JPH1092884A - Testing apparatus - Google Patents

Testing apparatus

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JPH1092884A
JPH1092884A JP8240625A JP24062596A JPH1092884A JP H1092884 A JPH1092884 A JP H1092884A JP 8240625 A JP8240625 A JP 8240625A JP 24062596 A JP24062596 A JP 24062596A JP H1092884 A JPH1092884 A JP H1092884A
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wiring
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contact terminal
cassette
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鉄雄 熊沢
Ryuji Kono
竜治 河野
Makoto Kitano
誠 北野
Akihiko Ariga
昭彦 有賀
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately, quickly and easily perform alignment by providing observing means for directly viewing objects under test above transparent members which form upper parts of contact terminals. SOLUTION: The apparatus comprises contact terminals 1 to contact an Si wafer under test, cantilever support 9 mounted on a pedestal 18 at one end, and probe cassette 100 having transparent members removably mounted on the support 9. It has a control processor 21 for transferring electric signals to and from the wafer 17 being contacted to the terminals 1, video cameral 16 disposed above the cassette 100, and inching table 24 which carries the wafer 17 and moves it, relative to the support 9 to contact the terminals 1 to the wafer 17. This permits the object under test to be directly viewed through the transparent members from above a thin film probe, thus facilitating the alignment accurately and quickly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、メモリ、
CPUなどの半導体素子の電気特性評価を行う検査装置
に関する。
[0001] The present invention relates to, for example, a memory,
The present invention relates to an inspection apparatus for evaluating electrical characteristics of a semiconductor element such as a CPU.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の検査装置の一例として、半導体素
子の電気特性評価を行うプローブを備えたプローブ検査
装置に関する以下の公知技術がある。 特開平4−297879号公報 この公知技術は、配線手段を形成したフレキシブル配線
基板とともにプローブを挟むようにフィルムを配置し、
このフィルムにプローブが挿入されるガイド部分を設け
る。そして、これらフレキシブル配線基板・プローブ・
フィルムの積層構造体を、クランピングプレートにより
プローブ取付体の下面に対して押し付けることにより、
組み立ての簡素化及び信号伝達特性の向上を図るもので
ある。 特開平5−157790号公報 この公知技術は、プローブ下方に配置された透明ガラス
平板を介し下方から画像認識することにより、プローブ
カードの測定針の高さばらつき、接触抵抗及び針先座標
パターンを迅速かつ高精度に行うものである。 特開平7−37946号公報 この公知技術は、第1の画像入力手段でプローブカード
上の針位置合わせ用のマークを認識し、第2の画像入力
手段でウエハのチップ基準マークを認識することによ
り、プローブカードの針とウエハ上に形成されたチップ
上のパッド位置を自動的に位置合わせすることを可能と
するものである。 特開平7−110364号公報 この公知技術は、ウエハを載置する載置台にカメラを取
り付け、載置台を駆動してカメラでプローブカードの測
定針を下から捕らえることにより、測定針と被測定体と
を容易に位置合わせ可能とするものである。 特開平7−297241号公報 この公知技術は、X,Yステージ上に第1撮像手段と進
退自在なターゲットを設け、プローブカードとウエハ載
置台との間に第2撮像手段を設けることにより、プロー
ブ装置のプローブと被検査体の電極パッドとを正確に接
触させて高精度な電気的測定を行うものである。 特開平8−37211号公報 この公知技術は、プローブ下方に配置されたウエハステ
ージの小窓より下方からカメラで撮影して画像認識する
ことにより、プローブ針の位置合わせの精度向上及び作
業効率の向上を図り、かつプローブカードの変形・劣化
の検知を行うものである。
2. Description of the Related Art As an example of a conventional inspection apparatus, there is the following known technique relating to a probe inspection apparatus provided with a probe for evaluating electrical characteristics of a semiconductor device. In this known technique, a film is arranged so as to sandwich a probe together with a flexible wiring board on which wiring means is formed,
The film is provided with a guide portion into which the probe is inserted. And these flexible wiring boards, probes,
By pressing the laminated structure of the film against the lower surface of the probe mounting body with the clamping plate,
It is intended to simplify assembly and improve signal transmission characteristics. In this known technique, the height variation, the contact resistance, and the needle tip coordinate pattern of the measurement needle of the probe card can be quickly determined by recognizing an image from below through a transparent glass plate disposed below the probe. It is performed with high accuracy. SUMMARY OF THE INVENTION This known technique is such that a first image input means recognizes a needle positioning mark on a probe card, and a second image input means recognizes a chip reference mark on a wafer. It is possible to automatically align the positions of the needles of the probe card and the pads on the chips formed on the wafer. JP-A-7-110364 discloses a technique in which a camera is mounted on a mounting table on which a wafer is mounted, and the mounting table is driven, and the measuring needle of the probe card is captured from below by the camera. Can be easily aligned. SUMMARY OF THE INVENTION According to this known technique, a probe is provided by providing a first imaging unit and a movable target on an X and Y stage and providing a second imaging unit between a probe card and a wafer mounting table. The probe of the apparatus and the electrode pad of the device under test are brought into accurate contact with each other to perform high-precision electrical measurement. SUMMARY OF THE INVENTION In this known technique, a camera is photographed from below a small window of a wafer stage disposed below a probe by using a camera to recognize an image, thereby improving the accuracy of positioning of a probe needle and improving work efficiency. And to detect deformation and deterioration of the probe card.

【0003】しかしながら、上記公知技術〜は、い
ずれもプローブに備えられた接触針によって測定を行う
ものであることから接触針の空間的な配置に限界があ
り、近年の半導体素子の高密度化及び総数の増大による
一括処理の要請に対応できなくなっている。またプロー
ブの製造にあたっては接触針を1本1本手作業で配置す
る必要があることから、コストダウンを困難とする要因
となっている。
[0003] However, since the above-mentioned known techniques 1 and 2 each perform measurement using a contact needle provided in a probe, the spatial arrangement of the contact needles is limited, and the recent increase in the density of semiconductor elements and It is no longer possible to respond to requests for batch processing due to the increase in the total number. Further, in manufacturing a probe, it is necessary to arrange contact needles one by one by hand, which is a factor that makes cost reduction difficult.

【0004】そこで、このような要請に応じる形で、近
年、いわゆる薄膜プローブといわれるものが提唱されて
いる。これに関する公知技術としては、例えば、以下の
ものがある。 特開平5−243344号公報 この公知技術の薄膜プローブシステムは、円盤状配線基
板の中央に接触端子を配列したフィルムを取り付け、こ
のフィルムを加圧して接触をとる構成である。このと
き、フィルムは4角、あるいは円形状であり、フィルム
周囲には電極が配列されている。この電極は配線基板上
の電極と向かい合わせた後、押さえ板の加圧によって接
触、電気的接続がとられる。接触端子を有するフィルム
中央部は加圧部材に張り付けられており、この加圧部材
は自己レベリングピボットを介して上部加圧部材に連結
される。上部加圧部材は円盤にスプリングで支持されて
いる。上部加圧部材から下部加圧部材への圧力伝達はピ
ボットを介する。なお、これと同タイプのプローブは、
特開平7−283280号公報にも開示されている。
In response to such demands, a so-called thin-film probe has recently been proposed. Known techniques relating to this include, for example, the following. SUMMARY OF THE INVENTION The thin film probe system of this known technique has a configuration in which a film having contact terminals arranged thereon is attached to the center of a disk-shaped wiring board, and the film is pressed to make contact. At this time, the film has a square or circular shape, and electrodes are arranged around the film. After the electrodes face the electrodes on the wiring board, the electrodes are contacted and electrically connected by the pressing of the holding plate. The central portion of the film having the contact terminals is attached to a pressing member, which is connected to the upper pressing member via a self-leveling pivot. The upper pressing member is supported by a disk by a spring. Pressure transmission from the upper pressing member to the lower pressing member is via a pivot. The same type of probe
It is also disclosed in JP-A-7-283280.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
知技術の薄膜プローブにおいては、新たに、以下の課
題が生じる。すなわち一般に、プローブ検査装置におい
ては、まず検査前に接触端子先端と被測定体の電極との
微動位置合わせ作業を行った後、上部加圧部材を押圧し
て接触端子と電極との電気的接続を確保して検査を開始
する。この位置合わせ作業は、接触端子先端と被検査体
上の多数の微細バンプ(電極)との位置ずれが生じない
ように、高精度にかつ短時間に行われることが望まし
い。ここで、公知技術〜のような接触針を備えたプ
ローブにおいては、その構造上、プローブの上方から直
接観察しながら接触端子(すなわち接触針)と電極との
位置合わせ作業を行うことが可能である。例えば、公知
技術の構成では、位置合わせ作業時にプローブ取付体
の中央に開いた開口部を介しプローブ上方から接触針越
しに観察しつつ作業を行えるので、もし位置ずれが少し
でも生じれば上方からはっきりと認識でき、また接触針
の電極へのあたり状態も概ね認識できるので、結果的と
して、高精度かつ短時間な位置合わせが可能である。な
お、公知技術〜ではいずれも、あらかじめ接触端子
の位置及びバンプ(電極)の配置を初めに画像認識して
それぞれデータとして記憶した後、両者を載せた微動台
を動かして位置合わせするという構成になっており、位
置合わせ作業時に接触端子及び電極の配置を直接観察し
ながら行うという構成になっていないが、構造的には、
プローブ上方から接触針越しに観察(若しくは画像認
識)するように変形することは可能である。
However, the following problems newly arise in the above-mentioned known thin-film probe. That is, in general, in the probe inspection apparatus, first, before the inspection, a fine movement alignment work between the tip of the contact terminal and the electrode of the device under test is performed, and then the upper pressing member is pressed to electrically connect the contact terminal and the electrode. To start the inspection. This positioning operation is desirably performed with high accuracy and in a short time so as not to cause a displacement between the tip of the contact terminal and a large number of fine bumps (electrodes) on the test object. Here, in a probe provided with a contact needle as described in the related art, it is possible to perform a positioning operation between a contact terminal (that is, a contact needle) and an electrode while directly observing the probe from above. is there. For example, in the configuration of the known technique, the work can be performed while observing the probe through the contact needle from above the probe through the opening opened at the center of the probe mounting body at the time of the alignment work. Since it can be clearly recognized and the contact state of the contact needle with the electrode can be generally recognized, as a result, high-accuracy and short-time alignment is possible. In any of the prior arts, the position of the contact terminal and the arrangement of the bumps (electrodes) are first recognized in an image and stored as data, and then the position is adjusted by moving the fine table on which both are placed. It is not configured to directly observe the arrangement of the contact terminals and electrodes during the alignment work, but structurally,
It is possible to deform so that observation (or image recognition) is performed from above the probe through the contact needle.

【0006】しかしながら、上記公知技術の薄膜プロ
ーブでは、接触端子を配列したフィルムを薄膜状に設け
る構成であることから、プローブ上方から直接観察しな
がら位置合わせを行うことはできない。したがって、例
えば公知技術〜と類似するような方法であらかじめ
接触端子(すなわちフィルムに形成された突起)及びバ
ンプ(電極)の配置をそれぞれ画像認識してデータとし
て記憶した後、それら2つのデータを基にして間接的に
位置合わせを行うこととなるので、高精度な位置合わせ
を短時間で行うのが困難である。
However, in the above-described thin-film probe of the prior art, since a film in which contact terminals are arranged is provided in a thin-film shape, positioning cannot be performed while directly observing from above the probe. Therefore, for example, the arrangement of the contact terminals (ie, protrusions formed on the film) and the arrangement of the bumps (electrodes) are image-recognized and stored as data in advance by a method similar to that of the known art, and the two data are used as a basis. Therefore, it is difficult to perform highly accurate positioning in a short time.

【0007】また一方、公知技術の構成においては、
突起が消耗し劣化して交換が必要になったとき、薄膜ご
と(薄膜が取り付けられる基板への引き出し用配線を含
む)交換する必要があり、交換作業が非常に煩雑である
という課題もある。
On the other hand, in the configuration of the known art,
When the projections are worn and deteriorated and need to be replaced, it is necessary to replace the entire thin film (including the wiring for drawing out to the substrate to which the thin film is attached), and there is also a problem that the replacement operation is very complicated.

【0008】本発明の第1の目的は、薄膜プローブ上方
からの直接観察を可能とすることで、高精度かつ短時間
の位置合わせ作業を容易に行える検査装置を提供するこ
とである。本発明の第2の目的は、接触端子劣化時の交
換を容易に行える検査装置を提供することである。
A first object of the present invention is to provide an inspection apparatus which enables direct observation from above a thin-film probe, thereby facilitating high-accuracy and short-time alignment work. A second object of the present invention is to provide an inspection device that can easily replace a contact terminal when it has deteriorated.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記第1の目的を達成す
るために、本発明によれば、薄膜をエッチングして形成
され検査対象と接触する複数の接触端子と、これら複数
の接触端子が下側に設けられた支持手段と、各接触端子
から引き出される配線手段と、前記支持手段と前記検査
対象とを相対的に移動させ、該接触端子を該検査対象に
接触させる駆動手段と、前記接触端子が前記検査対象に
接触したときに前記配線手段を介して前記検査対象と電
気信号を授受する信号処理手段とを有し、前記検査対象
の電気特性を検査する検査装置において、前記支持手段
のうち、少なくとも前記接触端子の上方に位置する部分
は透過性部材で構成されており、かつ、この透過性部材
の上方に、該透過性部材を介して前記検査対象を直視可
能な観察手段を設けたことを特徴とする検査装置が提供
される。これにより、位置合わせ作業時に、透過性部材
を介し観察手段で薄膜プローブ上方からの直接観察を行
うことができる。よって例えば位置ずれが少しでも生じ
れば上方からそれをはっきりと認識でき、また、接触端
子の検査対象へのあたり状態も概ね認識できるので、結
果的として、高精度かつ短時間な位置合わせが容易に可
能となる。
In order to achieve the first object, according to the present invention, a plurality of contact terminals formed by etching a thin film and contacting an object to be inspected, and the plurality of contact terminals are provided. Supporting means provided on the lower side, wiring means drawn out from each contact terminal, driving means for relatively moving the support means and the test object, and bringing the contact terminal into contact with the test object, Signal processing means for transmitting and receiving an electrical signal to and from the test object via the wiring means when a contact terminal comes into contact with the test object; Among them, at least a portion located above the contact terminal is formed of a transmissive member, and above the transmissive member, an observation unit capable of directly viewing the inspection target via the transmissive member is provided. Setting Inspection apparatus is provided, characterized in that the. This allows direct observation from above the thin film probe by the observation means via the transparent member during the alignment work. Therefore, for example, if any misalignment occurs, it can be clearly recognized from above, and the contact state of the contact terminal with the object to be inspected can be generally recognized. As a result, high-accuracy and short-time alignment is easy. Becomes possible.

【0010】また上記第2の目的を達成するために、本
発明によれば、薄膜をエッチングして形成され検査対象
と接触する複数の接触端子と、これら複数の接触端子が
下側に設けられた支持手段と、各接触端子から引き出さ
れた配線手段と、前記支持手段と前記検査対象とを相対
的に移動させ、該接触端子を該検査対象に接触させる駆
動手段と、前記接触端子が前記検査対象に接触したとき
に前記配線手段を介して前記検査対象と電気信号を授受
する信号処理手段とを有し、前記検査対象の電気特性を
検査する検査装置において、前記支持手段のうち一部分
は、他の部分に設けられたはめ込み位置に着脱自在なカ
セット収納手段となっており、かつ、前記接触端子は、
前記カセット手段の下部に設けられており、前記配線手
段は、前記カセット手段の下部及びはめ込み部分に設け
られた第1配線手段と、前記支持手段の他の部分に設け
られ該カセット手段が前記支持手段のはめ込み位置には
め込まれたときに前記第1配線手段に接触して電気接続
する第2配線手段とを備えていることを特徴とする検査
装置が提供される。これにより、接触端子が消耗し劣化
して交換が必要になったときには、カセット手段をはめ
込み位置から取り外して新しいカセット手段をはめ込め
ば足りるので、薄膜ごと(薄膜が取り付けられる基板へ
の引き出し用配線を含む)交換する必要があった従来に
比し、交換作業を容易に行うことができる。
In order to achieve the second object, according to the present invention, a plurality of contact terminals formed by etching a thin film and contacting an object to be inspected, and the plurality of contact terminals are provided on a lower side. Supporting means, wiring means pulled out from each contact terminal, driving means for relatively moving the support means and the test object, and bringing the contact terminal into contact with the test object, and the contact terminal A signal processing unit that transmits and receives an electric signal to and from the test object via the wiring unit when the test object comes into contact with the test object; , Is a cassette storage means that is detachable at a fitting position provided in another part, and the contact terminal,
The wiring means is provided at a lower portion of the cassette means, the wiring means is a first wiring means provided at a lower portion and a fitting portion of the cassette means, and the wiring means is provided at another portion of the support means, and the cassette means is provided at the support portion. And a second wiring means for making electrical contact with the first wiring means when the means is fitted into the fitting position of the means. As a result, when the contact terminals are worn and deteriorated and need to be replaced, it is sufficient to remove the cassette means from the fitting position and fit the new cassette means. The replacement work can be easily performed as compared with the related art that requires replacement.

【0011】好ましくは、前記検査装置において、前記
カセット手段は、前記接触端子が下端に固定された絶縁
シートと、この絶縁シートを下端に固定したプレート
と、このプレートを内部に固定した枠体とを備えてお
り、前記第1配線手段は、前記絶縁シート上に設けられ
た配線と前記枠体の外周に設けられた複数の電極とを備
えていることを特徴とする検査装置が提供される。
Preferably, in the inspection device, the cassette means includes an insulating sheet having the contact terminals fixed to a lower end, a plate having the insulating sheet fixed to a lower end, and a frame body having the plate fixed therein. Wherein the first wiring means includes wiring provided on the insulating sheet and a plurality of electrodes provided on the outer periphery of the frame. .

【0012】また好ましくは、前記検査装置において、
前記枠体は、樹脂材料及びセラミック材料の少なくとも
一材料から構成され、前記複数の電極のそれぞれは、前
記枠体の外周側面に形成された半円弧状の溝底凹部に沿
ってニッケル及び金をメタライズすることにより形成さ
れていることを特徴とする検査装置が提供される。
Preferably, in the inspection apparatus,
The frame is made of at least one of a resin material and a ceramic material, and each of the plurality of electrodes is formed of nickel and gold along a semicircular arc-shaped groove bottom recess formed on the outer peripheral side surface of the frame. An inspection apparatus characterized by being formed by metallizing is provided.

【0013】さらに好ましくは、前記検査装置におい
て、前記絶縁シートは、ポリイミドから構成されてお
り、前記第1配線手段及び前記接触端子の設置位置以外
の領域に複数個の貫通穴が設けられていることを特徴と
する検査装置が提供される。
[0013] More preferably, in the inspection device, the insulating sheet is made of polyimide, and a plurality of through holes are provided in a region other than the installation positions of the first wiring means and the contact terminals. An inspection device is provided.

【0014】また好ましくは、前記検査装置において、
前記支持手段のはめ込み位置に複数のリードピンを設
け、前記カセット手段が該はめ込み位置にはめ込まれた
ときにこれらのリードピンで前記複数の電極をそれぞれ
押圧して保持するとともに、各電極と前記第2配線手段
とを接続することを特徴とする検査装置が提供される。
Preferably, in the inspection apparatus,
A plurality of lead pins are provided at the fitting position of the support means, and when the cassette means is fitted at the fitting position, the plurality of electrodes are pressed and held by these lead pins, respectively, and each electrode and the second wiring are provided. An inspection device is provided, wherein the inspection device is connected to the means.

【0015】また好ましくは、前記検査装置において、
前記支持手段に設けられたはめ込み位置には、前記カセ
ット手段との間の衝撃を緩和する弾性体が配置されてい
ることを特徴とする検査装置が提供される。これによ
り、接触端子が検査対象に接触するときの衝撃を緩和す
ることができる。また、カセット手段内部、例えば接触
端子が下端に固定されるシートとこのシートが下端に固
定されるプレートとの間に弾性体を設ける場合のよう
に、弾性及びシート・プレートとの接着性の両方を同時
に満足する必要がなく、簡易な構造で安価に構成するこ
とができる。
Preferably, in the inspection apparatus,
An inspection apparatus is provided, wherein an elastic body for absorbing an impact between the cassette unit and the cassette unit is disposed at a fitting position provided on the support unit. Thereby, the impact when the contact terminal comes into contact with the inspection target can be reduced. Also, as in the case where an elastic body is provided inside the cassette means, for example, between a sheet to which the contact terminal is fixed to the lower end and a plate to which the sheet is fixed to the lower end, both elasticity and adhesiveness with the sheet plate are provided. Does not need to be satisfied at the same time, and can be configured at a low cost with a simple structure.

【0016】また好ましくは、前記検査装置において、
前記支持手段は梁部材を備えており、かつこの梁部材
は、両端のうち少なくとも一方が加振手段に支持されて
いることを特徴とする検査装置が提供される。一般に、
接触端子先端が検査対象の例えばバンプ表面に押しつけ
られた時には、通常アルミ薄膜であるパッド表面に形成
されている酸化膜を効果的に破り、十分な電気的接触を
達成する必要がある。このためには先端を微動させ、い
わゆる“こする”摩擦動作を行う必要性が高い。そこ
で、接触端子を振動させようとする場合に、従来のよう
に円盤状の支持部材の下側に接触端子を設ける場合に比
し、本発明では支持部材の一部を梁構造とすることで加
振手段の加振時に共振させやすくなり、接触端子による
検査対象の接触・摩擦を容易に行うことができる。ま
た、梁構造の採用によって加圧時の衝撃を梁自体の曲が
り変形によって吸収・緩和する効果もある。
Preferably, in the inspection apparatus,
An inspection apparatus is provided in which the support means includes a beam member, and at least one of both ends of the beam member is supported by the vibration means. In general,
When the tip of the contact terminal is pressed against, for example, the surface of the bump to be inspected, it is necessary to effectively break the oxide film formed on the pad surface, which is usually an aluminum thin film, to achieve sufficient electrical contact. For this purpose, it is highly necessary to slightly move the tip to perform a so-called "rubbing" friction operation. Therefore, when the contact terminal is to be vibrated, in comparison with the case where the contact terminal is provided below the disk-shaped support member as in the related art, a part of the support member has a beam structure in the present invention. It becomes easy to resonate when the vibration means is vibrated, and the contact / friction of the inspection object by the contact terminal can be easily performed. In addition, the adoption of the beam structure has an effect of absorbing and mitigating the impact at the time of pressurization by bending deformation of the beam itself.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
を参照しつつ説明する。本実施形態は、本発明を、半導
体素子の電気特性評価を行うプローブを備えた検査装置
に適用した場合の実施形態である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment is an embodiment in which the present invention is applied to an inspection apparatus provided with a probe for evaluating electrical characteristics of a semiconductor element.

【0018】本実施形態による検査装置の全体構造を表
す側面図を図1に、図1からプローブカセット100を
取り外した状態の要部拡大上面図及び側面図を図2
(a)(b)に示す。図1及び図2(a)(b)におい
て、検査装置は、シリコンウエハ17の電気特性を検査
するものであり、薄膜に公知のエッチングを施して形成
され、検査対象であるシリコンウエハ17と接触する複
数の接触端子1と、台座18に一端を支持される片持ち
梁である梁支持体9と、この梁支持体9に着脱可能に取
り付けられ、主として透過性部材で構成された(後述)
プローブカセット100と、接触端子1がシリコンウエ
ハ17に接触したときにシリコンウエハ17と電気信号
を授受する制御処理装置21と、プローブカセット10
0の上方に設けられたビデオカメラ16と、シリコンウ
エハ17を載置するとともに、梁支持体9に対してシリ
コンウエハ17を相対的に移動させ、接触端子1をシリ
コンウエハ7に接触させる微動台24とを有する。
FIG. 1 is a side view showing the entire structure of the inspection apparatus according to the present embodiment, and FIG. 2 is an enlarged top view and a side view of a main part in a state where the probe cassette 100 is removed from FIG.
(A) and (b). In FIGS. 1 and 2A and 2B, the inspection device is for inspecting the electrical characteristics of the silicon wafer 17 and is formed by subjecting a thin film to a known etching so as to make contact with the silicon wafer 17 to be inspected. A plurality of contact terminals 1, a beam support 9 which is a cantilever supported at one end by a pedestal 18, and is detachably attached to the beam support 9 and mainly includes a transparent member (described later).
A probe cassette 100, a control processing unit 21 for transmitting and receiving an electric signal to and from the silicon wafer 17 when the contact terminal 1 contacts the silicon wafer 17, and a probe cassette 10
The video camera 16 and the silicon wafer 17 provided above the wafer support 9, and the fine movement table for moving the silicon wafer 17 relatively to the beam support 9 and bringing the contact terminals 1 into contact with the silicon wafer 7. 24.

【0019】プローブカセット100の詳細構造を表す
側面図を図3に、斜視図を図4に示す。図3及び図4に
おいて、プローブカセット100は、接触端子1が下端
に固定されたポリイミド製の透過性の(=透明若しくは
半透明の)絶縁シート2と、この絶縁シート2を下端に
固定した透明なガラスプレート3と、セラミック材料か
ら構成されガラスプレート3を内部に固定したセラミッ
ク枠5とを備えている。
FIG. 3 is a side view showing the detailed structure of the probe cassette 100, and FIG. 3 and 4, a probe cassette 100 includes a transparent (= transparent or translucent) insulating sheet 2 made of polyimide and having a contact terminal 1 fixed at the lower end thereof, and a transparent sheet having the insulating sheet 2 fixed at the lower end thereof. And a ceramic frame 5 made of a ceramic material and having the glass plate 3 fixed therein.

【0020】なお、絶縁シート2には、配線22及び接
触端子1を除いた領域に複数個の貫通穴23が形成され
ている(図3参照)。このようなプローブカセット10
0の組立手順は以下のようである。すなわち、まず接触
端子1となる材料Ni,Cu,Feなどのメタルを、例
えば厚さ25μmのポリイミド製シート2に透明な接着
層4を介して接着する。その後、このシート2に接着さ
れたメタルをエッチングして円柱体(あるいは円柱体及
び直方体)を残し、接触端子1を形成する。次いで、接
触端子1に繋がる配線22をスパッタメッキ等によって
シート2状に形成し、配線22の端部にパッド(図示せ
ず)を形成する。なおこのとき、端子配列はチップのバ
ンプ配列に対応させて作製し、チップが正方形に近い場
合には、一回のテスティングで1個、あるいは4個、あ
るいは9個、……と検査できる端子配置をとる。また、
パッドはバンプの総数を4等分した数をプローブカセッ
ト100の四角形辺に縁にそって配列し、パッド位置に
は接続を容易にするため予めスルーホール(図示せず)
を開け、Cuメッキを施す。
A plurality of through holes 23 are formed in the insulating sheet 2 in a region other than the wiring 22 and the contact terminals 1 (see FIG. 3). Such a probe cassette 10
0 is as follows. That is, first, a metal such as Ni, Cu, or Fe that becomes the contact terminal 1 is bonded to a polyimide sheet 2 having a thickness of, for example, 25 μm via a transparent bonding layer 4. Thereafter, the metal adhered to the sheet 2 is etched to leave a cylindrical body (or a cylindrical body and a rectangular parallelepiped), and the contact terminals 1 are formed. Next, a wiring 22 connected to the contact terminal 1 is formed into a sheet 2 by sputtering plating or the like, and a pad (not shown) is formed at an end of the wiring 22. At this time, the terminal arrangement is made corresponding to the bump arrangement of the chip, and when the chip is close to a square, one, four, or nine,... Terminals can be inspected by one test. Take the arrangement. Also,
The pads are arranged by dividing the total number of bumps into four along the square sides of the probe cassette 100, and through holes (not shown) are provided at the pad positions in advance to facilitate connection.
Is opened and Cu plating is applied.

【0021】一方、セラミック枠5は、厚膜グリーンシ
ート外周側面に半円弧状溝6を板厚方向に配列して形成
した後、溝底凹部にタングステンペーストを塗って焼成
し構成する。そして、溝底のタングステン膜にはニッケ
ル又は金メッキが施されて、複数の電極7を形成してお
く。そして、このようなセラミック枠5の内部に、セラ
ミック系又はエポキシ系の接着剤8を用いてパイレック
スガラスプレート3を接着し固定する。その後、このセ
ラミック枠5に組み込まれたガラスプレート3に接触端
子1付きシート2を接着する。このとき、接着層4を構
成する接着剤としては透明なポリイミド系接着剤を用
い、接着層4を一様な厚さとし、ボイドを発生させずに
加圧・高温保持して硬化させる。次いで、はんだペース
ト(Pb:Sn/40:60)をセラミック枠5外壁の
電極7に塗布して加熱処理し、配線22の端部に形成さ
れている(前述)シート2上のパッドと接続をとり、完
成する。
On the other hand, the ceramic frame 5 is formed by arranging semicircular grooves 6 on the outer peripheral side surface of the thick film green sheet in the plate thickness direction and then applying a tungsten paste to the groove bottom recesses and firing. Then, the tungsten film at the bottom of the groove is plated with nickel or gold to form a plurality of electrodes 7. Then, the Pyrex glass plate 3 is adhered and fixed to the inside of the ceramic frame 5 by using a ceramic or epoxy adhesive 8. Thereafter, the sheet 2 with the contact terminals 1 is bonded to the glass plate 3 incorporated in the ceramic frame 5. At this time, a transparent polyimide-based adhesive is used as the adhesive constituting the adhesive layer 4, the adhesive layer 4 is made to have a uniform thickness, and is cured by applying pressure and high temperature without generating voids. Next, a solder paste (Pb: Sn / 40: 60) is applied to the electrode 7 on the outer wall of the ceramic frame 5 and heated, and connected to the pad on the sheet 2 (described above) formed at the end of the wiring 22. Take and complete.

【0022】図1及び図2(a)(b)に戻り、梁支持
体9は、アルミニウム材若しくはSUS材料から構成さ
れており、横断面形状略四角形の段差つき開口部10が
形成されている。開口部10の上部には、観察倍率(あ
るいは解像度)を上げるために、レンズ20が設けられ
ている。また開口部10の内壁には電気絶縁材料12が
塗布されている。また梁支持体9の下面には、配線基板
13が接合されて取り付けられており、この配線基板1
3には梁支持体9の開口部10に合わせた開口部(図示
せず)が設けられている。このような梁支持体9の開口
部10にプローブカセット100がはめ込まれる。この
はめ込み部分の詳細構造を表す側断面図を図5に示す。
Returning to FIGS. 1 and 2 (a) and 2 (b), the beam support 9 is made of an aluminum material or a SUS material, and has a stepped opening 10 having a substantially square cross section. . A lens 20 is provided above the opening 10 in order to increase observation magnification (or resolution). An electrical insulating material 12 is applied to the inner wall of the opening 10. A wiring board 13 is joined and attached to the lower surface of the beam support 9.
3 has an opening (not shown) corresponding to the opening 10 of the beam support 9. The probe cassette 100 is fitted into the opening 10 of such a beam support 9. FIG. 5 is a side sectional view showing the detailed structure of the fitting portion.

【0023】図5において、梁支持体9の開口部10近
傍には、バネ性を有するFe−42Ni合金からなる複
数のリードピン14が配線基板13から垂直に立てられ
ており、その配列間隔はセラミック枠5に作られた半円
弧状の溝6の間隔と同じとなっている。そしてこのリー
ドピン14は、配線基板13が梁支持体9に接合された
ときに、リードピン14が梁支持体9の開口部10内に
突き出た状態となっている。そして、プローブカセット
100は、このようなリードピン14の突き出した状態
で開口部10内に挿入され、開口部10内の段差11に
ガラスプレート3が突き当てられ、段差11とガラスプ
レート3との間が隙間なく合わされて、はめ込み設置さ
れている。このとき、各リードピン14は、1対1に対
応しつつ溝6内の電極7に接触し、これにより、セラミ
ック枠5はリードピン14のバネ力で押しつけられ、こ
の押圧力により配線基板13と配線22との電気的接続
が達成される。したがって、シリコンウエハ17上の素
子に接触端子1が接触すると、シート2上のバンプ→配
線22→電極7→リードピン14→配線基板13上の配
線→台座18を介し、制御処理装置21へ電気信号が導
かれる。
In FIG. 5, in the vicinity of the opening 10 of the beam support 9, a plurality of lead pins 14 made of a Fe-42Ni alloy having a spring property are erected perpendicularly from the wiring board 13, and the arrangement interval is ceramic. The interval is the same as the interval between the semicircular grooves 6 formed in the frame 5. When the wiring board 13 is joined to the beam support 9, the lead pins 14 are in a state of protruding into the opening 10 of the beam support 9. Then, the probe cassette 100 is inserted into the opening 10 in such a state that the lead pins 14 protrude, the glass plate 3 abuts on the step 11 in the opening 10, and the gap between the step 11 and the glass plate 3 Are fitted together without any gaps and are fitted and installed. At this time, each lead pin 14 comes into contact with the electrode 7 in the groove 6 in a one-to-one correspondence, whereby the ceramic frame 5 is pressed by the spring force of the lead pin 14, and the pressing force causes the ceramic frame 5 to be connected to the wiring board 13. An electrical connection with 22 is achieved. Therefore, when the contact terminal 1 comes into contact with the element on the silicon wafer 17, the bump on the sheet 2 → the wiring 22 → the electrode 7 → the lead pin 14 → the wiring on the wiring board 13 → the electric signal to the control processing device 21 via the pedestal 18. Is led.

【0024】再度図1及び図2(a)(b)に戻り、ビ
デオカメラ16は、プローブカセット100及びレンズ
20の上方に設置され、レンズ20→プローブカセット
100のガラスプレート3→接着層4→シート2(又は
貫通穴23)を介し、シリコンウエハ17(シリコンウ
エハ17上に位置合わせマークを形成する場合、このマ
ークを含む)や接触端子1が直視可能となっている。こ
の観察画像は、制御処理装置21において所定の画像処
理が施された後、図示しない画像表示装置に表示され
る。なお、ビデオカメラ16によらず肉眼でも直視可能
であることはいうまでもない。また、台座18は、梁支
持体9をx,y,z方向に加振可能な加振機構(図示せ
ず)を内部に備えている。そして通常、台座18によっ
て、支持体9はシリコンウエハ17に対応し水平になる
ように設置されるが、接触端子1に接触圧がかかったと
きに梁支持体9が撓み、接触にばらつきが生じて不均一
になる可能性がある場合等は、予め撓みを見込んで梁支
持体9を傾斜させて取り付けてもよい。また、制御処理
21では、特に詳述しないが、画像処理に関する公知の
制御や、台座18内にある加振機構の公知の加振制御が
行われる。これらの制御はオペレータによって適宜選択
・調整入力可能としてもよいし、少なくとも一部を自動
制御としてもよい。
Referring back to FIGS. 1 and 2A and 2B, the video camera 16 is set above the probe cassette 100 and the lens 20, and the lens 20 → the glass plate 3 of the probe cassette 100 → the adhesive layer 4 → Through the sheet 2 (or the through hole 23), the silicon wafer 17 (including an alignment mark when the alignment mark is formed on the silicon wafer 17) and the contact terminal 1 can be directly viewed. This observation image is displayed on an image display device (not shown) after predetermined image processing is performed in the control processing device 21. It goes without saying that the image can be directly viewed by the naked eye without using the video camera 16. Further, the pedestal 18 has a vibration mechanism (not shown) capable of vibrating the beam support 9 in the x, y, and z directions. Normally, the support 9 is set horizontally by the pedestal 18 so as to correspond to the silicon wafer 17. However, when a contact pressure is applied to the contact terminal 1, the beam support 9 bends, causing uneven contact. When there is a possibility that the beam support 9 becomes non-uniform, the beam support 9 may be inclined and attached in anticipation of bending. Although not described in detail, the control process 21 performs known control regarding image processing and known vibration control of a vibration mechanism in the pedestal 18. These controls may be appropriately selected and adjusted by an operator, or at least a part thereof may be automatically controlled.

【0025】なお、上記構成において、絶縁シート2、
ガラスプレート3、接着層4、セラミック枠5、及び梁
支持体9が複数の接触端子1が下側に設けられた支持手
段を構成し、配線22、電極7、リードピン14、及び
配線基板13が接触端子1から引き出される配線手段を
構成し、制御処理装置21が接触端子1が検査対象に接
触したときに配線手段を介して検査対象と電気信号を授
受する信号処理手段を構成し、絶縁シート2、ガラスプ
レート3、及び接着層4が、支持手段のうち少なくとも
接触端子の上方に位置する部分を構成し、ビデオカメラ
16が透過性部材を介して検査対象を直視可能な観察手
段を構成し、微動台24が、支持手段と検査対象とを相
対的に移動させ、接触端子を検査対象に接触させる駆動
手段を構成する。また、配線22及び電極7がカセット
手段の下部及びはめ込み部分に設けられた第1配線手段
を構成し、リードピン14及び配線基板13が支持手段
の他の部分に設けられカセット手段が支持手段のはめ込
み位置にはめ込まれたときに第1配線手段に接触して電
気接続する第2配線手段を構成する。
In the above configuration, the insulating sheet 2,
The glass plate 3, the adhesive layer 4, the ceramic frame 5, and the beam support 9 constitute support means on which the plurality of contact terminals 1 are provided on the lower side, and the wiring 22, the electrodes 7, the lead pins 14, and the wiring substrate 13 are formed. A wiring means extending from the contact terminal 1; a signal processing means for the control processing device 21 to transmit and receive an electrical signal to and from the test object via the wiring means when the contact terminal 1 contacts the test object; 2, the glass plate 3 and the adhesive layer 4 constitute at least a portion of the support means located above the contact terminals, and the video camera 16 constitutes an observation means capable of directly viewing the inspection object via the transparent member. The fine movement table 24 constitutes driving means for relatively moving the supporting means and the test object and bringing the contact terminals into contact with the test object. Further, the wiring 22 and the electrode 7 constitute a first wiring means provided at a lower portion and a fitting portion of the cassette means, and the lead pins 14 and the wiring board 13 are provided at other portions of the supporting means, and the cassette means is fitted with the supporting means. The second wiring means is configured to come into contact with the first wiring means to be electrically connected when the second wiring means is inserted into the position.

【0026】そして、以上のような構成において、検査
前に、ビデオカメラ16による画像認識を行いつつ、ま
ず微動台24を駆動して接触端子1とウエハ17との微
動位置合わせ作業を行い、その後、さらに微動台24を
駆動して接触端子1先端とウエハ17の電極とを接触さ
せ加圧する。この接触を確保した状態で台座18内の加
振機構を作動させて梁支持体9を加振し、ウエハ17上
の酸化膜を除去する。その後、ウエハ17の電気特性評
価のための検査を行う。
In the above-described configuration, before inspection, while performing image recognition by the video camera 16, first, the fine moving table 24 is driven to perform a fine moving position adjusting operation between the contact terminal 1 and the wafer 17. Then, the fine movement table 24 is driven to bring the tip of the contact terminal 1 into contact with the electrode of the wafer 17 to apply pressure. With this contact maintained, the vibration mechanism in the pedestal 18 is operated to vibrate the beam support 9 to remove the oxide film on the wafer 17. After that, an inspection for evaluating the electrical characteristics of the wafer 17 is performed.

【0027】本実施形態によれば、位置合わせ作業時
に、ビデオカメラ16でプローブ上方からの直接観察を
行うことができる。よって例えば位置ずれが少しでも生
じれば上方からそれをはっきりと認識でき、また、接触
端子1の検査対象へのあたり状態も概ね認識できるの
で、結果的として、高精度かつ短時間な位置合わせが容
易に可能となる。また、接触端子1が消耗し劣化して交
換が必要になったときには、プローブカセット100を
梁支持体9の開口部10から取り外して新しいプローブ
カセット100をはめ込めば足りるので、薄膜ごと(薄
膜が取り付けられる基板への引き出し用配線を含む)交
換する必要があった従来に比し、交換作業を容易に行う
ことができる。さらに、接続端子1を下部に備えたカセ
ットプローブ100を梁構造で支持するので、従来のよ
うに円盤状の支持部材の下側に接触端子を設ける場合に
比し、加振時に共振させやすくなり、接触端子1による
ウエハ7の接触・摩擦を容易に行うことができる。ま
た、梁構造の採用によって加圧時の衝撃を梁支持体9自
体の曲がり変形によって吸収・緩和する効果もある。
According to the present embodiment, the video camera 16 can perform direct observation from above the probe during the positioning operation. Therefore, for example, if any positional deviation occurs, it can be clearly recognized from above, and the contact state of the contact terminal 1 with the inspection target can be generally recognized. As a result, high-accuracy and short-time alignment can be achieved. It is easily possible. Further, when the contact terminals 1 are worn and deteriorated and need to be replaced, it is sufficient to remove the probe cassette 100 from the opening 10 of the beam support 9 and insert a new probe cassette 100. (Including the wiring for drawing out to the board to be replaced), the replacement operation can be performed easily as compared with the related art that had to be replaced. Further, since the cassette probe 100 having the connection terminal 1 provided at the lower portion is supported by a beam structure, resonance is easily caused at the time of vibration as compared with the case where the contact terminal is provided below the disk-shaped support member as in the related art. In addition, the contact and friction of the wafer 7 with the contact terminal 1 can be easily performed. The use of the beam structure also has the effect of absorbing and mitigating the impact at the time of pressurization by bending deformation of the beam support 9 itself.

【0028】なお、上記実施形態においては、セラミッ
ク材料からなるセラミック枠5を用いたが、これに限ら
れず、例えば樹脂枠を使う場合もある。すなわちこの場
合樹脂をモールドして枠を作ることとなるが、この場合
には、リードフレームを埋め込み、切断により溝底にリ
ードを残して電極を形成する。この場合も同様の効果を
得る。また、上記実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲で変形が可能である。以下、そのような変形例を
説明する。 (1)衝撃緩和用弾性体を設ける例 すなわち、上記実施形態の図5に対応する図6に示すよ
うに、梁支持体9へのカセットプローブ100のはめ込
み位置における、ガラスプレート3及びセラミック枠5
の上面と梁支持体9の段差部11との間に弾性体215
を設けるものである。これにより、検査前に接触端子1
をウエハ7のバンプに接触させるときの衝撃を緩和させ
ることができる。またこの場合、同様の目的で、絶縁シ
ート2とガラスプレート3との間に弾性体を設ける場合
のように、弾性及びシート・プレートとの接着性の両方
を同時に満足する必要がないので、簡易かつ安価な構造
で衝撃吸収を実現することができる。
In the above embodiment, the ceramic frame 5 made of a ceramic material is used. However, the present invention is not limited to this. For example, a resin frame may be used. That is, in this case, a resin is molded to form a frame. In this case, a lead frame is embedded and cut to form an electrode while leaving a lead at a groove bottom. In this case, a similar effect is obtained. The above embodiment can be modified without departing from the spirit of the present invention. Hereinafter, such a modified example will be described. (1) Example of Providing Impact-Reducing Elastic Body That is, as shown in FIG. 6 corresponding to FIG. 5 of the above embodiment, the glass plate 3 and the ceramic frame 5 at the position where the cassette probe 100 is fitted into the beam support 9.
Elastic body 215 between the upper surface of the
Is provided. This allows the contact terminal 1 to be inspected before the inspection.
Can be alleviated when the substrate is brought into contact with the bumps on the wafer 7. Further, in this case, unlike the case where an elastic body is provided between the insulating sheet 2 and the glass plate 3 for the same purpose, it is not necessary to simultaneously satisfy both the elasticity and the adhesiveness with the sheet plate. In addition, shock absorption can be realized with an inexpensive structure.

【0029】(2)梁支持体を両持ち梁とする例 すなわち、上記実施形態の梁支持体9のうち、台座18
で支持されていない他端を所定の固定部材に固定するも
のである。この場合、梁支持体9の両端が支持されるこ
とから、加圧時及び加振時に梁支持体9を対称に変形・
振動させることができる効果がある
(2) Example in which the beam support is a doubly supported beam That is, of the beam support 9 of the above embodiment, the pedestal 18
The other end which is not supported is fixed to a predetermined fixing member. In this case, since both ends of the beam support 9 are supported, the beam support 9 is deformed symmetrically during pressurization and vibration.
There is an effect that can be vibrated

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、位置合わせ作業時に、
透過性部材を介し観察手段で薄膜プローブ上方からの直
接観察を行うことができる。よって、高精度かつ短時間
な位置合わせが容易に可能となるので、検査の信頼性を
向上できる。
According to the present invention, during alignment work,
Direct observation from above the thin film probe can be performed by the observation means via the transparent member. Therefore, high-accuracy and short-time alignment can be easily performed, and the reliability of the inspection can be improved.

【0031】また本発明によれば、接触端子が消耗し劣
化して交換が必要になったときには、カセット手段をは
め込み位置から取り外して新しいカセット手段をはめ込
めば足りるので、交換作業を容易に行うことができる。
According to the present invention, when the contact terminals are worn out and deteriorated and need to be replaced, it is sufficient to remove the cassette means from the fitting position and fit a new cassette means, so that the replacement work can be easily performed. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態による検査装置の全体構造
を表す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing the entire structure of an inspection device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1からプローブカセットを取り外した状態の
要部拡大上面図及び側面図である。
FIGS. 2A and 2B are an enlarged top view and a side view of a main part in a state where a probe cassette is removed from FIG.

【図3】プローブカセットの詳細構造を表す側面図であ
る。
FIG. 3 is a side view illustrating a detailed structure of a probe cassette.

【図4】プローブカセットの詳細構造を表す斜視図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view illustrating a detailed structure of a probe cassette.

【図5】プローブカセットはめ込み部分の詳細構造を表
す側断面図である。
FIG. 5 is a side sectional view showing a detailed structure of a probe cassette fitting portion.

【図6】衝撃緩和用弾性体を設ける変形例を表す側断面
図である。
FIG. 6 is a side sectional view illustrating a modification in which an impact-reducing elastic body is provided.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 接触端子 2 絶縁シート 3 ガラスプレート 4 接着層 5 セラミック枠(枠体) 6 半円弧状溝 7 電極(第1配線手段) 8 接着剤 9 梁支持体(梁部材) 10 開口部 13 配線基板(第2配線手段) 14 リードピン(第2配線手段) 16 ビデオカメラ(観察手段) 17 シリコンウエハ(検査対象) 18 台座(加振手段) 21 制御処理装置(信号処理手段) 22 配線(第1配線手段) 23 貫通穴 24 微動台(駆動手段) 100 プローブカセット(カセット手段) 215 弾性体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Contact terminal 2 Insulating sheet 3 Glass plate 4 Adhesive layer 5 Ceramic frame (frame body) 6 Semicircular groove 7 Electrode (1st wiring means) 8 Adhesive 9 Beam supporter (beam member) 10 Opening 13 Wiring board ( 2nd wiring means) 14 lead pin (second wiring means) 16 video camera (observation means) 17 silicon wafer (inspection object) 18 pedestal (vibration means) 21 control processing device (signal processing means) 22 wiring (first wiring means) ) 23 through hole 24 fine movement table (drive means) 100 probe cassette (cassette means) 215 elastic body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有賀 昭彦 東京都千代田区神田駿河台四丁目6番地 株式会社日立製作所半導体事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Akihiko Ariga 4-6 Kanda Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo Semiconductor Manufacturing Division, Hitachi, Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】薄膜をエッチングして形成され検査対象と
接触する複数の接触端子と、 これら複数の接触端子が下側に設けられた支持手段と、 各接触端子から引き出される配線手段と、 前記支持手段と前記検査対象とを相対的に移動させ、該
接触端子を該検査対象に接触させる駆動手段と、 前記接触端子が前記検査対象に接触したときに前記配線
手段を介して前記検査対象と電気信号を授受する信号処
理手段とを有し、 前記検査対象の電気特性を検査する検査装置において、 前記支持手段のうち、少なくとも前記接触端子の上方に
位置する部分は透過性部材で構成されており、かつ、 この透過性部材の上方に、該透過性部材を介して前記検
査対象を直視可能な観察手段を設けたことを特徴とする
検査装置。
A plurality of contact terminals formed by etching a thin film and contacting an object to be inspected; support means provided on a lower side of the plurality of contact terminals; wiring means drawn out from each contact terminal; A driving unit for relatively moving a support unit and the inspection target and bringing the contact terminal into contact with the inspection target; and a driving unit that contacts the inspection target via the wiring unit when the contact terminal comes into contact with the inspection target. A signal processing unit for transmitting and receiving an electric signal, wherein the inspection device inspects the electrical characteristics of the inspection target, wherein at least a portion of the support unit located above the contact terminal is formed of a transparent member. An inspection apparatus, characterized in that an observation means is provided above the transmissive member so that the inspection object can be directly viewed through the transmissive member.
【請求項2】薄膜をエッチングして形成され検査対象と
接触する複数の接触端子と、 これら複数の接触端子が下側に設けられた支持手段と、 各接触端子から引き出された配線手段と、 前記支持手段と前記検査対象とを相対的に移動させ、該
接触端子を該検査対象に接触させる駆動手段と、 前記接触端子が前記検査対象に接触したときに前記配線
手段を介して前記検査対象と電気信号を授受する信号処
理手段とを有し、 前記検査対象の電気特性を検査する検査装置において、 前記支持手段のうち一部分は、他の部分に設けられたは
め込み位置に着脱自在なカセット手段となっており、か
つ、 前記接触端子は、前記カセット手段の下部に設けられて
おり、 前記配線手段は、前記カセット手段の下部及びはめ込み
部分に設けられた第1配線手段と、前記支持手段の他の
部分に設けられ該カセット手段が前記支持手段のはめ込
み位置にはめ込まれたときに前記第1配線手段に接触し
て電気接続する第2配線手段とを備えていることを特徴
とする検査装置。
2. A plurality of contact terminals formed by etching a thin film and contacting an object to be inspected, a support means provided with the plurality of contact terminals on a lower side, a wiring means drawn out from each contact terminal, Driving means for relatively moving the support means and the test object and bringing the contact terminal into contact with the test object; and driving the test object via the wiring means when the contact terminal comes into contact with the test object. And a signal processing means for transmitting and receiving an electrical signal. An inspection apparatus for inspecting electrical characteristics of the inspection object, wherein a part of the support means is detachable at a fitting position provided on another part. And the contact terminal is provided at a lower part of the cassette means, and the wiring means is a first wiring hand provided at a lower part and a fitting part of the cassette means. And second wiring means provided in another part of the support means and contacting and electrically connecting to the first wiring means when the cassette means is inserted into the fitting position of the support means. An inspection device characterized by the above-mentioned.
【請求項3】請求項2記載の検査装置において、前記カ
セット手段は、前記接触端子が下端に固定された絶縁シ
ートと、この絶縁シートを下端に固定したプレートと、
このプレートを内部に固定した枠体とを備えており、前
記第1配線手段は、前記絶縁シート上に設けられた配線
と前記枠体の外周に設けられた複数の電極とを備えてい
ることを特徴とする検査装置。
3. An inspection apparatus according to claim 2, wherein said cassette means comprises: an insulating sheet having said contact terminal fixed to a lower end; a plate having said insulating sheet fixed to a lower end;
A frame body having the plate fixed therein, wherein the first wiring means includes wiring provided on the insulating sheet and a plurality of electrodes provided on an outer periphery of the frame body. An inspection device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】請求項3記載の検査装置において、前記枠
体は、樹脂材料及びセラミック材料の少なくとも一材料
から構成され、前記複数の電極のそれぞれは、前記枠体
の外周側面に形成された半円弧状の溝底凹部に沿ってニ
ッケル及び金をメタライズすることにより形成されてい
ることを特徴とする検査装置。
4. The inspection device according to claim 3, wherein the frame is made of at least one of a resin material and a ceramic material, and each of the plurality of electrodes is formed on an outer peripheral side surface of the frame. An inspection device characterized by being formed by metallizing nickel and gold along a semicircular groove bottom recess.
【請求項5】請求項3記載の検査装置において、前記絶
縁シートは、ポリイミドから構成されており、前記第1
配線手段及び前記接触端子の設置位置以外の領域に複数
個の貫通穴が設けられていることを特徴とする検査装
置。
5. The inspection apparatus according to claim 3, wherein said insulating sheet is made of polyimide, and said first sheet is made of polyimide.
An inspection apparatus, wherein a plurality of through holes are provided in a region other than a wiring unit and an installation position of the contact terminal.
【請求項6】請求項3記載の検査装置において、前記支
持手段のはめ込み位置に複数のリードピンを設け、前記
カセット手段が該はめ込み位置にはめ込まれたときにこ
れらのリードピンで前記複数の電極をそれぞれ押圧する
とともに、各電極と前記第2配線手段とを接続すること
を特徴とする検査装置。
6. An inspection apparatus according to claim 3, wherein a plurality of lead pins are provided at a fitting position of said support means, and said plurality of electrodes are respectively set by said lead pins when said cassette means is fitted at said fitting position. An inspection apparatus, which presses and connects each electrode and the second wiring means.
【請求項7】請求項2記載の検査装置において、前記支
持手段に設けられたはめ込み位置には、前記カセット手
段との間の衝撃を緩和する弾性体が配置されていること
を特徴とする検査装置。
7. An inspection apparatus according to claim 2, wherein an elastic body for absorbing impact between said cassette means and said cassette means is arranged at a fitting position provided on said support means. apparatus.
【請求項8】請求項1又は2記載の検査装置において、
前記支持手段は梁部材を備えており、かつこの梁部材
は、両端のうち少なくとも一方が加振手段に支持されて
いることを特徴とする検査装置。
8. The inspection apparatus according to claim 1, wherein
The inspection device according to claim 1, wherein the support unit includes a beam member, and at least one of both ends of the beam member is supported by the vibration unit.
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