JPH1092286A - 電磁リレー及びその製造方法 - Google Patents
電磁リレー及びその製造方法Info
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- JPH1092286A JPH1092286A JP24301196A JP24301196A JPH1092286A JP H1092286 A JPH1092286 A JP H1092286A JP 24301196 A JP24301196 A JP 24301196A JP 24301196 A JP24301196 A JP 24301196A JP H1092286 A JPH1092286 A JP H1092286A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐蝕性、耐摩耗性の高い電磁リレー及びその
製造方法を提供すること。 【解決手段】 鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回
路を構成する部品（鉄心１，ヨーク２，アーマチュア
３）の表面に、窒化鉄の被膜１ａ，２ａ，３ａを、イオ
ン／プラズマ窒化処理を施すことによって形成した。イ
オン／プラズマ窒化処理は、水素に対する窒素の割合を
70％以上，雰囲気ガス圧を2〜6Torr，炉内温度を480〜5
90℃の条件で施し、2〜20μｍの窒化鉄被膜を形成し
た。
製造方法を提供すること。 【解決手段】 鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回
路を構成する部品（鉄心１，ヨーク２，アーマチュア
３）の表面に、窒化鉄の被膜１ａ，２ａ，３ａを、イオ
ン／プラズマ窒化処理を施すことによって形成した。イ
オン／プラズマ窒化処理は、水素に対する窒素の割合を
70％以上，雰囲気ガス圧を2〜6Torr，炉内温度を480〜5
90℃の条件で施し、2〜20μｍの窒化鉄被膜を形成し
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁リレー及びそ
の製造方法に関し、特に、電磁リレーの磁気回路を構成
する部品(鉄心，アーマチュア，ヨーク等)の表面に被覆
処理を施した電磁リレー及びその製造方法に関する。
の製造方法に関し、特に、電磁リレーの磁気回路を構成
する部品(鉄心，アーマチュア，ヨーク等)の表面に被覆
処理を施した電磁リレー及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の電磁リレーでは、特に電磁石部を
構成する鉄心，アーマチュア，ヨークに、純鉄材(電磁
軟鉄鋼)またはＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)等の鉄系材料が
用いられている。このような鉄系材料よりなる部品は、
その表面が耐蝕性に劣るので、通常、ＮｉやＣｕを化学
メッキ処理して使用されている。
構成する鉄心，アーマチュア，ヨークに、純鉄材(電磁
軟鉄鋼)またはＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)等の鉄系材料が
用いられている。このような鉄系材料よりなる部品は、
その表面が耐蝕性に劣るので、通常、ＮｉやＣｕを化学
メッキ処理して使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の上記電
磁リレーでは、高湿度下で接点開閉によるグロー放電が
発生すると、Ｎｉメッキ，Ｃｕメッキが腐食するという
問題があった。即ち、電磁リレーでは、インダクタンス
が大きい負荷を開閉するときにグロー放電が発生する
が、その際のグロー放電のエネルギーが、電磁リレー内
の雰囲気ガスを活性化およびイオン化させ、窒素がＮＯ
2，ＮＯ，Ｎ2Ｏ化することにより、特に高湿度下におい
て、電磁石部を構成する鉄系材料のＮｉメッキ，Ｃｕメ
ッキを腐食させることがあった。この事実は、例えば
「1963年，インターナショナル・コンフェレンス・オン
・エレクトロマグネティック・リレーズ・スピーチ・ナ
ンバー A-15(INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTROMAG
NETIC RELAYS、SPEECH NUMBER A-15，1963)」において指
摘されている。
磁リレーでは、高湿度下で接点開閉によるグロー放電が
発生すると、Ｎｉメッキ，Ｃｕメッキが腐食するという
問題があった。即ち、電磁リレーでは、インダクタンス
が大きい負荷を開閉するときにグロー放電が発生する
が、その際のグロー放電のエネルギーが、電磁リレー内
の雰囲気ガスを活性化およびイオン化させ、窒素がＮＯ
2，ＮＯ，Ｎ2Ｏ化することにより、特に高湿度下におい
て、電磁石部を構成する鉄系材料のＮｉメッキ，Ｃｕメ
ッキを腐食させることがあった。この事実は、例えば
「1963年，インターナショナル・コンフェレンス・オン
・エレクトロマグネティック・リレーズ・スピーチ・ナ
ンバー A-15(INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTROMAG
NETIC RELAYS、SPEECH NUMBER A-15，1963)」において指
摘されている。
【０００４】また、従来の電磁リレーでは、開閉動作を
繰り返すことにより、動作特性の変動が生じることがあ
った。即ち、電磁リレーの多数回動作では、該電磁リレ
ーの可動部であるアーマチュアと、アーマチュアの支持
部であるヨークとの接触部のメッキ層が摩耗するため、
ヨーク形状が変化し、これにより動作の支点がずれる。
そして、この支点のずれから、アーマチュアが正常な動
作をしなくなることがあった。また、開閉動作による摩
擦により摩耗粉が発生し、この摩耗粉が接点表面に移動
付着することで、接触不良を起こすこともあり、電磁リ
レーとしての特性の安定を損なうという問題もあった。
繰り返すことにより、動作特性の変動が生じることがあ
った。即ち、電磁リレーの多数回動作では、該電磁リレ
ーの可動部であるアーマチュアと、アーマチュアの支持
部であるヨークとの接触部のメッキ層が摩耗するため、
ヨーク形状が変化し、これにより動作の支点がずれる。
そして、この支点のずれから、アーマチュアが正常な動
作をしなくなることがあった。また、開閉動作による摩
擦により摩耗粉が発生し、この摩耗粉が接点表面に移動
付着することで、接触不良を起こすこともあり、電磁リ
レーとしての特性の安定を損なうという問題もあった。
【０００５】さらに、従来技術であるメッキ処理(Ｎｉ
やＣｕの化学メッキ処理)では、生産設備投資規模が膨
大なことから経済性の問題があり、かつメッキ処理排水
の発生が避けられないため、水質汚染等の環境対策に多
大なコストがかかるという問題があった。以上の事実か
ら、無公害で、しかも従来以上の機能性表面被膜を備え
た電磁リレーの出現が要望されている。
やＣｕの化学メッキ処理)では、生産設備投資規模が膨
大なことから経済性の問題があり、かつメッキ処理排水
の発生が避けられないため、水質汚染等の環境対策に多
大なコストがかかるという問題があった。以上の事実か
ら、無公害で、しかも従来以上の機能性表面被膜を備え
た電磁リレーの出現が要望されている。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その第一の目的は、電磁リレーの磁気回路を構
成する部品の耐蝕性及び耐摩耗性を高めることができ、
長期にわたって動作が安定した電磁リレーを提供するこ
とにある。また、本発明の第二の目的は、電磁リレーの
磁気回路を構成する部品の表面処理技術において、生産
設備にコストをかけずに、しかも水質汚染等がない無公
害な電磁リレーの製造方法を提供することにある。
であり、その第一の目的は、電磁リレーの磁気回路を構
成する部品の耐蝕性及び耐摩耗性を高めることができ、
長期にわたって動作が安定した電磁リレーを提供するこ
とにある。また、本発明の第二の目的は、電磁リレーの
磁気回路を構成する部品の表面処理技術において、生産
設備にコストをかけずに、しかも水質汚染等がない無公
害な電磁リレーの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の電磁リレーで
は、鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回路を構成す
る部品の表面に、イオン／プラズマ窒化処理によって窒
化鉄の被膜を形成することで、耐蝕性および耐摩耗性を
向上させている(請求項１)。
は、鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回路を構成す
る部品の表面に、イオン／プラズマ窒化処理によって窒
化鉄の被膜を形成することで、耐蝕性および耐摩耗性を
向上させている(請求項１)。
【０００８】具体的には、磁気回路を構成する鉄系部材
である鉄心，ヨーク，アーマチュアの少なくとも１つ
に、イオン／プラズマ窒化処理によって2〜20μｍの窒
化鉄の被膜を形成している(請求項２，３)。この場合の
イオン／プラズマ窒化処理の条件としては、水素に対す
る窒素の割合が70％以上，雰囲気ガス圧が2〜6Torr，炉
内温度が480〜590℃であることが望ましい(請求項４)。
である鉄心，ヨーク，アーマチュアの少なくとも１つ
に、イオン／プラズマ窒化処理によって2〜20μｍの窒
化鉄の被膜を形成している(請求項２，３)。この場合の
イオン／プラズマ窒化処理の条件としては、水素に対す
る窒素の割合が70％以上，雰囲気ガス圧が2〜6Torr，炉
内温度が480〜590℃であることが望ましい(請求項４)。
【０００９】
【作用】本発明によれば、イオン／プラズマ窒化処理に
より形成された窒化鉄(Ｆｅ4Ｎ)の被膜(窒化膜)は、耐
蝕性および耐摩耗性が高いので、高湿度下におけるグロ
ー放電エネルギーによる腐食を抑制すると共に、アーマ
チュアとヨークとの接触部の機械的摩耗を低減させ、電
磁リレーの動作および上記接点接触の安定化を図ること
ができる。また、本発明に係るイオン／プラズマ窒化処
理技術により、従来のメッキ処理のような膨大な設備を
必要としないため経済性が高く、同時に無公害な表面処
理が可能となる。
より形成された窒化鉄(Ｆｅ4Ｎ)の被膜(窒化膜)は、耐
蝕性および耐摩耗性が高いので、高湿度下におけるグロ
ー放電エネルギーによる腐食を抑制すると共に、アーマ
チュアとヨークとの接触部の機械的摩耗を低減させ、電
磁リレーの動作および上記接点接触の安定化を図ること
ができる。また、本発明に係るイオン／プラズマ窒化処
理技術により、従来のメッキ処理のような膨大な設備を
必要としないため経済性が高く、同時に無公害な表面処
理が可能となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態(実施例)
を図面に基づいて説明する。図１は実施形態の電磁リレ
ーの構成を示す断面図、図２はイオン／プラズマ窒化装
置の概要を示す構成図である。
を図面に基づいて説明する。図１は実施形態の電磁リレ
ーの構成を示す断面図、図２はイオン／プラズマ窒化装
置の概要を示す構成図である。
【００１１】まず、図２を参照しながら、イオン／プラ
ズマ窒化装置について説明する。この装置は大略、炉体
21，電源制御系22，ガス圧制御系23，排気系24，温度制
御系25により構成されている。
ズマ窒化装置について説明する。この装置は大略、炉体
21，電源制御系22，ガス圧制御系23，排気系24，温度制
御系25により構成されている。
【００１２】イオン／プラズマ窒化処理を行う場合、ま
ず処理物26を炉体21内に配置し、排気系24により炉体21
内の排気を完了させ、続いて炉体21内に窒素と水素の混
合ガスを導入する。その場合の窒素ガスと水素ガスの割
合は７：３、望ましくは、窒素ガスの割合を７以上にす
る。次いで、ガス圧制御系23で、炉体21内を2〜6Torrの
ガス圧(ここでは5Torr程度)のガス圧に制御する。
ず処理物26を炉体21内に配置し、排気系24により炉体21
内の排気を完了させ、続いて炉体21内に窒素と水素の混
合ガスを導入する。その場合の窒素ガスと水素ガスの割
合は７：３、望ましくは、窒素ガスの割合を７以上にす
る。次いで、ガス圧制御系23で、炉体21内を2〜6Torrの
ガス圧(ここでは5Torr程度)のガス圧に制御する。
【００１３】そして、炉体21を陽極，処理物26を陰極と
し、電気的に絶縁された電力導入端子を介して、電源制
御系22に接続し、炉体21と処理物26との間に直流電圧を
印加する。これにより処理物26の全体にグロー放電が発
生し、処理物26は、この放電エネルギーによって加熱さ
れる。このとき、急激な昇温は、イオンスパッタリング
により処理物26の表面が損傷されることになるため、40
分以上の緩やかな昇温制御を行うべく印加電圧をコント
ロールする。
し、電気的に絶縁された電力導入端子を介して、電源制
御系22に接続し、炉体21と処理物26との間に直流電圧を
印加する。これにより処理物26の全体にグロー放電が発
生し、処理物26は、この放電エネルギーによって加熱さ
れる。このとき、急激な昇温は、イオンスパッタリング
により処理物26の表面が損傷されることになるため、40
分以上の緩やかな昇温制御を行うべく印加電圧をコント
ロールする。
【００１４】所望の処理温度に達した後、グロー放電の
オン，オフを繰り返しながら処理温度を一定に維持す
る。処理物26が純鉄材(電磁軟鉄板)またはＳＰＣ材(冷
間圧延鋼板)の場合、処理温度を480〜590℃の範囲内の
一定値に保持するのが望ましい。所定の処埋時間経過
後、電圧印加を停止して処埋物26を常温まで自然冷却す
る。これにより、処理物26の表面に窒化鉄による被膜
(窒化膜)が形成される。
オン，オフを繰り返しながら処理温度を一定に維持す
る。処理物26が純鉄材(電磁軟鉄板)またはＳＰＣ材(冷
間圧延鋼板)の場合、処理温度を480〜590℃の範囲内の
一定値に保持するのが望ましい。所定の処埋時間経過
後、電圧印加を停止して処埋物26を常温まで自然冷却す
る。これにより、処理物26の表面に窒化鉄による被膜
(窒化膜)が形成される。
【００１５】図３に、処理時間に対するイオン／プラズ
マ窒化処理による窒化膜厚の関係を示す。このときのイ
オン／プラズマ窒化処理条件は、炉内ガス圧5Torr，窒
素と水素ガス比率7：3，処理温度590℃である。所望の
耐摩耗性および耐蝕性を有する窒化膜の膜厚の下限値は
２μｍ程度であり、この膜厚を得るには、純鉄(電磁軟
鉄鋼)の場合、図３に示すように、およそ２時間の処埋
時間が必要である。膜厚形成は、純鉄材(電磁軟鉄板)で
は約８μｍまで、ＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)では約20μｍ
まで可能である。
マ窒化処理による窒化膜厚の関係を示す。このときのイ
オン／プラズマ窒化処理条件は、炉内ガス圧5Torr，窒
素と水素ガス比率7：3，処理温度590℃である。所望の
耐摩耗性および耐蝕性を有する窒化膜の膜厚の下限値は
２μｍ程度であり、この膜厚を得るには、純鉄(電磁軟
鉄鋼)の場合、図３に示すように、およそ２時間の処埋
時間が必要である。膜厚形成は、純鉄材(電磁軟鉄板)で
は約８μｍまで、ＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)では約20μｍ
まで可能である。
【００１６】次に、図１を参照しながら電磁リレーを説
明する。この電磁リレーは、上記イオン／プラズマ窒化
処理により、表面に窒化膜が形成された部品を用いて構
成されている。即ち、鉄系材料の部品である鉄心１，ヨ
ーク２，アーマチュア３の表面に、上記のイオン／プラ
ズマ窒化処理により窒化膜(窒化鉄の被膜)1ａ，2ａ，3
ａが形成されている電磁リレーの実施例を示すものであ
る。
明する。この電磁リレーは、上記イオン／プラズマ窒化
処理により、表面に窒化膜が形成された部品を用いて構
成されている。即ち、鉄系材料の部品である鉄心１，ヨ
ーク２，アーマチュア３の表面に、上記のイオン／プラ
ズマ窒化処理により窒化膜(窒化鉄の被膜)1ａ，2ａ，3
ａが形成されている電磁リレーの実施例を示すものであ
る。
【００１７】この電磁リレーでは、窒化膜1ａを有する
鉄心１がスプール４に挿入され、スプール４の外周にコ
イル５が巻装され、鉄心１の一端に、窒化膜2ａを有す
るヨーク２が固着されている。一方、鉄心１の他端に
は、窒化膜3ａを有するアーマチュア３が対向配設さ
れ、このアーマチュア３は、コイル端子6ａへの電圧印
加により鉄心１に吸引されるようになっている。
鉄心１がスプール４に挿入され、スプール４の外周にコ
イル５が巻装され、鉄心１の一端に、窒化膜2ａを有す
るヨーク２が固着されている。一方、鉄心１の他端に
は、窒化膜3ａを有するアーマチュア３が対向配設さ
れ、このアーマチュア３は、コイル端子6ａへの電圧印
加により鉄心１に吸引されるようになっている。
【００１８】アーマチュア３には、その動作を支持する
可動接点ばね７とヒンジばね８が設けられている。ま
た、前記スプール４に圧入された固定端子6ｂ，6ｃに
は、固定接点9ａ，9ｂが係合され、可動接点ばね７には
可動接点10が係合されている。このように構成された電
磁ブロックは、カバー11と封止剤12によって外装されて
いる。
可動接点ばね７とヒンジばね８が設けられている。ま
た、前記スプール４に圧入された固定端子6ｂ，6ｃに
は、固定接点9ａ，9ｂが係合され、可動接点ばね７には
可動接点10が係合されている。このように構成された電
磁ブロックは、カバー11と封止剤12によって外装されて
いる。
【００１９】この電磁リレーにおいて、コイル端子6ａ
に電圧を印加すると、鉄心１にアーマチュア３が吸引さ
れ、このアーマチュア３と連動する可動接点ばね７上の
可動接点10と、固定端子6ｂ上の固定接点9ａとが閉成
し、これにより可動接点10と固定接点9ａ間に電流が流
れるようになる。逆に、コイル端子6ａに対する電圧印
加を停止してコイル５の励磁を解くと、ヒンジばね８に
より、アーマチュア３と共に可動接点10が動き、この可
動接点10と固定接点9ａとが開離し、前記電流が遮断さ
れる。このとき、インダクタンスが大きい負荷(例えば
ＩＨ)を開閉すると、接点遮断時の逆起電力が200〜300
Ｖまで上昇し、グロー放電が発生する。
に電圧を印加すると、鉄心１にアーマチュア３が吸引さ
れ、このアーマチュア３と連動する可動接点ばね７上の
可動接点10と、固定端子6ｂ上の固定接点9ａとが閉成
し、これにより可動接点10と固定接点9ａ間に電流が流
れるようになる。逆に、コイル端子6ａに対する電圧印
加を停止してコイル５の励磁を解くと、ヒンジばね８に
より、アーマチュア３と共に可動接点10が動き、この可
動接点10と固定接点9ａとが開離し、前記電流が遮断さ
れる。このとき、インダクタンスが大きい負荷(例えば
ＩＨ)を開閉すると、接点遮断時の逆起電力が200〜300
Ｖまで上昇し、グロー放電が発生する。
【００２０】ところで、電磁リレーは、たとえ密閉型で
も、高分子材料による密閉形態では、周囲の湿度の影響
を大きく受ける。したがって、前記のようなグロー放電
が高湿度下(例えば90％RH)で発生すると、空気中の窒素
が前記グロー放電のエネルギーでＮＯ2，ＮＯ，Ｎ2Ｏ化
し、当該ガスが雰囲気中の水分を介して部材の表面に付
着する。
も、高分子材料による密閉形態では、周囲の湿度の影響
を大きく受ける。したがって、前記のようなグロー放電
が高湿度下(例えば90％RH)で発生すると、空気中の窒素
が前記グロー放電のエネルギーでＮＯ2，ＮＯ，Ｎ2Ｏ化
し、当該ガスが雰囲気中の水分を介して部材の表面に付
着する。
【００２１】従来では、これらのＮＯ2，ＮＯ，Ｎ2Ｏガ
スの付着により、電磁リレー内のＮｉメッキ層やＣｕメ
ッキ層を腐食するが、本発明の電磁リレーでは、従来の
ＮｉメッキあるいはＣｕメッキに比して耐蝕性，耐摩耗
性に優れている窒化膜(Ｆｅ4Ｎ)を、鉄心１，ヨーク
２，アーマチュア３の表面に形成しているので、腐食防
止を図ることができる。
スの付着により、電磁リレー内のＮｉメッキ層やＣｕメ
ッキ層を腐食するが、本発明の電磁リレーでは、従来の
ＮｉメッキあるいはＣｕメッキに比して耐蝕性，耐摩耗
性に優れている窒化膜(Ｆｅ4Ｎ)を、鉄心１，ヨーク
２，アーマチュア３の表面に形成しているので、腐食防
止を図ることができる。
【００２２】表１に、従来技術のメッキ処理と、純鉄の
場合の本発明の実施形態(実施例)の効果比較を示す。こ
のときのイオン／プラズマ窒化処理条件は、炉内ガス圧
5Torr，窒素と水素ガス比率7：3，処理温度590℃であ
る。
場合の本発明の実施形態(実施例)の効果比較を示す。こ
のときのイオン／プラズマ窒化処理条件は、炉内ガス圧
5Torr，窒素と水素ガス比率7：3，処理温度590℃であ
る。
【００２３】
【表１】
【００２４】表１から理解できるように、従来技術のＮ
ｉメッキでは、85％RH−85℃の高温高湿放置試験におい
て、腐食は発生しなかったものの、他の試験において
は、Ｎｉメッキ及びＣｕメッキ共に耐蝕性，耐摩耗性が
不十分であった。一方、イオン／プラズマ窒化処理を施
した本発明の実施例では、窒化膜厚が２μｍ以上であれ
ば、腐食の発生が確認されないと共に、摩耗量も少な
く、全ての条件において問題はなかった。なお、窒化膜
厚が1.5μｍの場合を比較例として挙げた。
ｉメッキでは、85％RH−85℃の高温高湿放置試験におい
て、腐食は発生しなかったものの、他の試験において
は、Ｎｉメッキ及びＣｕメッキ共に耐蝕性，耐摩耗性が
不十分であった。一方、イオン／プラズマ窒化処理を施
した本発明の実施例では、窒化膜厚が２μｍ以上であれ
ば、腐食の発生が確認されないと共に、摩耗量も少な
く、全ての条件において問題はなかった。なお、窒化膜
厚が1.5μｍの場合を比較例として挙げた。
【００２５】表２に、前記表１における純鉄の場合と同
じ条件で、ＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)にイオン／プラズマ
窒化処理を施したの場合の効果比較を示す。このＳＰＣ
材においても、前記表１における純鉄の場合と同様な効
果が得られた。
じ条件で、ＳＰＣ材(冷間圧延鋼板)にイオン／プラズマ
窒化処理を施したの場合の効果比較を示す。このＳＰＣ
材においても、前記表１における純鉄の場合と同様な効
果が得られた。
【００２６】
【表２】
【００２７】以上詳記したように、本発明の実施形態
(実施例)として、純鉄材(電磁軟鉄鋼)およびＳＰＣ材
(冷間圧延鋼板)の部品に適用した例を示したが、本発明
は、このような鉄系部材に限定されるものではなく、Ｆ
ｅ4Ｎが形成される範疇の材料であれば、どのような部
材にも適用することができる。この場合も前記と同様の
効果を有することは言うまでもない。
(実施例)として、純鉄材(電磁軟鉄鋼)およびＳＰＣ材
(冷間圧延鋼板)の部品に適用した例を示したが、本発明
は、このような鉄系部材に限定されるものではなく、Ｆ
ｅ4Ｎが形成される範疇の材料であれば、どのような部
材にも適用することができる。この場合も前記と同様の
効果を有することは言うまでもない。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電磁リレーの磁気回路を構成する部品の表面に窒化鉄の
被膜を形成したので、高湿度下におけるグロー放電発生
条件においても該部品の腐食の発生を防止することがで
きる。また、窒化鉄の被膜は耐摩耗性も高いので、多数
回の開閉操作に対しても、摩耗による動作不良や接点不
良の発生を防止することができ、動作性能の安定化を図
ることができる。
電磁リレーの磁気回路を構成する部品の表面に窒化鉄の
被膜を形成したので、高湿度下におけるグロー放電発生
条件においても該部品の腐食の発生を防止することがで
きる。また、窒化鉄の被膜は耐摩耗性も高いので、多数
回の開閉操作に対しても、摩耗による動作不良や接点不
良の発生を防止することができ、動作性能の安定化を図
ることができる。
【００２９】また、本発明に係る製造方法では、イオン
／プラズマ窒化処理により窒化鉄の被膜を形成させるの
で、従来のメッキ処理に比較して生産設備や環境設備を
簡易にすることができ、コストの低減が図れ、さらに、
従来のメッキ処理と違って有害物質等を用いないので、
水質汚染等もなく、無公害な表面処理が可能である。
／プラズマ窒化処理により窒化鉄の被膜を形成させるの
で、従来のメッキ処理に比較して生産設備や環境設備を
簡易にすることができ、コストの低減が図れ、さらに、
従来のメッキ処理と違って有害物質等を用いないので、
水質汚染等もなく、無公害な表面処理が可能である。
【図１】本発明の実施形態(実施例)の電磁リレーの断面
図である。
図である。
【図２】本発明の電磁リレーの構成部品の表面処理に用
いるイオン／プラズマ窒化装置の概要を示す構成図であ
る。
いるイオン／プラズマ窒化装置の概要を示す構成図であ
る。
【図３】イオン／プラズマ窒化処理の処理時間に対する
窒化膜厚の形成量の関係を示す図である。
窒化膜厚の形成量の関係を示す図である。
【符号の説明】 １ 鉄心 １ａ 鉄心の窒化膜 ２ ヨーク ２ａ ヨーク窒化膜 ３ アーマチュア ３ａ アーマチュアの窒化膜 ４ スプール ５ コイル ６a コイル端子 ６ｂ，６ｃ 固定端子 ７ 可動接点ばね ８ ヒンジばね ９ａ，９ｂ 固定接点 １０ 可動接点 １１ カバー １２ 封止剤 ２１ 炉体 ２２ 電源制御系 ２３ ガス圧制御系 ２４ 排気系 ２５ 温度制御系 ２６ 処理物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小嶋 克人 東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式 会社内 (72)発明者 皆藤 明宏 東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式 会社内 (72)発明者 市川 和浩 東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式 会社内 (72)発明者 手塚 聡 神奈川県相模原市横山台１丁目８番11号日 本高周波技術株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回
路を構成する部品の表面に、窒化鉄の被膜が、イオン／
プラズマ窒化処理を施すことによって形成されているこ
とを特徴とする電磁リレー。 - 【請求項２】 前記窒化鉄の被膜の膜厚が、2〜20μｍ
であることを特徴とする請求項１に記載の電磁リレー。 - 【請求項３】 前記電磁リレーの磁気回路を構成する部
品が、鉄心，アーマチュア，ヨークの少なくとも１つで
あることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁リ
レー。 - 【請求項４】 鉄系材料よりなる、電磁リレーの磁気回
路を構成する少なくとも１つの部品の表面に、水素に対
する窒素の割合を70％以上，雰囲気ガス圧を2〜6Torr，
炉内温度を480〜590℃の条件でイオン／プラズマ窒化処
理を施し、2〜20μｍの窒化鉄被膜を形成することを特
徴とする電磁リレーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24301196A JPH1092286A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電磁リレー及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24301196A JPH1092286A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電磁リレー及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092286A true JPH1092286A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17097566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24301196A Pending JPH1092286A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電磁リレー及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092286A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000063454A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Korrosionsfreie eisen-nickel-legierung für fehlerstromschutzschalter und uhrenlaufwerke |
| EP1318529A2 (de) * | 2001-12-10 | 2003-06-11 | Vacuumschmelze GmbH & Co. KG | Oberflächengehärtetes weichmagnetisches Aktuatorteil und dessen Herstellverfahren |
| WO2014174694A1 (ja) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | オムロン株式会社 | 電磁継電器 |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP24301196A patent/JPH1092286A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2000063454A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Korrosionsfreie eisen-nickel-legierung für fehlerstromschutzschalter und uhrenlaufwerke |
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| EP1318529A3 (de) * | 2001-12-10 | 2004-01-14 | Vacuumschmelze GmbH & Co. KG | Oberflächengehärtetes weichmagnetisches Aktuatorteil und dessen Herstellverfahren |
| WO2014174694A1 (ja) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | オムロン株式会社 | 電磁継電器 |
| JP2014216064A (ja) * | 2013-04-22 | 2014-11-17 | オムロン株式会社 | 電磁継電器 |
| US9805893B2 (en) | 2013-04-22 | 2017-10-31 | Omron Corporation | Electromagnetic relay |
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