JPH1087462A - 口腔洗浄水 - Google Patents
口腔洗浄水Info
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- JPH1087462A JPH1087462A JP34284096A JP34284096A JPH1087462A JP H1087462 A JPH1087462 A JP H1087462A JP 34284096 A JP34284096 A JP 34284096A JP 34284096 A JP34284096 A JP 34284096A JP H1087462 A JPH1087462 A JP H1087462A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 安全性と有効性を両立させることができる口
腔洗浄水を提供する。 【解決手段】 次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍであ
る。次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ以上であることによっ
て強力な殺菌力及び有効なステイン除去能力を有しなが
らも、次亜塩素酸の濃度が５５ｐｐｍ以下であることに
よって歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるない
ようにすることができる。
腔洗浄水を提供する。 【解決手段】 次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍであ
る。次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ以上であることによっ
て強力な殺菌力及び有効なステイン除去能力を有しなが
らも、次亜塩素酸の濃度が５５ｐｐｍ以下であることに
よって歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるない
ようにすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、歯周病を予防した
り口腔内に付着した着色性物質(ステイン)を除去するた
めに用いられる口腔洗浄水に関するものである。
り口腔内に付着した着色性物質(ステイン)を除去するた
めに用いられる口腔洗浄水に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】歯周病は口腔内に存在する細菌（雑菌）
によって引き起こされるが、これを予防するためには口
腔内の細菌を除去して口腔内を殺菌する必要があり、そ
のため様々な口腔洗浄水が開発されている。最近では強
い殺菌力を有する強酸性水（ｐＨが３以下、酸化還元電
位１０００ｍＶ以上）を口腔洗浄水として用いることが
行われている。
によって引き起こされるが、これを予防するためには口
腔内の細菌を除去して口腔内を殺菌する必要があり、そ
のため様々な口腔洗浄水が開発されている。最近では強
い殺菌力を有する強酸性水（ｐＨが３以下、酸化還元電
位１０００ｍＶ以上）を口腔洗浄水として用いることが
行われている。
【０００３】また口腔内、特に刃の表面には茶に含まれ
るタンニンや喫煙によるヤニのような様々な着色性物質
（以下ステインと称す）が付着するが、このステインは
歯を変色させる原因となる。このようなステインの除去
については、研磨剤を配合した歯磨剤で歯を磨くことで
ステインを擦り取ることが一般に行われている。
るタンニンや喫煙によるヤニのような様々な着色性物質
（以下ステインと称す）が付着するが、このステインは
歯を変色させる原因となる。このようなステインの除去
については、研磨剤を配合した歯磨剤で歯を磨くことで
ステインを擦り取ることが一般に行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記のような強
酸性水の口腔洗浄水は、強い殺菌力を有していて細菌に
対する有効性は強いものの、歯のエナメル質や口腔内の
補綴物（歯を治療する際に用いられる金属製の被覆物な
ど）に対して重篤な悪影響を与えるものであり、安全性
が低いという問題があった。
酸性水の口腔洗浄水は、強い殺菌力を有していて細菌に
対する有効性は強いものの、歯のエナメル質や口腔内の
補綴物（歯を治療する際に用いられる金属製の被覆物な
ど）に対して重篤な悪影響を与えるものであり、安全性
が低いという問題があった。
【０００５】また、研磨剤を配合した歯磨剤で歯を磨い
た場合、歯のエナメル質に傷をつけてしまうことが避け
られず、傷付いた部分には更にステインが付着しやすく
なるために、ステイン除去という点で有効ではなく、逆
に歯のエナメル質の摩耗損傷という重大な問題すら引き
起こす結果となっている。研磨剤を配合していない歯磨
剤も開発されてはいるが、ステイン除去能力が著しく低
いものでしかなかった。
た場合、歯のエナメル質に傷をつけてしまうことが避け
られず、傷付いた部分には更にステインが付着しやすく
なるために、ステイン除去という点で有効ではなく、逆
に歯のエナメル質の摩耗損傷という重大な問題すら引き
起こす結果となっている。研磨剤を配合していない歯磨
剤も開発されてはいるが、ステイン除去能力が著しく低
いものでしかなかった。
【０００６】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、強い殺菌力を有しながらも歯のエナメル質や口腔
内の補綴物に対して悪影響を与えることがなく、しかも
ステイン除去についても有効な口腔洗浄水、つまり安全
性と有効性とを両立させた口腔洗浄水を提供することを
目的とするものである。
あり、強い殺菌力を有しながらも歯のエナメル質や口腔
内の補綴物に対して悪影響を与えることがなく、しかも
ステイン除去についても有効な口腔洗浄水、つまり安全
性と有効性とを両立させた口腔洗浄水を提供することを
目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の口腔洗浄水は、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍで
あることを特徴とし、本発明の請求項２に記載の口腔洗
浄水は、請求項１の構成に加えて、ｐＨが４〜７である
ことに特徴を有している。本発明者らは口腔洗浄水とし
て好適な種々のものを検討した結果、次亜塩素酸が殺菌
及びステインの酸化除去の２点で有効であり、しかもそ
の濃度やｐＨ値の調整により歯のエナメル質や口腔内の
補綴物に対して影響を与えることがないようにすること
ができたものである。
の口腔洗浄水は、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍで
あることを特徴とし、本発明の請求項２に記載の口腔洗
浄水は、請求項１の構成に加えて、ｐＨが４〜７である
ことに特徴を有している。本発明者らは口腔洗浄水とし
て好適な種々のものを検討した結果、次亜塩素酸が殺菌
及びステインの酸化除去の２点で有効であり、しかもそ
の濃度やｐＨ値の調整により歯のエナメル質や口腔内の
補綴物に対して影響を与えることがないようにすること
ができたものである。
【０００８】また本発明の請求項３に記載の口腔洗浄水
は、請求項１又は２の構成に加えて、次亜塩素酸の濃度
とｐＨの関係が 次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×｛（ｐＨの
値）−７｝2 で表されることに特徴を有している。この場合、殺菌能
力とステイン除去能力及び安全性の３点を高い次元で保
つことができる。
は、請求項１又は２の構成に加えて、次亜塩素酸の濃度
とｐＨの関係が 次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×｛（ｐＨの
値）−７｝2 で表されることに特徴を有している。この場合、殺菌能
力とステイン除去能力及び安全性の３点を高い次元で保
つことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明の口腔洗浄水は、次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）水溶液に塩酸（ＨＣｌ）を加えて調製さ
れる次亜塩素酸水溶液などを用いることができる。この
時の反応は ＮａＣｌＯ＋Ｈ+ ＋Ｃｌ- ⇔ＨＣｌＯ＋Ｎａ+ ＋Ｃｌ- と表される。
する。本発明の口腔洗浄水は、次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）水溶液に塩酸（ＨＣｌ）を加えて調製さ
れる次亜塩素酸水溶液などを用いることができる。この
時の反応は ＮａＣｌＯ＋Ｈ+ ＋Ｃｌ- ⇔ＨＣｌＯ＋Ｎａ+ ＋Ｃｌ- と表される。
【００１０】このようにして口腔洗浄水を調製する場合
において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液の濃度と塩酸の濃度やｐＨ及び次亜塩素
酸ナトリウム水溶液と塩酸の混合割合をそれぞれ変える
ことによって、任意に設定することができる。また塩酸
に次亜塩素酸ナトリウムを加えて口腔洗浄水を調製する
ようにしてもよい。このようにして口腔洗浄水を調製す
る場合において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、塩酸の
濃度やｐＨ及び次亜塩素酸ナトリウムと塩酸の混合割合
をそれぞれ変えることによって、任意に設定することが
できる。
において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液の濃度と塩酸の濃度やｐＨ及び次亜塩素
酸ナトリウム水溶液と塩酸の混合割合をそれぞれ変える
ことによって、任意に設定することができる。また塩酸
に次亜塩素酸ナトリウムを加えて口腔洗浄水を調製する
ようにしてもよい。このようにして口腔洗浄水を調製す
る場合において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、塩酸の
濃度やｐＨ及び次亜塩素酸ナトリウムと塩酸の混合割合
をそれぞれ変えることによって、任意に設定することが
できる。
【００１１】さらに本発明の口腔洗浄水は、図５に示す
ような生成装置（電気分解装置）を用いて生成すること
ができる。１は容器であって、容器１内は電解隔膜２で
陽極部１ａと陰極部１ｂとに二分されており、陽極部１
ａには陽極電極３が、陰極部１ｂには陰極電極４がそれ
ぞれ配置されている。陽極電極３と陰極電極４は電源５
と電流計６と可変抵抗器７を介して接続されている。そ
して容器１内に食塩水８を入れて電気分解をおこなうこ
とによって、陽極部１ａに次亜塩素酸を含む酸性水が、
陰極部１ｂにアルカリ水がそれぞれ生成され、陽極部１
ａの酸性水を口腔洗浄水として用いることができる。
ような生成装置（電気分解装置）を用いて生成すること
ができる。１は容器であって、容器１内は電解隔膜２で
陽極部１ａと陰極部１ｂとに二分されており、陽極部１
ａには陽極電極３が、陰極部１ｂには陰極電極４がそれ
ぞれ配置されている。陽極電極３と陰極電極４は電源５
と電流計６と可変抵抗器７を介して接続されている。そ
して容器１内に食塩水８を入れて電気分解をおこなうこ
とによって、陽極部１ａに次亜塩素酸を含む酸性水が、
陰極部１ｂにアルカリ水がそれぞれ生成され、陽極部１
ａの酸性水を口腔洗浄水として用いることができる。
【００１２】このようにして口腔洗浄水を調製する場合
において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、食塩水８の濃
度や電気分解時間や電力量をそれぞれ変えることによっ
て、任意に設定することができる。また口腔洗浄水の次
亜塩素酸の濃度及びｐＨは、陰極部１ｂに生成されるア
ルカリ水を陽極部１ａの酸性水に適量混合することによ
って調整してもよい。
において、次亜塩素酸の濃度及びｐＨは、食塩水８の濃
度や電気分解時間や電力量をそれぞれ変えることによっ
て、任意に設定することができる。また口腔洗浄水の次
亜塩素酸の濃度及びｐＨは、陰極部１ｂに生成されるア
ルカリ水を陽極部１ａの酸性水に適量混合することによ
って調整してもよい。
【００１３】次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）は水溶液としての
み存在するものであって、強い殺菌力及びステインの除
去能力を有するものである。本発明において次亜塩素酸
の濃度は５〜５５ｐｐｍである。次亜塩素酸の濃度が５
ｐｐｍ未満であれば、殺菌力及びステインの除去能力が
低下する恐れがある。口腔内は生体が外界と接触する特
殊な環境の部分である上、温度や水分や栄養が恵まれて
いることから極めて多種多様な細菌が繁殖しており、口
腔洗浄水はこれら多種多様な細菌に対して殺菌性を有す
ることが必要である。従って本発明では次亜塩素酸の濃
度を５ｐｐｍ以上にすることによって、極めて広い抗菌
スペクトルを有するようにして多種多様な細菌を短時間
で殺菌することができるように、また種々のステインの
酸化除去ができるように調製されている。また次亜塩素
酸の濃度が５５ｐｐｍを超えると、口腔内の補綴物と次
亜塩素酸の化学反応が大きくなって補綴物が金属イオン
となって溶出したり補綴物に錆や変色が発生したりする
などの悪影響が生じる恐れがある。
み存在するものであって、強い殺菌力及びステインの除
去能力を有するものである。本発明において次亜塩素酸
の濃度は５〜５５ｐｐｍである。次亜塩素酸の濃度が５
ｐｐｍ未満であれば、殺菌力及びステインの除去能力が
低下する恐れがある。口腔内は生体が外界と接触する特
殊な環境の部分である上、温度や水分や栄養が恵まれて
いることから極めて多種多様な細菌が繁殖しており、口
腔洗浄水はこれら多種多様な細菌に対して殺菌性を有す
ることが必要である。従って本発明では次亜塩素酸の濃
度を５ｐｐｍ以上にすることによって、極めて広い抗菌
スペクトルを有するようにして多種多様な細菌を短時間
で殺菌することができるように、また種々のステインの
酸化除去ができるように調製されている。また次亜塩素
酸の濃度が５５ｐｐｍを超えると、口腔内の補綴物と次
亜塩素酸の化学反応が大きくなって補綴物が金属イオン
となって溶出したり補綴物に錆や変色が発生したりする
などの悪影響が生じる恐れがある。
【００１４】また本発明においてｐＨは４〜７であるこ
とが好ましい。ｐＨが４未満であれば、歯に脱灰が生じ
るなどの悪影響を及ぼす恐れがある。歯（の表面のエナ
メル質）は酸で溶けることが良く知られているが、この
溶けた部分は唾液により修復される。しかしこの修復力
には個体差があって、唾液により修復される以上に溶け
る量が多くなった場合に歯に脱灰が生じる。そこで本発
明では次亜塩素酸を含有する水溶液においてｐＨを４以
上にすることによって、口腔洗浄水による歯の溶解より
も唾液による歯の修復を大きくすることができ、歯に脱
灰が生じるなどの悪影響を抑えることができるようにし
たのである。しかもこのように本発明の口腔洗浄水のｐ
Ｈを４以上にすることによって、酸による補綴物への悪
影響、例えば補綴物が金属イオンとなって溶出したり補
綴物に錆や変色が発生したりするなどの悪影響をも低下
させることができる。
とが好ましい。ｐＨが４未満であれば、歯に脱灰が生じ
るなどの悪影響を及ぼす恐れがある。歯（の表面のエナ
メル質）は酸で溶けることが良く知られているが、この
溶けた部分は唾液により修復される。しかしこの修復力
には個体差があって、唾液により修復される以上に溶け
る量が多くなった場合に歯に脱灰が生じる。そこで本発
明では次亜塩素酸を含有する水溶液においてｐＨを４以
上にすることによって、口腔洗浄水による歯の溶解より
も唾液による歯の修復を大きくすることができ、歯に脱
灰が生じるなどの悪影響を抑えることができるようにし
たのである。しかもこのように本発明の口腔洗浄水のｐ
Ｈを４以上にすることによって、酸による補綴物への悪
影響、例えば補綴物が金属イオンとなって溶出したり補
綴物に錆や変色が発生したりするなどの悪影響をも低下
させることができる。
【００１５】またｐＨが７よりも大きくなると、殺菌性
及びステインの酸化除去能力が低下する恐れがある。上
記のように本発明の口腔洗浄水は次亜塩素酸を含むもの
であるが、図１０に示すようにこの次亜塩素酸はｐＨが
７より大きいアルカリ性の条件下では不安定であって急
激にイオン化して次亜塩素酸イオンとなる。この次亜塩
素酸イオンは殺菌力が非常に弱く、細菌が繁殖するのに
最適な条件である口腔内を十分に殺菌することができな
いと同時に、ステインの除去能力が殆どない。従って本
発明ではｐＨを７以下にすることによって、次亜塩素酸
を安定して存在させて殺菌性及びステイン除去能力を低
下させないようにしたものである。
及びステインの酸化除去能力が低下する恐れがある。上
記のように本発明の口腔洗浄水は次亜塩素酸を含むもの
であるが、図１０に示すようにこの次亜塩素酸はｐＨが
７より大きいアルカリ性の条件下では不安定であって急
激にイオン化して次亜塩素酸イオンとなる。この次亜塩
素酸イオンは殺菌力が非常に弱く、細菌が繁殖するのに
最適な条件である口腔内を十分に殺菌することができな
いと同時に、ステインの除去能力が殆どない。従って本
発明ではｐＨを７以下にすることによって、次亜塩素酸
を安定して存在させて殺菌性及びステイン除去能力を低
下させないようにしたものである。
【００１６】また口腔洗浄水の次亜塩素酸の濃度とｐＨ
の相互作用を折り込んだ次の（Ａ）式 次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×｛（ｐＨの値）−７｝2 …（Ａ） で表されるような関係に次亜塩素酸の濃度とｐＨ値とを
調製することによって、さらに殺菌力が高く且つ歯や補
綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水を得ることができ
る。
の相互作用を折り込んだ次の（Ａ）式 次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×｛（ｐＨの値）−７｝2 …（Ａ） で表されるような関係に次亜塩素酸の濃度とｐＨ値とを
調製することによって、さらに殺菌力が高く且つ歯や補
綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水を得ることができ
る。
【００１７】この口腔洗浄水は、そのまま口腔に含んで
含嗽を行うことで洗浄を実施してもよいし、イリゲータ
の吐出水として用いて口腔洗浄に供してもよい。口腔内
に存在する口腔洗浄液に超音波エネルギーを与えること
により、ステイン除去効率を向上させることができるの
はもちろんである。
含嗽を行うことで洗浄を実施してもよいし、イリゲータ
の吐出水として用いて口腔洗浄に供してもよい。口腔内
に存在する口腔洗浄液に超音波エネルギーを与えること
により、ステイン除去効率を向上させることができるの
はもちろんである。
【００１８】
（実施例１）ｐＨが２．９〜６．８に調製された５００
ミリリットルの塩酸に、次亜塩素酸ナトリウムを１９〜
３１０ｍｇ混合することによって、図１乃至図４の縦軸
に示される次亜塩素酸の濃度と横軸に示されるｐＨとの
組み合わせからなる口腔洗浄水を得た。尚、ｐＨが８以
上では次亜塩素酸を含有する口腔洗浄水の調製が困難で
あった。
ミリリットルの塩酸に、次亜塩素酸ナトリウムを１９〜
３１０ｍｇ混合することによって、図１乃至図４の縦軸
に示される次亜塩素酸の濃度と横軸に示されるｐＨとの
組み合わせからなる口腔洗浄水を得た。尚、ｐＨが８以
上では次亜塩素酸を含有する口腔洗浄水の調製が困難で
あった。
【００１９】上記実施例１について殺菌力の強弱及びス
テイン除去能力を評価した。殺菌力の測定方法は、口腔
内在菌を混合分散させた試料液（菌数は１０5 〜１０8
個）を上記口腔洗浄水中に入れ、菌を適当に培養させて
繁殖する頃にコロニー数を計測した。そして培養した結
果、（１）菌数が１ミリリットル中、１０未満であった
ものを殺菌効果ありとし、（２）二桁以上の菌数が減少
した程度のものを殺菌効果が弱いとし、（３）菌数が不
変または減少数が二桁に到らないものを殺菌効果無しと
判定した。結果を図１に示す。
テイン除去能力を評価した。殺菌力の測定方法は、口腔
内在菌を混合分散させた試料液（菌数は１０5 〜１０8
個）を上記口腔洗浄水中に入れ、菌を適当に培養させて
繁殖する頃にコロニー数を計測した。そして培養した結
果、（１）菌数が１ミリリットル中、１０未満であった
ものを殺菌効果ありとし、（２）二桁以上の菌数が減少
した程度のものを殺菌効果が弱いとし、（３）菌数が不
変または減少数が二桁に到らないものを殺菌効果無しと
判定した。結果を図１に示す。
【００２０】ステイン除去能力については、ステインが
付着して表面色が変化しているとともに抜歯された人の
歯について、４００ｎｍ、４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５
５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍの各波長で反射率を
計測して初期値とし、次いでこの歯を口腔洗浄水中に入
れて静置し、所定時間経過した後、再度上記各波長での
反射率を測定するという処理を、１種の口腔洗浄水につ
いて５本の歯で行い、さらに得られたデータを統計的に
処理して、（１）危険率が５％以下で有意義が認められ
た場合を有効なステイン除去能力ありと判定し、（２）
危険率が５〜１０％で有意義が認められた場合を弱いス
テイン除去能力ありと判定し、（３）危険率が１０％よ
りも大きかった場合をステイン除去能力無しと判定し
た。結果を図２に示す。
付着して表面色が変化しているとともに抜歯された人の
歯について、４００ｎｍ、４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５
５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍの各波長で反射率を
計測して初期値とし、次いでこの歯を口腔洗浄水中に入
れて静置し、所定時間経過した後、再度上記各波長での
反射率を測定するという処理を、１種の口腔洗浄水につ
いて５本の歯で行い、さらに得られたデータを統計的に
処理して、（１）危険率が５％以下で有意義が認められ
た場合を有効なステイン除去能力ありと判定し、（２）
危険率が５〜１０％で有意義が認められた場合を弱いス
テイン除去能力ありと判定し、（３）危険率が１０％よ
りも大きかった場合をステイン除去能力無しと判定し
た。結果を図２に示す。
【００２１】また上記実施例１について歯の表面への影
響を評価した。歯の表面への影響の測定方法は、抜歯さ
れた人の歯を口腔洗浄水中に入れて静置し、所定時間経
過した後、走査型電子顕微鏡にて歯の表面状態を観察
し、脱灰の状態を観察した。そして（１）１０分間経過
しても歯に脱灰が認められなかった場合を影響なしと判
定し、（２）１．５〜１０分間の経過で、歯に脱灰が認
められた場合を影響のある場合もありと判定し、（３）
１．５分間以内の経過で、歯に脱灰が認められた場合を
脱灰が認められると判定した。結果を図３に示す。
響を評価した。歯の表面への影響の測定方法は、抜歯さ
れた人の歯を口腔洗浄水中に入れて静置し、所定時間経
過した後、走査型電子顕微鏡にて歯の表面状態を観察
し、脱灰の状態を観察した。そして（１）１０分間経過
しても歯に脱灰が認められなかった場合を影響なしと判
定し、（２）１．５〜１０分間の経過で、歯に脱灰が認
められた場合を影響のある場合もありと判定し、（３）
１．５分間以内の経過で、歯に脱灰が認められた場合を
脱灰が認められると判定した。結果を図３に示す。
【００２２】さらに上記実施例１について補綴物への影
響を評価した。補綴物への影響の測定方法は銀合金（銀
パラジウム、低融点銀合金など）とアマルガムとグラス
アイオモマーセメントとステンレス合金でそれぞれ形成
される補綴物を口腔洗浄水中に入れて静置し、所定時間
経過した後、肉眼及び走査型電子顕微鏡にて補綴物の表
面状態を観察した。肉眼では補綴物の変色（セメント系
の補綴物は白に、他の補綴物は黒に）の有無を観察して
変色がないものを影響なしとし、変色があるものを影響
有りとした。走査型電子顕微鏡では画像の変化で補綴物
の表面での酸化被膜の発生を観察して酸化被膜の発生が
ないものを影響なしとし、酸化被膜の発生があるものを
影響有りとした。そして（１）二週間経過しても、全て
の補綴物に肉眼的にも顕微鏡的にも影響が無い場合を影
響なしとして判定し、（２）二週間の経過で上記補綴物
の内の一つに、肉眼的または顕微鏡的に影響が見られた
場合を影響がある場合もありと判定し、（３）二週間の
経過で上記補綴物の内の一つ以上に、肉眼的または顕微
鏡的に影響が見られた場合を著しい影響がありと判定し
た。結果を図４に示す。
響を評価した。補綴物への影響の測定方法は銀合金（銀
パラジウム、低融点銀合金など）とアマルガムとグラス
アイオモマーセメントとステンレス合金でそれぞれ形成
される補綴物を口腔洗浄水中に入れて静置し、所定時間
経過した後、肉眼及び走査型電子顕微鏡にて補綴物の表
面状態を観察した。肉眼では補綴物の変色（セメント系
の補綴物は白に、他の補綴物は黒に）の有無を観察して
変色がないものを影響なしとし、変色があるものを影響
有りとした。走査型電子顕微鏡では画像の変化で補綴物
の表面での酸化被膜の発生を観察して酸化被膜の発生が
ないものを影響なしとし、酸化被膜の発生があるものを
影響有りとした。そして（１）二週間経過しても、全て
の補綴物に肉眼的にも顕微鏡的にも影響が無い場合を影
響なしとして判定し、（２）二週間の経過で上記補綴物
の内の一つに、肉眼的または顕微鏡的に影響が見られた
場合を影響がある場合もありと判定し、（３）二週間の
経過で上記補綴物の内の一つ以上に、肉眼的または顕微
鏡的に影響が見られた場合を著しい影響がありと判定し
た。結果を図４に示す。
【００２３】図１から判るように次亜塩素酸の濃度が１
０ｐｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく強い殺菌
力を有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍの口腔洗浄
水ではｐＨが４以上のもので殺菌力が弱く、また次亜塩
素酸の濃度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄水ではｐＨが３．
５以上で殺菌効果がなかった。また図２から判るように
次亜塩素酸の濃度が１０ｐｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐ
Ｈに関係なく有効なステイン除去能力を有するが、次亜
塩素酸の濃度が５ｐｐｍの口腔洗浄水ではｐＨが４以上
のものでステイン除去能力が弱く、また次亜塩素酸の濃
度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄水ではｐＨが３．５以上で
ステイン除去能力がなかった。
０ｐｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく強い殺菌
力を有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍの口腔洗浄
水ではｐＨが４以上のもので殺菌力が弱く、また次亜塩
素酸の濃度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄水ではｐＨが３．
５以上で殺菌効果がなかった。また図２から判るように
次亜塩素酸の濃度が１０ｐｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐ
Ｈに関係なく有効なステイン除去能力を有するが、次亜
塩素酸の濃度が５ｐｐｍの口腔洗浄水ではｐＨが４以上
のものでステイン除去能力が弱く、また次亜塩素酸の濃
度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄水ではｐＨが３．５以上で
ステイン除去能力がなかった。
【００２４】さらに図３から判るようにｐＨが４以上の
口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面へ
の影響がなかったが、ｐＨが３．５の口腔洗浄水では次
亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面への影響が多少見ら
れ、またｐＨが４未満の口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃
度に関係なく歯の表面に脱灰が見られる影響が生じた。
口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面へ
の影響がなかったが、ｐＨが３．５の口腔洗浄水では次
亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面への影響が多少見ら
れ、またｐＨが４未満の口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃
度に関係なく歯の表面に脱灰が見られる影響が生じた。
【００２５】そして図４から判るように上記（Ａ）の式
の関係を満たす口腔洗浄水では補綴物に影響がなかった
が、上記（Ａ）の式の関係を満たさない口腔洗浄水では
補綴物に酸化被膜が生じたり補綴物に変色が発生したり
するなどの影響または著しい影響が生じた。以上のよう
な結果から殺菌力及びステイン除去能力が高く且つ歯や
補綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水は、次亜塩素酸の
濃度が５〜５５ｐｐｍ、ｐＨが４〜７であり、特に補綴
物への影響を考慮すると次亜塩素酸の濃度とｐＨが上記
（Ａ）の式の関係を満たすことが好ましい。
の関係を満たす口腔洗浄水では補綴物に影響がなかった
が、上記（Ａ）の式の関係を満たさない口腔洗浄水では
補綴物に酸化被膜が生じたり補綴物に変色が発生したり
するなどの影響または著しい影響が生じた。以上のよう
な結果から殺菌力及びステイン除去能力が高く且つ歯や
補綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水は、次亜塩素酸の
濃度が５〜５５ｐｐｍ、ｐＨが４〜７であり、特に補綴
物への影響を考慮すると次亜塩素酸の濃度とｐＨが上記
（Ａ）の式の関係を満たすことが好ましい。
【００２６】（実施例２）濃度が０．０３〜０．３重量
％の食塩水を図５に示す電気分解装置で電気分解時間３
０秒〜１５分、電力量５〜３０Ｗで電気分解することに
よって、図６乃至図９の縦軸に示される次亜塩素酸の濃
度と横軸に示されるｐＨとの組み合わせからなる口腔洗
浄水を得た。尚、ｐＨが８以上では次亜塩素酸を含有す
る口腔洗浄水の調製が困難であった。
％の食塩水を図５に示す電気分解装置で電気分解時間３
０秒〜１５分、電力量５〜３０Ｗで電気分解することに
よって、図６乃至図９の縦軸に示される次亜塩素酸の濃
度と横軸に示されるｐＨとの組み合わせからなる口腔洗
浄水を得た。尚、ｐＨが８以上では次亜塩素酸を含有す
る口腔洗浄水の調製が困難であった。
【００２７】この実施例２について上記実施例１と同様
にして、殺菌力の強弱とステイン除去能力と歯の表面へ
の影響と補綴物への影響を評価した。結果を図６乃至図
９に示す。図６から判るように次亜塩素酸の濃度が５ｐ
ｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく強い殺菌力を
有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄
水ではｐＨが４以上で殺菌効果が無いか殺菌力が弱かっ
た。また図７から判るように、次亜塩素酸の濃度が５ｐ
ｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく有効なステイ
ン除去能力を有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ未
満の口腔洗浄水ではｐＨが４以上でステイン除去能力が
無いか弱かった。
にして、殺菌力の強弱とステイン除去能力と歯の表面へ
の影響と補綴物への影響を評価した。結果を図６乃至図
９に示す。図６から判るように次亜塩素酸の濃度が５ｐ
ｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく強い殺菌力を
有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ未満の口腔洗浄
水ではｐＨが４以上で殺菌効果が無いか殺菌力が弱かっ
た。また図７から判るように、次亜塩素酸の濃度が５ｐ
ｐｍ以上の口腔洗浄水ではｐＨに関係なく有効なステイ
ン除去能力を有するが、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ未
満の口腔洗浄水ではｐＨが４以上でステイン除去能力が
無いか弱かった。
【００２８】さらに図８から判るようにｐＨが４以上の
口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面へ
の影響がなかったが、ｐＨが３．５の口腔洗浄水では次
亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面への影響が多少見ら
れ、またｐＨが４未満の口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃
度に関係なく歯の表面に脱灰が見られる影響が生じた。
口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面へ
の影響がなかったが、ｐＨが３．５の口腔洗浄水では次
亜塩素酸の濃度に関係なく歯の表面への影響が多少見ら
れ、またｐＨが４未満の口腔洗浄水では次亜塩素酸の濃
度に関係なく歯の表面に脱灰が見られる影響が生じた。
【００２９】そして図９から判るように上記（Ａ）の式
の関係を満たす口腔洗浄水では補綴物に影響がなかった
が、上記（Ａ）の式の関係を満たさない口腔洗浄水では
補綴物に酸化被膜が生じたり補綴物に変色が発生したり
するなどの影響または著しい影響が生じた。以上のよう
な結果から殺菌力及びステイン除去能力が高く且つ歯や
補綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水は、次亜塩素酸の
濃度が５〜５５ｐｐｍ、ｐＨが４〜７であり、特に補綴
物への影響を考慮すると次亜塩素酸の濃度とｐＨが上記
（Ａ）の式の関係を満たすことが好ましい。
の関係を満たす口腔洗浄水では補綴物に影響がなかった
が、上記（Ａ）の式の関係を満たさない口腔洗浄水では
補綴物に酸化被膜が生じたり補綴物に変色が発生したり
するなどの影響または著しい影響が生じた。以上のよう
な結果から殺菌力及びステイン除去能力が高く且つ歯や
補綴物への悪影響が少ない口腔洗浄水は、次亜塩素酸の
濃度が５〜５５ｐｐｍ、ｐＨが４〜７であり、特に補綴
物への影響を考慮すると次亜塩素酸の濃度とｐＨが上記
（Ａ）の式の関係を満たすことが好ましい。
【００３０】（実施例３）次亜塩素酸を含む水溶液は味
覚的に大きな問題があり、加えるに口腔内に使用した場
合、後味が悪いという欠点がある。一方で口腔内の殺菌
やステインの除去は毎日実施することが重要であり、こ
のためには口腔洗浄後に爽快感が得られることが求めら
れる。
覚的に大きな問題があり、加えるに口腔内に使用した場
合、後味が悪いという欠点がある。一方で口腔内の殺菌
やステインの除去は毎日実施することが重要であり、こ
のためには口腔洗浄後に爽快感が得られることが求めら
れる。
【００３１】この点に鑑みて、濃度が０．０３〜０．３
重量％の食塩水にペパーミントエキス１００ｐｐｍ添加
したものを図５に示す電気分解装置で電気分解時間３０
秒〜１５分、電力量５〜３０Ｗで電気分解することによ
って、実施例２の場合と同様に図６乃至図９の縦軸に示
される次亜塩素酸の濃度と横軸に示されるｐＨとの組み
合わせからなる口腔洗浄水を得た。尚、ｐＨが８以上で
は次亜塩素酸を含有する口腔洗浄水の調製が困難であっ
た。
重量％の食塩水にペパーミントエキス１００ｐｐｍ添加
したものを図５に示す電気分解装置で電気分解時間３０
秒〜１５分、電力量５〜３０Ｗで電気分解することによ
って、実施例２の場合と同様に図６乃至図９の縦軸に示
される次亜塩素酸の濃度と横軸に示されるｐＨとの組み
合わせからなる口腔洗浄水を得た。尚、ｐＨが８以上で
は次亜塩素酸を含有する口腔洗浄水の調製が困難であっ
た。
【００３２】この実施例３について上記実施例１及び実
施例２と同様にして、殺菌力の強弱とステイン除去能力
と歯の表面への影響と補綴物への影響を評価した。結果
は図６乃至図９に示している実施例２の場合と同じとな
った。またペパーミントエキスにより、口に含んだ時の
後味も改善された。
施例２と同様にして、殺菌力の強弱とステイン除去能力
と歯の表面への影響と補綴物への影響を評価した。結果
は図６乃至図９に示している実施例２の場合と同じとな
った。またペパーミントエキスにより、口に含んだ時の
後味も改善された。
【００３３】
【発明の効果】上記のように本発明の請求項１に記載の
発明は、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍであるの
で、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ以上であることによっ
て強い殺菌力及び高いステイン除去能力を有しながら
も、次亜塩素酸の濃度が５５ｐｐｍ以下であることによ
って歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるないよ
うにすることができ、安全性と有効性を両立させること
ができるものである。
発明は、次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍであるの
で、次亜塩素酸の濃度が５ｐｐｍ以上であることによっ
て強い殺菌力及び高いステイン除去能力を有しながら
も、次亜塩素酸の濃度が５５ｐｐｍ以下であることによ
って歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるないよ
うにすることができ、安全性と有効性を両立させること
ができるものである。
【００３４】また本発明の請求項２に記載の発明は、ｐ
Ｈが４〜７であるので、ｐＨが４以上であることによっ
て歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるないよう
にすることができると共にｐＨが７以下であることによ
って次亜塩素酸の濃度を安定させることができ、安全性
と有効性を両立させることができるものである。また本
発明の請求項３に記載の発明は、次亜塩素酸の濃度とｐ
Ｈの関係が、次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×
｛（ｐＨの値）−７｝2であるので、さらに安全性と有
効性を高くすることができるものである。
Ｈが４〜７であるので、ｐＨが４以上であることによっ
て歯や口腔内の補綴物に対して悪影響を与えるないよう
にすることができると共にｐＨが７以下であることによ
って次亜塩素酸の濃度を安定させることができ、安全性
と有効性を両立させることができるものである。また本
発明の請求項３に記載の発明は、次亜塩素酸の濃度とｐ
Ｈの関係が、次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×
｛（ｐＨの値）−７｝2であるので、さらに安全性と有
効性を高くすることができるものである。
【図１】本発明の一実施の形態の次亜塩素酸の濃度及び
ｐＨと殺菌力との関係を示すグラフである。
ｐＨと殺菌力との関係を示すグラフである。
【図２】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨとステイン除
去能力との関係を示すグラフである。
去能力との関係を示すグラフである。
【図３】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨと歯の表面へ
の影響との関係を示すグラフである。
の影響との関係を示すグラフである。
【図４】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨと補綴物への
影響との関係を示すグラフである。
影響との関係を示すグラフである。
【図５】電気分解装置を示す概略図である。
【図６】同上の他の実施の形態の次亜塩素酸の濃度及び
ｐＨと殺菌力との関係を示すグラフである。
ｐＨと殺菌力との関係を示すグラフである。
【図７】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨとステイン除
去能力との関係を示すグラフである。
去能力との関係を示すグラフである。
【図８】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨと歯の表面へ
の影響との関係を示すグラフである。
の影響との関係を示すグラフである。
【図９】同上の次亜塩素酸の濃度及びｐＨと補綴物への
影響との関係を示すグラフである。
影響との関係を示すグラフである。
【図１０】本発明の次亜塩素酸の濃度とｐＨの関係を示
すグラフである。
すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 印南 輝久 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 藤井 敦夫 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 次亜塩素酸の濃度が５〜５５ｐｐｍであ
ることを特徴とする口腔洗浄水。 - 【請求項２】 ｐＨが４〜７であることを特徴とする請
求項１記載の口腔洗浄水。 - 【請求項３】 次亜塩素酸の濃度とｐＨ値との関係が 次亜塩素酸の濃度（ｐｐｍ）≦５５−４×｛（ｐＨの
値）−７｝2 で表されることを特徴とする請求項１又は２記載の口腔
洗浄水。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34284096A JPH1087462A (ja) | 1996-07-22 | 1996-12-24 | 口腔洗浄水 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-192328 | 1996-07-22 | ||
| JP19232896 | 1996-07-22 | ||
| JP34284096A JPH1087462A (ja) | 1996-07-22 | 1996-12-24 | 口腔洗浄水 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087462A true JPH1087462A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=26507254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34284096A Pending JPH1087462A (ja) | 1996-07-22 | 1996-12-24 | 口腔洗浄水 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1087462A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100444893B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2004-08-21 | 주식회사 화이투스 | 치약 조성물 |
| JP2004238302A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Yukitoshi Kubota | 珪素体含有アルカリイオン化粧料 |
| WO2007072697A1 (ja) * | 2005-12-20 | 2007-06-28 | Noguchi Dental Medical Research Institute | 殺菌水及びその生成方法並びに生成装置 |
| US7276255B2 (en) | 1999-08-23 | 2007-10-02 | Sterilox Medical (Europe) Limited | Wound and ulcer treatment with super-oxidized water |
| WO2010004699A1 (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-14 | 野口歯科医学研究所株式会社 | 口臭抑制剤及びその生成方法 |
| JP2010126506A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Tokyo Medical & Dental Univ | 口腔洗浄用キット |
| KR101359100B1 (ko) * | 2013-11-27 | 2014-02-05 | 김재경 | 임플란트 표면처리 방법 |
| KR20160067835A (ko) | 2013-08-07 | 2016-06-14 | 하이크로테크 메디칼 재팬 씨오., 엘티디 | 액체 구강 세정제 |
-
1996
- 1996-12-24 JP JP34284096A patent/JPH1087462A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7276255B2 (en) | 1999-08-23 | 2007-10-02 | Sterilox Medical (Europe) Limited | Wound and ulcer treatment with super-oxidized water |
| US8632823B2 (en) | 1999-08-23 | 2014-01-21 | Puricore, Inc. | Treatment of infected tissues with hypochlorous acid |
| KR100444893B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2004-08-21 | 주식회사 화이투스 | 치약 조성물 |
| JP2004238302A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Yukitoshi Kubota | 珪素体含有アルカリイオン化粧料 |
| WO2007072697A1 (ja) * | 2005-12-20 | 2007-06-28 | Noguchi Dental Medical Research Institute | 殺菌水及びその生成方法並びに生成装置 |
| WO2010004699A1 (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-14 | 野口歯科医学研究所株式会社 | 口臭抑制剤及びその生成方法 |
| JP2010126506A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Tokyo Medical & Dental Univ | 口腔洗浄用キット |
| KR20160067835A (ko) | 2013-08-07 | 2016-06-14 | 하이크로테크 메디칼 재팬 씨오., 엘티디 | 액체 구강 세정제 |
| US9999581B2 (en) | 2013-08-07 | 2018-06-19 | Hychlotech Medical Japan Co., Ltd. | Liquid mouthwash |
| KR101359100B1 (ko) * | 2013-11-27 | 2014-02-05 | 김재경 | 임플란트 표면처리 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041012 |