JPH1093203A - 金属蒸気レ−ザ装置 - Google Patents
金属蒸気レ−ザ装置Info
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- JPH1093203A JPH1093203A JP24636396A JP24636396A JPH1093203A JP H1093203 A JPH1093203 A JP H1093203A JP 24636396 A JP24636396 A JP 24636396A JP 24636396 A JP24636396 A JP 24636396A JP H1093203 A JPH1093203 A JP H1093203A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、低コストで且つ安定したレーザ出力
が得られる金属蒸気レ−ザ装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】本発明の金属蒸気レ−ザ装置は、内部に金
属蒸気を生成する金属蒸気源1が設けられると共に放電
ガスが充填された放電管5内をコンデンサ21に充電し
た電力により放電加熱してレ−ザ光を発生させる場合、
コンデンサの温度を制御して放電電力を一定にする手段
が設けられてなることにより、上記の目的を達成するこ
とが出来る。
が得られる金属蒸気レ−ザ装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】本発明の金属蒸気レ−ザ装置は、内部に金
属蒸気を生成する金属蒸気源1が設けられると共に放電
ガスが充填された放電管5内をコンデンサ21に充電し
た電力により放電加熱してレ−ザ光を発生させる場合、
コンデンサの温度を制御して放電電力を一定にする手段
が設けられてなることにより、上記の目的を達成するこ
とが出来る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は金属蒸気レーザ装置
に係り、特に室温や冷却材の温度の変化に対して生じる
レ−ザ出力の変動を抑制する手段に関する。
に係り、特に室温や冷却材の温度の変化に対して生じる
レ−ザ出力の変動を抑制する手段に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の一般的な金属蒸気レーザ装置は、
例えば図2に示すように構成されている。即ち、同図に
おいて、金属蒸気例えば銅蒸気を生成する複数の金属蒸
気源1が内部に設置された円筒状のセラミック管2の両
端には、接合部材2aを介して陽極3および陰極4が接
続されて放電管5が形成されている。この放電管5にお
ける陽極3および陰極4には、それぞれ電極フランジ6
が設けられている。この電極フランジ6は放電管5を包
囲する胴体7および絶縁管8とブリュスタ管9との間に
介在された電極支持フランジ10に取付け固定されてい
る。陽極3および陰極4の各電極は、電極フランジ6を
介して電極支持フランジ10に固定されている。放電管
5の外周面は断熱材11で包囲され、断熱材11の外部
は胴体7および絶縁管フランジ12を有する絶縁管8で
覆われている。それぞれの電極支持フランジ10には一
対のブリュスタ管9が接続されており、このブリュスタ
管9の開口部にはそれぞれ窓13が取着され、これらの
窓13の外側には出力ミラー14と全反射ミラー15が
配置され共振器を形成している。
例えば図2に示すように構成されている。即ち、同図に
おいて、金属蒸気例えば銅蒸気を生成する複数の金属蒸
気源1が内部に設置された円筒状のセラミック管2の両
端には、接合部材2aを介して陽極3および陰極4が接
続されて放電管5が形成されている。この放電管5にお
ける陽極3および陰極4には、それぞれ電極フランジ6
が設けられている。この電極フランジ6は放電管5を包
囲する胴体7および絶縁管8とブリュスタ管9との間に
介在された電極支持フランジ10に取付け固定されてい
る。陽極3および陰極4の各電極は、電極フランジ6を
介して電極支持フランジ10に固定されている。放電管
5の外周面は断熱材11で包囲され、断熱材11の外部
は胴体7および絶縁管フランジ12を有する絶縁管8で
覆われている。それぞれの電極支持フランジ10には一
対のブリュスタ管9が接続されており、このブリュスタ
管9の開口部にはそれぞれ窓13が取着され、これらの
窓13の外側には出力ミラー14と全反射ミラー15が
配置され共振器を形成している。
【0003】図2において、左側に示されるブリュスタ
管9には、放電用バッファガス(以下、放電ガスと略
称)として、例えばネオン(Ne)ガスを供給するガス
供給管16が接続され、また右側に示されるブリュスタ
管9にはガス排気管17が接続されている。ガス排気管
17は、途中に圧力計18が備えられているとともに、
流量調整弁19を介して真空排気ポンプ20に接続され
ている。左側の電極支持フランジ10と絶縁管フランジ
12との間には、直流高圧電源28から供給される直流
高速高電圧が印加される。
管9には、放電用バッファガス(以下、放電ガスと略
称)として、例えばネオン(Ne)ガスを供給するガス
供給管16が接続され、また右側に示されるブリュスタ
管9にはガス排気管17が接続されている。ガス排気管
17は、途中に圧力計18が備えられているとともに、
流量調整弁19を介して真空排気ポンプ20に接続され
ている。左側の電極支持フランジ10と絶縁管フランジ
12との間には、直流高圧電源28から供給される直流
高速高電圧が印加される。
【0004】直流高圧電源28と電極支持フランジ10
と絶縁管フランジ12との間には、冷却容器31内に収
納されたダイオード25、サイラトロン24、充電コン
デンサ21、移行用コンデンサ22、充電抵抗23、圧
縮用コイル29、保護用コイル30とサイラトロン24
で構成された放電回路が、冷却材32によって冷却され
るように設置されている。
と絶縁管フランジ12との間には、冷却容器31内に収
納されたダイオード25、サイラトロン24、充電コン
デンサ21、移行用コンデンサ22、充電抵抗23、圧
縮用コイル29、保護用コイル30とサイラトロン24
で構成された放電回路が、冷却材32によって冷却され
るように設置されている。
【0005】上記の構成を有する金属蒸気レーザ装置で
は、次のようにしてレーザを発振する。まず、放電管5
内に、ガス供給管16から放電ガス、例えばネオンガス
を供給する。次に、陽極3と陰極4との間に直流高速高
電圧を印加して、放電プラズマを形成する。直流高速高
電圧は、直流高圧電源28から充電抵抗23、圧縮用コ
イル29とダイオード25、保護用コイル30によって
充電コンデンサ21に直流電圧が充電され、サイラトロ
ン24によって高速スイッチされ、移行用コンデンサ2
2を経由して印加される。金属蒸気レーザ装置では、こ
の直流高速高電圧の印加を1秒間に数千回繰り返してレ
−ザ出力を得る。
は、次のようにしてレーザを発振する。まず、放電管5
内に、ガス供給管16から放電ガス、例えばネオンガス
を供給する。次に、陽極3と陰極4との間に直流高速高
電圧を印加して、放電プラズマを形成する。直流高速高
電圧は、直流高圧電源28から充電抵抗23、圧縮用コ
イル29とダイオード25、保護用コイル30によって
充電コンデンサ21に直流電圧が充電され、サイラトロ
ン24によって高速スイッチされ、移行用コンデンサ2
2を経由して印加される。金属蒸気レーザ装置では、こ
の直流高速高電圧の印加を1秒間に数千回繰り返してレ
−ザ出力を得る。
【0006】すると、この放電プラズマによりセラミッ
ク管2が高温に加熱されて、金属蒸気源1からレーザ媒
体となる蒸気化された金属粒子、例えば銅粒子すなわち
銅蒸気が生成される。さらに、この銅蒸気はセラミック
管2内に拡散し、セラミック管2内の放電プラズマ中の
自由電子により励起される。この励起銅蒸気が低いエネ
ルギー準位に遷移する際にレーザ光を発振する。
ク管2が高温に加熱されて、金属蒸気源1からレーザ媒
体となる蒸気化された金属粒子、例えば銅粒子すなわち
銅蒸気が生成される。さらに、この銅蒸気はセラミック
管2内に拡散し、セラミック管2内の放電プラズマ中の
自由電子により励起される。この励起銅蒸気が低いエネ
ルギー準位に遷移する際にレーザ光を発振する。
【0007】このとき、放電回路は、主に圧縮用コイル
29と保護用コイル30で発生するヒステリシス損失や
渦電流損失や、サイラトロン24、ダイオード25の内
部抵抗の損失等による熱を冷却材32で冷却して除去す
るための冷却容器31内に収納し、冷却して保護してい
る。冷却によって温度上昇した冷却材32は、循環ポン
プ33によって熱交換器34に移送され、ク−リングタ
ワ−水35によって冷却され、冷却容器31へ循環す
る。
29と保護用コイル30で発生するヒステリシス損失や
渦電流損失や、サイラトロン24、ダイオード25の内
部抵抗の損失等による熱を冷却材32で冷却して除去す
るための冷却容器31内に収納し、冷却して保護してい
る。冷却によって温度上昇した冷却材32は、循環ポン
プ33によって熱交換器34に移送され、ク−リングタ
ワ−水35によって冷却され、冷却容器31へ循環す
る。
【0008】上述したようにレーザ発振時に発生した放
電回路での損失熱は、ク−リングタワ−水35によって
冷却された冷却材32により除熱される。ここに冷却材
32の温度は、冷却材配管、容器構造材の耐熱設計と、
コンデンサ、ダイオ−ド、コイル等の電気部品の耐熱性
から決定しており、約50℃以下になるように設計、製
作されている。
電回路での損失熱は、ク−リングタワ−水35によって
冷却された冷却材32により除熱される。ここに冷却材
32の温度は、冷却材配管、容器構造材の耐熱設計と、
コンデンサ、ダイオ−ド、コイル等の電気部品の耐熱性
から決定しており、約50℃以下になるように設計、製
作されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この放
電回路に用いる高電圧用セラミックコンデンサのコンデ
ンサ容量は、温度上昇に反比例して低下することが明ら
かになっており、充電コンデンサの容量が冷却材の温度
変化によって変化し、放電管5に注入される電力が次式
のように減少する。 注入電力=(1/2)×充電コンデンサ容量×(充電電
圧)2 ×繰り返し周波数 この充電コンデンサ容量が低下し、注入電力が低下して
レ−ザ出力に影響を与えることが明らかになり、問題と
なっている。本発明は上記事情に鑑み、低コストで且つ
安定したレーザ出力が得られる金属蒸気レーザ装置を提
供することを目的とする。
電回路に用いる高電圧用セラミックコンデンサのコンデ
ンサ容量は、温度上昇に反比例して低下することが明ら
かになっており、充電コンデンサの容量が冷却材の温度
変化によって変化し、放電管5に注入される電力が次式
のように減少する。 注入電力=(1/2)×充電コンデンサ容量×(充電電
圧)2 ×繰り返し周波数 この充電コンデンサ容量が低下し、注入電力が低下して
レ−ザ出力に影響を与えることが明らかになり、問題と
なっている。本発明は上記事情に鑑み、低コストで且つ
安定したレーザ出力が得られる金属蒸気レーザ装置を提
供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る金属蒸気レーザ装置は、内部に金属蒸
気を生成する金属蒸気源を設置するとともに放電ガスを
充填させた放電管内を放電回路によって高速高電圧放電
させることで加熱して、レーザ光を発生させる金属蒸気
レーザ装置において、放電回路の特に充電コンデンサの
温度を一定に制御するための温度計と、その温度を冷却
材の温度あるいは流量で制御する手段を備えたものであ
る。上記の構成を有する本発明によれば、放電回路の充
電コンデンサの容量が一定に維持されるため、一定なレ
−ザ出力が得られる。
め、本発明に係る金属蒸気レーザ装置は、内部に金属蒸
気を生成する金属蒸気源を設置するとともに放電ガスを
充填させた放電管内を放電回路によって高速高電圧放電
させることで加熱して、レーザ光を発生させる金属蒸気
レーザ装置において、放電回路の特に充電コンデンサの
温度を一定に制御するための温度計と、その温度を冷却
材の温度あるいは流量で制御する手段を備えたものであ
る。上記の構成を有する本発明によれば、放電回路の充
電コンデンサの容量が一定に維持されるため、一定なレ
−ザ出力が得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
一実施の形態を詳細に説明する。本発明による金属蒸気
レ−ザ装置は図1に示すように構成され、従来例(図
2)と同一または対応する部分には同一の符号を用いて
説明する。
一実施の形態を詳細に説明する。本発明による金属蒸気
レ−ザ装置は図1に示すように構成され、従来例(図
2)と同一または対応する部分には同一の符号を用いて
説明する。
【0012】図1において、セラミック管2の両端部に
は接合部材2aを介して陽極3および陰極4が対向して
接続されている。これらの陽極3および陰極4でパルス
放電が行われる。セラミック管2の外周には断熱材11
が配置され、その外周には金属製例えばアルミ製の胴体
7および絶縁管8が配置されている。陽極3および陰極
4には、一対のブリュスタ管9が接続されている。そし
て、左側のブリュスタ管9には、ガス供給系に接続され
たガス供給管16が、また右側のブリュスタ管9には、
放電ガス排気管17がそれぞれ接続されている。ガス供
給管16には、ネオンガス供給系が設置されている。
は接合部材2aを介して陽極3および陰極4が対向して
接続されている。これらの陽極3および陰極4でパルス
放電が行われる。セラミック管2の外周には断熱材11
が配置され、その外周には金属製例えばアルミ製の胴体
7および絶縁管8が配置されている。陽極3および陰極
4には、一対のブリュスタ管9が接続されている。そし
て、左側のブリュスタ管9には、ガス供給系に接続され
たガス供給管16が、また右側のブリュスタ管9には、
放電ガス排気管17がそれぞれ接続されている。ガス供
給管16には、ネオンガス供給系が設置されている。
【0013】また、放電管5内の放電ガス圧力を測定す
る圧力計18が備えられているとともに、放電管5と真
空排気ポンプ20とを結ぶガス排気管17には、流量調
節弁19と自動調整弁26とが順次接続されている。更
に圧力計18からの信号によって自動調整弁26を操作
し、これによって放電管5内の放電ガス圧力を制御する
制御器27が備えられている。ブリュスタ管9の窓13
の外側には、それぞれ出力ミラー14および全反射ミラ
ー15が配置され、これによってレーザ共振器が構成さ
れている。
る圧力計18が備えられているとともに、放電管5と真
空排気ポンプ20とを結ぶガス排気管17には、流量調
節弁19と自動調整弁26とが順次接続されている。更
に圧力計18からの信号によって自動調整弁26を操作
し、これによって放電管5内の放電ガス圧力を制御する
制御器27が備えられている。ブリュスタ管9の窓13
の外側には、それぞれ出力ミラー14および全反射ミラ
ー15が配置され、これによってレーザ共振器が構成さ
れている。
【0014】前述したパルス2極放電は、陽極3および
陰極4を支持しこれらに電流を流す電極支持フランジ1
0に接続された放電回路によりなされる。放電回路は、
2組の充電コンデンサ21、移行用コンデンサ22、圧
縮用コイル29、充電抵抗23およびサイラトロン2
4、保護用コイル30、ダイオード25等からなる回路
によって構成されている。
陰極4を支持しこれらに電流を流す電極支持フランジ1
0に接続された放電回路によりなされる。放電回路は、
2組の充電コンデンサ21、移行用コンデンサ22、圧
縮用コイル29、充電抵抗23およびサイラトロン2
4、保護用コイル30、ダイオード25等からなる回路
によって構成されている。
【0015】この放電回路は、直流高圧電源28から充
電コンデンサ21に充電された電荷が、サイラトロン2
4を点弧することにより、ほぼ10-7秒以下の立上り時
間で放電電流を発生させるように構成されている。サイ
ラトロン24は、パルス放電スイッチング素子である。
発生させるパルス高電圧は、電圧が十数KV〜数十KV、繰
り返し周波数が数kHz 〜数十KHz である。
電コンデンサ21に充電された電荷が、サイラトロン2
4を点弧することにより、ほぼ10-7秒以下の立上り時
間で放電電流を発生させるように構成されている。サイ
ラトロン24は、パルス放電スイッチング素子である。
発生させるパルス高電圧は、電圧が十数KV〜数十KV、繰
り返し周波数が数kHz 〜数十KHz である。
【0016】このような放電回路は、発生した損失熱を
冷却除去するための冷却容器31内に収納され、循環ポ
ンプ33とク−リングタワ−水35と熱交換器34で冷
却され循環する冷却材32で満たされている。ここで、
温度をコンデンサ容量が変化する充電コンデンサは独立
した冷却とし、温度計36と温度を一定にする温度制御
弁37と温度制御器38で常に一定の温度に制御する構
造である。
冷却除去するための冷却容器31内に収納され、循環ポ
ンプ33とク−リングタワ−水35と熱交換器34で冷
却され循環する冷却材32で満たされている。ここで、
温度をコンデンサ容量が変化する充電コンデンサは独立
した冷却とし、温度計36と温度を一定にする温度制御
弁37と温度制御器38で常に一定の温度に制御する構
造である。
【0017】なお、図中の記号Aはアノード端子であ
り、Kはカソード端子であり、Gはトリガー信号導入端
子である。その他の構成は従来例(図2)と同一である
ので、その説明を省略する。
り、Kはカソード端子であり、Gはトリガー信号導入端
子である。その他の構成は従来例(図2)と同一である
ので、その説明を省略する。
【0018】次に、上記の一実施の形態の作用を説明す
る。まず、真空排気ポンプ20を作動させて、放電管5
内を排気する。その排気後、ガス供給管16からネオン
ガスを放電管5内に注入する。この時、放電ガス注入に
より上昇した放電管5内のガス圧力は、圧力計18によ
って測定される。この測定値が予め設定された圧力値に
なるように、制御器27によって自動調節弁26が操作
され、放電ガスの排出量が調整され、放電管5内の圧力
が設定値に制御される。
る。まず、真空排気ポンプ20を作動させて、放電管5
内を排気する。その排気後、ガス供給管16からネオン
ガスを放電管5内に注入する。この時、放電ガス注入に
より上昇した放電管5内のガス圧力は、圧力計18によ
って測定される。この測定値が予め設定された圧力値に
なるように、制御器27によって自動調節弁26が操作
され、放電ガスの排出量が調整され、放電管5内の圧力
が設定値に制御される。
【0019】次に、放電回路を作動させて、セラミック
管2内にプラズマを生起させ、このプラズマによって金
属蒸気源1が金属蒸気、例えば銅蒸気を生成し得る温度
まで昇温させる。レーザ発振に必要な温度は、例えば金
属蒸気源1が銅の場合には約1500℃である。この状態が
保持されることにより、セラミック管2内に銅蒸気が一
様に分布する。
管2内にプラズマを生起させ、このプラズマによって金
属蒸気源1が金属蒸気、例えば銅蒸気を生成し得る温度
まで昇温させる。レーザ発振に必要な温度は、例えば金
属蒸気源1が銅の場合には約1500℃である。この状態が
保持されることにより、セラミック管2内に銅蒸気が一
様に分布する。
【0020】この銅蒸気にプラズマ中の自由電子が衝突
して銅蒸気が励起され、やがてセラミック管2内は反転
分布の状態となる。この状態では、励起された銅蒸気が
低エネルギー準位に遷移する際にレーザ光を発生する。
セラミック管2内で発生したレーザ光は窓13を通過
し、レーザ共振器を構成する出力ミラー14及び全反射
ミラー15で反射する間にその振幅が増加してパワーア
ップし、やがて出力ミラー14から取り出されるレーザ
光が出力される。
して銅蒸気が励起され、やがてセラミック管2内は反転
分布の状態となる。この状態では、励起された銅蒸気が
低エネルギー準位に遷移する際にレーザ光を発生する。
セラミック管2内で発生したレーザ光は窓13を通過
し、レーザ共振器を構成する出力ミラー14及び全反射
ミラー15で反射する間にその振幅が増加してパワーア
ップし、やがて出力ミラー14から取り出されるレーザ
光が出力される。
【0021】しかし、気温等により変動するク−リング
タワ−水35を用いて、熱交換器34によって冷却され
る放電回路であるが、充電コンデンサ21の温度は温度
計36と温度制御弁37、温度制御器38によって一定
に制御されるため、充電コンデンサ容量は一定になる。
また、冷却材32の流量を移行用コンデンサ22と圧縮
用コイル29の区域と、充電コンデンサ21の区域と、
サイラトロン24、保護用コイル30とダイオード25
の区域に3分割し、発熱量の多い圧縮用コイル29とサ
イラトロン24と別区域としたため、温度変化量、つま
り充電コンデンサ容量の変化量も減少する。
タワ−水35を用いて、熱交換器34によって冷却され
る放電回路であるが、充電コンデンサ21の温度は温度
計36と温度制御弁37、温度制御器38によって一定
に制御されるため、充電コンデンサ容量は一定になる。
また、冷却材32の流量を移行用コンデンサ22と圧縮
用コイル29の区域と、充電コンデンサ21の区域と、
サイラトロン24、保護用コイル30とダイオード25
の区域に3分割し、発熱量の多い圧縮用コイル29とサ
イラトロン24と別区域としたため、温度変化量、つま
り充電コンデンサ容量の変化量も減少する。
【0022】このように本発明の実施形態によれば、充
電コンデンサ温度を一定に制御可能になり、安定したレ
−ザ出力が得られる。 (他の実施の形態)その他の実施の形態として、循環ポ
ンプ33の回転数を温度で制御する方法等もある。
電コンデンサ温度を一定に制御可能になり、安定したレ
−ザ出力が得られる。 (他の実施の形態)その他の実施の形態として、循環ポ
ンプ33の回転数を温度で制御する方法等もある。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
放電回路の充電コンデンサの容量を一定に制御するた
め、安定したレ−ザ出力を得ることができる。
放電回路の充電コンデンサの容量を一定に制御するた
め、安定したレ−ザ出力を得ることができる。
【図1】本発明の一実施の形態に係る金属蒸気レ−ザ装
置を示す断面図を含む回路構成図。
置を示す断面図を含む回路構成図。
【図2】従来の金属蒸気レ−ザ装置を示す断面図を含む
回路構成図。
回路構成図。
1…金属蒸気源、5…放電管、21…コンデンサ、27
…制御器、28…直流高圧電源、29…圧縮用コイル、
30…保護用コイル、32…冷却材(絶縁材)、34…
熱交換器、35…ク−リングタワ−水、36…温度計、
37…温度制御弁、38…温度制御器。
…制御器、28…直流高圧電源、29…圧縮用コイル、
30…保護用コイル、32…冷却材(絶縁材)、34…
熱交換器、35…ク−リングタワ−水、36…温度計、
37…温度制御弁、38…温度制御器。
Claims (4)
- 【請求項1】 内部に金属蒸気を生成する金属蒸気源が
設けられると共に放電ガスが充填された放電管内をコン
デンサに充電した電力により放電加熱してレ−ザ光を発
生させる金属蒸気レ−ザ装置において、 上記コンデンサの温度を制御して放電電力を一定にする
手段が設けられてなることを特徴とする金属蒸気レ−ザ
装置。 - 【請求項2】 上記コンデンサ温度の制御に、上記コン
デンサを冷却する冷却材流量または冷却材温度が用いら
れることを特徴とする請求項1記載の金属蒸気レ−ザ装
置。 - 【請求項3】 上記コンデンサの冷却手段が他の発熱素
子部と別系統に設定されていることを特徴とする請求項
1記載の金属蒸気レ−ザ装置。 - 【請求項4】 レ−ザ出力を測定しレ−ザ出力を安定化
するために、上記コンデンサ温度を上記冷却材流量また
は冷却材温度により制御することを特徴とする請求項1
記載の金属蒸気レ−ザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24636396A JPH1093203A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 金属蒸気レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24636396A JPH1093203A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 金属蒸気レ−ザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1093203A true JPH1093203A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17147448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24636396A Pending JPH1093203A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 金属蒸気レ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1093203A (ja) |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP24636396A patent/JPH1093203A/ja active Pending
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