JPH1090667A - Liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal display element

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JPH1090667A
JPH1090667A JP10302197A JP10302197A JPH1090667A JP H1090667 A JPH1090667 A JP H1090667A JP 10302197 A JP10302197 A JP 10302197A JP 10302197 A JP10302197 A JP 10302197A JP H1090667 A JPH1090667 A JP H1090667A
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JP
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liquid crystal
crystal display
acrylate
display device
photocurable resin
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JP10302197A
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Tetsuya Kubota
哲哉 久保田
Akihiko Sakai
昭彦 坂井
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an element which is light in weight and excellent in strength compared to a glass substrate having the same dimension and thickness as this element, and which has good optical characteristics such as retardation by interposing a liquid crystal layer between a pair of transparent substrates facing each other composed of a photosetting resin. SOLUTION: This display element is produced by inserting a liquid crystal layer between a pair of transparent substrates facing each other composed of a photosetting resin. This photosetting resin is a resin which is hardened by the irradiation of UV rays. Concretely, a resin compsn. comprising an acrylate compd. having radical reactive unsatd. compds., a resin compsn. comprising the acrylate compd. above described and a mercapto compd. having thiol groups, or a resin compsn. prepared by dissolving oligomers such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate in polyfunctional acrylate monomers can be used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子、更
に詳しくは光硬化性樹脂よりなる透明基板を使用した液
晶表示素子に関する。本発明の液晶表示素子は、例え
ば、電子手帳、パーソナルコンピュータ、ワードプロセ
ッサ、タッチパネル等に好適に利用できる。
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device using a transparent substrate made of a photocurable resin. The liquid crystal display element of the present invention can be suitably used for, for example, an electronic organizer, a personal computer, a word processor, a touch panel, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示素子は、液晶表示素子製
造工程中に高温での処理工程があるため、それに耐える
材料として一般にガラス基板が使用されている。しかし
ながら、ガラス基板においては、1.0mm以下の薄厚
のものを液晶表示素子に用いる場合は、製造工程におけ
る取り扱いが難しく、製造中に破損するという問題があ
り、この傾向は、薄厚で大面積な基板においてはより顕
著となる。そのため、大画面用液晶表示素子の場合は、
ガラス基板の厚さを厚くすることで、破損を防止してい
るが、それでは基板自体が重くなり、結果的に液晶表示
素子が重くなるという問題があり、基板の軽量化が望ま
れている。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, a glass substrate is generally used as a material capable of withstanding the high temperature processing step in the process of manufacturing the liquid crystal display device. However, when a glass substrate having a thickness of 1.0 mm or less is used for a liquid crystal display device, there is a problem that handling in a manufacturing process is difficult and the glass substrate is damaged during the manufacturing. This is more pronounced on the substrate. Therefore, in the case of a large-screen liquid crystal display element,
Although the breakage is prevented by increasing the thickness of the glass substrate, there is a problem that the substrate itself becomes heavier, and as a result, the liquid crystal display element becomes heavier.

【0003】また、近年の技術開発により、液晶表示素
子製造工程中での高温処理工程の温度が低い温度ででき
るようになってきたこと等より、軽量なプラスチックシ
ート基板よりなる液晶表示素子が使用されてきている。
このようなプラスチックシート基板としては、リターデ
ーション値等に代表される光学特性に優れていること、
表面粗さに代表される表面性に優れていること等が必要
であり、例えば、特開昭61ー69028号公報及び特
開平4ー208925号公報には、光学異方性がない樹
脂としてのポリエーテルスルホン等よりなる基板を使用
した液晶表示素子が提案されている。
In addition, recent technological developments have made it possible to use a liquid crystal display element made of a lightweight plastic sheet substrate because, for example, the temperature of the high-temperature processing step in the liquid crystal display element manufacturing process can be made low. Have been.
As such a plastic sheet substrate, it is excellent in optical characteristics represented by a retardation value and the like,
It is necessary to have excellent surface properties such as surface roughness. For example, JP-A-61-69028 and JP-A-4-208925 disclose resins having no optical anisotropy. A liquid crystal display device using a substrate made of polyether sulfone or the like has been proposed.

【0004】しかしながら、このようなプラスチックシ
ート基板は、フィルムの厚さが0.1mm程度と薄い場
合は、フィルムに腰がなく、平坦性が悪いという問題が
ある。このため、腰を持たせるため、このようなプラス
チックシート基板を積層するか、シートを厚くして基板
を用いることになるが、この場合、リターデーション値
が大きくなり、液晶表示素子用の基板としては不適当と
なるという問題がある。
[0004] However, such a plastic sheet substrate has a problem that when the film thickness is as thin as about 0.1 mm, the film is not rigid and has poor flatness. For this reason, such a plastic sheet substrate is laminated or a thicker sheet is used in order to provide a firmness, but in this case, the retardation value increases, and the substrate is used as a substrate for a liquid crystal display element. Is inappropriate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑み従来のガラス基板やプラスチックシート基板に代わ
る良好な透明基板を使用した液晶表示素子を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a liquid crystal display device using a good transparent substrate instead of a conventional glass substrate or plastic sheet substrate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本願発明は、対向する一対の光硬化性樹脂よりなる透
明基板間に液晶層を介在してなることを特徴とする液晶
表示素子に関する。
The present invention for solving the above-mentioned problems relates to a liquid crystal display device characterized in that a liquid crystal layer is interposed between a pair of opposing transparent substrates made of a photocurable resin. .

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の光硬化性樹脂よりなる透明基板を構成する光硬
化性樹脂とは、紫外線等の照射によって硬化する樹脂で
ある。具体的には、ラジカル反応性不飽和化合物を有す
るアクリレート化合物よりなる樹脂組成物、このアクリ
レート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よ
りなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテル
アクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノ
マーに溶融せしめた樹脂組成物等が挙げられるがこれら
に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photocurable resin constituting the transparent substrate made of the photocurable resin of the present invention is a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays or the like. Specifically, a resin composition comprising an acrylate compound having a radically reactive unsaturated compound, a resin composition comprising this acrylate compound and a mercapto compound having a thiol group, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, etc. And the like, but are not limited thereto.

【0008】このうち、式(1)で示される含イオウビ
ス(メタ)アクリレート及び式(2)で示される脂環骨
格ビス(メタ)アクリレートより選ばれる少なくとも1
種のビス(メタ)アクリレートよりなる組成物が耐薬品
性、剛性等の面で好ましい。なお「(メタ)アクリレー
ト」は、アクリレートないしメタクリレートを総称する
ものである。
Among them, at least one selected from sulfur-containing bis (meth) acrylate represented by the formula (1) and alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the formula (2)
A composition comprising a kind of bis (meth) acrylate is preferable in terms of chemical resistance, rigidity and the like. “(Meth) acrylate” is a generic term for acrylate or methacrylate.

【0009】[0009]

【化6】 Embedded image

【0010】[式(1)中、R1 及びR2 は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。R3 は炭
素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を有していてもよ
い炭素数1〜6の炭化水素基、好ましくは炭素数2〜4
のアルキレン基を示す。R4 は炭素鎖中に酸素原子及び
/又は硫黄原子を有していてもよい炭素数1〜6の炭化
水素基、好ましくは炭素数1〜3のアルキレン基を示
す。Xはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は
炭素数1〜6のアルコキシ基を示し、aは0〜4の整数
を示す。但しaが2以上の整数の場合には、複数のXは
互に異っていてもよい。]
[In the formula (1), R 1 and R 2 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in the carbon chain, preferably 2 to 4 carbon atoms.
Represents an alkylene group. R 4 represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in the carbon chain, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. X represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4. However, when a is an integer of 2 or more, a plurality of Xs may be different from each other. ]

【0011】上記の式(1)で示される化合物のいくつ
かを例示すれば、次の通りである。p−ビス(β−メタ
クリロイルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、p−ビ
ス(β−アクリロイルオキシエチルチオメチル)ベンゼ
ン、m−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオメ
チル)ベンゼン、m−ビス(β−アクリロイルオキシエ
チルチオメチル)ベンゼン、p−ビス(β−メタクリロ
イルオキシエチルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、
p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオエチル
チオメチル)ベンゼン、p−ビス(β−メタクリロイル
オキシエチルチオメチル)テトラブロムベンゼン、m−
ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル)テ
トラクロロベンゼン。これらの化合物は、例えば、特開
昭62−195357号公報に開示されている方法で合
成することができる。
Some examples of the compound represented by the above formula (1) are as follows. p-bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) benzene, p-bis (β-acryloyloxyethylthiomethyl) benzene, m-bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) benzene, m-bis (β-acryloyloxy) Ethylthiomethyl) benzene, p-bis (β-methacryloyloxyethyloxyethylthiomethyl) benzene,
p-bis (β-methacryloyloxyethylthioethylthiomethyl) benzene, p-bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) tetrabromobenzene, m-
Bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) tetrachlorobenzene. These compounds can be synthesized, for example, by the method disclosed in JP-A-62-195357.

【0012】[0012]

【化7】 Embedded image

【0013】[式(2)中、R5 及びR6 は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。bは1又
は2を示し、cは0又は1を示す。]
[In the formula (2), R 5 and R 6 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. b represents 1 or 2, and c represents 0 or 1. ]

【0014】式(2)で示される化合物のいくつかを例
示すれば、次の通りである。ビス(オキシメチル)トリ
シクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン=ジアクリレー
ト、ビス(オキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デカン=ジメタクリレート、ビス(オキシメチ
ル)トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン=アクリ
レートメタクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシ
クロ〔6.5.1.13.62.7 .09.13〕ペンタデカ
ン=ジアクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシク
ロ〔6.5.1.1.3.6 2.7 .09.13〕ペンタデカ
ン=ジメタクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシ
クロ〔6.5.1.1.3.6 2.7 .09.13〕ペンタデ
カン=アクリレートメタクリレート。これらの化合物
は、例えば、特開昭62−225508号公報に開示さ
れている方法で合成することができる。
Some examples of the compound represented by the formula (2) are as follows. Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decane = diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2.6] decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2.6] decane = acrylate methacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3.6 0 2.7. 09.13 ] pentadecane diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1. 3.6 0 2.7 . 0 9.13 ] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1. 3.6 0 2.7 . 0 9.13 ] pentadecane acrylate methacrylate. These compounds can be synthesized, for example, by the method disclosed in JP-A-62-225508.

【0015】以上の式(1)及び式(2)で示される
(メタ)アクリレートは、単独もしくは2種以上を併用
して用いることができる。式(1)の化合物を単独で用
いる場合、本発明により得られる低複屈折板の屈折率
は、ナトリウムのD線(589.3mm)において室温
で1.54〜1.65となり、高屈折率を有する。また
式(2)の化合物を単独で用いる場合は比較的低い屈折
率1.47〜1.51となる。したがって式(1)及び
式(2)で示される化合物を2種以上併用することによ
り、1.47〜1.65の間で所望の屈折率を有する低
複屈折板を得ることができる。
The (meth) acrylates represented by the above formulas (1) and (2) can be used alone or in combination of two or more. When the compound of the formula (1) is used alone, the low birefringence plate obtained according to the present invention has a refractive index of 1.54 to 1.65 at room temperature at a D line (589.3 mm) of sodium, and has a high refractive index. Having. When the compound of the formula (2) is used alone, the refractive index is relatively low, from 1.47 to 1.51. Therefore, a low birefringent plate having a desired refractive index between 1.47 and 1.65 can be obtained by using two or more compounds represented by the formulas (1) and (2) in combination.

【0016】透明基板は、上記ビス(メタ)アクリレー
トを、単独で重合させて使用することができるが、下記
の式(3)、(4)及び(5)で示される分子内に2個
以上のチオール基を有するメルカプト化合物より選ばれ
る少なくとも1種のメルカプト化合物をビス(メタ)ア
クリレート80〜99.1重量部に対して、0.1〜2
0重量部、より好ましくは1〜15重量部、更に好まし
くは5〜10重量部配合することにより複屈折の低減、
適度の靱性を付与することができる。メルカプト化合物
が20重量部を超えると硬化樹脂の耐熱性が低くなるの
で好ましくない。
For the transparent substrate, the above bis (meth) acrylate can be used by polymerizing it alone, but two or more bis (meth) acrylates can be used in the molecule represented by the following formulas (3), (4) and (5). At least one mercapto compound selected from mercapto compounds having a thiol group of 0.1 to 2 with respect to 80 to 99.1 parts by weight of bis (meth) acrylate.
0 parts by weight, more preferably 1 to 15 parts by weight, more preferably 5 to 10 parts by weight to reduce birefringence,
Appropriate toughness can be provided. When the amount of the mercapto compound exceeds 20 parts by weight, the heat resistance of the cured resin is lowered, which is not preferable.

【0017】[0017]

【化8】 Embedded image

【0018】[式(3)中、複数のR7 は互に異ってい
てもよく、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。
8 は炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を含んで
いてもよい炭素数2〜15、好ましくは2〜6の炭化水
素残基を示す。dは2〜6の整数を示す。]
[In the formula (3), a plurality of R 7 may be different from each other and each represents a methylene group or an ethylene group.
R 8 is 2 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom and / or sulfur atom in the carbon chain, preferably a hydrocarbon residue of 2-6. d shows the integer of 2-6. ]

【0019】すなわち、式(3)で示される化合物は、
チオグリコール酸又はチオプロピオン酸とポリオールと
のジエステル〜ヘキサエステルである。そのいくつかを
例示すると、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チ
オプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス
(チオグリコレート)、トリメチロールプロパントリス
(β−チオプロピオネート)、トリメチロールプロパン
トリス(チオグリコレート)、ジエチレングリコールビ
ス(β−チオプロピオネート)、ジエチレングリコール
ビス(チオグリコレート)、トリエチレングリコールビ
ス(β−チオプロピオネート)、トリエチレングリコー
ルビス(チオグリコレート)、ジペンタエリスリトール
ヘキサキス(β−チオプロピオネート)、ジペンタエリ
スリトールヘキサキス(チオグリコレート)などが挙げ
られる。
That is, the compound represented by the formula (3)
Diester to hexaester of thioglycolic acid or thiopropionic acid with a polyol. Some examples are pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate), and trimethylolpropane tris (thioglycolate). , Diethylene glycol bis (β-thiopropionate), diethylene glycol bis (thioglycolate), triethylene glycol bis (β-thiopropionate), triethylene glycol bis (thioglycolate), dipentaerythritol hexakis (β -Thiopropionate), dipentaerythritol hexakis (thioglycolate) and the like.

【0020】[0020]

【化9】 Embedded image

【0021】[式(4)中、Yは互に異っていてもよ
く、HS−(CH2 e −(CO)(OCH2 −C
2 f −(CH2 g −を示す。但しeは1〜4の整
数、fは1〜4の整数、gは0〜2の整数をそれぞれ示
す。]
[In the formula (4), Y may be different from each other, and HS- (CH 2 ) e- (CO) (OCH 2 -C
H 2) f - (CH 2 ) g - shows a. Here, e represents an integer of 1 to 4, f represents an integer of 1 to 4, and g represents an integer of 0 to 2, respectively. ]

【0022】すなわち、式(4)の化合物はω−SH基
含有トリイソシアヌレートである。そのいくつかを例示
すると、トリス〔2−(β−チオプロピオニルオキシ)
エチル〕イソシアヌレート、トリス(2−チオグリコニ
ルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス〔2−(β
−チオプロピオニルオキシエトキシ)エチル〕イソシア
ヌレート、トリス(2−チオグリコニルオキシエトキシ
エチル)イソシアヌレート、トリス〔3−(β−チオプ
ロピオニルオキシ)プロピル〕イソシアヌレート、トリ
ス(3−チオグリコニルオキシプロピル)イソシアヌレ
ートなどが挙げられる。
That is, the compound of the formula (4) is a ω-SH group-containing triisocyanurate. Some examples are tris [2- (β-thiopropionyloxy)
Ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β
-Thiopropionyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethoxyethyl) isocyanurate, tris [3- (β-thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) ) Isocyanurate and the like.

【0023】[0023]

【化10】 Embedded image

【0024】[式(5)中、R9 及びR10は、互に異っ
ていてもよく、炭素数1〜3の炭化水素基を示す。m及
びnはそれぞれ0又は1を示す。pは1又は2を示
す。]
[In the formula (5), R 9 and R 10 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. m and n each represent 0 or 1. p represents 1 or 2. ]

【0025】すなわち、式(5)の化合物はα,ω−S
H基含有化合物である。そのいくつかを例示すると、ベ
ンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカプタン、
4,4′−ジメルカプトジフェニルスルフィドなどが挙
げられる。
That is, the compound of the formula (5) is α, ω-S
It is an H group-containing compound. Some examples are benzene dimercaptan, xylylene dimercaptan,
4,4'-dimercaptodiphenyl sulfide and the like can be mentioned.

【0026】また、以上の光硬化性樹脂の重合の際用い
る他の単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリ
レート、フェニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキシ
メチルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオ
キシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2′−ビス
[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘ
キシル]プロパン、1,4−ビス(メタクリロイルオキ
シメチル)シクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び(又は)側鎖置換及び非置
換スチレンなどが挙げられる。これらの他の単量体の中
でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、2,
2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)
フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(β−メタク
リロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル]プロパン、
1,4−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘ
キサン、及びこれらの混合物が特に好ましい。更に、こ
れらには少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、充
填剤等を含んでいてもよい。
Other monomers used in the polymerization of the photocurable resin include, for example, methyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methacryloyloxymethyl Tetracyclododecane, methacryloyloxymethyltetracyclododecene, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β- (Methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2′-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, trimethylolpropane tri (meth) acrylate (Meth) acrylate compounds such as styrene, chlorostyrene, divinylbenzene, α
Core and / or side chain substituted and unsubstituted styrenes such as -methylstyrene. Among these other monomers, methacryloyloxymethylcyclododecane, 2,
2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy)
Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane,
1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane and mixtures thereof are particularly preferred. Further, these may contain small amounts of antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and pigments, fillers and the like.

【0027】以上のようなビス(メタ)アクリレート又
はビス(メタ)アクリレートとメルカプト化合物との混
合物は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカルを
発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合に
より硬化させる。その際に用いる光重合開始剤として
は、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセ
トフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光開
始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノンである。こ
れら光重合開始剤は2種以上を併用してもよい。
The bis (meth) acrylate or a mixture of the bis (meth) acrylate and the mercapto compound as described above is cured by a known radical polymerization in which a photopolymerization initiator which generates a radical by active energy rays such as ultraviolet rays is added. Let it. As the photopolymerization initiator used at that time, for example, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethyl Benzoyldiphenylphosphine oxide and the like. Preferred photoinitiators are 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and benzophenone. Two or more of these photopolymerization initiators may be used in combination.

【0028】光重合開始剤の添加量は、モノマー100
重量部に対し0.01〜1重量部、好ましくは0.02
〜0.3重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を充分
に硬化させることができなくなる。
The addition amount of the photopolymerization initiator is 100
0.01 to 1 part by weight, preferably 0.02 part by weight based on part by weight
0.30.3 parts by weight. If the amount of the photopolymerization initiator is too large, the polymerization proceeds rapidly, causing not only an increase in birefringence but also a deterioration in hue. If the amount is too small, the composition cannot be cured sufficiently.

【0029】照射する活性エネルギー線の量は、光重合
開始剤がラジカルを発生する範囲であれば任意である
が、極端に少ない場合は重合が不完全なため硬化物の耐
熱性、機械特性が十分に発現されず、逆に極端に過剰な
場合には硬化物の黄変等の光による劣化を生じるので、
モノマーの組成及び光重合開始剤の種類、量に合わせて
200〜400nmの紫外線を好ましくは0.1〜20
0Jの範囲で照射する。使用するランプの具体例として
は、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ等を挙げ
ることができる。
The amount of the active energy ray to be irradiated is arbitrary as long as the photopolymerization initiator generates radicals. However, when the amount is extremely small, the heat resistance and mechanical properties of the cured product are poor due to incomplete polymerization. It is not sufficiently expressed, and conversely, if it is extremely excessive, it will deteriorate due to light such as yellowing of the cured product,
Ultraviolet rays of 200 to 400 nm are preferably used for 0.1 to 20 in accordance with the composition of the monomer and the kind and amount of the photopolymerization initiator.
Irradiate in the range of 0J. Specific examples of the lamp to be used include a metal halide lamp and a high-pressure mercury lamp.

【0030】硬化をすみやかに完了させる目的で、熱重
合を併用してもよい。すなわち、光照射と同時に組成物
並びに型全体を通常30〜300℃の範囲で加熱する。
この場合は重合をよりよく完結するためにラジカル重合
開始剤を添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大
と色相の悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例として
はベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシ
カーボネート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキ
サノエート)等が挙げられ、使用量はモノマー100重
量部に対して1重量部以下が好ましい。
For the purpose of promptly completing the curing, thermal polymerization may be used in combination. That is, the composition and the entire mold are usually heated in the range of 30 to 300 ° C. simultaneously with the light irradiation.
In this case, a radical polymerization initiator may be added in order to complete the polymerization better, but excessive use causes an increase in birefringence and a deterioration in hue. Specific examples of the thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxy carbonate, t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate), and the amount used is 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the monomer. Is preferred.

【0031】更に、光照射によるラジカル重合を行った
後、硬化物を加熱することにより重合反応の完結及び重
合時に発生する内部歪を低減することも可能である。加
熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度に合わせて適
宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色相悪化をもた
らすため、ガラス転移温度付近かそれ以下の温度が好ま
しい。
Further, after the radical polymerization by light irradiation is performed, the cured product is heated to reduce the completion of the polymerization reaction and the internal strain generated during the polymerization. The heating temperature is appropriately selected according to the composition of the cured product and the glass transition temperature. However, since excessive heating results in deterioration of the hue of the cured product, a temperature around the glass transition temperature or lower is preferable.

【0032】光硬化性樹脂よりなる透明基板の成形方法
は、少なくとも一面が活性エネルギー線を透過可能な2
枚の相対する平板(以下「成形型」という。)を用い、
スペーサー等によりキャビティを形成させ周辺部をシー
ルしてなる注入型に光硬化性樹脂を注入し、活性エネル
ギー線を照射して光硬化性樹脂を硬化させる。成形型の
材質は、硬化後のシートの表面から、好ましくは研磨ガ
ラスを用い、光硬化性樹脂を硬化させるに充分な活性エ
ネルギー線の透過性を持ち、熱等により容易にその形状
を変形させないものであればよい。また、研磨ガラスと
同等な表面性を得られるアクリル板等のプラスチック等
が挙げられる。
The method for molding a transparent substrate made of a photocurable resin is as follows.
Using two opposing flat plates (hereinafter referred to as “molding dies”),
The photocurable resin is injected into an injection mold in which a cavity is formed by a spacer or the like and the peripheral portion is sealed, and the photocurable resin is cured by irradiating active energy rays. The material of the mold, from the surface of the sheet after curing, preferably, using a polished glass, has sufficient transmittance of active energy rays to cure the photocurable resin, and does not easily deform its shape due to heat or the like Anything should do. Moreover, plastics, such as an acrylic plate, which can obtain surface properties equivalent to a polished glass are mentioned.

【0033】また、必要により成形型上に剥離剤等の塗
布、又は剥離層を設け硬化後の光硬化性樹脂シートを成
形型より除去し易くする処理を行うこともできる。用い
る剥離剤、剥離層、その塗布については特に限定するも
のではないが、光硬化樹脂を硬化させるに充分な活性エ
ネルギー線の透過性を持つ物質であり、更に、光硬化性
樹脂を硬化させるための活性エネルギー線や、硬化時に
発生する熱等により容易にその形成状態を変形しない物
質であり、ガラス表面並の平面性が得られる物質であれ
ばよい。
If necessary, a release agent or the like may be applied on the mold, or a release layer may be provided on the mold so as to facilitate the removal of the cured photocurable resin sheet from the mold. The release agent to be used, the release layer, and the application thereof are not particularly limited, but a substance having sufficient transmittance of active energy rays to cure the photocurable resin, and further, to cure the photocurable resin. Any substance may be used as long as it is a substance that does not easily change its state of formation due to active energy rays, heat generated at the time of curing, or the like, and can obtain a flatness comparable to that of a glass surface.

【0034】活性エネルギー線は光硬化性樹脂を硬化さ
せるものであり、例えば、紫外線等が挙げられる。活性
エネルギー線の照射量は用いる光硬化性樹脂を硬化させ
る量であればよい。キャビティを形成させるスペーサー
等については、特に限定しないが、所望のシート厚さが
得られるものであればよい。例えば、シリコンゴム等の
ゴム製、金属製の板もしくは棒状、テフロン等の樹脂製
の板もしくは棒状が挙げられる。また、光硬化性樹脂よ
りなる透明基板の背向する表面上に、例えば傷防止のた
めのハードコート層としてアクリル系樹脂等で膜付けし
てもよい。
The active energy ray is for curing the photocurable resin, and includes, for example, ultraviolet rays. The irradiation amount of the active energy ray may be an amount that cures the photocurable resin to be used. The spacers and the like for forming the cavities are not particularly limited, as long as the desired sheet thickness can be obtained. For example, a plate or bar made of rubber or metal such as silicon rubber, or a plate or bar made of resin such as Teflon may be used. Further, a film may be formed on an opposite surface of a transparent substrate made of a photocurable resin with an acrylic resin or the like, for example, as a hard coat layer for preventing scratches.

【0035】本発明の透明基板のリターデーション値
(R値)は、好ましくは20nm以下、特に好ましくは
10nm以下である。20nmを超えると液晶表示装置
に組み込んで、文字又は色等を表示させた場合、表示斑
を生じる傾向がある。
The retardation value (R value) of the transparent substrate of the present invention is preferably 20 nm or less, particularly preferably 10 nm or less. If the thickness exceeds 20 nm, display irregularities tend to occur when characters or colors are displayed by being incorporated into a liquid crystal display device.

【0036】透明基板の厚さは100〜2000μmが
好ましい。100μm未満ではシートが自重によりたわ
み易く、平坦性に劣る傾向があり、2000μmを超え
ると1.5〜0.7mm厚さのガラス基板と同じ重量と
なり、軽量化の目的からはずれてしまう傾向がある。ま
た、透明基板の表面粗度Raは0.05μm以下である
ことが好ましい。0.05μmを超えると透明基板に導
電性薄膜を形成する等の処理を行った場合、処理面の表
面性が乱れて表示品質が低下する傾向がある。特に微細
な表面性の均一さを要求するSTN液晶表示素子におい
ては、この表面性の斑が液晶の均一な配向を阻害し、著
しく表示品質を低下させる傾向がある。
The thickness of the transparent substrate is preferably 100 to 2000 μm. If it is less than 100 μm, the sheet tends to bend under its own weight and tends to be inferior in flatness, and if it exceeds 2000 μm, it has the same weight as a glass substrate having a thickness of 1.5 to 0.7 mm and tends to be out of the purpose of weight reduction. . Further, the surface roughness Ra of the transparent substrate is preferably 0.05 μm or less. If the thickness exceeds 0.05 μm, when a process such as forming a conductive thin film on a transparent substrate is performed, the surface quality of the processed surface tends to be disturbed and the display quality tends to deteriorate. In particular, in an STN liquid crystal display element that requires fine uniform surface properties, the unevenness of the surface tends to hinder uniform alignment of the liquid crystal and significantly degrade the display quality.

【0037】本発明の液晶表示素子の構成は、通常公知
の液晶表示素子の構成でよく、例えば一対の光硬化性樹
脂よりなる透明基板の対向する表面上にガスバリア層、
インジウムスズオキサイド(ITO)の透明導電膜、配
向膜、アンダーコート層等を順次形成して、次に液晶材
料を注入し、シール部材で封止し、更に外方向側表面に
偏光板を積層することにより液晶表示素子を形成するこ
とができる。
The structure of the liquid crystal display element of the present invention may be the structure of a generally known liquid crystal display element. For example, a gas barrier layer may be formed on the opposing surfaces of a pair of transparent substrates made of a photocurable resin.
A transparent conductive film of indium tin oxide (ITO), an alignment film, an undercoat layer, etc. are sequentially formed, then a liquid crystal material is injected, sealed with a sealing member, and a polarizing plate is laminated on the outer surface. Thus, a liquid crystal display element can be formed.

【0038】[0038]

【実施例】以下、本発明の内容および効果を実施例によ
り更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えな
い限り以下の例に限定されるものではない。なお、以下
の実施例及び比較例で得られた透明基板は、以下の方法
により測定評価した。
EXAMPLES Hereinafter, the contents and effects of the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention. The transparent substrates obtained in the following Examples and Comparative Examples were measured and evaluated by the following methods.

【0039】〈表面粗度(Ra)〉表面粗さ測定器
((株)東京精密製、サーフコーム575A)を用い、
ダイヤモンド針(1μmR、90゜円錐)、測定長さ
0.5mm、カットオフ値0.16mm、測定速度0.
06mm/sec及び直線補正の条件で測定した。
<Surface Roughness (Ra)> Using a surface roughness measuring device (Surf Comb 575A, manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.)
Diamond needle (1 μmR, 90 ° cone), measurement length 0.5 mm, cutoff value 0.16 mm, measurement speed 0.
The measurement was performed under the conditions of 06 mm / sec and linear correction.

【0040】〈リターデーション値(R値)〉自動複屈
折測定装置((株)オーク製作所製、ADRー150
N)を用い、632.8nmの波長での垂直入射により
リターデーション値(R値)を測定した。 〈重量〉精密上皿天秤を用いて、透明基板の重量を測定
した。 〈シートの厚さ〉シックネスゲージを使用して、透明基
板の厚さを測定した。
<Retardation value (R value)> Automatic birefringence measuring device (ADR-150, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.)
N), the retardation value (R value) was measured by perpendicular incidence at a wavelength of 632.8 nm. <Weight> The weight of the transparent substrate was measured using a precision precision balance. <Sheet thickness> The thickness of the transparent substrate was measured using a thickness gauge.

【0041】実施例1 光学研磨ガラス平板(縦310mm×横410mm×厚
さ5mm)を用いて、スペーサーとして幅5mm、厚さ
1mmのシリコン板を用いてキャビティを形成させ、周
辺部をテープでシールして注入型を形成した。光硬化性
樹脂としてpービス(βーメタクリロイルオキシエチル
チオ)キシレン99重量部、ペンタエリスリトールテト
ラキス(βーチオプロオピオネート)1重量部、光開始
剤として2,4,6ートリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド(BASF社製「ルシリンTP
O」)0.05重量部、ベンゾフェノン0.02重量部
を均一に攪拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この
組成物を注入型に注入し、ガラス面より距離400mm
で上下にある出力80W/cmのメタルハライドランプ
の間にて、30分間紫外線を照射して硬化させた。注入
型を除去し光硬化性樹脂よりなる透明基板を得た。
Example 1 A cavity was formed using an optically polished glass flat plate (length 310 mm × width 410 mm × thickness 5 mm), a silicon plate 5 mm wide and 1 mm thick as a spacer, and the periphery was sealed with tape. To form an injection mold. 99 parts by weight of p-bis (β-methacryloyloxyethylthio) xylene as a photocurable resin, 1 part by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide as a photoinitiator (Lucirin TP manufactured by BASF
O ") 0.05 parts by weight and benzophenone 0.02 parts by weight were uniformly stirred and mixed, followed by defoaming to obtain a composition. This composition was poured into a casting mold, and the distance from the glass surface was 400 mm.
UV light was applied for 30 minutes between the upper and lower metal halide lamps with an output of 80 W / cm for curing. The injection mold was removed to obtain a transparent substrate made of a photocurable resin.

【0042】得られた光硬化性樹脂よりなる透明基板
は、縦300mm×横400mm×厚さ1.0mm、表
面粗度(Ra)0.004μm、リターデーション値
(R値)8nm及び重量150gであった。この光硬化
性樹脂よりなる透明基板の重量は、同形状、同厚さの市
販の液晶表示素子用光学ガラス基板(密度:約2.5g
/cm3)より約150g軽量で、かつ、この基板は厚
さ1.0mmでも充分な腰を持ち、また平坦性も良好で
あった。
The resulting transparent substrate made of a photocurable resin has a length of 300 mm × width 400 mm × thickness 1.0 mm, a surface roughness (Ra) of 0.004 μm, a retardation value (R value) of 8 nm and a weight of 150 g. there were. The weight of the transparent substrate made of the photocurable resin is the same shape and thickness of a commercially available optical glass substrate for a liquid crystal display element (density: about 2.5 g).
/ Cm 3 ), and the substrate had sufficient stiffness even with a thickness of 1.0 mm, and had good flatness.

【0043】次に、得られた光硬化性樹脂よりなる透明
基板にアンダーコート層としてSiOを蒸着材料として
約300Åの膜厚で蒸着し、この上にITOを膜厚約1
000Åにスパッタ蒸着して透明導電膜を形成した。こ
のITO透明導電膜上にトップコート層及びポリイミド
を約500Åにスピンコートした配向膜を形成した。次
に液晶材料を注入し、シール部材で封止し、更に外方向
側表面に偏光板を積層し、液晶表示素子を得た。製造工
程において、なんら問題は発生しなかった。この様にし
て得られた液晶表示素子は、ガラス基板を用いた液晶表
示素子と同等の性能を有していた。
Next, on the obtained transparent substrate made of a photocurable resin, SiO was deposited as an undercoat layer to a thickness of about 300 ° using SiO as a deposition material.
A transparent conductive film was formed by sputtering vapor deposition at 2,000 °. On this ITO transparent conductive film, a top coat layer and an alignment film were formed by spin-coating polyimide at about 500 °. Next, a liquid crystal material was injected, sealed with a sealing member, and a polarizing plate was further laminated on the outer surface to obtain a liquid crystal display element. No problem occurred in the manufacturing process. The liquid crystal display device thus obtained had the same performance as a liquid crystal display device using a glass substrate.

【0044】実施例2 光学研磨ガラス平板(縦310mm×横410mm×厚
さ5mm)を用いて、スペーサーとして幅5mm、厚さ
0.5mmのテフロン板を用いてキャビティを形成さ
せ、周辺部テープでシールして注入型を形成した。光硬
化性樹脂としてビス(オキシメチル)トリシクロ[5.
2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート94重量
部、ペンタエリスリトールテトラキス(βーチオプロオ
ピオネート)6重量部、光開始剤として2,4,6ート
リメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
(BASF社製「ルシリンTPO」)0.06重量部、
ベンゾフェノン0.04重量部を均一に攪拌混合した
後、脱泡して組成物を得た。
Example 2 Using an optically polished glass flat plate (length 310 mm × width 410 mm × thickness 5 mm), a cavity was formed using a Teflon plate having a width of 5 mm and a thickness of 0.5 mm as a spacer, and a peripheral tape was used. Sealed to form injection mold. Bis (oxymethyl) tricyclo [5.
2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate 94 parts by weight, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate) 6 parts by weight, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (BASF) as a photoinitiator 0.06 parts by weight of "Lucirin TPO" manufactured by
After uniformly stirring and mixing 0.04 parts by weight of benzophenone, the composition was defoamed to obtain a composition.

【0045】この組成物を注入型に注入し、ガラス面よ
り距離400mmで上下にある出力80W/cmのメタ
ルハライドランプの間にて、30分間紫外線を照射して
硬化させた。注入型を除去し光硬化性樹脂よりなる透明
基板を得た。得られた光硬化性樹脂よりなる透明基板
は、縦300mm×横400mm×厚さ0.5mm、表
面粗度(Ra)0.004μm、リターデーション値
(R値)5nm及び重量75gであった。
This composition was poured into a casting mold, and cured by irradiating ultraviolet rays for 30 minutes between metal halide lamps having an output of 80 W / cm above and below at a distance of 400 mm from the glass surface. The injection mold was removed to obtain a transparent substrate made of a photocurable resin. The resulting transparent substrate made of a photocurable resin had a length of 300 mm x a width of 400 mm x a thickness of 0.5 mm, a surface roughness (Ra) of 0.004 µm, a retardation value (R value) of 5 nm, and a weight of 75 g.

【0046】光硬化性樹脂よりなる透明基板の重量は、
同形状、同厚さの市販の液晶表示素子用光学ガラス基板
(密度:約2.5g/cm3)より約75g軽量で、か
つ、この基板は厚さ0.5mmでも充分な腰を持ち、ま
た平坦性も良好であった。次いで、得られた光硬化性樹
脂よりなる透明基板にアンダーコート層としてSiOを
蒸着材料として約300Åの膜厚で蒸着し、この上にI
TOを膜厚約1000Åにスパッタ蒸着して透明導電膜
を形成した。この、ITO透明導電膜上にトップコート
層及びポリイミドを約500Åにスピンコートした配向
膜を形成した。次に液晶材料を注入し、シール部材で封
止し、更に外方向側表面に偏光板を積層し、プラスチッ
クシート液晶表示素子を得た。製造工程において、なん
ら問題は発生しなかった。この様にして得られた液晶表
示素子は、ガラス基板を用いた液晶表示素子と同等の性
能を有していた。
The weight of the transparent substrate made of a photocurable resin is
It is about 75 g lighter than a commercially available optical glass substrate for liquid crystal display elements of the same shape and thickness (density: about 2.5 g / cm 3 ), and this board has a sufficient waist even with a thickness of 0.5 mm. The flatness was also good. Next, on the obtained transparent substrate made of photocurable resin, SiO was deposited as an undercoat layer to a thickness of about 300 ° using SiO as a deposition material.
TO was sputter-deposited to a thickness of about 1000 ° to form a transparent conductive film. On this ITO transparent conductive film, a top coat layer and an alignment film were formed by spin-coating polyimide at about 500 °. Next, a liquid crystal material was injected, sealed with a sealing member, and a polarizing plate was further laminated on the outer surface to obtain a plastic sheet liquid crystal display element. No problem occurred in the manufacturing process. The liquid crystal display device thus obtained had the same performance as a liquid crystal display device using a glass substrate.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明の液晶表示素子は光硬化性樹脂を
用いた透明基板を用いる。これにより、本発明の液晶表
示素子では、同形状、同厚さのガラス基板に比較して軽
量で強度的にも優れている他、リタデーション値等の光
学特性も良好であり、液晶表示素子又は液晶表示装置自
体の軽量化が実現できる。また、本発明の液晶表示素子
の製造は簡易で製造時の歩留まりも良好であり、産業上
の利用価値は極めて大である。
The liquid crystal display element of the present invention uses a transparent substrate using a photocurable resin. Thereby, in the liquid crystal display device of the present invention, in addition to being lightweight and excellent in strength as compared with a glass substrate having the same shape and thickness, optical characteristics such as a retardation value are also good, and the liquid crystal display device or The weight of the liquid crystal display device itself can be reduced. Further, the production of the liquid crystal display element of the present invention is simple, the yield at the time of production is good, and the industrial utility value is extremely large.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する一対の光硬化性樹脂よりなる透
明基板間に液晶層を介在してなることを特徴とする液晶
表示素子。
1. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer interposed between a pair of opposing transparent substrates made of a photocurable resin.
【請求項2】 光硬化性樹脂よりなる透明基板が下式
(1)及び(2)より選ばれた少なくとも1種のビス
(メタ)アクリレートを含んでなる組成物を活性エネル
ギー線により硬化させて成形したシートであることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示素子。 【化1】 [式(1)中、R1 及びR2 は、互に異っていてもよ
く、水素原子又はメチル基を示す。R3 及びR4 は、互
に異っていてもよく、炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫
黄原子を有していてもよい炭素数1〜6の炭化水素基を
示す。Xはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基及
び炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれた置換基を示
し、aは0〜4の整数を示す。但しaが2以上の整数の
場合には、複数のXは互に異っていてもよい。] 【化2】 [式(2)中、R5 及びR6 は、互に異っていてもよ
く、水素原子又はメチル基を示す。bは1又は2を示
し、cは0又は1を示す。]
2. A composition comprising a transparent substrate made of a photocurable resin containing at least one bis (meth) acrylate selected from the following formulas (1) and (2), cured by an active energy ray. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a molded sheet. Embedded image [In the formula (1), R 1 and R 2 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. R 3 and R 4 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in a carbon chain. X represents a substituent selected from a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4. However, when a is an integer of 2 or more, a plurality of Xs may be different from each other. ] [In the formula (2), R 5 and R 6 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. b represents 1 or 2, and c represents 0 or 1. ]
【請求項3】 光硬化性樹脂よりなる透明基板が式
(1)及び(2)より選ばれた少なくとも1種のビス
(メタ)アクリレート80〜99.9重量部と下式
(3)、(4)及び(5)より選ばれた少なくとも1種
のメルカプト化合物0.1〜20重量部とを含んでなる
組成物を活性エネルギー線により硬化させて成形したシ
ートであることを特徴とする請求項2記載の液晶表示素
子。 【化3】 [式(3)中、複数のR7 は互に異っていてもよく、そ
れぞれメチレン基又はエチレン基を示す。R8 は炭素鎖
中に酸素原子及び/又は硫黄原子を含んでいてもよい炭
素数2〜15の炭化水素残基を示す。dは2〜6の整数
を示す。] 【化4】 [式(4)中、Yは互に異っていてもよく、HS−(C
2 e −(CO)(OCH2 −CH2 f −(C
2 g −を示す。但しeは1〜4の整数、fは1〜4
の整数、gは0〜2の整数をそれぞれ示す。] 【化5】 [式(5)中、R9 及びR10は、互に異っていてもよ
く、炭素数1〜3の炭化水素基を示す。m及びnはそれ
ぞれ0又は1を示す。pは1又は2を示す。]
3. A transparent substrate made of a photocurable resin comprises 80 to 99.9 parts by weight of at least one bis (meth) acrylate selected from the formulas (1) and (2) and the following formulas (3) and (3). A sheet formed by curing a composition comprising 0.1 to 20 parts by weight of at least one mercapto compound selected from 4) and (5) with an active energy ray. 2. The liquid crystal display device according to 2. Embedded image [In the formula (3), a plurality of R 7 may be different from each other, and each represents a methylene group or an ethylene group. R 8 represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom and / or a sulfur atom in the carbon chain. d shows the integer of 2-6. ] [In the formula (4), Y may be different from each other, and HS- (C
H 2) e - (CO) (OCH 2 -CH 2) f - (C
H 2 ) g −. Where e is an integer of 1 to 4, f is 1 to 4
And g represents an integer of 0 to 2, respectively. ] [In the formula (5), R 9 and R 10 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. m and n each represent 0 or 1. p represents 1 or 2. ]
【請求項4】 光硬化性樹脂よりなる透明基板のリター
デーション値が20nm以下であることを特徴とする請
求項1ないし3のいずれかに記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation value of the transparent substrate made of a photocurable resin is 20 nm or less.
【請求項5】 光硬化性樹脂よりなる透明基板の表面粗
度Raが0.05μm以下であることを特徴とする請求
項1ないし4のいずれかに記載の液晶表示素子。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface roughness Ra of the transparent substrate made of a photocurable resin is 0.05 μm or less.
【請求項6】 光硬化性樹脂よりなる透明基板の厚さが
100〜2000μmであることを特徴とする請求項1
ないし5のいずれかに記載の液晶表示素子。
6. The method according to claim 1, wherein the thickness of the transparent substrate made of a photocurable resin is 100 to 2000 μm.
6. The liquid crystal display device according to any one of items 5 to 5.
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