JPH11135597A - Semiconductor wafer manufacturing equipment - Google Patents

Semiconductor wafer manufacturing equipment

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JPH11135597A
JPH11135597A JP30103497A JP30103497A JPH11135597A JP H11135597 A JPH11135597 A JP H11135597A JP 30103497 A JP30103497 A JP 30103497A JP 30103497 A JP30103497 A JP 30103497A JP H11135597 A JPH11135597 A JP H11135597A
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wafer
semiconductor wafer
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selection signal
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Ryuichi Nakada
隆一 中田
Akira Oishi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor wafer manufacturing equipment which enables carriage with manual operation without exerting influence on automatic carriage. SOLUTION: When selection signals SEL1, SEL2 are set to be 'automatic', and a selection signal SEL3 is set to be 'treatment 1' in an interrupt processing designation part 18, a semiconductor wafer 1A carried with an automatic carrying vehicle 2 is transferred from an automatic carrying-in port 11 to a wafer process part 14. Treatment conditions of treatment 1 which are stored in a storage device 19a in a process condition designation part 19 are successively outputted to the wafer process part 14, and the semiconductor wafer 1A which is subjected to wafer process by the 'treatment 1' is carried to an automatic carrying-out part 16. On the contrary, e.g. a semiconductor wafer 1B for manufacture trial is set in a manual carrying-in port 12, the selection signals SEL1, SEL2 are set to be 'manual', and the selection signal SEL3 is set to be 'treatment 2'. Then the semiconductor wafer 1B is subjected to wafer process by the 'treatemnt 2' and carried to a manual carrying-out port 17.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ製造
装置、特に通常のプロセス中に、異なるプロセスの割り
込み処理を可能にした半導体ウエハ製造装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a semiconductor wafer, and more particularly to an apparatus for manufacturing a semiconductor wafer capable of interrupting a different process during a normal process.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造工程における半導体ウ
エハプロセスでは、半導体ウエハの大口径化と微細化に
よって、手作業による運搬の困難性や、塵埃による品質
劣化防止のため、無人搬送装置を使用した自動搬送が主
流となっている。このような自動搬送による半導体ウエ
ハ製造装置では、無人搬送装置で搬送されてきた半導体
ウエハを受け入れるための搬入搬出口が設けられてい
る。この搬入搬出口にセットされた半導体ウエハは、半
導体ウエハ製造装置内部の各種のプロセス装置に移送さ
れ、所定のウエハプロセスが施された後、搬入搬出口に
戻される。そして、処理済みの半導体ウエハは、再び無
人搬送装置によって次の製造工程のための装置に搬送さ
れる。このように、自動搬送による半導体ウエハ装置で
は、人手を介さずに所定のウエハプロセスを正確かつ迅
速に行うことが可能であり、歩留まりの向上が図られて
いる。また、製造工程が記録されるので正確な工程管理
が可能になっている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor wafer process in a semiconductor device manufacturing process, an unmanned transfer device is used in order to prevent difficulties in carrying by hand and to prevent quality deterioration due to dust due to enlargement and miniaturization of semiconductor wafers. Automatic conveyance is the mainstream. In such a semiconductor wafer manufacturing apparatus by automatic transfer, a carry-in / out port for receiving a semiconductor wafer transferred by an unmanned transfer device is provided. The semiconductor wafer set in the loading / unloading port is transferred to various processing devices in the semiconductor wafer manufacturing apparatus, subjected to a predetermined wafer process, and returned to the loading / unloading port. Then, the processed semiconductor wafer is transported again by the unmanned transport device to the device for the next manufacturing process. As described above, in a semiconductor wafer device using automatic transfer, a predetermined wafer process can be performed accurately and promptly without manual intervention, and the yield is improved. In addition, since the manufacturing process is recorded, accurate process management can be performed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例え
ば、製品の納期が限定されていて、通常の製品と同一工
程では納期に間に合わない「特急品」の場合や、試作品
等で処理条件が決定されておらず、工程処理をしながら
技術評価を行う場合には、自動搬送によって半導体ウエ
ハを半導体ウエハ製造装置に出し入れすることができな
い。このため、特急品や試作品を手作業で半導体ウエハ
製造装置に出し入れする必要が生じている。ところが、
従来の半導体ウエハ製造装置は、自動搬送を前提とした
構成になっているので、手作業による搬送を行う場合に
は、次の(1)〜(3)のような課題があった。 (1) 自動搬送の場合には、ウエハプロセスの進捗状
況の管理が自動的に行われるようになっているが、手作
業による搬送ではその自動処理機能を停止させるため、
作業者自身が進捗状況の管理を行わなければならず、面
倒かつ管理漏れのおそれがある。特に、管理漏れの場合
には、実際の処理が行われたにも拘らず、管理データ上
では未処理の状態になっているので、同じ処理が重複し
て行われるおそれがあった。 (2) 自動搬送を行っている間に、手作業で特急品等
の半導体ウエハを半導体ウエハ製造装置の搬入搬出口に
割り込ませてセットした場合、そこへ自動搬送による半
導体ウエハが運ばれてくると、この搬入搬出口での競合
が発生し、自動搬送動作に支障を与えていた。 (3) 試作品の場合、各処理工程における処理内容の
条件を、作業者が操作パネル等から逐次設定する必要が
あり、設定を間違えても確認する手段がないので、ウエ
ハプロセスが途中で行き詰まるおそれがあった。 本発明は、前記従来技術が持っていた前記(1)〜
(3)の課題を解決し、自動搬送に影響を与えずに、手
作業による搬送を行うことができる半導体ウエハ製造装
置を提供するものである。
However, for example, when the delivery time of a product is limited and the delivery process cannot be completed in the same process as a normal product, the delivery condition is determined by a prototype or the like. In the case where the technical evaluation is performed while performing the process, the semiconductor wafer cannot be taken in and out of the semiconductor wafer manufacturing apparatus by automatic transfer. For this reason, it has become necessary to take express products and prototypes into and out of the semiconductor wafer manufacturing apparatus manually. However,
The conventional semiconductor wafer manufacturing apparatus has a configuration on the premise of automatic transfer. Therefore, when the transfer is performed manually, there are the following problems (1) to (3). (1) In the case of automatic transfer, the progress of the wafer process is automatically managed. However, in the case of manual transfer, the automatic processing function is stopped.
The worker himself / herself must manage the progress status, which may be troublesome and may lead to omission of management. In particular, in the case of management omission, since the actual processing has been performed, the management data is in an unprocessed state, and thus the same processing may be performed repeatedly. (2) When a semiconductor wafer, such as an express product, is manually interrupted and set in a loading / unloading port of a semiconductor wafer manufacturing apparatus during automatic transfer, the semiconductor wafer is transferred to the semiconductor wafer by the automatic transfer. Conflicts occurred at the loading / unloading port, which hindered the automatic transport operation. (3) In the case of a prototype, it is necessary for the operator to sequentially set the conditions of the processing contents in each processing step from an operation panel or the like, and there is no means for checking even if the setting is incorrect, so that the wafer process gets stuck halfway. There was a fear. The present invention provides the above (1) to (10) which the prior art has.
An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer manufacturing apparatus capable of solving the problem (3) and performing manual transfer without affecting automatic transfer.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の内の第1の発明は、半導体ウエハ製造装置
において、ウエハプロセスの対象となる第1の半導体ウ
エハを受け入れるための第1の搬入口と、ウエハプロセ
スの対象となる第2の半導体ウエハを受け入れるための
第2の搬入口と、第1の選択信号に従って前記第1また
は第2の搬入口を選択し、該選択した搬入口で受け入れ
られた前記第1または第2の半導体ウエハを搬入する搬
入手段と、処理選択信号に基づいて第1または第2の処
理条件を指定処理条件として出力するプロセス指定手段
と、次のようなウエハ処理手段と、第1及び第2の搬出
口と、搬出手段と、選択信号設定手段とを備えている。
ウエハ処理手段は、前記搬入手段によって搬入された前
記第1または第2の半導体ウエハに対し、前記指定処理
条件に基づいてウエハプロセスを施すものである。第1
及び第2の搬出口は、前記ウエハ処理手段でウエハプロ
セスが施された前記第1または第2の半導体ウエハを搬
出するためのものである。搬出手段は、前記ウエハ処理
手段でウエハプロセスが施された前記第1または第2の
半導体ウエハを、第2の選択信号に従って前記第1また
は第2の搬出口に移送するものである。そして、選択信
号設定手段は、前記第1及び第2の選択信号、並びに前
記処理選択信号の設定を行うためのものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer manufacturing apparatus for receiving a first semiconductor wafer to be subjected to a wafer process. A first loading port, a second loading port for receiving a second semiconductor wafer to be subjected to a wafer process, and the first or second loading port in accordance with a first selection signal. Loading means for loading the first or second semiconductor wafer accepted by the mouth, process specifying means for outputting the first or second processing condition as a specified processing condition based on a processing selection signal, A wafer processing means, first and second unloading ports, unloading means, and selection signal setting means.
The wafer processing means performs a wafer process on the first or second semiconductor wafer loaded by the loading means based on the designated processing conditions. First
And a second unloading port for unloading the first or second semiconductor wafer subjected to the wafer process by the wafer processing means. The unloading means transfers the first or second semiconductor wafer subjected to the wafer process by the wafer processing means to the first or second unloading port in accordance with a second selection signal. The selection signal setting means is for setting the first and second selection signals and the processing selection signal.

【0005】第2の発明は、半導体ウエハ製造装置にお
いて、ウエハプロセスの対象となる第1の半導体ウエハ
を受け入れるとともに、ウエハプロセスが施された該第
1または第2の半導体ウエハを搬出するための第1の搬
入搬出口と、ウエハプロセスの対象となる前記第2の半
導体ウエハを受け入れるとともに、ウエハプロセスが施
された該第2または前記第1の半導体ウエハを搬出する
ための第2の搬入搬出口と、第1の選択信号に従って前
記第1または第2の搬入搬出口を選択し、該選択した搬
入搬出口で受け入れられた前記第1または第2の半導体
ウエハを搬入するとともに、ウエハプロセスが施された
該第1または第2の半導体ウエハを、第2の選択信号に
従って該第1または第2の搬入搬出口に移送する搬送手
段と、第1の発明と同様の、プロセス指定手段と、ウエ
ハ処理手段と、選択信号設定手段とを備えている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer manufacturing apparatus for receiving a first semiconductor wafer to be subjected to a wafer process and unloading the processed first or second semiconductor wafer. A first loading / unloading port and a second loading / unloading port for receiving the second semiconductor wafer to be subjected to a wafer process and unloading the second or first semiconductor wafer subjected to the wafer process; An outlet and the first or second carry-in / out port are selected in accordance with a first selection signal, and the first or second semiconductor wafer received at the selected carry-in / out port is carried in; Transport means for transporting the applied first or second semiconductor wafer to the first or second loading / unloading port in accordance with a second selection signal; It has the same, and process specifying means, and the wafer processing unit, and a selection signal setting section.

【0006】第3の発明では、第1及び第2の発明にお
けるプロセス指定手段は、前記プロセス指定手段は、前
記第1の処理条件に従って順次行われる複数の処理工程
及び該各処理工程における処理内容の条件が予め記憶さ
れた第1の記憶部と、該第1の処理条件と前記第2の処
理条件の各処理工程における処理内容の相違箇所が予め
記憶された第2の記憶部とを有し、前記処理選択信号に
よって該第1の処理条件が選択された時には該第1の記
憶部を読み出して前記指定処理条件として順次出力し、
該第2の処理条件が指定された時には、該第1の記憶部
の内容を該第2の記憶部の内容によって変更して該指定
処理条件として順次出力するようにしている。
In a third aspect, the process designating means according to the first and second inventions is characterized in that the process designating means comprises a plurality of processing steps sequentially performed according to the first processing condition, and processing contents in each processing step. And a second storage unit in which a difference between processing contents of each processing step of the first processing condition and the second processing condition is stored in advance. When the first processing condition is selected by the processing selection signal, the first storage unit is read out and sequentially output as the specified processing condition,
When the second processing condition is specified, the contents of the first storage unit are changed according to the contents of the second storage unit, and are sequentially output as the specified processing conditions.

【0007】第1の発明によれば、以上のように半導体
ウエハ製造装置を構成したので、次のような作用が行わ
れる。選択信号設定手段から与えられる第1の選択信号
に従って第1または第2の搬入口で受け入れられた半導
体ウエハが、搬入手段によって搬入されてウエハ処理手
段に移送される。更に、選択信号設定手段から与えられ
る処理選択信号に基づいて、プロセス指定手段からウエ
ハ処理手段に対して、第1または第2の処理条件が指定
処理条件として出力される。ウエハ処理手段によって、
半導体ウエハにその指定処理条件によるウエハプロセス
が施され、そのウエハプロセスが施された半導体ウエハ
は、第2の選択信号で制御される搬出手段を介して、第
1または第2の搬出口へ移送される。
According to the first aspect of the present invention, since the semiconductor wafer manufacturing apparatus is configured as described above, the following operation is performed. The semiconductor wafer received at the first or second loading port according to the first selection signal given from the selection signal setting means is loaded by the loading means and transferred to the wafer processing means. Further, the first or second processing condition is output from the process specifying means to the wafer processing means as the specified processing condition based on the processing selection signal given from the selection signal setting means. By wafer processing means
The semiconductor wafer is subjected to a wafer process under the designated processing conditions, and the semiconductor wafer subjected to the wafer process is transferred to the first or second unloading port via unloading means controlled by the second selection signal. Is done.

【0008】第2の発明によれば、次のような作用が行
われる。選択信号設定手段から与えられる第1の選択信
号に従って第1または第2の搬入搬出口で受け入れられ
た半導体ウエハが、搬送手段によって搬入されてウエハ
処理手段に移送される。更に、選択信号設定手段から与
えられる処理選択信号に基づいて、プロセス指定手段か
らウエハ処理手段に対して、第1または第2の処理条件
が指定処理条件として出力される。ウエハ処理手段によ
って、半導体ウエハにその指定処理条件によるウエハプ
ロセスが施され、そのウエハプロセスが施された半導体
ウエハは、第2の選択信号で制御される搬送手段を介し
て、第1または第2の搬入搬出口へ移送される。
According to the second aspect, the following operation is performed. The semiconductor wafer received at the first or second loading / unloading port in accordance with the first selection signal given from the selection signal setting means is loaded by the transfer means and transferred to the wafer processing means. Further, the first or second processing condition is output from the process specifying means to the wafer processing means as the specified processing condition based on the processing selection signal given from the selection signal setting means. The semiconductor wafer is subjected to a wafer process by the designated processing conditions by the wafer processing means, and the semiconductor wafer subjected to the wafer process is transferred to the first or second semiconductor wafer via the transfer means controlled by the second selection signal. To the loading / unloading port.

【0009】第3の発明によれば、第1及び第2の発明
におけるプロセス指定手段において、次のような作用が
行われる。処理選択信号によって第1の処理条件が選択
された時には、第1の記憶部に予め記憶されている複数
の処理工程における処理内容の条件が読み出されて、指
定処理条件として順次ウエハ処理手段に出力される。一
方、処理選択信号によって第2の処理条件が選択された
時には、第1の記憶部に予め記憶されている複数の処理
工程における処理内容の条件が読み出され、更にその読
み出された処理内容の条件が、第2の記憶部に予め記憶
されている相違箇所によって変更されて、指定処理条件
として順次ウエハ処理手段に出力される。
According to the third invention, the following operation is performed by the process designating means in the first and second inventions. When the first processing condition is selected by the processing selection signal, the conditions of the processing contents in the plurality of processing steps stored in advance in the first storage unit are read out, and sequentially sent to the wafer processing means as designated processing conditions. Is output. On the other hand, when the second processing condition is selected by the processing selection signal, the conditions of the processing contents in the plurality of processing steps stored in advance in the first storage unit are read, and the read processing contents are further read. Are changed according to the different portions stored in the second storage unit in advance, and are sequentially output to the wafer processing means as designated processing conditions.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施形態を示す
半導体ウエハ製造装置の概略の構成図である。この半導
体ウエハ製造装置は、ウエハプロセスの対象となる第1
の半導体ウエハ1Aを受け入れるための第1の搬入口
(例えば、自動搬入口)11と、ウエハプロセスの対象
となる第2の半導体ウエハ1Bを受け入れるための第2
の搬入口(例えば、手動搬入口)12を有している。自
動搬入口11は、例えば、無人の自動搬送車2で搬送さ
れてくる大量生産用の半導体ウエハ1Aがセットされる
受入れ口である。一方、手動搬入口12は、納期が限定
された特急品や、処理条件が異なる試作品等の半導体ウ
エハ1Bを、手作業でセットするための受入れ口であ
る。自動搬入口11及び手動搬入口12には、搬入手段
(例えば、搬入部)13が接続されている。搬入部13
は、第1の選択信号SEL1によって制御され、この選
択信号SEL1が“自動”の時には、自動搬入口11に
セットされた半導体ウエハ1Aをウエハ処理手段(例え
ば、ウエハプロセス部)14へ搬入し、選択信号SEL
1が“手動”の時には、手動搬入口12にセットされた
半導体ウエハ1Bをウエハプロセス部14へ搬入するも
のである。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a semiconductor wafer manufacturing apparatus showing an embodiment of the present invention. This semiconductor wafer manufacturing apparatus has a first wafer processing object.
A first loading port (for example, an automatic loading port) 11 for receiving the first semiconductor wafer 1A and a second loading port for receiving the second semiconductor wafer 1B to be subjected to the wafer process.
(For example, a manual carry-in port) 12. The automatic carry-in entrance 11 is, for example, a receiving opening in which a semiconductor wafer 1A for mass production which is carried by the unmanned automatic carrier 2 is set. On the other hand, the manual loading port 12 is a receiving port for manually setting semiconductor wafers 1B such as limited express items with limited delivery dates and prototypes with different processing conditions. A loading means (for example, a loading section) 13 is connected to the automatic loading port 11 and the manual loading port 12. Loading unit 13
Is controlled by a first selection signal SEL1. When the selection signal SEL1 is "automatic", the semiconductor wafer 1A set in the automatic loading port 11 is loaded into the wafer processing means (for example, a wafer processing unit) 14, and Select signal SEL
When "1" is "manual", the semiconductor wafer 1B set in the manual carry-in port 12 is carried into the wafer processing section 14.

【0011】ウエハプロセス部14は、搬入部13によ
って搬入されてきた半導体ウエハ1A,1Bに対して、
指定処理条件PROCに基づいたウエハプロセスを施す
ものである。ウエハプロセス部14で所定のウエハプロ
セスが施された半導体ウエハ1A,1Bは、搬出手段
(例えば、搬出部)15によって、第1の搬出口(例え
ば、自動搬出口)16、または第2の搬出口(例えば、
手動搬出口)17へ移送されるようになっている。自動
搬出口16は、ウエハプロセスが施された半導体ウエハ
1A,1Bを、自動搬送車2等によって送り出すための
ものであり、手動搬出口17は、ウエハプロセスが施さ
れた半導体ウエハ1A,1Bを手作業で取り出すための
ものである。そして、搬出部15は、第2の選択信号S
EL2が“自動”の時には、半導体ウエハ1A,1Bを
自動搬出口16へ移送し、この選択信号SEL2が“手
動”の時には、半導体ウエハ1A,1Bを手動搬出口1
7へ移送するようになっている。
The wafer processing unit 14 is adapted to handle the semiconductor wafers 1A and 1B carried in by the carry-in unit 13.
The wafer process is performed based on the designated processing condition PROC. The semiconductor wafers 1A and 1B that have been subjected to the predetermined wafer process in the wafer processing unit 14 are unloaded by a unloading unit (for example, unloading unit) 15 into a first unloading port (for example, an automatic unloading port) 16 or a second unloading port. Exit (for example,
(A manual carry-out port) 17. The automatic carry-out port 16 is for sending out the semiconductor wafers 1A, 1B subjected to the wafer process by the automatic carrier 2 or the like, and the manual carry-out port 17 is for transferring the semiconductor wafers 1A, 1B subjected to the wafer process. It is intended for manual removal. Then, the unloading section 15 outputs the second selection signal S
When EL2 is "automatic", the semiconductor wafers 1A, 1B are transferred to the automatic unloading port 16. When the selection signal SEL2 is "manual", the semiconductor wafers 1A, 1B are transferred to the manual unloading port 1.
7.

【0012】この半導体ウエハ製造装置は、更に、割込
み処理指定部18を有している。割込み処理指定部18
は、例えば、マニュアル操作によって選択信号SEL
1,SEL2を、それぞれ個別に“自動”または“手
動”に設定するとともに、処理選択信号(例えば、選択
信号)SEL3を“処理1”または“処理2”に設定す
るためのものである。選択信号SEL1,SEL2は、
それぞれ搬入部13、搬出部15に与えられている。ま
た、選択信号SEL3は、プロセス条件指定部19に与
えられている。プロセス条件指定部19は、選択信号S
EL3に基づいて、第1の記憶部(例えば、メモリ)1
9aに予め記憶された第1の処理条件(例えば、処理
1)、または第2の記憶部(例えば、メモリ)19bに
予め記憶された第2の処理条件(例えば、処理2)を選
択して、指定処理条件PROCとしてウエハプロセス部
14に与える機能を有している。図2(a),(b)
は、図1中のプロセス条件指定部19の動作を示す説明
図であり、同図(a)は、このプロセス条件指定部19
内のメモリ19a,19bに記憶された内容の一例を示
す図、及び同図(b)は、処理手順を示すフローチャー
トである。次に、図2(a),(b)を参照しつつ、図
1の半導体ウエハ製造装置の動作を、(I)自動搬送に
よる製造工程、及び(II)試作品の製造工程、について
説明する。
The semiconductor wafer manufacturing apparatus further has an interrupt processing designating section 18. Interrupt processing designator 18
Is, for example, selected signal SEL by manual operation.
1 and SEL2 are individually set to "automatic" or "manual", and the processing selection signal (for example, selection signal) SEL3 is set to "processing 1" or "processing 2". The selection signals SEL1 and SEL2 are
These are provided to the carry-in section 13 and the carry-out section 15, respectively. Further, the selection signal SEL3 is given to the process condition specifying unit 19. The process condition specifying unit 19 outputs the selection signal S
First storage unit (for example, memory) 1 based on EL3
The first processing condition (for example, process 1) stored in advance in 9a or the second processing condition (for example, process 2) stored in advance in the second storage unit (for example, memory) 19b is selected. Has a function of giving the specified processing condition PROC to the wafer processing unit 14. FIG. 2 (a), (b)
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the operation of the process condition specifying unit 19 in FIG. 1, and FIG.
Showing an example of the contents stored in the memories 19a and 19b, and FIG. 2B is a flowchart showing the processing procedure. Next, with reference to FIGS. 2A and 2B, the operation of the semiconductor wafer manufacturing apparatus of FIG. 1 will be described with respect to (I) a manufacturing process by automatic conveyance and (II) a manufacturing process of a prototype. .

【0013】(I) 自動搬送による製造工程 自動搬送による製造工程では、割込み処理制御部18か
ら出力される選択信号SEL1,SEL2は、いずれも
“自動”に設定され、選択信号SEL3は、“処理1”
に設定されている。自動搬送車2によって搬送されてき
た半導体ウエハ1Aは、自動搬入口11にセットされ、
搬入部13によってウエハプロセス部14に搬入され
る。半導体ウエハ1Aは、プロセス条件指定部19から
与えられる指定処理条件PROCに基づいて、ウエハプ
ロセス部14によって次のように処理1のウエハプロセ
スが施される。処理1の処理条件は、プロセス条件指定
部19内のメモリ19aに記憶されており、例えば、図
2(a)に示すように、工程1から工程nまでの複数の
工程を順次行うようになっている。そして、各工程1〜
nに対して、それぞれの処理条件a,b,c,…,x
が、予めメモリ19aの記憶内容として設定されるよう
になっている。
(I) Manufacturing Process by Automatic Transport In the manufacturing process by automatic transport, the selection signals SEL1 and SEL2 output from the interrupt processing control unit 18 are both set to "automatic", and the selection signal SEL3 is set to "process". 1 "
Is set to The semiconductor wafer 1 </ b> A transferred by the automatic transfer vehicle 2 is set in the automatic transfer port 11,
The wafer is loaded into the wafer processing unit 14 by the loading unit 13. The semiconductor wafer 1A is subjected to the wafer process of the process 1 by the wafer processing unit 14 as follows based on the designated processing condition PROC given from the process condition designating unit 19. The processing conditions of the process 1 are stored in the memory 19a in the process condition specifying unit 19, and, for example, as shown in FIG. 2A, a plurality of processes from a process 1 to a process n are sequentially performed. ing. And each process 1
n, processing conditions a, b, c,..., x
Are set in advance as the storage contents of the memory 19a.

【0014】プロセス条件指定部19では、図2(b)
のステップS1において、工程iの初期値としてi=1
が設定され、ステップS2の判定処理へ進む。ステップ
S2では、選択信号SEL3の内容が“処理1”の場合
はステップS3へ、“処理2”の場合はステップS8へ
進むようになっている。この場合、選択信号SEL3は
“処理1”に設定されているので、ステップS3へ進
む。ステップS3において、メモリ19aの工程i(即
ち、工程1)の内容が読み出され、ステップS4へ進
む。ステップS4において、読み出された工程iの内
容、即ち“処理条件a”が指定処理条件PROCとし
て、ウエハプロセス部14へ出力され、ステップS5へ
進む。これにより、ウエハプロセス部14において、半
導体ウエハ1Aに、工程1の“処理条件a”のウエハプ
ロセスが施される。ステップS5において、ウエハプロ
セス部14で“処理条件a”によるウエハプロセスが完
了するまでの所要時間の経過が計測され、その所要時間
の経過後に、ステップS6へ進む。ステップS6におい
て、すべての工程が終了したか否かが判定され、未処理
の工程が残っていれば、ステップS7へ進み、工程iの
次の工程i+1が指定されて、ステップS2へ戻る。す
べての工程が終了していれば、ウエハプロセス部14で
のウエハプロセスは終了する。ウエハプロセス部14に
おいて、すべての工程1〜nのウエハプロセスが施され
た半導体ウエハ1Aは、搬出部15によって自動搬出口
16へ移送される。
In the process condition designating section 19, FIG.
In step S1, i = 1 as an initial value of the process i
Is set, and the process proceeds to the determination processing in step S2. In step S2, if the content of the selection signal SEL3 is "process 1", the process proceeds to step S3, and if it is "process 2", the process proceeds to step S8. In this case, since the selection signal SEL3 is set to "process 1", the process proceeds to step S3. In step S3, the contents of step i (that is, step 1) of the memory 19a are read, and the process proceeds to step S4. In step S4, the read content of the process i, that is, “processing condition a” is output to the wafer processing unit 14 as the designated processing condition PROC, and the process proceeds to step S5. As a result, in the wafer processing unit 14, the semiconductor wafer 1A is subjected to the wafer process of the “processing condition a” of the process 1. In step S5, the elapse of the required time until the completion of the wafer process under the “processing condition a” is measured by the wafer processing unit 14, and after the elapse of the required time, the process proceeds to step S6. In step S6, it is determined whether or not all the processes have been completed. If any unprocessed processes remain, the process proceeds to step S7, the process i + 1 next to the process i is designated, and the process returns to step S2. If all steps have been completed, the wafer processing in the wafer processing unit 14 ends. In the wafer processing unit 14, the semiconductor wafer 1 </ b> A that has been subjected to the wafer processes of all the steps 1 to n is transferred to the automatic unloading port 16 by the unloading unit 15.

【0015】(II) 試作品の製造工程 試作品の場合、オペレータは試作用の半導体ウエハ1B
を手動搬入口12にセットし、割込み処理指定部18に
よって、選択信号SEL1,SEL2を“手動”に設定
し、選択信号SEL3を“処理2”に設定する。これに
より、手動搬入口12にセットされた半導体ウエハ1B
は、搬入部13によってウエハプロセス部14に搬入さ
れる。半導体ウエハ1Bは、プロセス条件指定部19か
ら与えられる指定処理条件PROCに基づいて、ウエハ
プロセス部14によって次のように処理2のウエハプロ
セスが施される。処理2の処理条件は、処理1との相違
箇所のみがプロセス条件指定部19内のメモリ19bに
記憶されるようになっている。例えば、工程1から工程
nまでの工程の内で、工程3のみが異なる場合、図2
(a)に示すように、工程3の処理条件が、“処理条件
y”に設定されている。プロセス条件指定部19では、
図2(b)のステップS1において、工程iの初期値と
してi=1が設定され、ステップS2の判定処理へ進
む。
(II) Prototype Manufacturing Process In the case of a prototype, the operator operates the prototype semiconductor wafer 1B.
Is set in the manual carry-in port 12, and the selection signals SEL1 and SEL2 are set to "manual" and the selection signal SEL3 is set to "process 2" by the interrupt processing designating section 18. Thereby, the semiconductor wafer 1B set in the manual carry-in port 12
Is carried into the wafer processing unit 14 by the carry-in unit 13. The semiconductor wafer 1B is subjected to the wafer process of the process 2 by the wafer processing unit 14 as follows based on the designated processing condition PROC given from the process condition designating unit 19. The processing condition of the process 2 is such that only the difference from the process 1 is stored in the memory 19 b in the process condition specifying unit 19. For example, when only the step 3 is different among the steps 1 to n, FIG.
As shown in (a), the processing condition of step 3 is set to “processing condition y”. In the process condition specifying unit 19,
In step S1 of FIG. 2B, i = 1 is set as the initial value of the process i, and the process proceeds to the determination process of step S2.

【0016】ステップS2では、選択信号SEL3が
“処理2”に設定されているので、ステップS8へ進
む。ステップS8において、メモリ19bの工程iに対
する処理条件が設定されているか否かがチェックされ
る。もしも設定されていなければ、処理1と同じ処理条
件と判定されてステップS3へ進み、設定されていれ
ば、次のステップS9へ進む。ステップS9では、メモ
リ19bの工程iに設定されている処理条件が読み出さ
れ、ステップS4へ進む。例えば、工程3の場合、メモ
リ19bに“処理条件y”が設定されているので、この
“処理条件y”が読み出されることになる。一方、工程
1,2等では、メモリ19bには処理条件が設定されて
いないので、メモリ19aに設定されている処理1の処
理条件が読み出される。このようにして、ステップS2
〜S9を繰り返すことにより、工程1〜工程nのすべて
の工程のウエハプロセスが終了する。
In step S2, since the selection signal SEL3 is set to "process 2", the process proceeds to step S8. In step S8, it is checked whether processing conditions for the process i in the memory 19b are set. If it is not set, it is determined that the processing condition is the same as that of process 1, and the process proceeds to step S3. If it is set, the process proceeds to the next step S9. In step S9, the processing conditions set in step i of the memory 19b are read, and the process proceeds to step S4. For example, in the case of step 3, since “processing condition y” is set in the memory 19b, this “processing condition y” is read. On the other hand, in Steps 1, 2 and the like, since the processing conditions are not set in the memory 19b, the processing conditions of the processing 1 set in the memory 19a are read. Thus, step S2
By repeating steps S9 to S9, the wafer processes of all the steps 1 to n are completed.

【0017】ウエハプロセス部14において、処理2の
すべての工程のウエハプロセスが施された半導体ウエハ
1Bは、搬出部15によって手動搬出口17へ移送され
る。このように、本実施形態の半導体ウエハ製造装置
は、自動搬送用の自動搬入口11及び自動搬出口16
と、手動搬送用の手動搬入口12及び手動搬出口17を
有するため、量産用の半導体ウエハ1Aと試作用の半導
体ウエハ1Bを区別してウエハプロセス部14に搬送す
ることができる。更に、プロセス条件指定部19は、2
種類の処理条件を記憶しており、選択信号SEL3に基
づいて指定処理条件PROCとしてウエハプロセス部1
4に出力することができるので、半導体ウエハ1A,1
Bに応じたウエハプロセスを間違いなく施すことができ
るという利点がある。更に、搬入部13、搬出部15、
及びプロセス条件指定部19は、それぞれ別の選択信号
SEL1,SEL2,SEL3によって制御されるよう
になっているので、製造工程にあわせて、搬入口、ウエ
ハプロセス、搬出口を任意に組み合わせることができる
という利点がある。例えば、特急品の場合、半導体ウエ
ハ1Bを手動搬入口12に手作業でセットした後、量産
品と同じ処理1のウエハプロセスを施し、量産品と同じ
自動搬出口16から搬出することもできる。
In the wafer processing section 14, the semiconductor wafer 1 B which has been subjected to the wafer processing of all the processes of the processing 2 is transferred by the unloading section 15 to the manual unloading port 17. As described above, the semiconductor wafer manufacturing apparatus according to the present embodiment includes the automatic carrying-in port 11 and the automatic carrying-out port 16 for automatic carrying.
And the manual carry-in port 12 and the manual carry-out port 17 for manual transfer, the semiconductor wafer 1A for mass production and the semiconductor wafer 1B for trial operation can be transferred to the wafer processing section 14 separately. Further, the process condition specifying unit 19
The type of processing condition is stored, and as the designated processing condition PROC based on the selection signal SEL3, the wafer processing unit 1
4, the semiconductor wafers 1A, 1A
There is an advantage that the wafer process corresponding to B can be performed without fail. Further, the carry-in section 13, the carry-out section 15,
And the process condition designating section 19 is controlled by different selection signals SEL1, SEL2, and SEL3, respectively, so that the carry-in port, the wafer process, and the carry-out port can be arbitrarily combined according to the manufacturing process. There is an advantage. For example, in the case of an express product, after the semiconductor wafer 1B is manually set in the manual carry-in port 12, the same wafer process as that of the mass-produced product can be performed, and the semiconductor wafer 1B can be unloaded from the same automatic outlet 16 as the mass-produced product.

【0018】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例
えば、次の(a)〜(f)のようなものがある。 (a) 搬入口11,12と、搬出口を16,17とを
区別しているが、これらの搬入口11,12から、ウエ
ハプロセスが施された半導体ウエハ1A,1Bを送り出
すようにしても良い。これにより、搬出口16,17が
不要になるとともに、搬入部13と搬出部15とを一体
化して搬送部とすることができ、装置の小形化が可能に
なる。 (b) 手動搬入口12には、手作業によって半導体ウ
エハ1Bがセットされるようになっているが、手作業で
はなく自動搬送車2等を使用してセットするようにして
も良い。これにより、2種類の半導体ウエハ1A,1B
の処理を自動的に切り替えてウエハプロセスを施すこと
が可能となる。 (c) 2つの搬入口11,12、及び2つの搬出口1
6、17を備えているが、更に多数の搬入口や搬出口を
設けることも可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified. For example, there are the following modifications (a) to (f). (A) Although the carry-in ports 11 and 12 are distinguished from the carry-out ports 16 and 17, the semiconductor wafers 1A and 1B subjected to the wafer process may be sent out from these carry-in ports 11 and 12. . Accordingly, the carrying-out ports 16 and 17 become unnecessary, and the carrying-in section 13 and the carrying-out section 15 can be integrated into a carrying section, so that the apparatus can be downsized. (B) Although the semiconductor wafer 1B is set in the manual carry-in port 12 manually, the semiconductor wafer 1B may be set using the automatic carrier 2 or the like instead of the manual work. Thereby, two types of semiconductor wafers 1A and 1B
Can be automatically switched to perform a wafer process. (C) Two carry-in ports 11 and 12 and two carry-out ports 1
Although 6, 17 are provided, it is also possible to provide a larger number of carry-in and carry-out ports.

【0019】(d) プロセス条件指定部19は、2種
類の処理条件を記憶するようになっているが、3種類以
上の処理条件を記憶して、いずれの処理条件も選択でき
るようにすることができる。(e) プロセス条件指定
部19は、所定の手順で各工程の処理条件を出力する シーケンサ機能のみを有しているように説明したが、例
えば、全体的な製造工程管理を行うホストコンピュータ
等を使用して、シーケンサ機能に加えて製品の製造工程
管理を行うようにしても良い。 (f) 手動搬入口12から、試作品の半導体ウエハ1
Bを搬入するようにしているが、例えば、半導体ウエハ
製造装置の機能を検査する検査用の半導体ウエハを搬入
することも可能である。この場合、プロセス条件指定部
19から、検査用の特定の処理条件を、指定処理プロセ
スPROCとしてウエハプロセス部14に与えるように
する。そして、検査用の処理条件でウエハプロセスが施
された半導体ウエハをチェックすることにより、半導体
ウエハ製造装置の機能を検査することができる。
(D) The process condition designating section 19 stores two types of processing conditions, but stores three or more types of processing conditions so that any of the processing conditions can be selected. Can be. (E) Although the process condition designating section 19 has been described as having only the sequencer function of outputting the processing conditions of each process in a predetermined procedure, for example, a host computer or the like that performs overall manufacturing process management may be used. It may be used to control the production process of the product in addition to the sequencer function. (F) From the manual loading port 12, the prototype semiconductor wafer 1
Although B is carried in, for example, a semiconductor wafer for inspection for inspecting the function of the semiconductor wafer manufacturing apparatus can be carried in. In this case, a specific processing condition for inspection is given from the process condition specifying unit 19 to the wafer processing unit 14 as a specified processing process PROC. The function of the semiconductor wafer manufacturing apparatus can be inspected by checking the semiconductor wafer that has been subjected to the wafer process under the processing conditions for inspection.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
によれば、第1及び第2の2つの搬入口を有するので、
例えば、試作品等の通常とは異なる処理を必要とする半
導体ウエハを第2の搬入口から受け入れることができ、
2種類の半導体ウエハが1つの搬入口で競合することが
なくなる。更に、第1及び第2の2種類の処理条件を条
件選択信号に基づいて選択して出力するプロセス指定手
段を有するので、2種類の半導体ウエハに対してそれぞ
れに対応したウエハプロセスを施すことができるという
効果がある。第2の発明によれば、搬入口と搬出口を共
用する2つの搬入搬出口を有するので、第1の発明の効
果に加えて、装置の小形化をすることが可能になる。第
3の発明によれば、プロセス指定手段は第1の処理条件
を記憶する第1の記憶部と、第2の処理条件のうち第1
の処理条件と異なる工程の条件のみを記憶する第2の記
憶部を有するので、複数の処理条件があっても、相違箇
所だけを設定すれば良く、設定作業の省力化が可能にな
る。
As described in detail above, according to the first aspect, since the first and second entrances are provided,
For example, semiconductor wafers requiring unusual processing such as prototypes can be received from the second loading port,
Two types of semiconductor wafers do not compete at one loading port. Further, since there is provided a process designating means for selecting and outputting the first and second two types of processing conditions based on the condition selection signal, it is possible to perform a wafer process corresponding to each of the two types of semiconductor wafers. There is an effect that can be. According to the second aspect of the present invention, since there are two loading / unloading ports that share the loading / unloading port and the loading / unloading port, the size of the apparatus can be reduced in addition to the effect of the first aspect. According to the third aspect, the process designating means stores the first processing condition in the first storage unit, and stores the first processing condition in the first processing condition.
Since there is a second storage unit that stores only the conditions of the process different from the processing conditions described above, even if there are a plurality of processing conditions, only the different portions need to be set, and the setting work can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態を示す半導体ウエハ製造装置
の概略の構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a semiconductor wafer manufacturing apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1中のプロセス条件指定部19の動作を示す
説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an operation of a process condition specifying unit 19 in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1A,1B 半導体ウエハ 11 自動搬入口 12 手動搬入口 13 搬入部 14 ウエハプロセス部 15 搬出部 16 自動搬出口 17 手動搬出口 18 割込み処理指定部 19 プロセス条件指定部 19a,19b メモリ PROC 指定処理条件 SEL1〜SEL3 選択信号 1A, 1B Semiconductor wafer 11 Automatic carry-in 12 Manual carry-in 13 Carry-in part 14 Wafer processing part 15 Carry-out part 16 Automatic carry-out 17 Manual carry-out 18 Interrupt processing designation part 19 Process condition designation part 19a, 19b Memory PROC designation processing condition SEL1 ~ SEL3 selection signal

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハプロセスの対象となる第1の半導
体ウエハを受け入れるための第1の搬入口と、 ウエハプロセスの対象となる第2の半導体ウエハを受け
入れるための第2の搬入口と、 第1の選択信号に従って前記第1または第2の搬入口を
選択し、該選択した搬入口で受け入れられた前記第1ま
たは第2の半導体ウエハを搬入する搬入手段と、 処理選択信号に基づいて第1または第2の処理条件を指
定処理条件として出力するプロセス指定手段と、 前記搬入手段によって搬入された前記第1または第2の
半導体ウエハに対し、前記指定処理条件に基づいてウエ
ハプロセスを施すウエハ処理手段と、 前記ウエハ処理手段でウエハプロセスが施された前記第
1または第2の半導体ウエハを搬出するための第1及び
第2の搬出口と、 前記ウエハ処理手段でウエハプロセスが施された前記第
1または第2の半導体ウエハを、第2の選択信号に従っ
て前記第1または第2の搬出口に移送する搬出手段と、 前記第1及び第2の選択信号、並びに前記処理選択信号
の設定を行うための選択信号設定手段とを、 備えたことを特徴とする半導体ウエハ製造装置。
A first loading port for receiving a first semiconductor wafer to be subjected to a wafer process; a second loading port for receiving a second semiconductor wafer to be subjected to a wafer process; Loading means for selecting the first or second loading port according to the first selection signal and loading the first or second semiconductor wafer received at the selected loading port; A process designating means for outputting the first or second processing condition as a designated processing condition; and a wafer for performing a wafer process on the first or second semiconductor wafer carried in by the carrying-in means based on the designated processing condition. Processing means; first and second unloading ports for unloading the first or second semiconductor wafer that has been subjected to a wafer process by the wafer processing means; Unloading means for transferring the first or second semiconductor wafer subjected to the wafer process by the eha processing means to the first or second unloading port in accordance with a second selection signal; and the first and second semiconductor wafers A semiconductor wafer manufacturing apparatus, comprising: a selection signal; and selection signal setting means for setting the processing selection signal.
【請求項2】 ウエハプロセスの対象となる第1の半導
体ウエハを受け入れるとともに、ウエハプロセスが施さ
れた該第1または第2の半導体ウエハを搬出するための
第1の搬入搬出口と、 ウエハプロセスの対象となる前記第2の半導体ウエハを
受け入れるとともに、ウエハプロセスが施された該第2
または前記第1の半導体ウエハを搬出するための第2の
搬入搬出口と、 第1の選択信号に従って前記第1または第2の搬入搬出
口を選択し、該選択した搬入搬出口で受け入れられた前
記第1または第2の半導体ウエハを搬入するとともに、
ウエハプロセスが施された該第1または第2の半導体ウ
エハを、第2の選択信号に従って該第1または第2の搬
入搬出口に移送する搬送手段と、 処理選択信号に基づいて、第1または第2の処理条件を
指定処理条件として出力するプロセス指定手段と、 前記搬入手段によって搬入された前記第1または第2の
半導体ウエハに対し、前記指定処理条件に基づいてウエ
ハプロセスを施すウエハ処理手段と、 前記第1及び第2の選択信号、並びに前記処理選択信号
の設定を行うための選択信号設定手段とを、 備えたことを特徴とする半導体ウエハ製造装置。
2. A first loading / unloading port for receiving a first semiconductor wafer to be subjected to a wafer process and unloading the first or second semiconductor wafer subjected to the wafer process, and a wafer process. Receiving the second semiconductor wafer to be processed, and subjecting the second semiconductor wafer to a wafer process.
Alternatively, a second loading / unloading port for unloading the first semiconductor wafer and the first or second loading / unloading port are selected according to a first selection signal, and the selected loading / unloading port is accepted by the selected loading / unloading port. Loading the first or second semiconductor wafer,
Transport means for transporting the first or second semiconductor wafer subjected to the wafer process to the first or second loading / unloading port in accordance with a second selection signal; A process specifying unit that outputs a second processing condition as a specified processing condition; and a wafer processing unit that performs a wafer process on the first or second semiconductor wafer loaded by the loading unit based on the specified processing condition. And a selection signal setting means for setting the first and second selection signals and the processing selection signal.
【請求項3】 前記プロセス指定手段は、前記第1の処
理条件に従って順次行われる複数の処理工程及び該各処
理工程における処理内容の条件が予め記憶された第1の
記憶部と、該第1の処理条件と前記第2の処理条件の各
処理工程における処理内容の相違箇所が予め記憶された
第2の記憶部とを有し、前記処理選択信号によって該第
1の処理条件が選択された時には該第1の記憶部を読み
出して前記指定処理条件として順次出力し、該第2の処
理条件が指定された時には、該第1の記憶部の内容を該
第2の記憶部の内容によって変更して該指定処理条件と
して順次出力することを特徴とする請求項1または2記
載の半導体ウエハ製造装置。
3. A first storage unit in which a plurality of processing steps sequentially performed in accordance with the first processing condition and a condition of a processing content in each processing step are stored in advance, the first processing unit includes: And a second storage unit in which a difference between processing contents in each processing step of the second processing condition is stored in advance, and the first processing condition is selected by the processing selection signal. Sometimes, the first storage unit is read out and sequentially output as the designated processing condition. When the second processing condition is designated, the contents of the first storage unit are changed according to the contents of the second storage unit. 3. The semiconductor wafer manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the designated processing conditions are sequentially output.
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