の作業性が低下することもなくなり、過剰のスラリーを
供給し続ける必要もなくなり、また研磨加工中に粒子濃
度が変化することもなくなり、精密な加工が可能にな
る。さらに、非極性の特に炭化水素系などの有機溶媒は
含水率が極めて低いので、被研磨物の腐食の問題を完全
に解決することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】分散媒の溶解性パラメータＳＰ値δと研磨材粒
子の分散性の関係をノニオン系界面活性剤の添加の有無
で比較したグラフである。

【図２】ノニオン系界面活性剤の添加濃度と分散性の関
係を示すグラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者竹内礼東京都台東区台東１丁目５番１号東京磁気印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】親水性粒子である研磨材粒子を疎水化処
理剤を用い非極性分散媒中に均一に分散させた研磨スラ
リー組成物。
【請求項２】親水性粒子の疎水化処理剤としてノニオ
ン系界面活性剤を用いることを特徴とする研磨スラリー
組成物。
【請求項３】ノニオン系界面活性剤がその分子骨格中
に二重結合又は三重結合又は分枝を有するものであるこ
とを特徴とする請求項２に記載の研磨スラリー組成物。
【請求項４】添加する界面活性剤の量が０．２〜１．
０ｗｔ％である請求項２又は３に記載の研磨スラリー組
成物。
【請求項５】非極性分散媒として溶解性パラメーター
ＳＰ値δが８．０以下であるものを用いることを特徴と
する請求項１に記載の研磨スラリー組成物。
【請求項６】非極性分散媒として相対蒸発速度が２．
０以下の非極性有機溶媒を用いることを特徴とする請求
項１から５のいずれかに記載の研磨スラリー組成物。