JPH11119204A - Substrate with color filter - Google Patents

Substrate with color filter

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JPH11119204A
JPH11119204A JP28340797A JP28340797A JPH11119204A JP H11119204 A JPH11119204 A JP H11119204A JP 28340797 A JP28340797 A JP 28340797A JP 28340797 A JP28340797 A JP 28340797A JP H11119204 A JPH11119204 A JP H11119204A
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JP
Japan
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substrate
recognition information
cut
mother
substrates
Prior art date
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Application number
JP28340797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takehiro Kakinuki
剛広 垣貫
Tetsuo Suzuki
哲男 鈴木
Tetsuya Goto
哲哉 後藤
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate the management of the number of sheets in physical distribution management and inspection stage of substrates by enabling the recognition of the substrates regardless of the states of the substrates no matter the substrates are mother substrates or cut substrates. SOLUTION: Color filters are formed by providing the surface of the transparent substrate with black matrixes and arraying plural rows of respective colored layers consisting of three primary colors thereon. At the time of forming the black matrices or the respective colored layers on the substrate, a photosensitive paste or nonphotosensitive paste and a photosensitive resist are superposed in a lamination state on the substrate and thereafter the formation of recognition information is executed as well at the time of patterning the laminate to prescribed patterns. The recognition information is used for the execution of system management for the process history of the substrates and assortment at the time of shipping and packing. The information which may be recognized by the recognition information include the kinds of the color filters, IDs, such as date of production, series, surface numbers and serial numbers, the material quality of the substrates, front and rear, up and down, etc., and may be properly selected or may be used in combination according to the purposes of use of the recognition information.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LCD用カラーフ
ィルタ付き基板に関するものである。
The present invention relates to a substrate with a color filter for an LCD.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCD用カラーフィルタの製造プロセス
では、基板上に顔料などで着色したポジ型またはネガ型
の感光性樹脂、あるいは着色した非感光性樹脂の上に感
光性樹脂を積層状態に塗布し、フォトリソグラフィ法に
よって所望のパターンを形成させる製造方法が主流とな
っている。しかし、フォトリソグラフィ法による製造方
法では、工程数が多く非常に製造コストがかかるという
問題点を抱えている。
2. Description of the Related Art In a process for manufacturing a color filter for LCD, a photosensitive resin is coated in a laminated state on a positive or negative photosensitive resin colored with a pigment or the like on a substrate or a colored non-photosensitive resin. However, a manufacturing method of forming a desired pattern by a photolithography method is mainly used. However, the manufacturing method using the photolithography method has a problem that the number of steps is large and the manufacturing cost is very high.

【0003】カラーフィルタに使用するマザー基板は、
当初300×400mm程度の基板が用いられていた
が、このマザー基板からは10inch級のカラーフィ
ルタを2ピース製造することが可能であった。その後、
マザー基板のサイズが360×465mm程度に大判化
され、10inch級のカラーフィルタを4ピース製造
することが可能となった。その結果、製造コストの低減
がなされた。しかし、カラーフィルタの大画面化が進
み、12inch級以上のカラーフィルタが製造の主流
をしめるようになった。360×465mm級の基板で
は、12inch級のカラーフィルタは2ピースしか製
造することができないため、更なるマザー基板の大判化
が行われた。
A mother substrate used for a color filter is:
Initially, a substrate of about 300 × 400 mm was used, but it was possible to manufacture two pieces of 10 inch class color filters from this mother substrate. afterwards,
The size of the mother substrate was enlarged to about 360 × 465 mm, and it became possible to manufacture four pieces of 10 inch-class color filters. As a result, the manufacturing cost was reduced. However, as the size of the color filters has been increased, color filters of 12 inch class or more have become the mainstream of manufacturing. With a substrate of 360 × 465 mm class, only two pieces of a 12-inch class color filter can be manufactured, so that the mother substrate was further enlarged.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、マザー基板の
大判化により、次のような問題点が生じた。
However, the enlargement of the mother substrate has caused the following problems.

【0005】360×465mm級基板までは、アレイ
基板とカラーフィルタのマザー基板との間での一体貼り
が可能であった。しかし、さらに大きな基板に対しては
一体貼りが不可能であるため、マザー基板を所定サイズ
にカットする必要性が発生した。
[0005] Until a substrate of 360 × 465 mm class, it was possible to integrally bond the array substrate and the mother substrate of the color filter. However, since it is impossible to integrally bond a larger substrate, it is necessary to cut the mother substrate to a predetermined size.

【0006】カラーフィルタの製造工程は非常に煩雑で
工程数も多い。そのため基板の物流管理や検査工程等で
基板の枚葉管理を行う必要がある。360×465mm
級の基板までは一体貼りであったため、マザー基板上に
認識情報を少なくとも1箇所配置することで、基板の枚
葉管理を行うことが可能であった。
The process of manufacturing a color filter is very complicated and involves many steps. For this reason, it is necessary to perform single-wafer management of the board in the board physical distribution management and the inspection process. 360 × 465mm
Since the substrates up to the first class were integrally attached, it was possible to manage single substrates by arranging at least one piece of identification information on the mother substrate.

【0007】しかし、550×650mm級以上の基板
については、一体貼りが厳しいため、マザー基板を所定
サイズにカットする必要があるが、従来技術ではカット
基板の枚葉管理を行うことができない。
[0007] However, for substrates of 550 x 650 mm or more, it is necessary to cut the mother substrate to a predetermined size due to strict integration, but the conventional technique cannot perform single-wafer management of cut substrates.

【0008】本発明はかかる従来技術の欠点を改良し、
基板の状態に関係なく枚葉管理が行えるカラーフィルタ
付き基板を提供することを目的とする。
[0008] The present invention ameliorates the disadvantages of the prior art,
It is an object of the present invention to provide a substrate with a color filter capable of managing a single wafer irrespective of the state of the substrate.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては以下の構成を採用する。すなわ
ち、 (1)カラーフィルタ付き基板を所定サイズにカットす
る以前の基板をマザー基板と呼び、該マザー基板を所定
サイズにカットした1個あるいは複数個の基板をカット
基板と呼んだとき、該マザー基板および該カット基板に
おいて、該基板の種類およびIDの認識が可能である認
識情報を少なくとも1箇所以上具備したカラーフィルタ
付き基板。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following constitution. That is, (1) a substrate before cutting a substrate with a color filter into a predetermined size is called a mother substrate, and when one or a plurality of substrates obtained by cutting the mother substrate into a predetermined size is called a cut substrate, A substrate with a color filter, wherein the substrate and the cut substrate each include at least one or more pieces of recognition information capable of recognizing the type and ID of the substrate.

【0010】(2)前記マザー基板の種類およびIDを
認識するために該マザー基板時に使用する前記認識情報
と該マザー基板の基板基準との相対位置、および前記カ
ット基板の種類およびIDを認識するために該カット基
板時に使用する前記認識情報と該カット基板の基板基準
との相対位置が異なることを特徴とする前記(1)に記
載のカラーフィルタ付き基板。
(2) Recognizing the relative position between the recognition information used for the mother board to recognize the type and ID of the mother board and the board reference of the mother board, and the type and ID of the cut board. The substrate with a color filter according to (1), wherein the relative position between the recognition information used for the cut substrate and the substrate reference of the cut substrate is different.

【0011】(3)前記マザー基板上に、該マザー基板
に該基板の種類およびIDを認識するために使用する前
記認識情報と、該マザー基板がカットされて前記カット
基板になったときに該基板の種類およびIDを認識する
ために使用する前記認識情報とが、該マザー基板の基板
中心に対して非対称に配置されていることを特徴とする
前記(1)または(2)に記載のカラーフィルタ付き基
板。
(3) On the mother board, the identification information used for recognizing the type and ID of the board on the mother board, and the identification information when the mother board is cut into the cut board. The color according to (1) or (2), wherein the recognition information used for recognizing the type and ID of the substrate is arranged asymmetrically with respect to the center of the mother substrate. Substrate with filter.

【0012】(4)前記マザー基板の種類およびIDを
認識するために使用する前記認識情報が前記カット基板
外に配置されていることを特徴とする前記(1)、
(2)または(3)に記載のカラーフィルタ付き基板。
(4) The recognition information used for recognizing the type and ID of the mother board is arranged outside the cut board.
The substrate with a color filter according to (2) or (3).

【0013】(5)前記マザー基板上に存在する前記認
識情報の個数が、前記カット基板の個数と等しいかまた
は多いことを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれか
に記載のカラーフィルタ付き基板。
(5) The color according to any one of (1) to (4), wherein the number of the pieces of recognition information existing on the mother board is equal to or larger than the number of the cut boards. Substrate with filter.

【0014】(6)露光装置またはフォトマスクとして
液晶表示基板を用いた露光装置を用いて前記認識情報を
形成することを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれ
かに記載のカラーフィルタ付き基板。
(6) The color filter according to any one of (1) to (5), wherein the recognition information is formed by using an exposure apparatus or an exposure apparatus using a liquid crystal display substrate as a photomask. With board.

【0015】(7)前記認識情報が、数字、アルファベ
ット、ひらがな、カタカナ、1次または2次元バーコー
ド、または幾何学記号から選ばれた少なくとも1種から
形成されていることを特徴とする前記(1)〜(6)の
いずれかに記載のカラーフィルタ付き基板。
(7) The recognition information is formed from at least one selected from numbers, alphabets, hiragana, katakana, primary or two-dimensional bar codes, and geometric symbols. The substrate with a color filter according to any one of 1) to (6).

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に本発明の好ましい実施の形態
について説明する。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be described.

【0017】本発明のカラーフィルタは、透明基板上に
ブラックマトリックスを設け、さらにその上に3原色か
らなる各着色層を複数列配列したものである。ブラック
マトリックスとしては、樹脂および遮光剤からなる樹脂
ブラックマトリックスを用いても、Cr,Ni等の金属
やこれらの酸化物からなる不透明膜を用いたものを用い
てもよい。カラーフィルタは3原色からなる各着色層に
より被覆された画素を1絵素とし、多数の絵素により構
成されている。ここでの、ブラックマトリックスとは、
各画素間に配列された遮光領域を示し、液晶表示装置の
表示コントラストを向上させるために設けられる。
The color filter of the present invention has a black matrix provided on a transparent substrate, and a plurality of colored layers of three primary colors arranged on the black matrix. As the black matrix, a resin black matrix made of a resin and a light-shielding agent may be used, or an opaque film made of a metal such as Cr or Ni or an oxide thereof may be used. The color filter is composed of a large number of picture elements, with a pixel covered by each colored layer of three primary colors as one picture element. The black matrix here is
It shows a light-shielding region arranged between pixels, and is provided to improve display contrast of a liquid crystal display device.

【0018】カラーフィルタ用基板として用いられる透
明基板としては、特に限定されるものではなく、石英ガ
ラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表
面をシリカコートしたソーダライムガラスなどの無機ガ
ラス類、有機プラスチックのフィルムまたはシート等が
好適に用いられる。
The transparent substrate used as the substrate for the color filter is not particularly limited, and inorganic glass such as quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass having a silica-coated surface, and organic glass. A plastic film or sheet is preferably used.

【0019】基板のサイズは、特に限定されるわけでは
ないが、550×650mm級、600×720mm
級、620×720mm級、650×750mm級、7
50×900mm級、900×1100mm級などの所
定のサイズにカットさせた後に、アレイ基板と張り合わ
せる基板等が好適に用いられる。
The size of the substrate is not particularly limited, but may be 550 × 650 mm class, 600 × 720 mm class.
Class, 620 × 720mm class, 650 × 750mm class, 7
A substrate or the like that is cut into a predetermined size such as a 50 × 900 mm class or a 900 × 1100 mm class and then bonded to an array substrate is preferably used.

【0020】認識情報は、基板上にブラックマトリック
スあるいは各着色層を形成させる際に作成する方法が好
適に用いられる。つまり、基板上に感光性ペーストまた
は非感光性ペーストと感光性レジストを積層状態に重ね
た後、所定のパターンにパターンニングを行うときに、
認識情報の作成をも行う。
The method of creating the recognition information when a black matrix or each colored layer is formed on the substrate is suitably used. In other words, when a photosensitive paste or a non-photosensitive paste and a photosensitive resist are stacked on a substrate in a laminated state and then patterned into a predetermined pattern,
It also creates recognition information.

【0021】特に限定されるわけではないが、ブラック
マトリックスを作成する際に、ブラックマトリックスを
作成する材料を用いて認識情報も形成する手法が好適に
用いられる。ブラックマトリックス用の材料は他の着色
層に比べて遮光性が高いため、認識情報のCCD等での
読みとりが容易となる。また、ブラックマトリックスお
よび各着色層以外の材料を用いて、認識情報を作成して
もよい。特に限定されるわけではないが、認識情報は露
光装置またはフォトマスクとして液晶表示基板を用いた
露光装置を用いて形成し、その後現像する方法が好適に
用いられる。
Although not particularly limited, a method of forming recognition information using a material for forming a black matrix when forming a black matrix is preferably used. Since the material for the black matrix has a higher light-shielding property than other colored layers, the recognition information can be easily read by a CCD or the like. Further, the recognition information may be created using a material other than the black matrix and each colored layer. Although not particularly limited, a method in which recognition information is formed using an exposure apparatus or an exposure apparatus using a liquid crystal display substrate as a photomask and then developed is preferably used.

【0022】認識情報は、基板の工程履歴や出荷・梱包
時の仕分けなどのシステム管理を行うために、好適に使
用される。
The recognition information is suitably used for performing system management such as process history of the substrate and sorting at the time of shipping and packing.

【0023】認識情報によって認識できる情報として
は、カラーフィルタの品種、製造年月日、シリーズ、面
番号、製造番号等のID、基板の材質、表裏、上下等な
どがあり、認識情報の使用目的に応じて適宜選択して
も、またこれらを組み合わせて用いてもよい。
The information that can be recognized by the recognition information includes the type of the color filter, the manufacturing date, the series, the surface number, the ID of the manufacturing number, etc., the material of the board, the front and back, the top and bottom, and the like. May be selected as appropriate, or a combination of these may be used.

【0024】これらの情報を認識情報に持たせるため、
数字、アルファベット、ひらがな、カタカナ、1次・2
次元バーコード、幾何学記号等の中で、1種類あるいは
複数を組み合わせて認識情報を形成させる方法が好適に
用いられる。
In order to provide such information to the recognition information,
Numbers, alphabets, hiragana, katakana, primary and secondary
A method of forming recognition information by combining one or a plurality of dimensional barcodes, geometric symbols, and the like is preferably used.

【0025】図1および図2に、本発明によって得られ
たカラーフィルタ付き基板の一例を示す。
FIGS. 1 and 2 show an example of a substrate with a color filter obtained by the present invention.

【0026】カラーフィルタ付き基板において、カラー
フィルタをパターン形成させるときの基板形状をマザー
基板1と呼ぶ。マザー基板1を用いてカラーフィルタ2
を作成することで、カット基板に比べて一度に多くのカ
ラーフィルタ2を作成することができ、製造コストの削
減が可能となる。
In the substrate with a color filter, a substrate shape when a color filter is formed in a pattern is called a mother substrate 1. Color filter 2 using mother substrate 1
By producing the color filters 2, a larger number of color filters 2 can be produced at once than the cut substrate, and the production cost can be reduced.

【0027】しかし、基板の大判化によりカラーフィル
タ付き基板とアレイ基板の一体貼りが困難になったた
め、マザー基板1にてカラーフィルタ2を作成後、所定
のガラスサイズにガラスカットする必要性が生じる。所
定のガラスサイズに基板をガラスカットする結果、1個
あるいは複数個のカット基板1−1〜1−6とよぶカラ
ーフィルタ付き基板と、廃棄部分1a〜1dとよぶ廃棄
する部分が発生する。
However, it has become difficult to integrally bond the substrate with the color filter and the array substrate due to the enlargement of the substrate, and it is necessary to cut the glass into a predetermined glass size after forming the color filter 2 on the mother substrate 1. . As a result of cutting the substrate into a predetermined glass size, one or a plurality of cut substrates 1-1 to 1-6 with color filters and portions to be discarded as discarded portions 1a to 1d are generated.

【0028】認識情報3、4、5の目的から、認識情報
3、4、5はマザー基板1およびすべてのカット基板1
−1〜1−6について少なくとも1個具備するものであ
る。言い換えれば、1個のマザー基板から1個のカット
基板を切り出す場合は、マザー基板とカット基板の認識
情報を同一にすることが可能である。しかし、2個以上
のカット基板を切り出す場合は、マザー基板上に少なく
とも2個の認識情報を作成することになる。
For the purpose of the recognition information 3, 4, 5, the recognition information 3, 4, 5 is the mother board 1 and all the cut boards 1.
At least one of -1 to 1-6 is provided. In other words, when one cut substrate is cut out from one mother substrate, it is possible to make the recognition information of the mother substrate and the cut substrate identical. However, when cutting out two or more cut substrates, at least two pieces of recognition information are created on the mother substrate.

【0029】認識情報3、4、5はカラーフィルタ2を
製造する幾つかの過程において、CCDカメラ等の読み
とり装置を用いて読み込みを行い、基板のIDを認識す
ることができる。しかし、CCDカメラを読みとり装置
として用いた場合、読みとり領域が狭くなるという問題
点が挙げられる。また、品種切り替え等で読みとり装置
の読み込み位置を変更するのは非常に煩雑なため、品種
に関係なく認識情報3、4、5の読みとり装置は同一の
位置とすることが好ましい。
In some processes of manufacturing the color filter 2, the recognition information 3, 4, 5 can be read using a reading device such as a CCD camera to recognize the ID of the substrate. However, when a CCD camera is used as a reading device, there is a problem that a reading area becomes narrow. In addition, since it is very complicated to change the reading position of the reading device when the type is changed, it is preferable that the reading devices for the recognition information 3, 4, and 5 be at the same position regardless of the type.

【0030】読みとり装置の認識情報3、4、5の読み
とり位置を品種によらず同一とするためには、マザー基
板1あるいはカット基板1−1〜1−6の基板基準7、
8と認識情報3、4、5との距離を一定に保てばよい。
ここでいう基板基準7、8とは、例えば認識情報3、
4、5の読みとりを基板のロール搬送時に行う場合、搬
送基準位置、つまり基板の川幅に関係なく同一である部
分とする。例えば、川幅の変更によって一方の搬送ロー
ラーのみ変更する場合は、他方の搬送ローラーが搬送基
準位置となり、また両方の搬送ローラーを均一に変更す
る場合は、基板の川幅中心が搬送基準位置となる。
In order to make the reading position of the recognition information 3, 4 and 5 of the reading device the same regardless of the type, the board reference 7 of the mother board 1 or the cut boards 1-1 to 1-6 is used.
What is necessary is to keep the distance between 8 and the recognition information 3, 4, 5 constant.
Here, the substrate references 7 and 8 are, for example, recognition information 3,
In the case where reading of 4 and 5 is performed during the roll transfer of the substrate, the transfer reference position, that is, the same portion regardless of the river width of the substrate. For example, when only one transport roller is changed by changing the river width, the other transport roller becomes the transport reference position, and when both transport rollers are changed uniformly, the river center of the substrate becomes the transport reference position.

【0031】また認識情報3、4、5は、カラーフィル
タ2およびアレイ基板との張り合わせに使用するマーク
類を避けた領域に配置する。
The recognition information 3, 4, 5 is arranged in an area avoiding marks used for bonding the color filter 2 and the array substrate.

【0032】そこで、マザー基板の読みとり時(以下、
単にマザー基板時という)に使用する認識情報3、4、
5は、カット基板1−1〜1−6の領域外、つまり廃棄
部分1a〜1dが発生する場合、廃棄部分1a〜1dに
認識情報3、4、5を配置する方法も好適に用いられ
る。
Therefore, when reading the mother board (hereinafter, referred to as the mother board)
Recognition information 3, 4 used for mother board)
5 is a method of arranging the recognition information 3, 4 and 5 in the discarded portions 1a to 1d when the cut portions 1-1 to 1-6 are outside the region, that is, when the discarded portions 1a to 1d are generated.

【0033】しかし、マザー基板1において廃棄部分1
a〜1dが存在しない場合や、1枚のマザー基板1中に
作成できる認識情報3、4、5の個数がタクトタイムに
よって制約されるため、必ずしも廃棄部分1a〜1dに
認識情報3、4、5を配置することができない場合もあ
る。その場合はカット基板1−1〜1−6においても使
用する認識情報3、4、5をマザー基板時においても使
用できるように配置する。
However, the discarded portion 1 in the mother substrate 1
In the case where a to 1d does not exist, or because the number of pieces of recognition information 3, 4, and 5 that can be created in one mother substrate 1 is restricted by the tact time, the recognition information 3, 4, and 5 may not be able to be arranged. In that case, the recognition information 3, 4, and 5 used also in the cut substrates 1-1 to 1-6 are arranged so that they can be used also in the mother substrate.

【0034】図1は、廃棄部分1a〜1dは存在する
が、タクトタイムによって廃棄部分1a〜1dに認識情
報3、4を配置できない一例である。
FIG. 1 shows an example in which the discarded parts 1a to 1d exist, but the recognition information 3 and 4 cannot be arranged in the discarded parts 1a to 1d due to the tact time.

【0035】マザー基板1のサイズは、550×65
0、カット基板1−1〜1−6のサイズは275×21
0mmであり、基板基準7、8はマザー基板1では短
辺、カット基板1−1〜1−6では、長辺のセンターラ
インである。
The size of the mother substrate 1 is 550 × 65
0, the size of the cut substrates 1-1 to 1-6 is 275 × 21
0 mm, and the substrate references 7 and 8 are the center lines of the short sides of the mother substrate 1 and the long sides of the cut substrates 1-1 to 1-6.

【0036】カット基板時に使用する認識情報3、4の
中心は、カット基板1−1〜1−6の基板基準8の右側
37.5mmに配置している。また、マザー基板時に使
用する認識情報3の中心は、マザー基板1の基板基準7
の左側100mmに配置している。
The center of the recognition information 3 or 4 used at the time of the cut substrate is located 37.5 mm to the right of the substrate reference 8 of the cut substrates 1-1 to 1-6. Also, the center of the recognition information 3 used for the mother board is based on the board reference 7 of the mother board 1.
100 mm to the left of.

【0037】図2は、マザー基板1に使用する認識情報
5を、廃棄部分1a〜1dに配置できる一例である。た
だし図1と図2は同一の製造ラインを用いて作成するた
め、マザー基板時に使用する認識情報5についても、カ
ット基板時に使用する認識情報4についても基板基準と
の関係は図1と同一となっている。
FIG. 2 shows an example in which the recognition information 5 used for the mother board 1 can be arranged in the discarded portions 1a to 1d. However, since FIGS. 1 and 2 are created using the same manufacturing line, the relationship between the recognition information 5 used for the mother board and the recognition information 4 used for the cut board is the same as that of FIG. Has become.

【0038】つまり前記の例から、マザー基板時とカッ
ト基板時に使用する認識情報を同一にした場合、マザー
基板時に使用する認識情報のマザー基板の基板中心に対
する相対位置と、カット基板時に使用する認識情報のカ
ット基板の基板中心に対する相対位置とを異なったもの
にするものである。
That is, from the above example, when the identification information used for the mother substrate and the identification information used for the cut substrate are the same, the relative position of the identification information used for the mother substrate to the center of the mother substrate and the identification information used for the cut substrate are used. This is to make the relative position of the cut substrate of information to the substrate center different.

【0039】同時に、前記の例から、カット基板をマザ
ー基板上に配置したときに、カット基板時に使用する認
識情報は、マザー基板の基板中心に対して、非対称に配
置される。
At the same time, from the above example, when the cut substrate is arranged on the mother substrate, the recognition information used for the cut substrate is arranged asymmetrically with respect to the substrate center of the mother substrate.

【0040】図1では、マザー基板時に使用する認識情
報としてカット基板時に使用する認識情報3を用いてい
るので、マザー基板上にある認識情報3、4の個数は、
カット基板1−1〜1−6の個数と同一の6個である
が、図2では、マザー基板時に使用する認識情報5を廃
棄部分1a〜1dに配置しているので、カット基板1−
1〜1−4の個数よりも1個多い5個となる。この結
果、マザー基板あるいはカット基板においても、枚葉管
理を行うことが可能となる。
In FIG. 1, since the identification information 3 used at the time of the cut substrate is used as the identification information used at the time of the mother substrate, the number of the identification information 3 and 4 on the mother substrate is
Although the number of cut substrates 1-1 to 1-6 is the same as that of FIG. 2, in FIG. 2, the recognition information 5 used for the mother substrate is arranged in the discarded portions 1a to 1d.
The number is five, which is one more than the number of 1-1 to 1-4. As a result, sheet management can be performed even on the mother substrate or the cut substrate.

【0041】[0041]

【実施例】以下、好ましい実施態様を用いて本発明を更
に詳しく説明するが、用いた実施態様によって本発明の
効力はなんら制限されるものでない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments, but the efficacy of the present invention is not limited by the embodiments used.

【0042】認識情報を樹脂ブラックマトリックス作成
時に作成した。
The recognition information was created when the resin black matrix was created.

【0043】(1)黒色ペーストおよび黒色ペースト被
膜の作成 3,3´、4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、およ
び、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキ
サンをN−メチル−2−ピロリドンを溶媒として反応さ
せ、ポリイミド前駆体(ポリアミック酸)溶液を得た。
(1) Preparation of black paste and black paste coating 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-diaminodiphenyl ether, and bis (3-aminopropyl) tetra Methyldisiloxane was reacted with N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.

【0044】下記の組成を有するカーボンブラックミル
ベースをホモジナイザーを用いて、7000rpmで3
0分分散し、ガラスビーズを濾過して、ブラックペース
トを調製した。
A carbon black mill base having the following composition was mixed with a homogenizer at 7000 rpm for 3 hours.
The mixture was dispersed for 0 minutes, and the glass beads were filtered to prepare a black paste.

【0045】 カーボンブラックミルベース カーボンブラック (MA100、三菱化成(株)製) 4.6部 ポリイミド前駆体溶液 24.0部 N−メチルピロリドン 61.4部 ガラスビーズ 90.0部 550×670mmのサイズの無アルカリガラス(日本
電気ガラス(株)製、OA−2)基板上にスピナーを用
いて、ブラックペーストを塗布し、オーブン中135℃
で20分間セミキュアした。続いて、ポシ型レジスト
(Shipley“Microposit”RC100
30cp)をスピナーで塗布し、90℃で10分間乾
燥した。レジスト膜厚は1.5μmとした。
Carbon black mill base Carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 4.6 parts Polyimide precursor solution 24.0 parts N-methylpyrrolidone 61.4 parts Glass beads 90.0 parts 550 × 670 mm size A black paste is applied on a non-alkali glass (OA-2, manufactured by NEC Corporation) substrate using a spinner, and is then placed in an oven at 135 ° C.
For 20 minutes. Subsequently, a post type resist (Shipley “Micropost” RC100)
30 cp) with a spinner and dried at 90 ° C. for 10 minutes. The resist film thickness was 1.5 μm.

【0046】(2)認識情報および樹脂ブラックマトリ
ックスの作成 ブラックマトリックスをパターニングするための露光
を、露光装置(PLA−501F、キャノン(株)製)
を用い、フォトマスクを介して行った。
(2) Creation of recognition information and resin black matrix Exposure for patterning the black matrix is performed by an exposure apparatus (PLA-501F, manufactured by Canon Inc.).
Using a photomask.

【0047】次に、認識情報を、フォトマスクとして液
晶表示基板を装着した露光装置(2次元コード書き込み
装置(タイトラー)、東レエンジニアリング(株)製)
を用いて露光、パターニングした。この露光機では、認
識情報を基板上に最大6カ所まで作成することが可能で
あった。
Next, an exposure apparatus (two-dimensional code writing apparatus (Titler), manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.) equipped with a liquid crystal display substrate as a photomask is used as recognition information.
Exposure and patterning were performed using With this exposure machine, it was possible to create recognition information at up to six locations on the substrate.

【0048】認識情報は、数字、アルファベットおよび
2次元バーコードから構成されており、基板の種類、カ
ラーフィルタの品種、シリーズ、面番号に関する情報が
認識できるようにした。
The recognition information is composed of numbers, alphabets, and two-dimensional bar codes, so that information on the type of substrate, type of color filter, series, and surface number can be recognized.

【0049】その後、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシドを2重量%含んだ23℃の水溶液を現像液に用
い、基板を現像液にディップさせ、同時に10cm幅を
5秒で1往復するように基板を揺動させて、ポジ型レジ
ストの現像とポリイミド前駆体のエッチングを同時に行
った。現像時間は、60秒であった。その後、メチルセ
ルソルブアセテートでポジ型レジストを剥離し、さら
に、300℃で30分間キュアし、認識情報および樹脂
ブラックマトリクス付き基板を得た。
Thereafter, an aqueous solution containing 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide at 23.degree. C. was used as a developing solution, and the substrate was dipped in the developing solution. Then, the development of the positive resist and the etching of the polyimide precursor were simultaneously performed. The development time was 60 seconds. Thereafter, the positive resist was peeled off with methylcellosolve acetate, and further cured at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a substrate with identification information and a resin black matrix.

【0050】(3)認識情報の配置 認識情報のマークは、4×10mmの大きさとし、読み
とり装置には5×5mmの範囲が読みとれるCCDカメ
ラを用いた。認識情報は、数字、アルファベットおよび
2次元バーコードから構成されているが、このうち2次
元バーコードを用いて認識情報の基板の認識を行った。
2次元バーコードは2×2mmの大きさであった。
(3) Arrangement of Recognition Information The mark of the recognition information was 4 × 10 mm in size, and a CCD camera capable of reading a 5 × 5 mm range was used for the reading device. The recognition information is composed of numbers, alphabets, and two-dimensional barcodes. Of these, the two-dimensional barcode was used to recognize the substrate of the recognition information.
The two-dimensional barcode was 2 × 2 mm in size.

【0051】読みとり装置はいずれも基板を搬送する搬
送ローラ上に設置し、基板の川幅に関係なく、流れ方向
の基板中心が同一になるようにした。マザー基板時に使
用する認識情報の中心を、川幅方向の基板中心から左側
に100mm、かつ流れ方向の先頭部分から20mmの
部分に配置した。カット基板時に使用する認識情報の中
心を、川幅方向の基板中心から右側に37.5mm、か
つ流れ方向の先頭部分から10mmの部分に配置した。
Each of the reading devices was set on a transport roller for transporting the substrate, so that the center of the substrate in the flow direction was the same regardless of the river width of the substrate. The center of the recognition information used at the time of the mother board is located at a position 100 mm to the left from the center of the board in the river width direction and 20 mm from the top in the flow direction. The center of the recognition information used at the time of the cut substrate was located at a position 37.5 mm to the right of the substrate center in the river width direction and 10 mm from the head in the flow direction.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ付き基板を用い
ることで、マザー基板でもカット基板でも基板の状態に
関係なく、基板の認識が可能となる。その結果、基板の
物流管理や検査工程等での基板の枚葉管理を容易に行う
ことが可能となる。
By using the substrate with the color filter of the present invention, the substrate can be recognized regardless of the state of the substrate, whether the mother substrate or the cut substrate. As a result, it is possible to easily perform the board single-wafer management in the board physical distribution management and the inspection process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によって作成したカラーフィルタ付き基
板の一例を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a substrate with a color filter prepared according to the present invention.

【図2】本発明によって作成したカラーフィルタ付き基
板の他の一例を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic view showing another example of a substrate with a color filter prepared according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・マザー基板 1−1〜1−6:カット基板 1a〜1d:廃棄部分 2・・・カラーフィルタ、 3・・・マザー基板時およびカット基板時に使用する認
識情報、 4・・・カット基板時に使用する認識情報、 5・・・マザー基板時に使用する認識情報 6・・・カットライン、 7・・・マザー基板時の基板基準(搬送のセンターライ
ン)およびカットライン 8・・・カット基板時の基板基準(搬送のセンターライ
ン)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mother board 1-1-1-6: Cut board 1a-1d: Discarded part 2 ... Color filter 3 ... Recognition information used at the time of a mother board and a cut board, 4 ... Cut Recognition information used at the time of substrate, 5 ... Recognition information used at the time of mother substrate 6 ... Cut line, 7 ... Substrate reference (transport center line) and cut line at the time of mother substrate 8 ... Cut substrate Board reference at the time (center line of transfer)

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】カラーフィルタ付き基板を所定サイズにカ
ットする以前の基板でをマザー基板と呼び、該マザー基
板を所定サイズにカットした1個あるいは複数個の基板
をカット基板と呼んだとき、該マザー基板および該カッ
ト基板において、該基板の種類およびIDの認識が可能
である認識情報を少なくとも1箇所以上具備したカラー
フィルタ付き基板。
1. A substrate before cutting a substrate with a color filter into a predetermined size is called a mother substrate. When one or a plurality of substrates obtained by cutting the mother substrate into a predetermined size is called a cut substrate, A substrate with a color filter comprising at least one or more pieces of recognition information capable of recognizing the type and ID of the mother board and the cut board.
【請求項2】前記マザー基板の種類およびIDを認識す
るために該マザー基板時に使用する前記認識情報と該マ
ザー基板の基板基準との相対位置、および前記カット基
板の種類およびIDを認識するために該カット基板時に
使用する前記認識情報と該カット基板の基板基準との相
対位置が異なることを特徴とする請求項1に記載のカラ
ーフィルタ付き基板。
2. A method for recognizing a relative position between the recognition information used at the time of the mother board to recognize the type and the ID of the mother board and a board reference of the mother board, and a type and an ID of the cut board. 2. The substrate with a color filter according to claim 1, wherein a relative position between the recognition information used at the time of the cut substrate and a substrate reference of the cut substrate is different.
【請求項3】前記マザー基板上に、該マザー基板に該基
板の種類およびIDを認識するために使用する前記認識
情報と、該マザー基板がカットされて前記カット基板に
なったときに該基板の種類およびIDを認識するために
使用する前記認識情報とが、該マザー基板の基板中心に
対して非対称に配置されていることを特徴とする請求項
1または2に記載のカラーフィルタ付き基板。
3. The identification information used for recognizing the type and ID of the substrate on the mother substrate, and the substrate when the mother substrate is cut into the cut substrate. 3. The substrate with a color filter according to claim 1, wherein the recognition information used for recognizing the type and ID of the mother substrate is asymmetrically arranged with respect to the center of the mother substrate. 4.
【請求項4】前記マザー基板の種類およびIDを認識す
るために使用する前記認識情報が前記カット基板外に配
置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
に記載のカラーフィルタ付き基板。
4. The color filter according to claim 1, wherein said recognition information used for recognizing a type and an ID of said mother substrate is arranged outside said cut substrate. With board.
【請求項5】前記マザー基板上に存在する前記認識情報
の個数が、前記カット基板の個数と等しいかまたは多い
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のカラ
ーフィルタ付き基板。
5. The substrate with a color filter according to claim 1, wherein the number of the pieces of recognition information existing on the mother substrate is equal to or greater than the number of the cut substrates.
【請求項6】露光装置またはフォトマスクとして液晶表
示基板を用いた露光装置を用いて前記認識情報を形成す
ることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカ
ラーフィルタ付き基板。
6. The substrate with a color filter according to claim 1, wherein the recognition information is formed by using an exposure device or an exposure device using a liquid crystal display substrate as a photomask.
【請求項7】前記認識情報が、数字、アルファベット、
ひらがな、カタカナ、1次または2次元バーコード、ま
たは幾何学記号から選ばれた少なくとも1種から形成さ
れていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記
載のカラーフィルタ付き基板。
7. The recognition information includes a numeral, an alphabet,
The substrate with a color filter according to any one of claims 1 to 6, wherein the substrate is formed from at least one selected from hiragana, katakana, a primary or two-dimensional barcode, and a geometric symbol.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1231647A1 (en) * 2001-02-08 2002-08-14 STMicroelectronics Limited Reference data coding in solid state image sensors
JP2003107421A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Seiko Instruments Inc Board for liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device
EP1460607A1 (en) * 2001-12-27 2004-09-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Production method for plane-type display unit
JP2005235920A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Thin-film solar cell manufacturing system, and inspection method in thin-film solar cell manufacturing system
CN101937149A (en) * 2009-06-30 2011-01-05 株式会社Ips先驱高新技术 Panel for liquid crystal display device
CN111448518A (en) * 2017-12-08 2020-07-24 富林特集团德国有限公司 Method of identifying a relief precursor for making a relief structure

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1231647A1 (en) * 2001-02-08 2002-08-14 STMicroelectronics Limited Reference data coding in solid state image sensors
US6812058B2 (en) 2001-02-08 2004-11-02 Stmicroelectronics Ltd. Reference data coding in solid state image sensors
JP2003107421A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Seiko Instruments Inc Board for liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device
EP1460607A1 (en) * 2001-12-27 2004-09-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Production method for plane-type display unit
EP1460607A4 (en) * 2001-12-27 2006-09-20 Toshiba Kk Production method for plane-type display unit
US7273403B2 (en) 2001-12-27 2007-09-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing flat display panels of different sizes from a common base substrate
JP2005235920A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Thin-film solar cell manufacturing system, and inspection method in thin-film solar cell manufacturing system
CN101937149A (en) * 2009-06-30 2011-01-05 株式会社Ips先驱高新技术 Panel for liquid crystal display device
CN111448518A (en) * 2017-12-08 2020-07-24 富林特集团德国有限公司 Method of identifying a relief precursor for making a relief structure

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