JPH11128625A

JPH11128625A - 水浄化装置

Info

Publication number: JPH11128625A
Application number: JP9302442A
Authority: JP
Inventors: Takemi Oketa; 岳見桶田; Tomohide Matsumoto; 朋秀松本; Yuko Fujii; 優子藤井
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-11-05
Filing date: 1997-11-05
Publication date: 1999-05-18
Anticipated expiration: 2017-11-05
Also published as: JP3791158B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、水浄化装置において、塩素化合物
供給手段で生成した残留塩素での殺菌効果向上を課題と
するものである。【解決手段】浴槽１４に接続する循環流路のろ過手段
２３の上流及び下流側に水の流路を切り換える第一の流
路切換弁２５及び第二の流路切換弁２６と、前記循環流
路１６と第二の流路切換弁２６とを前記ろ過手段２３の
上流側で結ぶ第一のバイパス路２７を設け、第一のバイ
パス路２７に塩素化合物供給手段２８と、前記塩素化合
物供給手段２８の下流側に第三の流路切換弁２９を設
け、前記第三の流路切換弁２９は前記循環流路１６の第
二の流路切換弁２６の下流側の循環流路１６と接続する
第二のバイパス路３０を有する構成とすることで、塩素
化合物供給手段２８で生成した残留塩素がろ過手段２３
内の有機物によって消費されるのを無くし、殺菌性能を
向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽水などの水の
浄化に関するもので、特に水中に含まれる塩素イオンを
電気分解することにより残留塩素などの塩素化合物を生
成し、水の浄化を行う水浄化装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より被処理水である浴槽水中に含ま
れる塩素イオンを電気分解することにより次亜塩素酸イ
オンＣｌＯ−を生成し、この有効塩素の酸化力による殺
菌作用により浴槽水を浄化する電解槽が知られている
（例えば実開平２−１０８７９４号公報）。この水浄化
装置は、浴槽中の浴槽水を循環させる循環水路の途中に
フィルタ、循環ポンプ、電解槽、加熱器を順次直列接続
し、循環ポンプによって強制的に循環させるとともに電
解槽の電気分解を行うことにより次亜塩素酸イオンを生
成し、この有効塩素の酸化力による殺菌作用により雑菌
の繁殖を防止して浴槽水を浄化するように構成されてい
る。なおここで用いられる電解槽としては特開昭５６−
３１４８９号公報に示されている電解手段が知られてお
り、また飲料水用ではあるが特開昭６１−２８３３９１
号公報に示されているような無隔膜型の殺菌用電解手段
が知られている。

【０００３】そして、濾過手段と電気分解手段を並列に
設けているものは特開平８−２８１２８０号公報に記載
されているようなものが一般的であった。この水浄化装
置は図５に示すように、水１を循環流路２くみ上げ、水
の循環を行うポンプ３と、ヒーター４と、内部に微生物
を繁殖させた浄化手段５を備え、浄化手段５の上流と下
流を結ぶバイパス路６を設け、こバイパス路６に遊離塩
素を発生させる殺菌手段７を備えていた。ポンプ３の働
きにより、水１を循環路２からヒーター４を通って浄化
手段５及びバイパス路６の殺菌手段７に水を送り込み、
浄化手段５内で繁殖した微生物の働きにより水中の懸濁
態及び溶存態有機物質の除去を行っていた。また、浄化
手段５内に繁殖した微生物を死滅させないため、バイパ
ス路６をもうけ、バイパス路６上に殺菌手段７を設け、
ここで次亜塩素酸や次亜塩素酸イオンなどの塩素化合物
（以下、残留塩素とする）を生成し、浄化手段５の下流
方向で循環路２の水に混合することで浄化手段内に存在
する微生物を死滅させることなく水の浄化を行ってい
た。殺菌手段７は、図６に示すように殺菌手段７内に電
極を対向させて配置したケーシング８内の電極９、１０
間に隔膜を持たない構成をとっている。水は矢印のよう
に、入口１１から入り、出口１２から出るが、水が直接
電極９、１０間をながれず、電極９、１０の上を流れる
ことにより電極間の流量を遅くして残留塩素の生成効率
を向上させ、残留塩素を多く含んだ水を１２から排出し
ている。なお、矢印１３は水の流れを示す。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の水浄化装置では次のような課題があった。

【０００５】（１）殺菌手段６は浄化手段４の上流側と
下流側を結ぶバイパス路５に配置されているので、殺菌
手段Ｓで生成した遊離塩素は浄化手段Ｆ内を通過せずに
装置外部に排出しているので、一度浄化手段を通過する
ことで被処理水の浄化が完了する場合は良いが、浴槽水
の浄化の様に、浴槽内の水を複数回装置内に循環させ水
の浄化を行う場合には、浄化手Ｆ段内に堆積したあかや
細菌によって生成した残留塩素が消費されるので殺菌手
段Ｓによる殺菌効率が低下する。

【０００６】（２）浄化手段４に水中の汚れが堆積して
くるとバイパス路６への水の流入が多くなり、最適な条
件下で電気分解を行うことが困難である。

【０００７】（３）入浴者の肌が弱かったり、アトピー
性皮膚炎の場合、水中に存在する残留塩素により皮膚に
刺激を受け、入浴時に不快感をもつ。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、浴槽と、浴槽に接続する循環流路に水を循環
する循環手段と、水中の懸濁物質をろ過するろ過手段
と、前記ろ過手段と並列に循環流路に接続されたバイパ
ス路と、前記ろ過手段への水の流入出を制御する少なく
とも一つの流路切換弁を備え、前記バイパス路に電気分
解によって塩素化合物を生成可能な塩素化合物供給手段
とを有するものである。

【０００９】上記発明によれば、被処理水中の懸濁物質
の浄化を行う場合、被処理水は、循環手段によって、循
環流路からろ過手段で水中の懸濁物質をろ過除去され、
その後被処理水は第二の流路切換弁を通り、循環流路か
ら再び浴槽内に戻る経路となり、水の殺菌を行う場合に
は、流路切換弁を切り換え、浴槽内の被処理水が循環手
段の働きにより、循環流路からバイパス路を経て、塩素
化合物供給手段に入り、電気分解により水中に残留塩素
などの塩素化合物（以下、残留塩素と呼ぶ）を生成し、
循環流路を通って浴槽内に戻る経路となる。このように
して、被処理水の懸濁物質のろ過除去の場合と被処理水
の殺菌の場合で水の循環経路を変えることによって、塩
素化合物供給手段で生成した残留塩素を含んだ水がろ過
手段内に入り込むことを防ぐことができるので、ろ過手
段に堆積した有機物に残留塩素が浪費されることが無く
なり、浴槽内の被処理水中の残留塩素濃度を上昇させる
ことができる。よって、殺菌性の向上が可能となると同
時に、ろ過手段に被処理水を通過させないので、循環流
量及び塩素化合物供給手段に供給される水の流量が安定
するので最適な条件下で残留塩素の供給が可能となる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１にかかる水浄化
装置は、浴槽と、浴槽に接続する循環流路に水を循環す
る循環手段と、水中の懸濁物質をろ過するろ過手段と、
前記ろ過手段と並列に循環流路に接続されたバイパス路
と、前記ろ過手段への水の流入出を制御する少なくとも
一つの流路切換弁を備え、前記バイパス路に電気分解に
よって塩素化合物を生成可能な塩素化合物供給手段とを
有するものである。

【００１１】そして、殺菌を行う場合には、流路切換弁
を切り換え被処理水が循環流路からバイパス路を通って
塩素化合物供給手段に入り、循環流路から浴槽に戻る経
路とし、塩素化合物供給手段で電気分解により残留塩素
を生成し、被処理水に混入することで、残留塩素を含ん
だ被処理水がろ過手段に入ることなく浴槽と循環流路及
びバイパス路を循環するので、ろ過手段に堆積した有機
物に残留塩素が浪費されることが無くなり、浴槽内の被
処理水中の残留塩素濃度を上昇させることができる。よ
って、殺菌性の向上が可能となると同時に、ろ過手段に
被処理水を通過させないので、循環流量及び塩素化合物
供給手段に供給される水の流量が安定し、最適な条件下
で残留塩素の供給が可能となる。

【００１２】また、本発明の請求項２にかかる水浄化装
置は、浴槽と、浴槽に接続する循環流路に、水を循環す
る循環手段と、水中の懸濁物質を除去するろ過手段と、
水中の懸濁物質を凝集する凝集手段と前記ろ過手段の上
流及び下流側に位置し、水の流路を切り換える第一及び
第二の流路切換弁と、前記循環流路と第二の流路切換弁
とを前記ろ過手段の上流側で結ぶ第一のバイパス路とを
有し、前記第一のバイパス路には電気分解により残留塩
素などの塩素化合物を生成可能な塩素化合物供給手段
と、前記第一のバイパス路の塩素化合物供給手段の下流
側には、第三の流路切換弁を有し、前記第三の流路切換
弁は前記循環流路の第二の流路切換弁の下流側の循環流
路と接続する第二のバイパス路とろ過手段の上方向に位
置し、ろ過手段の洗浄水を排出可能な排水路を有する。

【００１３】そして、浴槽内の被処理水のろ過を行う場
合には、被処理水は浴槽から循環流路を通って、第一の
流路切換弁を通過し、凝集手段に入り、水中の汚れ粒子
の粒子径を増大し、下流方向のろ過手段で除去され、そ
の後、第二の流路切換弁を通過し、循環流路から浴槽に
戻る。そして、浴槽内の被処理水の殺菌を行う場合に
は、第一、第二及び第三の流路切換弁を切り換え、被処
理水が循環流路からバイパス路を通過し、塩素化合物供
給手段に入り、電気分解により残留塩素の供給が行わ
れ、第三の流路切換弁及び第二のバイパス路を通過して
循環流路から再び浴槽内に戻る。このようにして、ろ過
手段に被処理水を通過させることなく、塩素化合物供給
手段で水に残留塩素を供給することによって、生成した
残留塩素の有機物による浪費を防ぎ、浴槽内の被処理水
中の残留塩素濃度を向上させることができると同時に、
第一、第二及び第三の流路切換弁を切り換え、被処理水
が第一のバイパス路を通ってろ過手段の下流側からろ過
手段に流れ込み、排出路から装置外部に排出されること
により、ろ過手段に堆積した汚れ粒子が排出されるの
で、ろ過手段の洗浄が可能となり、ろ過手段の目詰まり
による流量低下が無くなるので、浄化性能を安定化させ
ることができる。

【００１４】また、本発明の請求項３にかかる水浄化装
置は、紫外線を照射可能な紫外線照射手段を前記第二の
バイパス路の下流側に設けた。

【００１５】そして、紫外線照射手段を第二バイパス路
の下流側に配置することにより、被処理水中の汚れ粒子
の除去を行う場合でも、また、被処理水を第一バイパス
路から塩素化合物供給手段に送り込み、被処理水に残留
塩素を供給し、殺菌を行う場合に関わらず、絶えず被処
理水が紫外線照射装置で紫外線を照射されることとな
り、殺菌効果を向上させることができる。

【００１６】また、本発明の請求項４にかかる水浄化装
置は、水の温度制御を行う温度制御手段を前記逆洗手段
の下流方向に設けた。

【００１７】そして、温度制御手段が第二バイパス路の
下流側に配置することにより、被処理水中の汚れ粒子の
除去を行う場合でも、また、被処理水を第一バイパス路
から塩素化合物供給手段に送り込み、被処理水に残留塩
素を供給し、殺菌を行う場合に関わらず、絶えず被処理
水の温度制御が可能となる。

【００１８】また、本発明の請求項５にかかる水浄化装
置は、薬剤を塩素化合物供給手段に供給可能な薬液供給
手段を備え、前記薬液供給手段は、薬液を貯蔵する薬液
タンクと薬液タンクと塩素化合物供給手段をむすぶ配管
と前記配管に前記薬液タンク内の薬液を前記塩素化合物
供給手段に送り込むポンプからなるものである。

【００１９】そして、薬剤供給手段から塩素化合物供給
手段に薬剤を注入し、塩素化合物供給手段で電気分解を
行うことで、被処理水中に生成する残留塩素の濃度を向
上させ、被処理水の殺菌を行うことで、殺菌性能を向上
させることができると同時に、残留塩素濃度の高い水で
ろ過手段の逆流洗浄が可能となり、ろ過手段の洗浄性を
向上させることができる。

【００２０】また、本発明の請求項６にかかる水浄化装
置は、薬液供給手段の薬液タンクに充填する薬液を塩化
ナトリウム溶液としている。

【００２１】そして、薬液として、塩化マグネシウムや
塩化カルシウムなどを用いる場合と異なり、塩化ナトリ
ウム溶液を用いることで、塩素化合物供給手段で電気分
解を行っても塩素化合物供給手段内部の電極表面にスケ
ールが付着することがなく、残留塩素生成能力を向上さ
せることができる。

【００２２】また、本発明の請求項７にかかる水浄化装
置は、薬液供給手段内の薬液タンクに充填する薬液は塩
酸としている。

【００２３】そして、薬液供給手段から塩素化合物供給
手段及びろ過手段内に塩酸を供給することができるの
で、塩素化合物供給手段内では、電極表面に付着したス
ケール成分を溶解することができると同時に、ろ過手段
内の濾材表面に付着した有機物及び金属水和物にを濾材
から剥離することができるので、逆流洗浄の効果を向上
することができる。

【００２４】また、本発明の請求項８にかかる水浄化装
置は、塩素化合物供給手段で生成した残留塩素を含む水
がろ過手段の下流側から流入可能としている。

【００２５】塩素化合物供給手段内で生成した残留塩素
がろ過手段の下流側から流入することで、残留塩素の働
きによりろ過手段に付着した有機物を分解・剥離するこ
とが可能となり、逆流洗浄効果を向上させることができ
る。

【００２６】また、本発明の請求項９にかかる水浄化装
置は、残留塩素を除去可能な残留塩素除去手段を設けて
いる。

【００２７】そして、入浴時間帯以外は塩素化合物供給
手段により残留塩素の供給を行い、浴槽内の被処理水の
殺菌を行うと同時に、入浴時には、残留塩素除去手段に
より浴槽内の被処理水の残留塩素を除去することで、入
浴者が残留塩素による皮膚刺激を受けないので、衛生的
かつ快適な入浴が可能となる。また、本発明の請求項１
０にかかる水浄化装置は、残留塩素除去手段を活性炭と
している。

【００２８】そして、活性炭の持つ有機物の吸着作用に
より、残留塩素だけでなく、においのもととなる有機物
の吸着除去が可能となり、浴槽内の被処理水の水質を向
上させることができる。

【００２９】また、本発明の請求項１１にかかる水浄化
装置は、任意の水温の水を供給可能な給湯手段を有する
ものである。

【００３０】そして、給湯手段から残留塩素除去手段内
に熱湯を注入し、内部の活性炭を熱湯処理することによ
り、活性炭に吸着した有機物質や残留塩素などを解離す
ることが可能となり、活性炭の吸着性能を回復すること
ができるので、長期間交換なしに使用することができ
る。

【００３１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。

【００３２】（実施例１）図１に本発明の実施例１の水
浄化装置の構成図を示した。図１において浴槽１４には
被処理水１５を循環させる循環流路１６と循環手段のポ
ンプ１７と蓋１８と底１９と缶体２０からなり、内部に
濾材２１と濾床２２を備えたろ過手段の濾過槽２３と、
濾過槽２３の上流側及び下流側には第一の流路切換弁の
流路切換弁２５と第二の流路切換弁の流路切換弁２６、
そして、蓋１８にはアルミニウム電極２４が備えられて
おり、このアルミニウム電極２６を陽極、缶体２０を陰
極として電気分解を行う。流路切換弁２５の上流側の循
環流路と、濾過槽２３の下流側の流路切換弁２６を結ぶ
第一バイパス路２７塩素化合物供給手段の電解槽２８を
備えており、この下流側には流路切換弁２９が備えられ
ている。流路切換弁２９には第二バイパス路３０が接続
されており、流路切換弁２６の下流側の循環流路１７と
接続されている。また、第二バイパス路３０の下流側に
は、水に紫外線を照射可能な紫外線照射装置３１と水の
加熱と保温を行う温度制御手段のヒーター３２が備えら
れている。なお、このヒーター３２にはサーミスターが
備わっており、水の温度を検知しながら加熱を行うこと
が可能である。浴槽１４への湯の供給は給湯手段の給湯
熱源３３によって行っており、この給湯熱源３３は配管
３４で流路切換弁２５の上流に接続されている。循環流
路１６はアダプタ３５で浴槽１４に接続されており、吐
出口３６と吸入口３７を有している。流路切換弁２５に
は配管３８が接続されており、濾過槽２３の逆流洗浄水
が排出される。

【００３３】なお、ポンプ１７、流路切換弁２５、２
６、２９、アルミ電極２４及び缶体２１への通電、電解
槽２８への通電、紫外線照射装置、ヒーターの動作制御
は制御装置３９で行っている。

【００３４】図２に電解槽２８の構成図を示した。電解
槽２８は内部に縮径部４０を備えた被処理水の抵抗体４
１と、電極４２Ａ、４２Ｂを備えた電解槽本体４４から
なり抵抗体４１と本体４４は配管４５、４６でつながっ
ている。電極４２Ａ、４２Ｂはチタン表面に白金及びイ
リジウムを被膜したものを用いている。よって、ポンプ
の働きで電解槽２８内に送り込まれた水は、抵抗体４１
の縮径部の上流側と下流側に負圧が発生するため、流入
路４３Ａから本体４４に入る。本体４４内では、被処理
水は直接電極４２Ａ、４２Ｂ間をながれず、電極４２
Ａ，４２Ｂの上を流れることにより電極間の流量を遅く
しており、制御手段３９により電極４２Ａ，４２Ｂ間に
通電を行うことで残留塩素の生成効率を向上させ、残留
塩素を多く含んだ水を流出口４３Ｂから排出している。
本実施例では無隔膜の電解槽の構成としたが、電極４２
Ａ、４２Ｂ間に隔膜を有する電解槽の構成の電解槽を用
いてもよいし、電極間に直接水が流れる構成としてもよ
い。

【００３５】次に動作、作用について説明する。浴槽１
４内の被処理水１５汚れ粒子のろ過除去を行う場合は
（以下、ろ過モードと呼ぶ）、制御装置３４の働きによ
り、ポンプ１７を始動し、アルミニウム電極２４及び缶
体２０に通電を行う。つまり、浴槽１４内の水はポンプ
１７の働きにより循環流路１６を通って流路切換弁２５
を通過し、濾過槽２３に入る。濾過槽23内では、被処理
水１５は、アルミニウム電極２４からアルミニウムイオ
ンを溶出し、水中に水酸化アルミニウムを生成する。こ
の水酸化アルミニウムと被処理水中の汚れ粒子が凝集
し、汚れ粒子の粒子径が増大し、下流側の濾材２１でろ
過除去する。その後、被処理水１５は流路切換弁２６を
通過し、浴槽１４に戻る。

【００３６】次に、浴槽１４内の被処理水１５の殺菌を
行う場合（以下殺菌モードと呼ぶ）には、制御装置によ
り流路切換弁２５、流路切換弁２６、流路切換弁２９を
切り換え、ポンプ１７で循環流路１６に送り込まれた被
処理水１５が第一バイパス路２７から電解槽２８を通過
し、流路切換弁２９、第二バイパス路３０を通って循環
流路１６から浴槽１４に戻る循環経路とし、電解槽２８
内の電極４２、４３に通電を行い、被処理水１５中の塩
素イオンから残留塩素を生成する。残留塩素を含んだ水
は、循環流路１７から第一バイパス路２７、電解槽２
８、流路切換弁２９、第二バイパス路３０を通り循環流
路１６から再び浴槽１４に戻るので、濾過槽内に堆積し
た汚れ粒子などの有機物に接触することがない。従っ
て、残留塩素の浪費が無く、生成した残留塩素のすべて
が浴槽１４内の被処理水１５中の細菌の殺菌に使用され
るので、殺菌効果を向上させることができる。

【００３７】さらに、制御手段３９で流路切換弁２５、
流路切換弁２６、流路切換弁２９を切り換え、ポンプ１
７によって循環流路１６送り込まれた被処理水１５が第
一のバイパス路２７を通って濾過槽２３に入り、濾材２
１を攪拌し、濾材２１表面に付着した汚れ粒子などの有
機物を排水路３８から装置外部に排出することで濾材２
１の洗浄される。従って、濾過槽２３に汚れ粒子が堆積
し、流水抵抗が上昇した場合でも、濾材２１を洗浄し流
水抵抗を低下させることができるので、循環流量の一定
に保つことが可能となり、浄化性能を安定化させること
ができる。

【００３８】また、紫外線照射による殺菌の場合、照射
する紫外線量が多いほど殺菌効果が高いといわれてい
る。すなわち、紫外線を照射する時間が長いほど殺菌効
果を向上させることができるという事になる。そこで、
本実施例において紫外線照射装置を併用する場合には、
ろ過モード、殺菌モードのいずれの場合でも水が循環す
る場所に設置する必要がある。そこで、紫外線照射装置
３１を第二バイパス路３０の下流側に配置することで、
ろ過モード、殺菌モードのいずれの場合においても連続
的な紫外線の照射が可能となり、殺菌効果を向上させる
ことができる。また、ろ過モード、殺菌モード伴に水質
によって長時間の処理を必要とする場合がある。このよ
うな場合、浴槽１４内の水温が低下してしまう。よっ
て、ヒーター３２を第二バイパス路３０の下流側に備え
ることで、浄化運転中の水温低下を防ぐことができる。

【００３９】（実施例２）図３に本発明の実施例２の水
浄化装置の構成図を示す。

【００４０】本実施例２において、実施例１と異なる点
は内部に塩化ナトリウム溶液（以下、食塩水と呼ぶ）タ
ンク４６と配管４７と薬液ポンプ４８からなる薬液供給
手段４５が備えられており、配管４７で電解槽２８に接
続されている点にある。なお、実施例１と同一符号のも
のは同一構造を有し、説明は省略する。次に動作、作用
を説明する。浴槽１４内の被処理水１５の塩素イオン濃
度の低い場合には電解槽２８による残留塩素の生成効率
が著しく低下し、殺菌性能が低下する。そこで、制御装
置３９の働きにより薬液ポンプ４８を始動し、電解槽２
８内にタンク４６の食塩水を供給することで、電解槽２
８内の被処理水中の塩素イオン濃度が上昇するので、電
気分解による残留塩素の生成効率が向上し、殺菌能力を
向上させることができる。また、制御装置３９によっ
て、流路切換弁２５、２６、２９を切り換え、濾過槽２
３内の濾材２１及び濾床２２の洗浄を行う場合（以下、
逆洗と呼ぶ）、被処理水１５は、循環流路１６から第一
のバイパス路２７及び流路切換弁２９、２６を通って濾
過槽に入り、内部の濾材２１が攪拌され濾材２１表面に
付着した汚れ粒子が流路切換弁２５、配管３８を通って
外部に排出される。この時、薬液ポンプ４８でタンク４
６内の食塩水を電解槽２８に注入し、電極４２、４３に
通電を行い、残留塩素濃度の高い水を生成し、この水を
濾過槽２３内に送り込み濾材２１及び濾床２２の洗浄を
行うことで濾材及び濾床表面に強固に固着した汚れ粒子
を効果的に剥離することができる。

【００４１】さらに、薬液内に塩酸溶液をいれ、同様に
して逆洗動作時に電解槽から第一バイパス路２７、流路
切換弁２９、２６をへて濾過槽２３に送り込むことで、
電解槽２８の電極表面に付着したスケール成分を溶解で
きると同時に、濾材２１表面に付着した水酸化アルミニ
ウムも溶解できるので逆洗時における洗浄効果を向上す
ることができる。

【００４２】（実施例３）図４は本発明の実施例３の水
浄化装置の構成図を示す。

【００４３】本実施例３において、実施例１及び実施例
２と異なる点は第一のバイパス路２７の電解槽２８の上
流側に開閉弁４９を備え、第一のバイパス路２７の上流
側の循環流路１７と第二のバイパス路３０の下流側を結
ぶ第三のバイパス路５０を有し、この第三のバイパス路
５０上に残留塩素除去手段の塩素除去槽５１と、開閉弁
５２を有し、塩素除去槽５１には内部に活性炭５３を充
填し、配管５４と開閉弁５５を備え、配管３４には流路
切換弁５６を備え、給湯熱源からの水が配管５７を通っ
て塩素除去槽５１に入る構成としているところである。
なお、実施例１と同一符号のものは同一構造を有し、説
明は省略する。

【００４４】殺菌モードで本実施例の水浄化装置を運転
すると、浴槽１４内の被処理水には残留塩素を含むこと
になり、殺菌モード終了直後に肌の弱い人や、アトピー
性皮膚炎の人がこの状態で入浴すると皮膚に刺激を感
じ、入浴に不快感を持つ。殺菌モード終了直後に入浴す
る場合には、制御装置３９の働きにより、開閉弁４９を
閉じ、開閉弁５２を開き浴槽１４内の残留塩素を含んだ
被処理水１５がポンプ１７により循環流路１６からバイ
パス路５０を通過し、塩素除去槽５１に入るようにす
る。塩素除去槽５１内には活性炭５３が充填されてお
り、水中の残留塩素を吸着除去する。また、活性炭５３
の吸着能力により被処理水中のニオイ成分も同時に吸着
され、循環流路１６を通って浴槽１４に戻る。よって、
浴槽１４内の被処理水１５の残留塩素が除去できるので
肌の弱い人や、アトピー性皮膚炎の人であっても快適な
入浴ができる。

【００４５】さらに、活性炭５３は連続使用により吸着
能力が低下するが、制御装置３９の働きにより、流路切
換弁５６を切り換え、給湯熱源から熱湯が配管５７を通
って塩素除去槽５１に入り、配管５５から装置外部に排
出させることで、塩素除去槽５１内には熱湯が充満し、
活性炭５３が熱処理されることになる。活性炭は高温条
件下では表面に吸着した残留塩素が脱離し吸着性能を回
復するので、活性炭５３の吸着能力は回復し、長期間安
定した残留塩素の除去能力を維持することができる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
係る水浄化装置は、水の殺菌を行う場合には、流路切換
弁を切り換え、浴槽内の被処理水が循環手段の働きによ
り、循環流路からバイパス路を経て、塩素化合物供給手
段に入り、電気分解により水中に残留塩素を生成し、循
環流路を通って浴槽内に戻る経路としているので、塩素
化合物供給手段で生成した残留塩素を含んだ水がろ過手
段内に入り込むことを防ぐことができるので、ろ過手段
に堆積した有機物に残留塩素が浪費されることが無くな
り、浴槽内の被処理水中の残留塩素濃度を上昇させるこ
とができる。よって、殺菌性の向上が可能となると同時
に、ろ過手段に被処理水を通過させないので、循環流量
及び塩素化合物供給手段に供給される水の流量が安定す
るので最適な条件下で残留塩素の供給が可能となる。

【００４７】また、本発明の請求項２に係る水浄化装置
は、第一、第二、及び第三の流路切換弁を切り換え、循
環手段によって循環流路１６送り込まれた被処理水が第
一のバイパス路を通ってろ過手段に下方向入ることで、
ろ過手段内に堆積した汚れ粒子などの有機物を排水路か
ら装置外部に排出することが可能となるので、流水抵抗
が上昇した場合でも、ろ過手段を洗浄し流水抵抗を低下
させることができるので、循環流量の一定に保つことが
可能となり、浄化性能を安定化させることができる。

【００４８】また、本発明の請求項３にかかる水浄化装
置は、紫外線を照射可能な紫外線照射手段を前記第二の
バイパス路の下流側に設けているので、紫外線照射手段
が第二バイパス路の下流側に配置することにより、被処
理水中の汚れ粒子の除去を行う場合でも、また、被処理
水を第一バイパス路から塩素化合物供給手段に送り込
み、被処理水に残留塩素を供給し、殺菌を行う場合に関
わらず、絶えず被処理水が紫外線照射装置で紫外線を照
射されることとなり、殺菌効果を向上させることができ
る。

【００４９】また、本発明の請求項４にかかる水浄化装
置は、水の温度制御を行う温度制御手段を前記逆洗手段
の下流方向に設けているので、温度制御手段が第二バイ
パス路の下流側に配置することにより、被処理水中の汚
れ粒子の除去を行う場合でも、また、被処理水を第一バ
イパス路から塩素化合物供給手段に送り込み、被処理水
に残留塩素を供給し、殺菌を行う場合に関わらず、絶え
ず被処理水の温度制御が可能となるので、安定した水質
を維持することができる。

【００５０】また、本発明の請求項５にかかる水浄化装
置は、薬剤を塩素化合物供給手段に供給可能な薬液供給
手段を備え、前記薬液供給手段は、薬液を貯蔵する薬液
タンクと薬液タンクと塩素化合物供給手段をむすぶ配管
と前記配管に前記薬液タンク内の薬液を前記塩素化合物
供給手段に送り込むポンプからなるものであるので、薬
剤供給手段から塩素化合物供給手段に薬剤を注入し、塩
素化合物供給手段で電気分解を行うことで、被処理水中
に生成する残留塩素の濃度を上昇させて殺菌することが
可能となるので、殺菌性能を向上させることができる。
また、残留塩素濃度の高い水でろ過手段の逆流洗浄が可
能なので、ろ過手段の洗浄性を向上させることができ
る。

【００５１】また、本発明の請求項６にかかる水浄化装
置は、薬液供給手段の薬液タンクに充填する薬液を塩化
ナトリウム溶液としているので、塩化ナトリウムや塩化
カルシウムなどを用いる場合と異なり、塩素化合物供給
手段で電気分解を行っても塩素化合物供給手段内部の電
極表面にスケールが付着することがないく、かつ水中の
塩素イオン濃度を向上させることができるのでので、残
留塩素生成効率を向上させることができる。よって、殺
菌性能の向上を図ることができる。

【００５２】また、本発明の請求項７にかかる水浄化装
置は、薬液供給手段内の薬液タンクに充填する薬液は塩
酸としているので、塩素化合物供給手段及びろ過手段内
に塩酸を供給することで、塩素化合物供給手段内では、
電極表面に付着したスケール成分を溶解することがで
き、ろ過手段内ではろ過手段に付着した有機物及び金属
水和物にを剥離することができるので逆流洗浄の効果を
向上することができる。

【００５３】また、本発明の請求項８にかかる水浄化装
置は、塩素化合物供給手段で生成した残留塩素を含む水
がろ過手段の下流側から流入可能としているので、残留
塩素の働きによりろ過手段に付着した有機物を分解・剥
離することが可能となり、逆流洗浄効果を向上させる事
ができるので、安定した浄化性能を得る事ができる。

【００５４】また、本発明の請求項９にかかる水浄化装
置は、残留塩素を除去可能な残留塩素除去手段を設けて
いるので、浴槽内の被処理水の殺菌を行うと同時に、入
浴時には、残留塩素除去手段により浴槽内の被処理水の
残留塩素を除去することで、入浴者が残留塩素による皮
膚刺激を受けないので、衛生的かつ快適な入浴が可能と
なる。

【００５５】また、本発明の請求項１０にかかる水浄化
装置は、残留塩素除去手段を活性炭としているので、活
性炭の持つ有機物の吸着作用により、残留塩素だけでな
く、においのもととなる有機物の吸着除去が可能とな
り、浴槽内の被処理水の水質を向上させることができ
る。

【００５６】また、本発明の請求項１１にかかる水浄化
装置は、任意の水温の水を供給可能な給湯手段を有する
ので、給湯手段から残留塩素除去手段内に熱湯を注入
し、内部の活性炭を熱処理することにより、活性炭を再
生可能なので長期間交換なしに使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１における水浄化装置の構成図

【図２】同水浄化装置の電解槽部分の構成図

【図３】本発明の実施例２における水浄化装置の構成図

【図４】本発明の実施例３における水浄化装置の構成図

【図５】従来の水浄化装置の構成図

【図６】従来の水浄化装置の電解槽の構成図

【符号の説明】

１４浴槽１６循環流路１７ポンプ２０缶体２３濾過槽２４アルミニウム電極２５第一の流路切換弁２６第二の流路切換弁２７第一のバイパス路２８電解槽２９第三の流路切換弁３０第二のバイパス路３１紫外線照射装置３２ヒーター４５薬液供給手段４６タンク４７配管４８薬液ポンプ５１塩素除去槽５３活性炭５６流路切換弁５７配管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０２Ｆ 1/32 Ｃ０２Ｆ 1/32 1/46 1/46 Ｚ 1/50 ５１０ 1/50 ５１０Ａ５２０５２０Ｌ５３１５３１Ｍ５５０５５０Ｄ５６０５６０Ａ５６０Ｃ５６０Ｆ５６０Ｚ 1/76 1/76 ＡＦ２４Ｈ 9/00 Ｆ２４Ｈ 9/00 Ｗ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】浴槽と、浴槽に接続する循環流路に水を循
環する循環手段と、水中の懸濁物質をろ過するろ過手段
と、前記ろ過手段と並列に循環流路に接続されたバイパ
ス路と、前記ろ過手段への水の流入出を制御する少なく
とも一つの流路切換弁を備え、前記バイパス路に電気分
解によって残留塩素などの塩素化合物を生成可能な塩素
化合物供給手段とを有する水浄化装置。
【請求項２】水中の懸濁物質を凝集する凝集手段と前記
ろ過手段の上流及び下流側に位置し、水の流路を切り換
える第一及び第二の流路切換弁と、前記循環流路と第二
の流路切換弁とを前記ろ過手段の上流側で結ぶ第一のバ
イパス路とを有し、前記第一のバイパス路には電気分解
により残留塩素などの塩素化合物を生成可能な塩素化合
物供給手段と、前記第一のバイパス路の塩素化合物供給
手段の下流側には、第三の流路切換弁を有し、前記第三
の流路切換弁は前記循環流路の第二の流路切換弁の下流
側の循環流路と接続する第二のバイパス路と、ろ過手段
の上方向にろ過手段の洗浄水を排出可能な排水路を有す
る水浄化装置。
【請求項３】紫外線を照射可能な紫外線照射手段を前記
第一及び第二のバイパス路の下流側に設けた請求項１記
載の水浄化装置。
【請求項４】水の温度制御を行う温度制御手段を前記第
一及び第二のバイパス路の下流側に設けた請求項１ない
し２のいずれか一項記載の水浄化装置。
【請求項５】薬剤を塩素化合物供給手段に供給可能な薬
液供給手段を備え、前記薬液供給手段は、薬液を貯蔵す
る薬液タンクと薬液タンクと塩素化合物供給手段をむす
ぶ配管と前記配管に前記薬液タンク内の薬液を前記塩素
化合物供給手段に送り込むポンプとを備えた請求項１な
いし３のいずれか一項記載の水浄化装置。
【請求項６】薬液は塩化ナトリウム溶液である請求項４
記載の水浄化装置。
【請求項７】薬液は塩酸溶液である請求項４記載の水浄
化装置。
【請求項８】塩素化合物供給手段によって生成した残留
塩素でろ過手段の逆流洗浄を行う請求項１ないし６のい
ずれか一項記載の水浄化装置。
【請求項９】循環流路に残留塩素を除去する残留塩素除
去手段を設けた請求項１ないし７のいずれか一項記載の
水浄化装置。
【請求項１０】塩素除去手段は活性炭である請求項８記
載の水浄化装置。
【請求項１１】任意の温度の水を供給できる給湯手段を
備えた請求項９記載の水浄化装置。