JPH11128218A - 断層像を後処理するためのコンピュータトモグラフのための方法およびこの方法に従って動作するコンピュータトモグラフ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 断面像内のリングアーティファクトを減ずる
ための断面像の後処理の際の中央値フィルタリングおよ
び平均化の実行の際にメモリアクセスおよび計算オペレ
ーションの数を減ずる。 【解決手段】 適応リング抑制フィルタリングに基づい
て、検査対象Ｏの層の、コンピュータトモグラフ１の測
定フィールド１０の全体または測定フィールド１０の一
部分を表す再構成された断面像を後処理するための汎用
計算機８を有するコンピュータトモグラフ１のための方
法において、断面像全体または断面像の一部分を含んで
いる範囲の画素値がなかんずく、１つまたはそれ以上の
中央値フィルタリングおよび平均化の処理を受け、その
際に中央値フィルタリングおよび平均化が多数の実行方
向に沿って行われ、また該範囲の画素値の計算が、その
つどの実行方向に相続く画素の画素値が相次いで計算さ
れるように、またはそのつどの実行方向に位置している
画素の画素値が少なくともそのつどの実行方向の少なく
とも２つの既に先行の計算のために利用された画素値を
考慮に入れて計算されるように行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、適応リング抑制フ
ィルタに基づいて、検査対象の断層の、コンピュータト
モグラフの測定フィールド全体または測定フィールドの
一部分を表す再構成された断層像を後処理するための汎
用計算機を有するコンピュータトモグラフのための方法
において、断層像全体または断層像の一部分を含んでい
る範囲の画素値がなかんずく１つまたはそれ以上の中央
値フィルタリングおよび平均化の処理を受け、その際に
中央値フィルタリングおよび平均化が多数の実行方向に
沿って行われるコンピュータトモグラフのための方法に
関する。さらに本発明はこのような方法に従って動作す
るコンピュータトモグラフに関する。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータトモグラフィは医学で、た
とえば診断のために、実際の応用のために大きな意義を
有する標準技術である。寝台上に横たえられた検査対象
またはコンピュータトモグラフの回転中心の周りを一般
に連続的に運動するＸ線検出器システムを有する放射線
測定システムにより検査対象に対して相対的な測定シス
テムの角位置のもとに検査対象の断層の減衰値が記録さ
れる。これらの減衰値はそれ自体は公知の仕方で像再構
成処理、すなわち検査対象の層の断層像の再構成処理を
受け、その際に断層像はたとえば診断のために利用され
る。

【０００３】Ｘ線源ー検出器システムの検出器は一般に
多数の検出器チャネル、たとえば１０２４個の検出器チ
ャネルを有する。検出器チャネルはその際にしばしばＸ
線放射に対するそれらの放射感度に関して不均一性を有
し、それによって再構成された断層像内に、断層像の観
察および評価の際に擾乱と感じられるいわゆるリングア
ーティファクトが生ずる。

【０００４】再構成された断層像内のこれらのリングア
ーティファクトを抑制するために、像後処理の形態の方
法を組み入れることは知られている。この方法は以下で
は適応リング抑制フィルタ（ＡＲＵフィルタ）と呼ば
れ、断層像の後処理のために主として下記の方法ステッ
プを有する： ａ）断層像マトリックスのすべての画素値（以下ではＩ
ＮＢと呼ばれる）を予め設定可能な上限および下限しき
いに制限することにより、再構成された断層像から骨お
よび空気をフェードアウトする。この方法ステップはＫ
ＬＢと呼ばれる新しい像マトリックスを生ずる。 ｂ）断層像内に存在しているコンピュータトモグラフの
回転中心を通って延び、像マトリックスＫＬＢの縁の各
画素から１つの直線が回転中心の方向に出発するように
像マトリックスＫＬＢ全体を覆う多数の直線に沿っての
像マトリックスＫＬＢ全体の第１の中央値フィルタリン
グ処理をする。回転中心はその際に断層像内に位置して
いる必要はなく、その際に断層像は単に像内に示される
切断平面の部分である。中央値フィルタリングはその際
に、像固有のパラメータに従って直線上に予め設定可能
であり、像マトリックスＫＬＢの画素値をそれぞれ表す
支持個所に基づいて行われる。こうして得られた画素値
は像マトリックスＫＬＢの画素値から差し引かれ、その
差が予め設定可能なしきいを有するしきい値評価を受け
る。この方法ステップの結果はＵＤＢ１と呼ばれる新し
い差像マトリックスである。 ｃ）再構成された断層像の回転中心の範囲内で、サブマ
トリックスの縁の各画素から１つの直線が回転中心の方
向に出発するようにサブマトリックス全体を覆うコンピ
ュータトモグラフの回転中心を通って延びている多数の
直線に沿って、像マトリックスＫＬＢおよびＵＤＢ１の
差像マトリックスの回転中心に近いサブマトリックスの
第２の中央値フィルタリングが行われる。中央値フィル
タリングはその際に再び像固有のパラメータに従って直
線上に予め設定可能な、それぞれサブマトリックスの画
素値を表す支持個所に基づいて行われる。こうして得ら
れた画素値は像マトリックスＫＬＢの画素値から差し引
かれ、その差が予め設定可能なしきいによりしきい値評
価を受ける。こうして得られたＵＤＢ２と名付けられる
サブ像マトリックスが差像マトリックスＵＤＢ１内にコ
ピーされ、それによってＵＤＢと名付けられる差像マト
リックスが生ずる。 ｄ）差像マトリックスＵＤＢの各画素から両方向に出発
しコンピュータトモグラフの回転中心の周りに開角度Ｓ
ＰＨＩ／２を有する円弧セクション上の差像マトリック
スＵＤＢの画素値を平均化する。その際に円弧セクショ
ンのＳＰＨＩと名付けられる開角度は予め設定可能であ
る。画素はその際に、内側および外側範囲内の平均化の
ための相い異なる開角度ＳＰＨＩを実現し得るように、
回転中心からの間隔に応じて差像マトリックスＵＤＢの
内側範囲内の画素および外側範囲内の画素に区分され
る。 ｅ）方法ステップｄ）から生ずる差像マトリックスＵＤ
Ｂの平均化された画素値が断層像マトリックスＩＮＢか
ら差し引かれ、そして得られた画素値が値範囲〔０，Ｐ
ＩＸＭＡＸ〕に制限されることによって結果像発生が行
われる。こうして得られたＯＵＴＢと名付けられる結果
像マトリックスは抑制されたリングアーティファクトを
有する後処理される断層像を示す。

【０００５】すなわち上記のＡＲＵフィルタでは再構成
された断層像は主として２つの中央値フィルタリングお
よび平均化の処理を受け、その際に第２の中央値フィル
タリングは、第２の中央値フィルタリングの回転中心に
近いサブマトリックスが示されている断層像の外側に外
側に位置しているときには、行われなくてよい。その他
の点では、それぞれ断層像全体が中央値フィルタリング
および平均化の処理をされる必要はなく、断層像の範囲
のみが中央値フィルタリングおよび平均化の処理をされ
てもよい。

【０００６】パルス状擾乱を抑制するための順位フィル
タの特殊な場合としての中央値フィルタはIWAINSKY,Alf
red:WILHELMI,Wolfgan：Ｌｅｘｉｋｏｎ ｄｅｒ Ｃｏ
ｍｐｕｔｅｒｇｒａｐｈｉｋ ｕｎｄ Ｂｉｌｄｎａｃ
ｈｖｅｒａｒｂｅｉｔｕｎｇ，Braunschweig/Wiesbaden
Friedr.Vieweg & Sohn 出版社、１９９４、第２３５頁
以降、ISBN 3-528-05342-9に記載されている。

【０００７】ＡＲＵフィルタの計算ステップ、特に中央
値フィルタリングおよび平均化のための計算ステップ
は、隣接画素の計算の中間結果が利用可能ではないの
で、行ごとに相次いで断層像の各画素に対して実行され
る。これについて図１および図２は断層像のデカルト座
標ラスター内に存在する像マトリックスの中央値フィル
タリングおよび平均化の処理の際の行ごとの順次の進行
の仕方を示す。この進行の仕方に基づいて、中央値フィ
ルタリングおよび平均化の計算の際に、断層像のデカル
ト座標ラスター内に位置している画素値への大きな数の
メモリアクセスおよび大きな数の計算オペレーションが
必要である。ＡＲＵフィルタの計算ステップの際に、必
要とされる入力データ（画素値）のイッデックス決定が
浮動小数点で、そして離散的なデカルト座標ラスター内
に位置している入力データ（画素値）へのアクセスが相
応の画素における支持個所の最近隣内挿により行われ
る。従って、円弧上の平均化の際に計算時間の理由か
ら、平均化のための画素値を比較的小さな数に制限する
ことを余儀なくされるが、このような比較的小さな数の
画素値によっては断層像内のリングアーティファクトの
抑制が十分な質で行われ得ない。

【０００８】前記の方法の改善は、断層像の像マトリッ
クスの形態でデカルト座標ラスター内に存在しているＡ
ＲＵフィルタの入力データを角度および半径の一定のイ
ンクレメントを有する極座標ラスターに変換内挿するこ
とにある。このことはＡＲＵフィルタにおいて入力デー
タへの簡単な順次のアクセスを可能にする。なぜなら
ば、ＡＲＵフィルタにおいては半径方向にフィルタさ
れ、かつ方位方向に平均化されるからである（図３およ
び図４を参照）。

【０００９】順次のメモリアクセスにより後処理される
断層像の画素値が極座標ラスター内でいま反復的に先に
計算された画素値の結果から計算され得る。隣接画素の
計算の中間結果は評価可能であり、それによって実行す
べき計算オペレーションおよび画素値の計算の際の入力
データへのメモリアクセスが強く減ぜられ得る。ＡＲＵ
フィルタの計算の終了時に出力データは計算ステップ
ｅ）の前に再びデカルト座標ラスターに変換内挿され
る。

【００１０】しかし、角度および半径の一定のインクレ
メントを有する極座標ラスターへの変換内挿が行われる
方法のこのバージョンの欠点は、デカルト座標ラスター
からの変換内挿により入力データのもともとの分解能が
失われないようにするために必要な極座標ラスターの分
解能にある。変換内挿により入力データの分解能に損失
が甘受されなくてよいようにするためには、極座標ラス
ターを、角度および半径の一定のインクレメントが断層
像の回転中心から最も離れている画素においてデカルト
座標ラスターの場所的な分解能に一致するように決定し
なければならない。その結果として、入力データのデー
タ量がデカルト座標ラスターから極座標ラスターへの変
換内挿の際に何倍にも高められなければならない。なぜ
ならば、回転中心により近く位置している像領域はその
場合にデカルト座標ラスター内での走査にくらべて相応
により細かく走査されているからである。極座標ラスタ
ーの際の分解能の理由から必要なデータ量増大の結果は
画素数の増大による計算オペレーションの上昇である。
しかしこのことは画素の計算の際の反復計算により達成
される計算オペレーションの減少に逆作用する。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、断層像内のリングアーティファクトを減ずるための
断層像の後処理の際の中央値フィルタリングおよび平均
化の実行の際にメモリアクセスおよび計算オペレーショ
ンの数が減ぜられるような冒頭で述べた種類の方法およ
びコンピュータトモグラフを提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば、適応リング抑制フィルタリングに基づいて、検査
対象の層の、コンピュータトモグラフの測定フィールド
全体または測定フィールドの一部分を表す再構成された
断層像を後処理するための汎用計算機を有するコンピュ
ータトモグラフのための方法において、断層像全体また
は断層像の一部分を含んでいる範囲の画素値がなかんず
く、 ａ）１つまたはそれ以上の中央値フィルタリングおよび ｂ）平均化の処理を受け、 その際に中央値フィルタリングおよび平均化が多数の実
行方向に沿って行われ、また該範囲の画素値の計算が、
そのつどの実行方向に相続く画素の画素値が相次いで計
算されるように、またはそのつどの実行方向に位置して
いる画素の画素値が少なくともそのつどの実行方向の少
なくとも２つの既に先行の計算のために利用された画素
値を考慮に入れて計算されるように行われることにより
解決される。

【００１３】すなわち従来の技術と相違して、該範囲の
画素値の中央値フィルタリングおよび平均化の際の計算
がもはや各画素に対して行ごとに順次に実行されるので
はなく、画素処理の順序が中央値フィルタリングのフィ
ルタ方向にかつ平均化の方向に適応される。このように
して該範囲の画素値が反復的に先に計算された画素の結
果または中間結果から計算され得る。該範囲の像マトリ
ックスの画素値の処理順序は場所的な経過が極座標ラス
ターによる方法に似ているが、デカルト座標ラスターか
ら極座標ラスターへの入力データの変換内挿を必要とし
ない。極座標ラスターによる方法とは反対に、中央値フ
ィルタリングおよび平均化の際の実行方向での進行にも
かかわらずデカルト座標ラスター内の該範囲の像マトリ
ックスへのアクセスが行われ、それによって分解能の理
由からの入力データ量の増大は必要でない。デカルト座
標ラスター内の該範囲の像マトリックスは本発明による
方法においてはある意味で角度および半径の可変インク
レメントを有する極座標ラスター内のマトリックスとし
て理解され得る。

【００１４】本発明の１つの実施態様では、中央値フィ
ルタリングの際の画素値の選択順序が、断層像により決
定される切断平面内に位置しているコンピュータトモグ
ラフの回転中心を通り該範囲全体をカバーし該範囲の縁
とで２つの交点を有する半径直線に沿って行われる方法
であって、 ａ）縁の各画素から半径直線が回転中心の方向に出発す
るように、該範囲の縁の上の半径直線の交点を選択する
ステップと、 ｂ）半径直線に沿う中央値フィルタリングの実行のため
に半径直線の上の各画素値を表す支持個所を決定するス
テップであって、半径直線の支持個所の間の間隔が予め
設定可能であり、その際に、支持個所の間隔が該範囲の
画素ラスターよりも大きい場合に、半径直線上での中央
値フィルタリングの相応に多くのそれぞれ１画素ずつず
らされた進行が予定され、それにより半径直線により切
られる各画素が中央値フィルタリングをされるステップ
と、 ｃ）半径直線上の決定された支持個所を有する中央値フ
ィルタリングの計算ステップを、半径直線の各々の一方
の交点から出発して他方の交点へ、すなわち該範囲から
の半径直線の出口まで実行するステップであって、その
際に中央値フィルタリングのための計算値としてそれぞ
れ決定された支持個所のすぐ次に位置している画素値が
利用されるステップと を含んでいる。

【００１５】すなわち本発明によれば、ＡＲＵフィルタ
の中央値フィルタリングの計算はコンピュータトモグラ
フの回転中心を通る半径直線に沿ってフィルタ方向に行
われ、その際に、画素またはその値を表すＭ個の支持個
所のうち、１つの直線上の画素の中央値フィルタリング
のために一般に以前の同一の直線上に位置している画素
の計算から既にＭ−１個の支持個所が存在し、これらの
Ｍ−１個の支持個所の画素値が既に分類されていると有
利であることが判明している。すなわち相応の画素の中
央値フィルタリングのためには、半径直線上のすぐ次の
支持個所が支持個所の間隔だけの現在の支持個所の座標
をインクレメントすることにより、またこの支持個所に
属する画素が好ましくは離散的な画素ラスターにおける
最近隣内挿により決定されるだけでよい。続いてこの支
持個所の画素値が中央値決定のために、存在する支持個
所の画素値の順序に分類され、画素値の中央値が決定か
つ記憶される。本発明によれば、こうして、従来の技術
に属する方法にくらべて、デカルト座標ラスター内に存
在する該範囲の入力データに対する計算ステップおよび
メモリアクセスの著しい節減が達成される。

【００１６】本発明の他の実施態様では、画素値の平均
化の際の画素値の選択順序が、回転中心の周りの、該範
囲全体をカバーし、それぞれ２つの端点を有する円軌道
に沿って行われる方法であって、 ａ）一方の端点が回転中心を通り該範囲の画素ラスター
の画素列または画素行に対して平行に延び該範囲を切る
直線上に、または該範囲縁の上に位置するように、かつ
他方の端点が同一の直線上に、これと直交し回転中心を
通って延る直線上に、または該範囲の縁上に位置するよ
うに、その際に該範囲の各画素が少なくとも１回円軌道
により切られるように、円軌道の端点を選択し円軌道の
半径Ｒ（ｎ）を決定するステップと、 ｂ）開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクション上での平
均化のために必要な画素値の数ＮＰＩＸ（ｎ）を決定す
るステップと、 ｃ）各円軌道に該範囲の各画素を対応付けるステップで
あって、回転中心からの画素の間隔が半径Ｒ（ｎ＋１）
またはＲ（ｎ−１）を有する隣接する円軌道よりも半径
Ｒ（ｎ）を有する円軌道に近く位置している場合に、画
素が半径Ｒ（ｎ）を有する円軌道に対応付けられるステ
ップと、 ｄ）開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクション上での平
均化の計算ステップを、円軌道の各々の一方の端点から
出発して、回転中心を通り該範囲の画素ラスターの画素
列または画素行に対して平行に延び該範囲を切る直線上
に、または該範囲の縁上に位置している円軌道の他方の
端点まで実行するステップと を含んでいる。

【００１７】ＡＲＵフィルタの平均化の計算はこうして
本発明によればコンピュータトモグラフの回転中心の周
りの円軌道に沿って平均化の方向に行われる。その際
に、円軌道の開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクション
上の画素の画素値の平均化のために必要であるＮＰＩＸ
（ｎ）画素値のうち一般に同一の円軌道に属する先行の
画素値の計算から既にＮＰＩＸ（ｎ）−１の画素値が存
在し、これらのＮＰＩＸ（ｎ）−１の画素値が既に累算
されていると有利であることが判明している。すなわ
ち、円軌道上のすぐ次の画素のみが決定され、またその
画素値が先行の計算の結果に累算されるだけでよい。同
時に“古い”画素が棄却され、またその画素値が先行の
計算の累算値から差し引かれ得る。その際に、こうして
得られた累算値は記憶前になお値１／ＮＰＩＸ（ｎ）に
より正規化されなければならない。こうして、従来の技
術に属する方法にくらべて、本発明による平均化方法に
よれば、デカルト座標ラスター内に存在する該範囲の入
力データに対する計算ステップおよびメモリアクセスの
著しい節減が達成される。

【００１８】本発明の別の実施態様では、円軌道がそれ
らの半径Ｒ（ｎ）により該範囲の内側および外側範囲に
対応付けられ、その際に内側範囲内の平均化の実行のた
めの円軌道セクションの開角度ＳＰＨＩが外側範囲内の
円軌道セクションの開角度ＳＰＨＩよりも大きい。この
ようにして該範囲の内側および外側範囲内の相い異なる
開角度ＳＰＨＩが実現され、それによって後処理された
断層像の像質がさらに高められる。

【００１９】本発明による方法の中央値フィルタリング
および平均化の計算ステップの際に、必要とされる入力
データのイッデックス決定は浮動小数点で、離散的なデ
カルト座標ラスター内に位置している入力データへのア
クセスは好ましくは最近隣内挿により行われる。この理
由から中央値フィルタリングおよび平均化の際に従来の
技術による方法の場合と等しい精度が達成され、その際
に時間のかかる高い平均化の際に比較的少数の画素値に
制限する必要がなく、従ってアーティファクト補正が改
善される。

【００２０】中央値フィルタリングおよび平均化の際に
隣接画素の計算の中間結果が評価可能であるので、実行
すべき計算オペレーションおよび入力データへのメモリ
アクセスが強く減ぜられ、それによって本発明による方
法の計算時間は従来の技術による方法にくらべて明らか
に短縮されている。

【００２１】検査対象の断層の、コンピュータトモグラ
フの測定フィールド全体または測定フィールドの一部分
を表す再構成された断層像、または断層像の一部分を含
む範囲を後処理する際に、本発明による方法に従って動
作するコンピュータトモグラフはそのために、コスト的
に望ましい計算およびメモリユニットであり必要な計算
能力を有する市販の汎用計算機を有する。

【００２２】本発明の実施態様によれば、コンピュータ
トモグラフは、多くの半径直線に沿う該範囲の画素値の
中央値フィルタリングが並列にマルチプロセッサシステ
ムの別々のプロセッサにより、また多くの円軌道に沿う
該範囲の画素値の平均化が並列にマルチプロセッサシス
テムの別々のプロセッサにより行われることによって、
中央値フィルタリングのための本発明による方法および
平均化のための本発明による方法を並列に処理するマル
チプロセッサシステムを利用する。このようにして中央
値フィルタリングおよび平均化のための計算時間がさら
に減ぜられる。このことは特に実時間で検査対象の層の
リングアーティファクトのない断層像を再構成するため
に有意義である。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の１つの実施例を図
面により一層詳細に説明する。

【００２４】図５は検査対象Ｏの断層の、測定された減
衰値から再構成された断層像を後処理するための本発明
による方法を実施するための汎用計算機８を有するコン
ピュータトモグラフ１を示す。コンピュータトモグラフ
１は扇状のＸ線束４を送り出すＸ線源３と、個別の検出
器チャネルの列から構成されている検出器システム５と
から成る測定システムを有する。Ｘ線束４が出発するＸ
線源３の焦点は参照符号２を付されている。Ｘ線源３は
Ｘ線発生器７から給電される。検査すべき対象Ｏは寝台
６の上に位置している。

【００２５】検査対象Ｏの放射線検査を実行するために
測定システム３、５は本質的に連続的に、検査対象Ｏが
位置している測定フィールド１０の周りを回転する。電
動機１２がそのために、測定システム３、５が取付けら
れている回転台１１を駆動する。測定フィールド１０ま
たはコンピュータトモグラフ１の回転中心は参照符号Ｚ
を付されている。放射線検査の間にこの仕方で検査対象
Ｏに対して相対的に測定システム３、５の種々の角位置
から検査対象Ｏの断層の投影（減衰プロフィル）が撮影
され、その際に測定データ（減衰値）の付属のデータレ
コードが検出器システム５から汎用計算機８に供給さ
れ、この汎用計算機がそれ自体は公知の仕方で検査対象
Ｏの断層の断層像を減衰値から再構成し、これらの断層
像がモニター９の上に画像として表示される。切断平面
内に位置している回転中心Ｚはその際に断層像内に位置
し得るが、必ずしも断層像内に位置しなくてよい。断層
像はそれどころかコンピュータトモグラフ１の測定フィ
ールド１０の切断平面内に位置している任意の一部分を
表し得る。

【００２６】しかし検出器システム５の検出器チャネル
のＸ線放射に対する放射感度の不均一性に基づいて、検
査対象Ｏの断層の再構成された断層像内に、像の観察お
よび評価の際に擾乱として感じられる望ましくないリン
グ状アーティファクト（リングアーティファクト）が生
ずる。このようなリングアーティファクトを抑制するた
めに、再構成された断層像は前記の適応リング抑制フィ
ルタ（ＡＲＵフィルタ）の形式の像後処理を受ける。

【００２７】以下ではＡＲＵフィルタの中央値フィルタ
リングおよび平均化のための本発明にとって重要な方法
のみが一層詳細に考察され、その際にこの実施例の場合
にはコンピュータトモグラフ１の測定フィールド１０の
一部分を表す断層像全体を含む範囲が中央値フィルタリ
ングおよび平均化の処理をされる。

【００２８】本発明によれば、その際にＡＲＵフィルタ
の中央値フィルタリングおよび平均化の計算は断層像の
像マトリックスの各画素に対して行ごとに順次に行われ
るのではなく、中央値フィルタの方向に、または平均化
の方向に行われる。図６および７は断層像のデカルト座
標ラスター内に存在する像マトリックスの中央値フィル
タリングおよび平均化の計算の際の本発明による進行の
仕方を示す。

【００２９】中央値フィルタリングは図６のようにそれ
ぞれ、コンピュータトモグラフ１の回転中心Ｚを通り、
中央値フィルタのフィルタリングの場所を示し、またそ
れぞれ断層像の辺との２つの交点を有する半径直線に沿
って行われる。半径直線の交点はそれぞれ、中央値フィ
ルタリングの処理をすべき断層像全体が半径直線により
覆われているように、すなわち断層像の像マトリックス
の辺の各画素から半径直線が回転中心Ｚの方向に出発す
るように決定される。半径直線の各々に沿っての中央値
フィルタリングの予め設定可能な実行方向に関係して半
径直線と断層像の辺との両交点の１つが半径直線上の中
央値フィルタリングに対する出発値として選ばれる。こ
の実施例の場合には半径直線に沿っての中央値フィルタ
リングの実行方向は常に回転中心Ｚの方向に選ばれてい
る。従って、半径直線または断層像の辺上の出発点を決
定するためには、中央値フィルタリングの処理をすべき
断層像にくらべての回転中心Ｚの位置に応じてケース区
別が行われなければならない。図８はその際に回転中心
Ｚが断層像の内側に位置している特別なケースを示し、
その際にこのケースでは中央値フィルタリングの実行方
向は必然的に少なくとも最初は回転中心Ｚの方向に、ま
たは回転中心Ｚの通過後に回転中心Ｚから離れる方向に
行われる。半径直線の出発点はこのケースでは断層像の
３つの辺上に位置し、その際に補助線と断層像の辺との
交点が最初の半径直線の出発点および最後の半径直線の
出発点を示す。中央値フィルタリングの間に次いで各半
径直線がその出発点から出発して回転中心Ｚの方向にそ
の断層像の辺との第２の交点まで、または断層像からの
半径直線の出口まで通過される（図８の細い矢印を参
照）。半径直線はその際に好ましくは次々と続いて通過
される（図８の太い矢印を参照）。図９ないし１３は、
断層像にくらべての回転中心Ｚの位置に応じて半径直線
の出発点が断層像の回転中心Ｚからそらされた２つまた
は３つの辺上に位置しているケースを示す。中央値フィ
ルタリングの間に次いで再び各直線が断層像の辺上のそ
の出発点から出発して回転中心Ｚの方向に通過され（図
９ないし１３の細い矢印を参照）、その際に直線は再び
好ましくは次々と続いて通過される（図９ないし１３の
太い矢印を参照）。

【００３０】中央値フィルタリングの実行方向および半
径直線の出発点の決定後に、各画素値を表し、中央値フ
ィルタリングの本来の計算のために利用される直線の上
の支持個所の決定が行われる。半径直線上の支持個所間
の間隔は自由に選定可能であり、一般にすべての直線に
対して一定である。支持個所の相互間の間隔の選定はそ
の際に断層像の像特有のパラメータに対応している。中
央値フィルタリングのための半径直線上の支持個所の間
隔はその際に画素ラスターより大きくてもよい。しかし
この場合には中央値フィルタリングの際に半径直線上で
状況によっては画素が飛び越され、こうして中央値フィ
ルタリングがこの画素に対して実行されないであろう。
このことを防止し、支持個所によりすべての画素を完全
にカバーし得るように、支持個所の間隔が画素ラスター
より大きい場合には、断層像の各画素の中央値フィルタ
リングが行われるように、半径直線上で１画素だけずら
されて中央値フィルタリングの引き続いての通過が開始
される。図１４はＭ＝５の支持個所を有する中央値フィ
ルタリングの一例を示す。この例では半径直線Ｇ上の支
持個所の間隔が断層像の画素ラスターの２倍の大きさで
あり、従って直線Ｇにより切られるすべての画素の中央
値フィルタリングのために追加的な第２の、１画素だけ
ずらされた中央値フィルタリングの通過が必要である。
基本的にはその際に離散的な画素ラスターＡＲに関する
支持個所の間隔が１よりも大きいとき、直線に沿っての
ステップ幅ＡＲを有する中央値フィルタリングのｎｉｎ
ｔ（ｘ）の通過が必要である。ここでｎｉｎｔ（ｘ）は
ｘよりば大きいかそれに等しい最小数である。直線に沿
う中央値フィルタリングの通過毎に、次いで各支持個所
Ｓ１ないしＳ７またはＳ１′ないしＳ７′に対して中央
値フィルタリングの計算ステップを実行する必要があ
る。その際に、画素値を表すＭ個の支持個所のうち直線
Ｇの上のすぐ次の画素の中央値フィルタリングのために
一般に以前の、同一の直線Ｇの上に位置している画素の
計算から既にＭ−１の支持個所が存在し、これらのＭ−
１個の支持個所の画素値が既に分類されていると有利で
あることが判明している。すなわち、半径直線上のすぐ
次の支持個所が支持個所の相互間隔だけの現在の支持個
所の座標のインクレメンテーションにより、また支持個
所に属する画素が好ましくは断層像の離散的な画素ラス
ターにおける最近隣内挿によた決定され、またその画素
値が中央値決定のために支持個所の存在している画素値
の順序に分類されるだけでよい。たとえば支持個所Ｓ３
に関する画素の中央値を決定するためには支持個所Ｓ
１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４およびＳ５のアドレス指定が必要
であった。すぐ続いて支持個所Ｓ４に関する画素に対し
て中央値を決定しなければならない。そのために以前の
画素の計算から既に支持個所Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４およびＳ
５に属する画素値が分類された順序で存在している（Ｓ
１は棄却された）。こうして支持個所Ｓ６に属する画素
値をアドレス指定し、またその画素値を相応に分類する
だけでよい。

【００３１】直線Ｇの上の中央値フィルタリングの第２
の通過のための出発点は第１の通過のための出発点から
１画素だけずらされている。図１４は中央値フィルタリ
ングの第１の通過から、１画素だけずらされている第２
の通過への移行を示す。

【００３２】フィルタ方向の中央値フィルタリングの本
発明による実施により、従来の技術に比べて、計算ステ
ップと、デカルト座標ラスター内に存在している断層像
の像マトリックスの入力データへのメモリアクセスとの
著しい節減が可能である。

【００３３】図１５は構造チャートにより再び、回転中
心Ｚを通る半径直線に沿っての中央値フィルタリングの
進行全体を示す。半径直線の出発点はその際に可能であ
れば好ましくは次々と通過され、その際に半径直線の出
発点から開始して中央値フィルタリングの処理が、この
処理をすべき断層像または断層像の範囲内に位置してい
るかぎり、半径直線に沿って行われる。支持個所の間隔
が断層像の離散的な画素ラスターよりも大きく選ばれて
いるならば（ＡＲ＞１）、半径直線上で１画素だけずら
された中央値フィルタリングの通過が開始されなければ
ならず、その際に半径直線により切られる各画素が中央
値フィルタリングの処理を受けるように中央値フィルタ
リングの多くの通過が行われなければならない。

【００３４】直線上に位置し相次いで各支持個所に属す
る画素の中央値フィルタリングは必ずしも相次いで実行
されなくてよく、直線上の中央値フィルタリングの計算
は交互に行われてもよく、その際に計算のために既に中
央値フィルタリングの先行の計算のために利用され従っ
て計算メモリ内に存在している少なくとも２つの画素値
が使用される。このようにして確かに中央値フィルタリ
ングの際のメモリアクセスおよび計算ステップの数が従
来の技術にくらべて減少されるが、この減少は最適では
ない。

【００３５】本発明によれば、画素値の平均化はコンピ
ュータトモグラフ１の回転中心Ｚの周りの、平均化の場
所を示しそれぞれ２つの端点を有する円軌道に沿っての
断層像の後処理の枠内で行われる。円軌道の端点の位置
および半径Ｒ（ｎ）はそれぞれ、断層像全体が円軌道に
より覆われているように、すなわち断層像の像マトリッ
クスの各画素が少なくとも一回は円軌道により切られる
ように決定される。円軌道の上の平均化の予め設定可能
な実行方向に関係して、円軌道の両方の端点のそれぞれ
一方が平均化のための出発点として選ばれる。この実施
例の場合には平均化の実行方向は、それが常に断層像の
像マトリックスの画素行に対して平行に回転中心Ｚを通
って延びている水平な直線Ｈ（図１６の点線の直線を参
照）上で行われるように選ばれている。円軌道に沿って
の平均化の出発点の決定の際に断層像内のまたはその断
層像にくらべての回転中心Ｚの位置に応じてケース区別
が行われなければならない。図１６は回転中心Ｚが断層
像の内側に位置しているケースを示す。円軌道の出発点
は、このケースでは、回転中心Ｚを通って延び、水平な
直線Ｈと直交する直線上に、およびこれらの直線により
切られる断層像の２つの辺上に位置している。多くの出
発点から、半径が等しいが走行方向が相い異なる２つの
円軌道上での平均化の際に水平な直線Ｈに向けて開始さ
れなければならない。平均化の間に次いで各円軌道がそ
の出発点から出発して、断層像の内側に位置ししかも回
転中心Ｚを通る水平な直線Ｈが通過されないかぎり、水
平な直線Ｈの方向に通過される（図１６の細い矢印を参
照）。個々の円軌道はその際に可能なかぎり好ましくは
相次いで通過される（図１６の太い矢印を参照）。図１
７ないし２１は、断層像にくらべての回転中心Ｚの位置
に応じて出発点が断層像の辺上に、しかも回転中心Ｚを
通って延び、水平な直線Ｈと直交し断層像を切る直線上
に位置しているケースを示す。これらのケースでも平均
化の際に円軌道は可能なかぎり好ましくは相次いで（図
１７ないし２１の太い矢印を参照）、それらの出発点か
ら出発して水平な直線Ｈの方向に通過される（図１７な
いし２１の細い矢印を参照）。

【００３６】円軌道の半径Ｒ（ｎ）および出発点を決定
した後に、円軌道がそれらの半径Ｒ（ｎ）により断層像
の内側および外側範囲に対応付けられる。開角度ＳＰＨ
Ｉを有する種々の円軌道セクションにわたる平均化の際
に、内側範囲内では外側範囲内の開角度よりも大きい開
角度ＳＰＨＩが選ばれる。続いて、特定の開角度ＳＰＨ
Ｉを保っての円軌道セクション上の平均化のために必要
な画素値の数の決定が行われる。半径Ｒ（ｎ）を有する
円軌道の円軌道セクション上の特定の開角度ＳＰＨＩに
対する画素の数ＮＰＩＸ（ｎ）は次の式により計算され
得る。

【数１】 ＮＰＩＸ（ｎ）＝ＳＰＨＩ・Ｒ（ｎ）／ＲＰＩＸ ここで ＲＰＩＸ 離散的な画素ラスター ＳＰＨＩ 弧度での開角度 画素の数ＮＰＩＸ（ｎ）はその際に必ず最小でも１でな
ければならない。

【００３７】円軌道上で平均化を実行するため、続い
て、断層像の像マトリックスの画素が円軌道に対応付け
られ、その際に円軌道Ｒ（ｎ）の出発点画素Ｎ_S （ｎ，
ｍ）から出発して、回転中心Ｚからの間隔が隣接する円
軌道の半径Ｒ（ｎ＋１）またはＲ（ｎ−１）よりも半径
Ｒ（ｎ）に近くに位置している隣接画素が探索される。
そのためには、通過すべき画素毎に一般に（走行方向の
現在の画素から）３画素の回転中心Ｚからの間隔を算出
し、それぞれ２つの限界ＲＭＩＮ（ｎ）およびＲＭＡＸ
（ｎ）と比較しなければならない。その際に下式が成り
立つ。

【数２】 ＲＭＩＮ（ｎ）＝Ｒ（ｎ）−ＲＰＩＸ／２ および

【数３】ＲＭＡＸ（ｎ）＝Ｒ（ｎ）＋ＲＰＩＸ／２ ここで ＲＰＩＸ 断層像の離散的な画素ラスター

【００３８】隣接画素の間隔がＲＭＩＮ（ｎ）またはＲ
ＭＡＸ（ｎ）の内側に位置しているならば、その隣接画
素は出発点Ｎ_S （ｎ，ｍ）を有する円弧上のすぐ次の画
素である。図２２は相い異なる出発点Ｎ_S （３，１）、
Ｎ_S （４，１）およびＮ_S （５，１）を有する３つの円
軌道の例について半径Ｒ（３）、Ｒ（４）およびＲ
（５）を有する円軌道への画素の対応付けを示す。

【００３９】円軌道への画素の対応付けの後に開角度Ｓ
ＰＨＩを有する円軌道セクション上の平均化が可能なか
ぎり好ましくは相次いで各円軌道のための出発点を形成
する円軌道の一方の端点から出発して水平な直線Ｈまた
は断層像の辺の上に位置している他方の端点まで行われ
る。平均化はそれぞれ、出発点Ｎ_S （ｎ，ｍ）を有する
円軌道の開角度ＳＰＨＩを持つ円軌道セクション上の特
定の画素Ｎ（ｎ，ｍ）を平均化するために累算すべきで
ある決定された数ＮＰＩＸ（ｎ）の画素値にわたって行
われる。図２２は約３０°の開角度ＳＰＨＩを有する円
軌道セクションにわたる半径Ｒ（４）を有する円軌道の
画素Ｎ（４，９）およびＮ（４，１０）を平均化するた
めの一例を示す。その際にそれぞれＮＰＩＸ（４）＝４
の画素にわたって平均化される。その際に、開角度ＳＰ
ＨＩを有する円軌道セクション上での平均化のために必
要であるＮＰＩＸ（ｎ）の画素値のうち、一般に以前の
同一の円軌道に属する画素値の計算から、既にＮＰＩＸ
（ｎ）−１の画素値が存在し、これらのＮＰＩＸ（ｎ）
−１の画素値が既に累算されていると有利であることが
判明している。すなわち、円軌道上のすぐ次の画素が決
定され、その画素値が先行の計算の結果に累算されるだ
けでよい。同時に“古い”画素が棄却され、その画素値
が先行の計算の累算値から差し引かれ得る。その際にこ
うして得られた画素値は記憶の前になお値１／ＮＰＩＸ
（ｎ）により正規化されなければならない。

【００４０】図２３は再び開角度ＳＰＨＩを有する円軌
道セクションのＮＰＩＸ（ｎ）＝５の画素値にわたる平
均化の進行の一例を示す。当該の画素Ｎ（ｎ，ｍ）の平
均値を決定するためには画素Ｎ（ｎ，ｍ−２）、Ｎ
（ｎ，ｍ−１）、Ｎ（ｎ，ｍ）、Ｎ（ｎ，ｍ＋１）およ
びＮ（ｎ，ｍ＋２）のアドレス指定および累算が必要で
あった。続いて円弧セクションＮ（ｎ，ｍ＋１）上のす
ぐ次の画素に対して平均値の決定を実行しなければなら
ない。そのために円弧セクション上の画素Ｎ（ｎ，ｍ＋
３がアドレス指定され、その画素値が以前の画素Ｎ
（ｎ，ｍ）の平均値形成の結果に加えられる。同時に画
素Ｎ（ｎ，ｍ−２）が棄却され、この画素の画素値が以
前の画素Ｎ（ｎ，ｍ）の平均値形成の結果から差し引か
れる。計算メモリとしてはその際にたとえばＦＩＦＯメ
モリ（先入れ先出し）が用いられる。

【００４１】こうして平均化の本発明による実施例によ
り、計算ステップおよびメモリアクセスが著しく節減さ
れ、それによって計算時間が短縮されることがわかる。
図２４は構造チャートにより再び、回転中心Ｚの周りの
円軌道に沿っての平均化の進行全体を示す。円軌道の最
初の出発点から開始してすべての円軌道が可能なかぎり
好ましくは相次いで通過され、その際に円軌道を通過す
る際に、断層像の内側または断層像の平均化すべき範囲
の内側に位置し、回転中心Ｚを通る水平な直線Ｈが通過
されないかぎり、各々の通過する画素に対して平均化の
ために必要なステップが実行される。

【００４２】コンピュータトモグラフ１は汎用計算機８
の代わりに、または汎用計算機８に追加して、マルチプ
ロセッサシステム１３、たとえば多くのトランスピュー
タを有するトランスピュータシステムを有し得る（図２
５を参照）。このようにして、多くの半径直線に沿って
の中央値フィルタリングおよび多くの円軌道に沿っての
平均化を並列に、すなわち同時に、マルチプロセッサシ
ステム１３の別々のプロセッサにより処理することが可
能にされる。本発明による方法の計算ステップのこのよ
うな並列分割はそれ自体は公知の仕方でそれぞれ使用さ
れるマルチプロセッサシステムの設計規範に注意を払っ
て問題なく行われ得る。処理の間のプロセッサの同期化
は可能であるが、無条件に必要ではない。中央値フィル
タリングまたは平均化の並列処理は中央値フィルタリン
グのための計算時間の再度の減少にも平均化のための計
算時間の再度の減少にも通ずる。このことは実時間での
検査対象Ｏの層のアーティファクトのない断層像を再構
成する際に特に重要である。

【００４３】以上に説明された方法はＸ線放射に基づい
て得られた患者の身体の層の再構成された断層像の後処
理に制限されることなく、その他のリングアーティファ
クトを有する再構成された断層像の画像処理のためにも
使用され得る。従って、本発明によるコンピュータトモ
グラフは必ずしもＸ線放射に基づいて断層像を発生しな
くてよい。

【００４４】さらに、以上に説明された実施例はいずれ
もコンピュータトモグラフの測定フィールドの一部分を
表す断層像全体の中央値フィルタリングまたは平均化に
関するものである。しかし、このような断層像の範囲の
みを本発明による方法により中央値フィルタリングまた
は平均化することもでき、その際に中央値フィルタリン
グをされる範囲は全く互いに、また平均化される範囲か
ら異なっていてよい。すなわち範囲は必ずしも同一でな
くてよい。

【００４５】さらに、後処理すべき断層像はコンピュー
タトモグラフの測定フィールドの一部分を表すだけでな
く、コンピュータトモグラフの測定フィールド全体をも
表し得る。その際に再び、断層像全体または断層像の一
部を含む範囲が中央値フィルタリングまたは平均化の処
理をされ得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】デカルト座標ラスター内に存在している断層像
の像マトリックスの画素値の中央値フィルタリングおよ
び平均化の計算の際の行ごとの順次の進行の仕方の概要
を示す図。

【図２】デカルト座標ラスター内に存在している断層像
の像マトリックスの画素値の中央値フィルタリングおよ
び平均化の計算の際の行ごとの順次の進行の仕方の概要
を示す図。

【図３】極座標ラスター内に存在している断層像の像マ
トリックスの画素値の中央値フィルタリングおよび平均
化の計算の際の順次の進行の仕方の概要を示す図。

【図４】極座標ラスター内に存在している断層像の像マ
トリックスの画素値の中央値フィルタリングおよび平均
化の計算の際の順次の進行の仕方の概要を示す図。

【図５】本発明による方法を実施するためのコンピュー
タトモグラフの構成の概要を示す図。

【図６】デカルト座標ラスター内に存在している断層像
の像マトリックスの回転中心を通る半径直線に沿っての
画素値の中央値フィルタリングおよび回転中心の周りの
円軌道に沿っての画素値の平均化の計算の際の本発明に
よる進行の仕方の概要を示す図。

【図７】デカルト座標ラスター内に存在している断層像
の像マトリックスの回転中心を通る半径直線に沿っての
画素値の中央値フィルタリングおよび回転中心の周りの
円軌道に沿っての画素値の平均化の計算の際の本発明に
よる進行の仕方の概要を示す図。

【図８】中央値フィルタリングをすべき断層像内のまた
はその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半径
直線上または断層像の辺上の出発点を決定するためのケ
ースを示す図。

【図９】中央値フィルタリングをすべき断層像内のまた
はその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半径
直線上または断層像の辺上の出発点を決定するためのケ
ースを示す図。

【図１０】中央値フィルタリングをすべき断層像内のま
たはその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半
径直線上または断層像の辺上の出発点を決定するための
ケースを示す図。

【図１１】中央値フィルタリングをすべき断層像内のま
たはその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半
径直線上または断層像の辺上の出発点を決定するための
ケースを示す図。

【図１２】中央値フィルタリングをすべき断層像内のま
たはその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半
径直線上または断層像の辺上の出発点を決定するための
ケースを示す図。

【図１３】中央値フィルタリングをすべき断層像内のま
たはその断層像にくらべての回転中心の位置に応じて半
径直線上または断層像の辺上の出発点を決定するための
ケースを示す図。

【図１４】支持個所の相互間隔が断層像の離散的な画素
ラスターよりも大きい場合の中央値フィルタリングの進
行を示す図。

【図１５】中央値フィルタリングの進行全体の構造チャ
ート。

【図１６】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図１７】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図１８】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図１９】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図２０】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図２１】断層像内のまたはその断層像にくらべての回
転中心の位置に応じて円軌道に沿っての平均化のための
出発点を決定するためのケースを示す図。

【図２２】半径Ｒ（ｎ）を有する円軌道への断層像の画
素の対応付けおよび開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セク
ションに亘る円軌道の平均化を示す図。

【図２３】開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクションの
５つの画素値に亘る平均化の一例を示す図。

【図２４】回転中心の周りの円軌道の上の平均化の進行
全体の構造チャート。

【図２５】マルチプロセッサシステムを有するコンピュ
ータトモグラフの構成の概要を示す図。

【符号の説明】

１ コンピュータトモグラフ ２ Ｘ線焦点 ３ Ｘ線源 ４ 扇状のＸ線放射束 ５ 検出器システム ６ 寝台 ７ Ｘ線発生器 ８ 汎用計算機 ９ モニター １０ 測定フィールド １１ 回転台 １２ 電動機 １３ マルチプロセッサシステム ＡＲ 画素ラスターに関する支持個所の間隔 Ｇ 半径直線 Ｈ 水平な直線 Ｍ 中央値フィルタリングのための支持個所の数 Ｎ（ｎ，ｍ） 画素 Ｎ_S （ｎ，ｍ） 出発画素 ＮＰＩＸ（ｎ） 画素の数 Ｏ 検査対象 Ｒ（ｎ） 円軌道の半径 ＲＰＩＸ 離散的な画素ラスター ＳＰＨＩ 開角度 Ｓ１〜Ｓ７、Ｓ１′〜Ｓ７′ 支持個所 Ｚ 回転中心

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン ウォールラープ ドイツ連邦共和国 91301 フォルヒハイ ム ケスレーテ 28

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 適応リング抑制フィルタリングに基づい
   て、検査対象（Ｏ）の断層の、コンピュータトモグラフ
   （１）の測定フィールド（１０）全体または測定フィー
   ルド（１０）の一部分を表す再構成された断層像を後処
   理するための汎用計算機（８）を有するコンピュータト
   モグラフ（１）のための方法において、断層像全体また
   は断層像の一部分を含んでいる範囲の画素値がなかんず
   く、 ａ）１つまたはそれ以上の中央値フィルタリングおよび ｂ）平均化の処理を受け、 その際に中央値フィルタリングおよび平均化が多数の実
   行方向に沿って行われ、また該範囲の画素値の計算が、
   そのつどの実行方向に相続く画素の画素値が相次いで計
   算されるように、またはそのつどの実行方向に位置して
   いる画素の画素値が少なくともそのつどの実行方向の少
   なくとも２つの既に先行の計算のために利用された画素
   値を考慮に入れて計算されるように行われることを特徴
   とするコンピュータトモグラフのための方法。
2. 【請求項２】 中央値フィルタリングの際の画素値の選
   択順序が、断層像により決定される切断平面内に位置し
   ているコンピュータトモグラフ（１）の回転中心（Ｚ）
   を通り該範囲全体をカバーし該範囲の縁とで２つの交点
   を有する半径直線（Ｇ）に沿って行われる方法であっ
   て、 ａ）縁の各画素から半径直線（Ｇ）が回転中心（Ｚ）の
   方向に出発するように、該範囲の縁上の半径直線（Ｇ）
   の交点を選択するステップと、 ｂ）半径直線（Ｇ）に沿う中央値フィルタリングの実行
   のために半径直線（Ｇ）上の各画素値を表す支持個所
   （Ｓ１ないしＳ７、Ｓ１′ないしＳ７′）を決定するス
   テップであって、その際に半径直線（Ｇ）の支持個所
   （Ｓ１ないしＳ７、Ｓ１′ないしＳ７′）の間の間隔が
   予め設定可能であり、その際に、支持個所（Ｓ１ないし
   Ｓ７、Ｓ１′ないしＳ７′）の間隔が該範囲の画素ラス
   ターよりも大きい場合に、半径直線（Ｇ）上での中央値
   フィルタリングの相応に多くのそれぞれ１画素ずつずら
   された進行が予定され、それにより半径直線（Ｇ）によ
   り切られる各画素が中央値フィルタリングをされるステ
   ップと、 ｃ）半径直線（Ｇ）上の決定された支持個所（Ｓ１ない
   しＳ７、Ｓ１′ないしＳ７′）を有する中央値フィルタ
   リングの計算ステップを、半径直線（Ｇ）の各々の一方
   の交点から出発して他方の交点へ、すなわち該範囲から
   の半径直線（Ｇ）の出口まで実行するステップであっ
   て、その際に中央値フィルタリングのための計算値とし
   てそれぞれ決定された支持個所（Ｓ１ないしＳ７、Ｓ
   １′ないしＳ７′）のすぐ次に位置している画素値が利
   用されるステップと を含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 画素値の平均化の際の画素値の選択順序
   が、回転中心（Ｚ）の周りの、該範囲全体をカバーし、
   それぞれ２つの端点を有する円軌道に沿って行われる方
   法であって、 ａ）一方の端点が回転中心（Ｚ）を通り該範囲の画素ラ
   スターの画素列または画素行に対して平行に延び該範囲
   を切る直線上に、または該範囲の縁上に位置するよう
   に、かつ他方の端点が同一の直線上に、これと直交し回
   転中心（Ｚ）を通って延びる直線上に、または該範囲の
   縁上に位置するように、またその際に該範囲の各画素が
   少なくとも１回円軌道により切られるように、円軌道の
   端点を選択し円軌道の半径Ｒ（ｎ）を決定するステップ
   と、 ｂ）開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクション上での平
   均化のために必要な画素値の数ＮＰＩＸ（ｎ）を決定す
   るステップと、 ｃ）各円軌道に該範囲の各画素を対応付けるステップで
   あって、回転中心（Ｚ）からの画素の間隔が半径Ｒ（ｎ
   ＋１）またはＲ（ｎ−１）を有する隣接する円軌道より
   も半径Ｒ（ｎ）を有する円軌道に近く位置している場合
   に、画素が半径Ｒ（ｎ）を有する円軌道に対応付けられ
   るステップと、 ｄ）開角度ＳＰＨＩを有する円軌道セクション上での平
   均化の計算ステップを、円軌道の各々の一方の端点から
   出発して、回転中心（Ｚ）を通り該範囲の画素ラスター
   の画素列または画素行に対して平行に延び該範囲を切る
   直線上に、または該範囲の縁上に位置している円軌道の
   他方の端点まで実行するステップと を含んでいることを特徴とする請求項１または２記載の
   方法。
4. 【請求項４】 円軌道がそれらの半径Ｒ（ｎ）により該
   範囲の内側および外側範囲に対応付けられ、その際に内
   側範囲内の平均化の実行のための円軌道セクションの開
   角度ＳＰＨＩが外側範囲内の円軌道セクションの開角度
   ＳＰＨＩよりも大きいことを特徴とする請求項３記載の
   方法。
5. 【請求項５】 検査対象（Ｏ）の断層の、コンピュータ
   トモグラフ（１）の測定フィールド（１０）全体または
   測定フィールド（１０）の一部分を表す再構成された断
   層像、または断層像の一部分を含む範囲を後処理する際
   に、請求項１ないし４の１つの方法に従って動作する汎
   用計算機（８）を有するコンピュータトモグラフ。
6. 【請求項６】 請求項２による方法を並列に処理するマ
   ルチプロセッサシステム（１３）を有し、そ内で多くの
   半径直線（Ｇ）に沿う該範囲の画素値の中央値フィルタ
   リングが並列にマルチプロセッサシステム（１３）の別
   々のプロセッサにより行われることを特徴とする請求項
   ５記載のコンピュータトモグラフ。
7. 【請求項７】 請求項３または４による方法の１つを並
   列に処理するマルチプロセッサシステム（１３）を有
   し、そのなかで多くの円軌道に沿う該範囲の画素値の平
   均化が並列にマルチプロセッサシステム（１３）の別々
   のプロセッサにより行われることを特徴とする請求項５
   記載のコンピュータトモグラフ。