JPH11126973A - Manufacture of multilayered wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayered wiring board

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JPH11126973A
JPH11126973A JP30955897A JP30955897A JPH11126973A JP H11126973 A JPH11126973 A JP H11126973A JP 30955897 A JP30955897 A JP 30955897A JP 30955897 A JP30955897 A JP 30955897A JP H11126973 A JPH11126973 A JP H11126973A
Authority
JP
Japan
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insulating layer
conductor
wiring board
conductive
resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP30955897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sandai Iwasa
山大 岩佐
Yoichi Oba
洋一 大場
Satoyuki Uchida
智行 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd
Priority to JP30955897A priority Critical patent/JPH11126973A/en
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a multilayered wiring board having highly reliable conductive via holes with excellent workability by preforming columnar conductors on a conductor circuit by using conductive high-polymer thick film paste. SOLUTION: After a conductor circuit 2 is formed on a substrate 1, the level difference between the conductor circuit 2 and substrate 1 is eliminated by filling up the spaces of the circuit 2 with an insulating layer 32A. Then columnar conductors 10 are formed on the circuit 2 by using conductive high- polymer thick film paste and the peripheries of the conductors 10 are covered with an insulating layer 32. Thereafter, the head sections of the conductors 10 buried in the insulating layer 32 are exposed by projecting a laser beam upon the layer 32. Finally, a conductor 6 is formed on the entire surface of the insulating layer 32. Therefore, the electrical connectability of via holes can be secured by introducing a process of preforming the via holes as the columnar conductors 10. In addition, the conductors 10 can be manufactured easily by using simple accustomed techniques, such as the printing and thermosetting treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層配線板の製造
方法に係わり、特に導体回路と絶縁層とが交互に積層さ
れヴィアホールにより層間の電気的接続を行う、いわゆ
るビルドアップ多層配線板の製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board, and more particularly, to a so-called build-up multilayer wiring board in which conductive circuits and insulating layers are alternately stacked and electrically connected between layers by via holes. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子通信機器の高性能化、小型化
の要求により、電子部品実装基板の高密度配線技術の進
歩には著しいものがある。特に、半導体素子の高集積
化、多端子化や電子部品の小型化により、プリント配線
板においても高密度化を目的として配線回路が多層に形
成された多層配線板の開発が急激に進んでいる。従来、
多層配線板としては、例えば内層回路が形成された複数
の回路板をプリプレグを絶縁層として積層し、加熱プレ
スして一体化した後、めっきスルーホールによって層間
を接続し導通させた多層配線板が一般的であった。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable progress in high-density wiring technology for electronic component mounting substrates due to demands for higher performance and smaller size of electronic communication devices. In particular, due to the high integration of semiconductor elements, the increase in the number of terminals, and the miniaturization of electronic components, the development of multilayer wiring boards in which wiring circuits are formed in multiple layers for the purpose of increasing the density of printed wiring boards has been rapidly advancing. . Conventionally,
As a multilayer wiring board, for example, a multilayer wiring board in which a plurality of circuit boards on which an inner layer circuit is formed is laminated with a prepreg as an insulating layer, and then heat-pressed and integrated, and the layers are connected to each other by plating through holes to conduct electricity. Was common.

【0003】しかしながら、この多層配線板製造方法で
は、層数が多くなり高密度になるにつれて層間接続のた
めのスルーホールの数が多くなり、導体回路を通すため
の面積が狭められるため、複雑な回路を形成し、かつ高
密度化することが困難になってきていた。このような問
題を解決できる多層配線板として、導体回路と絶縁層を
交互に積層し、層間接続の必要なところのみをヴィアホ
ール(ブラインドスルーホール)で接続するビルドアッ
プ法多層配線板が開発された。ビルドアップ法多層配線
板では、高密度回路が可能となる。
However, in this method of manufacturing a multilayer wiring board, the number of through-holes for interlayer connection increases as the number of layers increases and the density increases, and the area for passing a conductor circuit is reduced. It has become difficult to form circuits and increase the density. As a multilayer wiring board that can solve such problems, a build-up method multilayer wiring board has been developed in which conductive circuits and insulating layers are alternately laminated, and only those parts that require interlayer connection are connected with via holes (blind through holes). Was. High-density circuits are possible with the build-up method multilayer wiring board.

【0004】ビルドアップ法多層配線板の製造工程は、
一般に図2に示す工程からなっている。(1)基材1上
に導体回路2を形成する工程、(2)基板の導体2上
に、層間絶縁層3を形成する工程、(3)層間絶縁層3
の所定の位置に、光または熱によってヴィアホール4を
開ける工程、および(4)ヴィアホール4を形成した層
間絶縁層上に、蒸着、めっきなどの手段により金属導体
6を形成する工程。
[0004] The manufacturing process of the build-up method multilayer wiring board is as follows.
Generally, it comprises the steps shown in FIG. (1) a step of forming a conductive circuit 2 on a substrate 1; (2) a step of forming an interlayer insulating layer 3 on a conductor 2 of a substrate; (3) an interlayer insulating layer 3
And (4) forming a metal conductor 6 on the interlayer insulating layer on which the via hole 4 has been formed by vapor deposition, plating, or the like.

【0005】この工法において層間絶縁層に感光性樹脂
を用いた場合、感光性を付与させつつ絶縁層として要求
される高絶縁性、高ガラス転移温度、高耐熱性、低吸水
率、低誘電率、低誘電損失などを満足する樹脂設計が困
難であるという問題を抱えている。また、光未照射部を
溶剤やアルカリ水溶液を現像液として現像で除去できる
特性を保持しながら、同時に耐デスミア性、耐めっき液
性など耐薬品性を兼備させるという樹脂設計もまた困難
であるという問題を抱えている。
When a photosensitive resin is used for the interlayer insulating layer in this method, high insulation, high glass transition temperature, high heat resistance, low water absorption, and low dielectric constant required for the insulating layer while imparting photosensitivity are provided. However, it is difficult to design a resin that satisfies low dielectric loss and the like. In addition, it is also difficult to design a resin that retains the property that the unirradiated portion can be removed by development using a solvent or an aqueous alkali solution as a developing solution, while at the same time having chemical resistance such as desmear resistance and plating solution resistance. I have a problem.

【0006】一方、層間絶縁層に熱硬化性樹脂を用いた
場合、レーザー光照射によってヴィアホールを開ける
が、ヒートモードのレーザーでは樹脂の一部が炭化し、
ヴィアホールの底部に残留したり、フォトンモードのレ
ーザーでは、絶縁層中の無機フィラーなどがそのまま残
留してしまうことなどにより、後工程での導体形成が不
完全となり接続信頼性に問題が多い。
On the other hand, when a thermosetting resin is used for the interlayer insulating layer, a via hole is opened by irradiating a laser beam. However, in a heat mode laser, a part of the resin is carbonized.
In the case of the laser remaining in the bottom of the via hole or in the photon mode laser, the inorganic filler or the like in the insulating layer remains as it is, so that the formation of the conductor in the subsequent process is incomplete and the connection reliability has many problems.

【0007】また、この工法においてはヴィアホールを
開けた段階で、ヴィアホールが総て所望の形状になって
いるかどうか合否の判定をすることが困難であるという
問題もある。この工法の改良として、電気的接続を上述
した蒸着、めっきなどの手段によりヴィアホールの電気
的接続を得るのではなく、導電性高分子厚膜ペーストを
埋め込んで電気的接続を得る方法も検討されている。こ
れを図2の(5)〜(7)に示した。これは従来の工程
でヴィアホールを開けた段階(図2(3))の後、
(5)ヴィアホール4中に、導電性高分子厚膜ペースト
5をスクリーン印刷などによって埋め込み、これを硬化
させて導電体にする工程、(6)導電体の頭部を機械研
磨で除去する工程、および(7)機械研磨された表面全
体に導体6を形成する工程、からなる。
Further, in this method, it is difficult to determine whether or not all the via holes have a desired shape at the stage when the via holes are opened. As an improvement of this method, a method of obtaining an electrical connection by embedding a conductive polymer thick film paste instead of obtaining an electrical connection of a via hole by the above-described means such as vapor deposition and plating has been studied. ing. This is shown in (5) to (7) of FIG. This is after the step of opening the via hole in the conventional process (FIG. 2 (3)).
(5) A step of embedding the conductive polymer thick film paste 5 in the via hole 4 by screen printing or the like and curing the paste to form a conductor, and (6) a step of removing the head of the conductor by mechanical polishing. And (7) forming a conductor 6 over the entire mechanically polished surface.

【0008】しかしながら、この工法では、直径が数1
00ミクロン以下で、孔の深さが数10ミクロンである
ヴィアホール中に、金属粉末と樹脂バインダーからなる
ペーストを確実に埋め込んで気泡やクラックのない高い
導電性と接続信頼性を確保することは非常に困難であ
り、歩留りが悪く実用化が遅れている。このような従来
のビルドアップ法多層配線板の製造方法の問題点を解決
する方法として、ヴィアポスト型ビルドアップ配線板が
提案された。これは図3のような工程からなる。
However, according to this method, the diameter is several
It is necessary to ensure that a paste consisting of metal powder and a resin binder is buried in a via hole with a depth of several tens of microns, which is not more than 00 microns, to ensure high conductivity without bubbles and cracks and connection reliability. It is very difficult, the yield is poor, and practical application is delayed. As a method of solving such a problem of the conventional method of manufacturing a multilayer wiring board by a build-up method, a via-post type build-up wiring board has been proposed. This is a process as shown in FIG.

【0009】(1)基材1上に導体回路2を形成する工
程、(2)当該基板に感光性樹脂7(ドライフィルムレ
ジスト、フォトレジスト)を塗布・乾燥し、所定のマス
クを介して露光を行った後、現像する工程、(3)現像
で感光性樹脂が除去された孔8の中に、電気めっきなど
の手段でヴィアポストと呼ばれる柱状金属塊9を形成す
る工程、(4)感光性樹脂7を剥離して除去する工程、
(5)ヴィアポスト9を覆う形で、基板全面に熱硬化性
樹脂31を塗布して硬化する工程、(6)熱硬化性樹脂
31に埋没したヴィアポスト頭頂部を露出させるために
機械研磨を行う工程、および(7)ヴィアポスト9を形
成した層間絶縁層上に、蒸着、めっきなどの手段により
金属導体6を形成する工程、
(1) A step of forming a conductive circuit 2 on a substrate 1, (2) A photosensitive resin 7 (dry film resist, photoresist) is applied and dried on the substrate, and exposed through a predetermined mask. And (3) forming a columnar metal block 9 called a via post in the hole 8 from which the photosensitive resin has been removed by development, by means of electroplating or the like, and (4) photosensitizing. Removing and removing the conductive resin 7,
(5) a step of applying and curing the thermosetting resin 31 over the entire surface of the substrate so as to cover the via posts 9; and (6) performing mechanical polishing to expose the top of the via posts buried in the thermosetting resin 31. (7) a step of forming the metal conductor 6 on the interlayer insulating layer on which the via posts 9 are formed by means such as vapor deposition and plating;

【0010】などからなる。このヴィアポスト型ビルド
アップ配線板は、電気接続点をはじめに作ることから、
層間接続信頼性が非常に高いという特徴を有している。
しかしながら、ヴィアポストの形成には非常に多くの工
程を必要とし、材料コストが上がり、歩留りが悪くなる
ことから大幅なコストアップが避けられない、という問
題があった。
And the like. Since this via post type build-up wiring board makes electrical connection points first,
The feature is that the interlayer connection reliability is very high.
However, the formation of the via posts requires a very large number of steps, which raises the problem that the material cost increases and the yield deteriorates, so that a significant increase in cost is unavoidable.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解決し、高い信頼性の導電性ヴィアホール
を有する多層配線板を、優れた作業性の製造法で提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art and provides a multilayer wiring board having highly reliable conductive via holes by a method of manufacturing with excellent workability. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明者らは多層配線板製造プロセスについて鋭
意研究を重ねた結果、導体回路上に予め導電性高分子厚
膜ペーストを用いて柱状導電体を形成することによっ
て、上記の問題が解決することを見出し本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、(1)基板上に導体
回路を形成する工程、(2)基板の導体上に、導電性高
分子厚膜ペーストを用いて柱状導電体を形成する工程、
(3)柱状導電体の周辺を絶縁層で被覆する工程、
(4)絶縁層によって埋没した柱状導電体の頭部をレー
ザー照射で露出させる工程、および(5)表面に導体を
形成する工程、からなる多層基板の製造方法によって、
高い信頼性と優れた作業性の多層配線板を提供する。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present inventors have conducted intensive studies on a process for producing a multilayer wiring board, and as a result, a conductive polymer thick film paste was previously used on a conductive circuit. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by forming a columnar conductor by using this method, and have completed the present invention. That is, the present invention provides (1) a step of forming a conductor circuit on a substrate, (2) a step of forming a columnar conductor on a conductor of the substrate using a conductive polymer thick film paste,
(3) a step of covering the periphery of the columnar conductor with an insulating layer;
(4) A method of manufacturing a multilayer substrate, comprising: a step of exposing a head of a columnar conductor buried by an insulating layer by laser irradiation; and (5) a step of forming a conductor on a surface.
To provide a multilayer wiring board having high reliability and excellent workability.

【0013】以下に本発明による、多層配線板の製造方
法(図1参照)に従って、本発明を詳述する。第1の工
程(図1(1))である基板1上に導体回路2を形成す
る工程は、従来の公知技術を用いることができる。基板
1として一般的にはガラスーエポキシ積層板が広く用い
られるが、紙ーフェノール積層板、アラミド積層板、ビ
スマレイミド積層板、ポリイミド基板、メタルコア基板
などでもよい。導体回路2は、一般的には前記基板1に
銅箔を張り合わせたものをフォトリソグラフィー技術を
応用して所定のパターンとして残すことによって得られ
る。銅箔の代わりに蒸着や無電解および/または電解メ
ッキ法で形成した銅薄膜あるいは銅以外導電性金属薄膜
でもよい。また、スクリーン印刷などの方法で導電性ペ
ーストを印刷し、これを硬化した導電性厚膜でもよい
Hereinafter, the present invention will be described in detail according to a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention (see FIG. 1). In the first step (FIG. 1 (1)) of forming the conductive circuit 2 on the substrate 1, a conventionally known technique can be used. Generally, a glass-epoxy laminate is widely used as the substrate 1, but a paper-phenol laminate, an aramid laminate, a bismaleimide laminate, a polyimide substrate, a metal core substrate, or the like may be used. The conductive circuit 2 is generally obtained by leaving a copper foil bonded to the substrate 1 as a predetermined pattern by applying photolithography technology. Instead of the copper foil, a copper thin film formed by vapor deposition, electroless and / or electrolytic plating, or a conductive metal thin film other than copper may be used. Also, a conductive thick film obtained by printing a conductive paste by a method such as screen printing and curing the conductive paste may be used.

【0014】本発明においては、次の第2の工程に入る
前に、図1(1’)で示すように、配線回路と基材間の
段差に予め絶縁層32Aを充填して平滑化(プレーナー
化)構造にし、以下に述べる第2の工程以降に進む方法
を採用することもできる。
In the present invention, before entering the next second step, as shown in FIG. 1A, a step between the wiring circuit and the base material is filled with an insulating layer 32A in advance and smoothed ( It is also possible to adopt a method of forming a (planarized) structure and proceeding to the second and subsequent steps described below.

【0015】第2の工程(図1(2))として、導体2
上に、導電性高分子厚膜ペーストを用いて柱状導電体1
0を形成する。導電性高分子厚膜ペーストは、導電性粒
子を高分子(樹脂)バインダー中に分散させたもので、
印刷によって所定の場所に所定のサイズで被膜形成後、
これを硬化することにより導電体とするものである。一
般に印刷手段としては、スクリーン印刷やメタルマスク
印刷が用いられる。ここで、導電性粒子としては、金、
銀、銅、ニッケル、カーボン、グラファイトなど任意の
ものが使用できるが、導電性、安定性、コストなどを勘
案して、一般的には銅粉、銀粉または銀めっき銅粉が用
いられる。
As a second step (FIG. 1 (2)), the conductor 2
On top of this, a columnar conductor 1 is formed using a conductive polymer thick film paste.
0 is formed. The conductive polymer thick film paste is obtained by dispersing conductive particles in a polymer (resin) binder.
After forming a film with a predetermined size in a predetermined place by printing,
This is cured to form a conductor. Generally, screen printing or metal mask printing is used as the printing means. Here, as the conductive particles, gold,
Any material such as silver, copper, nickel, carbon, and graphite can be used, but copper powder, silver powder, or silver-plated copper powder is generally used in consideration of conductivity, stability, cost, and the like.

【0016】また、バインダーとしてはエポキシ樹脂、
フェノール樹脂、メラミン樹脂、熱硬化性アクリル樹脂
などの各種熱硬化性樹脂が単独あるいは組み合せて用い
られる。また、樹脂の溶解性や印刷作業性などを考慮し
て、これらの熱硬化性樹脂を有機溶剤、可塑剤などで希
釈して使用することができる。前述したように、従来の
多層配線板の製造方法の1つにヴィアホールを導電性高
分子厚膜ペーストで埋め込む方法も検討されていること
を述べたが、この工法に使用される導電性高分子厚膜ペ
ースト5は無溶剤であることが不可決の条件になってい
る。これは、穴埋め工程以降の工程で熱処理(例えば、
層間絶縁層の熱硬化、部品実装時のはんだ付け、プレッ
シャークッカー試験、耐熱試験、ヒートサイクル試験な
どの加熱)が加わったとき、残留している溶剤の揮発に
よって発泡やフクレなどが発生して接続信頼性が損なわ
れるためである。
Further, epoxy resin as a binder,
Various thermosetting resins such as a phenol resin, a melamine resin, and a thermosetting acrylic resin are used alone or in combination. Further, in consideration of the solubility of the resin and the printing workability, these thermosetting resins can be used after being diluted with an organic solvent, a plasticizer, or the like. As described above, a method of embedding a via hole with a conductive polymer thick film paste has been considered as one of the conventional methods for manufacturing a multilayer wiring board. It is an undetermined condition that the molecular thick film paste 5 is solvent-free. This is because heat treatment (for example,
Heating of the interlayer insulation layer, soldering during component mounting, heating in pressure cooker test, heat resistance test, heat cycle test, etc.), foaming and blistering occur due to volatilization of the remaining solvent and connection This is because the reliability is impaired.

【0017】これに対し、本発明の工法で使用される導
電性高分子厚膜ペースト10にはこの制限がない。何故
なら、図1(2)をみても明らかなように、本発明にお
いては導電性高分子厚膜ペーストが柱状に印刷され、熱
硬化されるが、この柱状体10は開放状態にあり、熱硬
化時に溶剤の気散がきわめて容易で確実に行うことがで
きるからである。このことにより、比較的無溶剤化が困
難であるフェノール樹脂、メラミン樹脂、硬化性アクリ
ル樹脂なども本発明の導電性高分子厚膜ペースト用樹脂
として採用することができる。
On the other hand, the conductive polymer thick film paste 10 used in the method of the present invention does not have this limitation. This is because, as is apparent from FIG. 1 (2), in the present invention, the conductive polymer thick film paste is printed in a columnar shape and thermoset, but the columnar body 10 is in an open state, This is because gas diffusion of the solvent is extremely easy and can be surely performed at the time of curing. As a result, a phenol resin, a melamine resin, a curable acrylic resin, or the like, which is relatively difficult to eliminate the solvent, can be used as the conductive polymer thick film paste resin of the present invention.

【0018】また、エポキシ樹脂を用いる場合でも、ビ
スフェノールAやビスフェノールFタイプの液状樹脂ば
かりでなく、固形樹脂のノボラックエポキシや各種多官
能エポキシ樹脂を溶剤に溶かしてバインダーとして用い
ることが可能になり、その結果、信頼性の高い柱状導電
体10を形成することができる。また、例え無溶剤であ
っても、熱硬化性樹脂は硬化時に一定の収縮が避けられ
ないので、ヴィアホールを導電性高分子厚膜ペーストで
埋め込む場合には空隙が発生したり内部に応力が残留す
る恐れがあるのに、本発明では柱状体のXY方向とZ方
向に自由に収縮することができ、柱状体に空隙ができた
り残留応力が残りにくく信頼性の高い柱状導電体10が
得られる。この工程において、所定の位置に所定のサイ
ズで所定の導電性の柱状導電体10が完成しているかど
うかを目視やチェッカーで検査することが容易であるこ
とも本発明の大きな特徴である。また、柱状導電体を電
鋳法で電解銅めっきで作製するという図2に示した従来
技術に比べ、本発明の工法は印刷と熱硬化という非常に
簡単なプロセスであるため、製品の歩留りが高く、著し
くコスト低減が可能であるという特徴を有している。
Further, even when an epoxy resin is used, not only bisphenol A or bisphenol F type liquid resin but also solid resin novolak epoxy or various polyfunctional epoxy resins can be dissolved in a solvent and used as a binder. As a result, a highly reliable columnar conductor 10 can be formed. In addition, even if the solvent is not used, a certain degree of shrinkage of the thermosetting resin is inevitable during curing.Therefore, when the via holes are filled with the conductive polymer thick film paste, voids are generated or internal stress is generated. According to the present invention, the columnar body can be freely contracted in the X and Y directions and the Z direction even though there is a possibility that the columnar body will remain. Can be In this step, it is also a major feature of the present invention that it is easy to visually inspect or check with a checker whether or not the predetermined conductive columnar conductor 10 having a predetermined size and a predetermined size is completed. In addition, compared to the prior art shown in FIG. 2 in which columnar conductors are formed by electrolytic copper plating by electroforming, the method of the present invention is a very simple process of printing and thermosetting, so that the product yield is low. It has a feature that it is expensive and can significantly reduce the cost.

【0019】第3の工程として、柱状導電体10の周辺
を絶縁層32で被覆する。ここで、絶縁層32は、光硬
化性または/および熱硬化性樹脂組成物が用いられる。
この絶縁層32は、従来のビルドアップ法多層配線板の
製造方法で層間絶縁層として使用されていたものより材
料設計が容易となる。すなわち、本発明で感光性樹脂を
絶縁層32とする場合、絶縁層32全面に光照射して硬
化させるので、感光性を有しながら絶縁層として要求さ
れる高絶縁性、高ガラス転移温度、高耐熱性、低吸水
率、低誘電率、低誘電損失などを満足する樹脂設計を行
えば良く、現像工程が不要なため、耐デスミア性、耐め
っき液性などを兼備させることが容易になる。
As a third step, the periphery of the columnar conductor 10 is covered with an insulating layer 32. Here, for the insulating layer 32, a photocurable or / and thermosetting resin composition is used.
The material design of the insulating layer 32 is easier than that of the insulating layer 32 used as an interlayer insulating layer in a conventional build-up method of manufacturing a multilayer wiring board. That is, when the photosensitive resin is used as the insulating layer 32 in the present invention, the entire surface of the insulating layer 32 is irradiated with light and cured, so that the insulating layer 32 has high insulating properties and high glass transition temperature required while having photosensitivity. It is only necessary to design a resin that satisfies high heat resistance, low water absorption, low dielectric constant, low dielectric loss, etc., and since a development process is unnecessary, it is easy to combine desmear resistance, plating solution resistance, etc. .

【0020】本発明に用いられる感光性樹脂は、感光性
樹脂、光重合触媒とフィラーを含み、必要に応じ感光性
モノマーや有機溶剤で希釈しペースト状としたものであ
り、スクリーン印刷、浸漬塗布、スプレー塗布、カーテ
ン塗布、遠心塗布などで塗布される。塗布後、必要に応
じ乾燥し、光照射して硬化される。光反応によってBス
テージ化し、この段階で次工程の機械研磨を行ってか
ら、さらに光硬化を行うか熱硬化を行って、絶縁層32
の諸物性を向上させることもできる。
The photosensitive resin used in the present invention contains a photosensitive resin, a photopolymerization catalyst and a filler, and is diluted with a photosensitive monomer or an organic solvent, if necessary, to form a paste. , Spray coating, curtain coating, centrifugal coating and the like. After the application, it is dried if necessary and cured by light irradiation. At the B stage by the photoreaction, the mechanical polishing of the next process is performed at this stage, and then the photocuring or the thermosetting is further performed to form the insulating layer 32
Can be improved in various physical properties.

【0021】一方、層間絶縁層32に熱硬化性樹脂を用
いる場合、樹脂の種類やフィラーの選定に制限を受ける
ことが少なく、層間絶縁膜として多くの熱硬化性樹脂や
機能性フィラーを選択して使用することができる。本発
明に用いられる熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベ
ンゾグアナミン樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化型ポリフェニレンエーテ
ル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂などの各種熱硬化性樹脂
が単独あるいは組み合せて用いられる。必要に応じ、フ
ィラーを添加したり、硬化触媒を加えたりする。これら
は有機溶剤で希釈しペースト状として塗布される。
On the other hand, when a thermosetting resin is used for the interlayer insulating layer 32, there is little restriction on the type of resin and the choice of filler, and many thermosetting resins and functional fillers are selected for the interlayer insulating film. Can be used. The thermosetting resin used in the present invention includes epoxy resin, phenol resin, xylene resin, melamine resin, urea resin, benzoguanamine resin, bismaleimide resin, polyamide resin, polyimide resin, thermosetting polyphenylene ether resin, thermosetting acrylic Various thermosetting resins such as resins are used alone or in combination. If necessary, a filler or a curing catalyst is added. These are diluted with an organic solvent and applied as a paste.

【0022】塗布方法としては、スクリーン印刷、浸漬
塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、遠心塗布などであ
る。塗布後、必要に応じ乾燥し、本硬化される。硬化反
応を制御してBステージ化し、この段階で次工程の機械
研磨を行ってから、さらに熱硬化を行って絶縁層32の
諸物性を向上させることもできる。
The coating method includes screen printing, dip coating, spray coating, curtain coating, centrifugal coating and the like. After the application, the coating is dried and cured as needed. The curing reaction can be controlled to achieve the B stage. At this stage, mechanical polishing in the next step is performed, and then thermal curing is further performed to improve various physical properties of the insulating layer 32.

【0023】第4の工程(図1(4))は、絶縁層によ
って埋没した柱状導電体10の頭部をレーザー照射で露
出させる工程である。レーザー照射機としては、YAG
レーザーや炭酸ガスレーザーのようなヒートモードのも
のやエキシマレーザーのようなフォトンモードのものが
共に使用できる。前述したように従来例(図2)でも絶
縁層に熱硬化性樹脂を用いた場合、レーザー光照射によ
ってヴィアホールを開けるが、ヒートモードのレーザー
では樹脂の一部が炭化し、ヴィアホールの底部に残留し
たり、フォトンモードのレーザーでは、絶縁層中の無機
フィラーなどがそのまま残留してしまうことなどによ
り、後工程での導体形成が不完全となり接続信頼性に問
題が多いことを指摘したが、本発明においては、レーザ
ー加工する深さが従来の10分の1程度以下と極端に浅
いため、ヒートモードでも処理時間が短くて済むことか
ら炭化が少なく、フォトンモードでも残留したフィラー
類が洗浄によってきわめて容易に除去できるので問題が
ない。
The fourth step (FIG. 1D) is a step of exposing the head of the columnar conductor 10 buried by the insulating layer by laser irradiation. As a laser irradiator, YAG
Both a heat mode such as a laser and a carbon dioxide laser and a photon mode such as an excimer laser can be used. As described above, also in the conventional example (FIG. 2), when a thermosetting resin is used for the insulating layer, a via hole is opened by irradiating a laser beam. However, it was pointed out that, in the case of photon mode laser, inorganic fillers etc. in the insulating layer remained as they were, resulting in incomplete conductor formation in the subsequent process and many problems in connection reliability. In the present invention, the laser processing depth is extremely shallow, about one-tenth or less of the conventional depth, so that the processing time is short even in the heat mode, so that carbonization is small, and the remaining fillers are cleaned even in the photon mode. There is no problem because it can be removed very easily.

【0024】第5の工程は、表面全体に導体6を形成す
る工程である。この工程は従来の工法において行われた
工程と同様である。すなわち、一般には、スルーホール
内のデスミア処理として使われている過マンガン酸塩に
よるエッチングを行ってから無電解銅めっきを施し、つ
いで電気銅めっきをかけて、基板表面全面に導電層6を
形成する。このような(1)から(5)の工程を繰り返
すことによって本発明の多層配線板が製造される。
The fifth step is a step of forming the conductor 6 on the entire surface. This step is the same as the step performed in the conventional method. That is, in general, etching is performed using permanganate, which is used as a desmear treatment in a through hole, and then electroless copper plating is performed, followed by electrolytic copper plating to form a conductive layer 6 on the entire surface of the substrate. I do. By repeating the steps (1) to (5), the multilayer wiring board of the present invention is manufactured.

【0025】本発明による多層配線板製造方法は以下の
特徴を有している。 1)予めヴィアホールを導電性の柱状体(柱状導電体)
として形成する工程を導入したことによって、確実にヴ
ィアホールの電気的接続性を確保できる。 2)この柱状導電体は、印刷と熱硬化処理といった簡便
で使い慣れた手法で短時間に容易に作製することができ
る。 3)柱状導電体としては、一般に広く使用されている導
電性の高分子厚膜ペースト(PTF、Polymer
Thick Film)が使用できる。この導電性PT
Fペーストは必ずしも無溶剤型である必要がない。 4)柱状導電体が形成された段階で、導体が設計通りで
きているかどうか容易に検査することができる。 5)柱状導電体を支持し電気的絶縁体として働く層間絶
縁層材料として、従来の工法に比べ多様な材料の適用が
可能となる。 6)絶縁層形成のためドライフィルムやレジストインク
が使用できる。レジストインキとしては、必ずしも無溶
剤性のものである必要がない。 7)レーザー照射処理には市販の各種照射装置がそのま
ま使用でき、しかも処理時間はきわめて短時間で済むの
でランニングコストも低く抑えられる。
The method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention has the following features. 1) Via-holes are previously formed in conductive pillars (pillar conductors)
By introducing the step of forming the via hole, the electrical connectivity of the via hole can be reliably ensured. 2) The columnar conductor can be easily manufactured in a short time by a simple and familiar technique such as printing and thermosetting. 3) As the columnar conductor, a conductive polymer thick film paste (PTF, Polymer) generally used widely is used.
Thick Film) can be used. This conductive PT
The F paste does not necessarily need to be a solventless type. 4) At the stage when the columnar conductor is formed, it can be easily inspected whether the conductor is as designed. 5) Various materials can be applied as an interlayer insulating layer material that supports the columnar conductor and functions as an electrical insulator, as compared with the conventional method. 6) A dry film or a resist ink can be used for forming an insulating layer. The resist ink does not necessarily need to be solventless. 7) Various types of commercially available irradiation apparatuses can be used as they are for the laser irradiation processing, and the processing time is extremely short, so that the running cost can be kept low.

【0026】[0026]

【実施例】本発明による多層配線板の製造方法を以下の
実施例に示した。本発明がこれらの実施例に限定される
ものでないことは言うまでもない。また、実施例中の割
合を示す単位記号「部」は重量部を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention is shown in the following examples. It goes without saying that the present invention is not limited to these examples. Further, the unit symbol “part” indicating the ratio in the examples indicates part by weight.

【0027】(実施例1) 1)銅ペースト(PTF−C−1と略) 10%銀被覆銅粉末90部、エポキシ樹脂(油化シェル
製、エピコート806L)7部、エポキシ希釈剤(旭電
化製、グリシドールED502)3部、エポキシ硬化剤
(味の素製、アミキュアPN23)2.5部、分散剤
(東邦化学製、デイスパントPN160)0.5部を混
合した後、3本ロールを用いて混練し粘度700PS
(ポイズ)の銅ペーストを得た。 2)次いで、銅張り積層板(銅箔の厚さ18μm)の表
面を常法によりフォトエッチングして得られた印刷配線
板の配線上の所定位置にスクリーン印刷により、銅ペー
ストPTF−C−1を印刷した。スクリーン印刷には、
スクリーン印刷機を用い、スクリーン版としてステンレ
ス350メッシュ、乳剤厚20μmのものを用い、2回
印刷して直径150μmの柱状体を作製した。銅ペース
ト柱状体の印刷された印刷配線板を80℃30分乾燥の
後150℃30分熱硬化して柱状導電体(銅箔上の高さ
約45μm)とした。
(Example 1) 1) Copper paste (abbreviated as PTF-C-1) 90 parts of 10% silver-coated copper powder, 7 parts of epoxy resin (manufactured by Yuka Shell, Epicoat 806L), epoxy diluent (Asahi Denka) Glycidol ED502), 2.5 parts of an epoxy curing agent (manufactured by Ajinomoto, Amicure PN23) and 0.5 part of a dispersant (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., dispersant PN160), and then kneaded using a three-roll mill. Viscosity 700PS
(Poise) copper paste was obtained. 2) Next, a copper paste PTF-C-1 is screen-printed at a predetermined position on a wiring of a printed wiring board obtained by photo-etching the surface of a copper-clad laminate (copper foil thickness 18 μm) by an ordinary method. Was printed. For screen printing,
Using a screen printing machine, a screen plate of 350 mesh stainless steel and an emulsion thickness of 20 μm was printed twice to produce a columnar body having a diameter of 150 μm. The printed wiring board on which the copper paste column was printed was dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then heat-cured at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a columnar conductor (about 45 μm high on a copper foil).

【0028】3)絶縁ペースト(PTF−I−1と略) クレゾールノボラックエポキシ樹脂の50%アクリル化
物75部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
5部、エポキシ樹脂(油化シェル製、エピコート100
7)20部、光重合開始剤(チバ・ガイギー製、イルガ
キュア651)5部、熱硬化触媒(四国化成製、2P4
MHZ)5部、シリカ(龍森製、クリスタライト)40
部、ブチルセロソルブアセテート20部を混合した後、
3本ロールで混練し粘度400psに調整した。 4)柱状導電体を形成した印刷回路板の表面全面に、1
20メッシュ、乳剤厚20μmのスクリーン印刷版を用
いて絶縁ペーストPTFーIー1を2回印刷し、70℃
で30分乾燥させて乾燥膜厚約50μm(銅箔上)の絶
縁層を形成した。 5)次いで、高圧水銀灯で500mJ/cm2の全面露
光を行った後、100℃1時間熱処理を行った。
3) Insulating paste (abbreviated as PTF-I-1) 75 parts of a 50% acrylate of cresol novolak epoxy resin, 5 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, epoxy resin (manufactured by Yuka Shell, Epicoat 100)
7) 20 parts, photopolymerization initiator (Circa Geigy, Irgacure 651) 5 parts, thermosetting catalyst (Shikoku Chemicals, 2P4)
MHZ) 5 parts, Silica (Crystalite, Tatsumori) 40
After mixing 20 parts of butyl cellosolve acetate,
The mixture was kneaded with three rolls to adjust the viscosity to 400 ps. 4) The entire surface of the printed circuit board on which the columnar conductor is formed,
The insulating paste PTF-I-1 was printed twice using a screen printing plate having a thickness of 20 mesh and an emulsion thickness of 20 μm, and was printed at 70 ° C.
For 30 minutes to form an insulating layer having a dry film thickness of about 50 μm (on the copper foil). 5) Next, after performing 500 mJ / cm 2 whole surface exposure with a high pressure mercury lamp, heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 hour.

【0029】6)高ピーク短パルス炭酸ガスレーザー
(波長10.6μm、ピーク出力5kW、パルス幅40
μs、1パルス当りのエネルギー密度0.2J、パルス
周波数20Hz)で20ショット照射して、銅ペースト
PTFーCー1硬化物である柱状導電体の頭部を露出さ
せた。 7)このようにして露出した柱状導電体を有する印刷配
線板表面を、常法に従って、クロム酸塩処理で表面粗化
した後、中和処理、水洗、化学銅めっき処理、電気銅め
っきして均一に20μmの導体を形成してから、アニー
ル処理を150℃で2時間行った。このアニール処理で
絶縁層の熱硬化が進行する。 8)次いで、常法によりフォトエッチングでこの導体を
エッチングして回路を形成した。
6) High peak short pulse carbon dioxide laser (wavelength 10.6 μm, peak output 5 kW, pulse width 40)
Irradiation was performed for 20 shots at μs, an energy density per pulse of 0.2 J, and a pulse frequency of 20 Hz) to expose the head of the columnar conductor, which was a cured copper paste PTF-C-1. 7) The surface of the printed wiring board having the columnar conductor exposed in this way is roughened by chromate treatment according to a conventional method, and then subjected to neutralization treatment, water washing, chemical copper plating treatment, and electrolytic copper plating. After uniformly forming a 20 μm conductor, annealing was performed at 150 ° C. for 2 hours. The heat treatment of the insulating layer proceeds by this annealing treatment. 8) Next, the conductor was etched by photoetching in a conventional manner to form a circuit.

【0030】(実施例2) 1)銅張り積層板(銅箔の厚さ18μm)の表面を常法
によりフォトエッチングして得られた印刷配線板の配線
上の所定位置にスクリーン印刷により、銅ペーストPT
FーCー1を印刷した。スクリーン印刷には、メタルマ
スク(ステンレス板厚さ50μm)を用い、直径150
μmの柱状体を作製した。銅ペースト柱状体の印刷され
た印刷配線板を80℃30分乾燥の後150℃60分熱
硬化して柱状導電体(高さ約45μm)とした。
Example 2 1) A copper-clad laminate (copper foil having a thickness of 18 μm) was screen-printed at a predetermined position on a wiring of a printed wiring board obtained by photoetching the surface of the printed wiring board by a conventional method. Paste PT
FC-1 was printed. For screen printing, use a metal mask (stainless steel plate thickness: 50 μm), diameter 150
A μm column was produced. The printed wiring board on which the copper paste column was printed was dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then heat-cured at 150 ° C. for 60 minutes to obtain a columnar conductor (about 45 μm in height).

【0031】2)絶縁ペースト(PTFーI−2と略) クレゾールノボラックエポキシ樹脂(大日本インク製、
Nー680の固形分70%ブチルセロソルブ溶液)30
部、エポキシ樹脂(油化シェル製、エピコート100
1、固形分70%ブチルセロソルブ溶液)20部、エポ
キシ樹脂(油化シェル製、エピコート828)10部、
熱硬化触媒(日本化薬製、カヤハードAーS)5部、シ
リカ(龍森製、クリスタライト)20部、炭酸カルシウ
ム10部、タルク5部、ブチルセロソルブアセテート2
0部を混合した後、3本ロールで混練し粘度300ps
に調整した。 3)柱状導電体を形成した印刷回路板の表面全面に、1
00メッシュテトロン版、乳剤厚15μmのスクリーン
印刷版を用いて絶縁ペーストPTFーIー2を2回印刷
し、80℃で30分乾燥し、次いで、150℃30分熱
処理を行って乾燥膜厚約47μm(銅箔上)の絶縁層を
形成した。
2) Insulating paste (abbreviated as PTF-I-2) Cresol novolak epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink.
N-680 solid content 70% butyl cellosolve solution) 30
Part, epoxy resin (made by Yuka Shell, Epicoat 100
1. 20 parts of a 70% butyl cellosolve solution in solid content), 10 parts of an epoxy resin (manufactured by Yuka Shell, Epicoat 828),
5 parts of thermosetting catalyst (manufactured by Nippon Kayaku, Kayahard AS), 20 parts of silica (crystallite, Tatsumori), 10 parts of calcium carbonate, 5 parts of talc, butyl cellosolve acetate 2
After mixing 0 parts, kneading with 3 rolls and viscosity of 300ps
Was adjusted. 3) The entire surface of the printed circuit board on which the columnar conductors are formed,
The insulating paste PTF-I-2 was printed twice using a 00 mesh tetron plate and a screen printing plate having an emulsion thickness of 15 μm, dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a dry film thickness of about An insulating layer of 47 μm (on copper foil) was formed.

【0032】4)柱状導電体部分に孔の開いた金属製マ
スクをコンタクトさせKrFエキシマレーザー(波長2
48nm、エネルギー密度1.3J/cm2、周波数1
00Hz)を10ショット照射した。これによって銅ペ
ーストPTFーCー1硬化物である柱状導電体の頭部を
露出した。 5)このようにして露出した柱状導電体を有する印刷配
線板表面をイソプロピルアルコールで超音波洗浄した
後、常法に従って、クロム酸塩処理で表面祖化した後、
中和処理、水洗、化学銅めっき処理、電気銅めっきして
均一に20μmの導体を形成してから、アニール処理を
150℃で2時間行った。
4) A KrF excimer laser (wavelength 2)
48 nm, energy density 1.3 J / cm 2 , frequency 1
00 Hz) for 10 shots. As a result, the head of the columnar conductor, which was a cured product of the copper paste PTF-C-1, was exposed. 5) After the surface of the printed wiring board having the columnar conductor exposed in this way is ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, the surface is ground by chromate treatment according to a conventional method.
Neutralization treatment, water washing, chemical copper plating treatment, and electrolytic copper plating were performed to uniformly form a 20 μm conductor, and then annealing treatment was performed at 150 ° C. for 2 hours.

【0033】(実施例3)導電性金属ペーストとしてP
TFーCー1の代わりにPTFーCー2を、絶縁ペース
トとしてはPTFーIー2を用いた他は実施例1と同様
にして印刷配線板を作製した。本実施例に使用した銀ペ
ースト(PTFーCー2)は以下のように調整した。銀
粉70部、エポキシ樹脂(油化シェル製、エピコート1
007)を固形分60%のブチルセロソルブ溶液とした
もの7.5部、メチル化メラミン樹脂(三和ケミカル
製、固形分70%ブチルセロソルブ/イソプロピルアル
コール混合溶液)15部を混合した後、揮発性溶剤を除
去してから3本ロールを用いて混練し、ブチルカルビト
ールで希釈して粘度500PSの銅ペーストを得た。
(Example 3) P as a conductive metal paste
A printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that PTF-C-2 was used instead of TF-C-1 and PTF-I-2 was used as the insulating paste. The silver paste (PTF-C-2) used in this example was prepared as follows. 70 parts of silver powder, epoxy resin (made by Yuka Shell, Epicoat 1
007) was mixed with 7.5 parts of a butyl cellosolve solution having a solid content of 60%, and 15 parts of a methylated melamine resin (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., mixed solution of 70% butyl cellosolve / isopropyl alcohol) was mixed with a volatile solvent. After removal, the mixture was kneaded using three rolls and diluted with butyl carbitol to obtain a copper paste having a viscosity of 500 PS.

【0034】(実施例4)本発明の、導体回路上に予め
導電性高分子厚膜ペーストを用いて柱状導電体を形成し
たブラインドスルーホールの接続信頼性をMIL−ST
D−202Fの熱衝撃試験Method 107G、C
ondition C(−65℃〜+200℃)で評価
した結果、実施例1〜3で作製したものは、いずれも1
00サイクルまで試験した結果、いずれも断線が発生し
なかった。
(Embodiment 4) According to the present invention, the connection reliability of a blind through-hole in which a columnar conductor was previously formed on a conductor circuit by using a conductive polymer thick film paste was evaluated by MIL-ST.
D-202F Thermal Shock Test Method 107G, C
As a result of evaluation at condition C (−65 ° C. to + 200 ° C.), each of the samples produced in Examples 1 to 3 was 1
As a result of the test up to 00 cycles, no disconnection occurred.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法によれ
ば、信頼性が高いビルドアップ多層配線板が安価に製造
できるので、産業上寄与するところがきわめて大きい。
As described above, according to the method of the present invention, a highly reliable build-up multilayer wiring board can be manufactured at a low cost, which greatly contributes industrially.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層配線板の製造方法FIG. 1 shows a method for manufacturing a multilayer wiring board of the present invention.

【図2】従来の多層配線板の製造方法FIG. 2 shows a conventional method for manufacturing a multilayer wiring board.

【図3】従来の改良された多層配線板の製造方法FIG. 3 shows a conventional method for manufacturing an improved multilayer wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 導体回路 3 層間絶縁層 4 ヴィアホール 5 導電性高分子厚膜 6 金属導体 7 感光性樹脂 8 孔 9 ヴィアポスト 10 柱状導電体 31 絶縁層 32 絶縁層 32A 絶縁層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Conductive circuit 3 Interlayer insulating layer 4 Via hole 5 Conductive polymer thick film 6 Metal conductor 7 Photosensitive resin 8 Hole 9 Via post 10 Columnar conductor 31 Insulating layer 32 Insulating layer 32A Insulating layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導体回路と絶縁層とが多層に積層されて
なり、ヴィアホールによって回路間の導通をうる多層配
線板の製造方法において、(1)基板上に導体回路を形
成する工程、(2)基板の導体上に、導電性高分子厚膜
ペーストを用いて柱状導電体を形成する工程、(3)柱
状導電体の周辺を絶縁層で被覆する工程、(4)絶縁層
によって埋没した柱状導電体の頭部をレーザー照射によ
って露出させる工程、および(5)表面に導体を形成す
る工程、からなることを特徴とする多層基板の製造方
法。
1. A method of manufacturing a multilayer wiring board in which a conductive circuit and an insulating layer are laminated in a multi-layer, and a circuit between the circuits is provided by a via hole, (1) a step of forming a conductive circuit on a substrate; 2) a step of forming a columnar conductor on the conductor of the substrate using a conductive polymer thick film paste; (3) a step of coating the periphery of the columnar conductor with an insulating layer; and (4) a step of burying the columnar conductor. A method of manufacturing a multilayer substrate, comprising: a step of exposing a head of a columnar conductor by laser irradiation; and (5) a step of forming a conductor on a surface.
【請求項2】 導電性高分子厚膜ペーストが、導電性金
属粉末と熱硬化性樹脂とを必須成分として含有すること
を特徴とする請求項1に記載の多層基板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the conductive polymer thick film paste contains a conductive metal powder and a thermosetting resin as essential components.
【請求項3】 導電性高分子厚膜ペーストを印刷によっ
て柱状に形成し、これを熱硬化することによって柱状導
電体とすることを特徴とする請求項1に記載の多層基板
の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the conductive polymer thick film paste is formed into a column shape by printing, and is thermally cured to form a columnar conductor.
【請求項4】 絶縁層が光硬化性または/および熱硬化
性樹脂組成物であることを特徴とする請求項1に記載の
多層基板の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the insulating layer is a photocurable and / or thermosetting resin composition.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8110118B2 (en) 2006-10-18 2012-02-07 Yazaki Corporation Method of manufacturing circuit board

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